JP4943345B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
− 放射ビームB(例えばUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、あるパラメータに正確に従ってパターニングデバイスを位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続されるサポート構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、あるパラメータに正確に従って基板を位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− 基板Wのターゲット部分C(例えば1つまたは複数のダイを備える)上にパターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するように構成された投影システム(例えば屈折型投影レンズシステム)PSとを備える。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれ、一方、放射ビームに与えられたパターン全体がターゲット部分Cの上に一度に投影される(すなわち単一の静的露光)。次いで、別のターゲット部分Cが露光されるように、基板テーブルWTがXおよび/またはY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大寸法が、単一の静的露光で結像されたターゲット部分Cの寸法を制限する。
2.スキャンモードでは、マスクテーブルMTと基板テーブルWTが同期してスキャンされ、一方、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cの上に投影される(すなわち単一の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性およびイメージ反転特性によって決定される。スキャンモードでは、露光フィールドの最大寸法が単一の動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向の)幅を制限するのに対して、スキャン運動の長さがターゲット部分の(スキャン方向の)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTがプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に保たれ、基板テーブルWTが移動またはスキャンされ、その一方で放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cの上に投影される。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの各動作後に、またはスキャン中連続した放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で言及されたタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (1)
- 放射ビームを調節する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスの第1の面を吸着して支持し、かつ前記パターニングデバイスの周囲において直立した端部を備えるサポートと、
前記パターニングデバイスの第2の面を吸着して、前記パターニングデバイスを前記サポートに固定するクランピングデバイスと、
を有し、
前記クランピングデバイスは、取り外し可能に構成され、
前記クランピングデバイスは、前記サポートの直立した端部に対して真空チューブを用いて前記サポートの加速方向と平行な方向に固定されている、
リソグラフィ装置。
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