JP4935966B2 - カラーフィルター用インク組成物、及びこれを用いて製造されたカラーフィルター基板、並びにこれを用いたカラーフィルター基板の製造方法 - Google Patents
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Description
遮光層は、基板上に形成され、基板への光の透過を遮断して画素空間を形成する。色画素層は、画素空間内に形成され、光に応答して固有の色を発現する。
又、色画素層は、 顔料分散体30〜70重量部と、側鎖にヒドロキシ基を有する熱硬化性樹脂5〜20重量部と、熱重合開始剤0.01〜0.5重量部と、フルオロ基を有するエポキシ系モノマー0.5〜5重量部と、溶剤10〜50重量部と、を含むカラーフィルター用インク組成物を用いて形成され、架橋結合体を含む。
架橋結合体は、側鎖にヒドロキシ基を有する熱硬化性樹脂とフルオロ基を有するエポキシ系モノマーが架橋反応して形成されたものである。
本発明の一特徴によるカラーフィルター用インク組成物は、顔料分散体、熱硬化性樹脂、熱開始剤、エポキシ系モノマー、及び溶剤を含む。
図1は本発明の一実施例によるカラーフィルター基板を説明するための図であり、図2は図1のA−A’に沿って切断した断面図である。
図3乃至図5は、本発明の一実施例によるブラックマトリックスパターンの形成方法を示す概略的な断面図である。図6は、本発明の一実施例による色画素層を形成する段階を概念的に示す断面図である。
実施例1
顔料分散体としてCI254(RED)364g、熱硬化性樹脂としてグリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、及びメチルメタクリレートをそれぞれ30:30:30:10の重量比で共重合させた共重合樹脂(分子量15000)100g、熱開始剤として(2−シクロヘキサノニル)2−メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート1g、架橋性モノマーとして下記化学式IVで表示されるエポキシ系モノマー30g、溶剤としてジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(DPMA)300g、及び添加剤として消泡剤及び表面平滑剤をそれぞれ2.5gずつ反応容器に投入して、40rpmで3時間攪拌してカラーフィルター用インク組成物800gを製造した。
顔料分散体としてCI254(RED)364g、熱硬化性樹脂として下記化学式Iで表示される共重合樹脂100g、熱開始剤として(2−シクロヘキサノニル)2−メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート1g、架橋性モノマーとして下記化学式IVで表示されるエポキシ系モノマー30g、溶剤としてジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(DPMA)300g、及び添加剤として消泡剤及び表面平滑剤をそれぞれ2.5gずつ反応容器に投入して、40rpmで3時間攪拌してカラーフィルター用インク組成物800gを製造した。
顔料分散体としてCI254(RED)364g、熱硬化性樹脂としてグリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、及びメチルメタクリレートをそれぞれ30:30:30:10の重量比で共重合させた共重合樹脂(分子量15000)100g、熱開始剤として(2−シクロヘキサノニル)2−メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート1g、溶剤としてジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(DPMA)330g、及び添加剤として消泡剤及び表面平滑剤それぞれ2.5gずつ反応容器に投入して、40rpmで3時間攪拌してカラーフィルター用インク組成物800gを製造した。
実施例3
実施例1で製造されたインク組成物を予め準備したブラックマトリックスパターン上の画素空間にインク噴射ノズルを通じて滴定した。注入されたインク組成物を140℃まで加熱して15分間維持させた。更に200℃まで加熱して、30分間インク組成物を硬化させて、色画素層を形成することによりカラーフィルター基板を製造した。
実施例2で製造されたインク組成物を予め準備したブラックマトリックスパターン上の画素空間にインク噴射ノズルを通じて滴定した。注入されたインク組成物を140℃まで加熱して15分間維持させた。更に200℃まで加熱して、30分間インク組成物を硬化させて、色画素層を形成することによりカラーフィルター基板を製造した。
比較例1で製造されたインク組成物を予め準備したブラックマトリックスパターン上の画素空間にインク噴射ノズルを通じて滴定した。注入されたインク組成物を140℃まで加熱して15分間維持させた。更に200℃まで加熱して、30分間インク組成物を硬化させて、色画素層を形成することによりカラーフィルター基板を製造した。
実施例1及び2と比較例1で製造されたインク組成物を有機高分子からなるブラックマトリックス上に滴定して、ブラックマトリックス上での接触角を測定した。測定された接触角は表1に示した。
実施例2のインク組成物及び比較例1のインク組成物を滴定する前に噴射ノズル上での塗れ程度を観察した。
実施例2のインク組成物及び比較例1のインク組成物をそれぞれブラックマトリックス(BM)表面とガラス基板(Glass)表面に同じ噴射量だけ滴下して、各表面でのカラーインク(Ink)の広がり性を観察した。
実施例2及び比較例1で製造されたインク組成物を、インクノズルを移動しながらそれぞれカラーフィルターの画素空間に順次に滴定して、噴射直進性を観察した。
実施例4及び比較例2で製造されたカラーフィルター基板の色画素層に対する耐熱性及び耐化学性を評価した。
230℃で1時間放置した後、色特性及び収縮程度を評価した。
(1)イソプロピルアルコールを用いて10分間常温で超音波(800W、40KHz)処理した後、色画素層の溶解によるフィルムロス(film loss)の可否を評価した。
101 基板
103 ブラックマトリックス
106 色画素層
108 保護膜
109 共通電極
Claims (17)
- 顔料分散体30〜70重量部と、
側鎖にヒドロキシ基を有する熱硬化性樹脂5〜20重量部と、
熱重合開始剤0.01〜0.5重量部と、
フルオロ基を有するエポキシ系モノマー0.5〜5重量部と、
溶剤10〜50重量部と、を含む、ことを特徴とするカラーフィルター用インク組成物。 - 前記インク組成物は、添加剤0.01〜1重量部を更に含むことを特徴とする請求項1記載のカラーフィルター用インク組成物。
- 前記熱硬化性樹脂は、アクリル系共重合体であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルター用インク組成物。
- 前記熱硬化性樹脂は、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、及びメタクリレートをそれぞれ単量体としてランダムに共重合された共重合体を含むことを特徴とする請求項3記載のカラーフィルター用インク組成物。
- 前記熱重合開始剤は、(2−シクロヘキサノニル)シクロヘキシルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、(2−シクロヘキサノニル)ジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、S−(2−ナフタレンカルボニルメチル)テトラヒドロチオフェニウムp−トルエンスルホネート、ジ−(4−t−ブチルベンゼン)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフォレート、及びジ−(4−t−ブチルベンゼン)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートからなる群から選択された少なくとも一つの化合物であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルター用インク組成物。
- 前記溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルエトキシプロピオネート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールエーテルアセテートからなる群から選択された少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項1記載のカラーフィルター用インク組成物。
- 前記添加剤は、消泡剤及び表面平滑剤のうち、少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項1記載のカラーフィルター用インク組成物。
- 基板と、
前記基板上に形成され、前記基板への光の透過を遮断して、画素空間を形成する遮光層と、
前記画素空間内に形成され、前記光に応答して固有の色を発現する色画素層と、を含むカラーフィルター基板であって、
前記色画素層は、
顔料分散体30〜70重量部と、
側鎖にヒドロキシ基を有する熱硬化性樹脂5〜20重量部と、
熱重合開始剤0.01〜0.5重量部と、
フルオロ基を有するエポキシ系モノマー0.5〜5重量部と、
溶剤10〜50重量部と、を含むカラーフィルター用インク組成物を用いて形成され、
側鎖にヒドロキシ基を有する熱硬化性樹脂とフルオロ基を有するエポキシ系モノマーが架橋反応して形成された架橋結合体を含む、ことを特徴とするカラーフィルター基板。 - 前記熱硬化性樹脂は、アクリル系共重合樹脂であることを特徴とする請求項10記載のカラーフィルター基板。
- 基板上への光の透過を遮断して、画素空間を区画する遮光層を形成する段階と、
前記画素空間内に、顔料分散体30〜70重量部、側鎖にヒドロキシ基を有する熱硬化性樹脂5〜20重量部、熱重合開始剤0.01〜0.5重量部、フルオロ基を有するエポキシ系モノマー0.5〜5重量部、及び溶剤10〜50重量部を含むカラーフィルター用インク組成物を注入する段階と、
前記インク組成物を加熱して、前記熱重合開始剤が酸を発生する酸発生段階と、
前記インク組成物を加熱して、前記熱硬化性樹脂と前記エポキシ系モノマーを架橋反応させる架橋反応段階と、を含む、ことを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。 - 前記酸発生段階は、140〜150℃の温度条件下で行われることを特徴とする請求項13記載のカラーフィルター基板の製造方法。
- 前記架橋反応段階は、200〜210℃の温度条件下で行われることを特徴とする請求項13記載のカラーフィルター基板の製造方法。
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