JP4931806B2 - スチームアイロン処理の間のアイロン処理温度を制御する方法およびそのようなスチームアイロン - Google Patents

Description

本発明は、スチームアイロン処理プロセスの間のアイロン処理温度を制御する方法であって、被アイロン処理品と接触させるための底板を有するスチームアイロンと、スチームを発生させるスチーム発生器とが使用される方法に関する。

スチームアイロン処理は、衣類またはカーテンのような布地品にシワがよらないようにすることを目的としている。スチームアイロン処理の間、布地品は、ホットプレートによって平坦化されるが、一方で、処理品にはスチームが供給され、処理品が湿気を帯び、これによりアイロン処理のシワ取り効果が向上する。

スチームアイロン処理を実施するためのスチームアイロンが開発されている。従来のスチームアイロンは、被アイロン処理品と接触する接触表面を有する底板と、スチームアイロンの他の各種部品を収容するハウジングとを有する。底板は、底部にスチームチャンバ部分を有し、このチャンバは、スチームアイロンの作動の際に、スチームを形成する。底板を覆い、スチームチャンバを密閉するため、カバーが提供される。さらに、底板は、通常Ｕ型の管状加熱素子を有し、この加熱素子は、スチームアイロンの作動時に、底板とスチームチャンバの両方を加熱する役割を有する。スチームチャンバが加熱されると、スチームチャンバ内の水が蒸気に変わる。スチームを放出するため、底板には、スチーム開口が配置されており、この開口は、スチームチャンバと連通している。

前述のような従来のスチームアイロンの作動時には、加熱素子が活性化され、スチームチャンバに水が供給される。加熱素子によって供給される熱の影響下で、底板の接触表面の温度が上昇し、これと同様に、スチームチャンバ内の温度が上昇する。その結果、スチームチャンバに供給された水が蒸気に変換される。スチームアイロンを用いたアイロン処理プロセスの間、被アイロン処理品は、高温接触表面と接触し、これらの処理品に、スチーム開口を介してスチームが供給される。

アイロン処理の際のアイロン処理温度、すなわち被アイロン処理品の温度は、処理品の布地の種類に応じて調整する必要があることは、知られている。例えば、処理品が綿製である場合、アイロン処理温度は、比較的高くする必要がある。通常そのような場合、スチームアイロンの底板の接触表面は、約200℃の温度に設定される。しかしながら、例えばポリエステル製の処理品をアイロン処理する場合は、処理品の焼き焦げを回避するため、アイロン処理温度は、もっと低く（約150℃に）する必要がある。

一つの加熱素子を使用して底板の接触表面とスチームチャンバの両方の加熱を行う、従来のスチームアイロンを、ポリエステル製等の処理品に使用した場合、比較的低温のため、かなりの確率で、スチームチャンバ内の全て水が蒸気とはならない場合が生じる。その好ましくない結果として、スチームアイロンにより水滴が放出され、さらにスチームアイロンから、液滴とともにスケール粒子が放出される場合が生じ得る。

米国特許出願第2003／0094445号には、前述の問題に対する解決法が示されている。この解決法によれば、スチーム発生器と底板の接触表面の温度が、独立に制御されるスチームアイロンが提供される。この場合、独立して制御し得る加熱素子が提供され、その素子の一つがスチームチャンバを加熱する役割を果たし、別の素子が底板を加熱する役割を果たす。また、両方の加熱素子は、独自のサーモスタットを有する。

米国特許出願第2003／0094445号に示されているように、スチームアイロンの使用の間、スチームチャンバ温度と底板の接触表面温度が独立であるため、比較的低いアイロン処理温度が得られ、さらに水滴の形成を回避することが可能となる。損傷を受けやすい布地をアイロン処理するスチームアイロン処理の間、底板の接触表面の温度は、比較的低く設定されるため、布地が焼き焦げることはなく、一方、スチーム発生器内部の温度は、十分に高く設定され、スチーム発生器内部の全ての水が蒸発し、これにより、いわゆるドライスチームが得られる。

米国特許出願第2003／0094445号に示されているスチームアイロンは、重要な利点を有するが、このスチームアイロンに関しては、いくつかの問題もある。例えば、ユーザが綿製のシャツのアイロン処理の後、ポリエステル製のシャツをアイロン処理しようとした場合、ユーザには、アイロンの底板の接触表面温度をより低いレベルに設定した後、接触表面が冷却されるまで待つ必要が生じる。この状況では、必要な温度変化が生じることを待つ程、ユーザが忍耐強くないことは、十分に想定し得る。ある温度、すなわち極めて高い高温で、ユーザがポリエステル製のシャツのアイロン処理を開始したとたんに、シャツが焼き焦げることも生じ得る。この問題は、米国特許出願第2003／0094445号に記載のスチームアイロンに限らず、他の従来のスチームアイロンにも関係する。
米国特許出願第2003／0094445号明細書

本発明の目的は、低温での水滴漏れというスチームアイロンの問題を回避した上で、アイロン処理温度の変化に関する比較的長期にわたる問題の解決策を見出すことである。

本発明では、前記目的は、スチームアイロン処理プロセスの間のアイロン処理温度を制御する方法であって、被アイロン処理品と接触させるための底板を有するスチームアイロンと、スチームを発生させるスチーム発生器とが使用され、前記アイロン処理温度の必要な変更は、発生したスチームの温度の変化に基づいて行われ、前記スチームアイロン処理プロセスの間、前記底板の温度は、所定の制限温度範囲内に保持されることを特徴とする方法によって解決される。

アイロン処理温度を変更する必要がある場合に、使用するスチームアイロンの底板の接触表面温度が変更される従来のスチームアイロン処理とは異なり、本発明では、被アイロン処理品に供給されるスチームの温度を変更するだけで、アイロン処理温度の変更が行われるスチームアイロン処理プロセスが提案される。本発明では、アイロン処理される衣類の種類に関わらず、底板温度は、全アイロン処理工程を通じて、実質的に一定のレベルに保持される。

本発明によるスチームアイロン処理が適用される状況では、アイロン処理温度の変更は、被アイロン処理品に供給されるスチームの温度の変化を基に実施される。スチームの温度変化は、底板の温度を変更するよりも有意に短い時間で達成される。この差異は、底板は、被アイロン処理品を平坦化する役割を有するため、底板が比較的肉厚なスチームアイロン部品となることを考慮することにより説明される。

被アイロン処理品への熱輸送に関する限り、本発明に関して実施された研究では、物質移動と潜熱の関与により、スチームは、高温接触表面よりも、被アイロン処理品の昇温に、より効果的であることが示されていることに留意する必要がある。これは、アイロン処理温度の変更を実現するために、底板の温度を変えるよりもスチームの温度を変えることが極めて有意であることの、別の理由でもある。

本発明では、スチームアイロンの底板の温度は、所定の制限温度範囲内となるように設定される。この範囲の温度は、スチームの凝縮温度を超えており、これによりスチームアイロンのスチーム開口から漏洩した水滴で、被アイロン処理品にシミがつかないようにすることが可能となる。

本発明による方法の実施に適したスチームアイロンの実施例では、底板の温度を設定するサーモスタットが、底板温度を所定の制限範囲内に保持するように適合される。例えば、このサーモスタットは、温度を110℃のレベルに保持されるように適合される。

例えば110℃の温度のように、底板が比較的低い温度に保持される場合、布地が焼き焦げる可能性は、著しく抑制される。また、スチームアイロン処理の開始時に、比較的短い時間で、スチームアイロンが昇温され、使用可能な状態となる。

本発明によるスチームアイロンでは、底板は、アイロン処理温度を変化させる機能を有する必要はない。底板の2つの残りの機能は、被アイロン処理品を平坦化するための接触表面を提供すること、およびスチームの導管としての役割を果たすことである。これらの機能を実施するため、底板がアルミニウムまたは他の導電性材料（金属）を有する必要はない。その代わりに、底板は、熱伝導性プラスチックおよび複合材料のような様々な材料を有することが可能となる。有意な可能性として、底板は、導電性のない熱伝導性プラスチックを有し、底板を加熱する抵抗素子を形成するため、熱伝導性プラスチックに、導電性プラスチックが取り付けられる。

欧州特許第1270796号には、供給スチームを用いてアイロン処理が行われる、いわゆるオールスチームアイロンが示されていることに留意する必要がある。オールスチームアイロンは、底板の接触表面を加熱する加熱手段を有さない。オールスチームアイロンの作動の際には、スチームによって、底板が加熱される。被アイロン処理品は、高温の底板によって平坦化され、シワが伸ばされ、スチームによって湿気が供給され、底板およびスチームによって加熱される。オールスチームアイロンは、産業用アイロンであり、スチームが凝縮して水滴となり、アイロン処理の間に、水滴の吐出が生じることを回避するため、そのアイロンの底板は、スチームが再循環される影響下で加熱される。処理の際、底板温度は、スチームの凝縮温度を超える温度に保持される。

オールスチームアイロンを使用した場合、アイロン処理温度は、供給スチームの温度によって定められる。しかしながら、オールスチームアイロンと本発明によるスチームアイロンの間の重要な差異は、オールスチームアイロンでは、底板の温度が供給スチームの温度とともに変化するのに対して、本発明によるスチームアイロンでは、底板の温度は、所定の制限範囲内に保持されることである。

以下、図面を参照して、本発明をより詳しく説明する。

図1には、本発明の第1の好適実施例によるスチームアイロン組立体の部品を概略的に示す。以降、このスチームアイロン組立体1を、第1のスチームアイロン組立体1と称する。第1のスチームアイロン組立体1は、底板11を有するスチームアイロン10を有する。底板11の平坦接触表面12は、被アイロン処理品と接触する役割を有する。底板11には、スチームを放出するためのスチーム開口（図示されていない）が配置されている。また、第1のスチームアイロン組立体1は、スチームを発生し、供給するスチーム発生器20と、水を収容するウォータリザーバ30と、ウォータリザーバ30からスチーム発生器20に水を流し込むポンプ40とを有する。

スチームアイロン10は、底板11の他、ハウジング50を有し、このハウジングは、底板11の上部に配置され、ハンドル51を有し、ユーザは、スチームアイロン10を持ち上げ、接触表面12を被アイロン処理品の上部に持って行くことができる。図1では、ハウジング50は、破線で概略的に描かれている。示された例では、スチーム発生器20、ウォータリザーバ30およびポンプ40は、ハウジング50の外側に配置されている。これは、本発明の範囲内で、これらの部品がハウジング50に収容されるような別の実施例も可能であることを排斥するものではない。そのような実施例では、ポンプ40は、省略したり、移動したりしても良い。

底板11の加熱のため、第1の加熱手段13が提供される。これらの加熱手段13は、底板11の表面に配置された、少なくとも一つの平坦抵抗加熱素子を有することが好ましいが、加熱手段13の別の実施例も可能である。

完全な理解のため、平坦抵抗加熱素子は、印刷法または他の適当な技術で、表面に薄膜層として設置された加熱素子であることに留意する必要がある。電流の影響下では、平坦抵抗加熱素子は、熱を発生することができる。例えば、平坦抵抗加熱素子は、導電性粒子が埋設された合成樹脂の層で構成される。金属のような導電性材料を有する表面に、平坦抵抗加熱素子が配置される場合、短絡を防ぐため、表面と加熱素子の間に、電気絶縁層を設置することが必要となる。平坦抵抗加熱素子は、平坦表面上に配置することができるが、この種類の加熱素子を湾曲表面上に配置することも可能である。

スチーム発生器20の内部の加熱のため、第2の加熱手段21が提供される。第1の加熱手段13と同様に、第2の加熱手段21は、少なくとも一つの平坦抵抗加熱素子を有することが好ましいが、第2の加熱手段21は、別の方法で設計することも可能である。

第1のスチームアイロン組立体1を用いたスチームアイロン処理の際、アイロン処理温度、すなわち被アイロン処理品が実際にアイロン処理されるときの温度は、主に、供給スチームの温度によって定められる。本発明では、サーモスタットまたは他の適当な温度制御手段によって、両方の温度が制御される。図1では、底板11を加熱するための第1の加熱手段13に対応する第1のサーモスタットが、参照符号14で示されており、スチーム発生器20の内部を加熱する第2の加熱手段21に対応する第2のサーモスタットが、参照符号22で示されている。

本発明の重要な態様では、第1のサーモスタット14は、一定の設定値を有し、一方、第2のサーモスタット22の設定値は、調整することが可能である。換言すれば、第1のサーモスタット14は、底板11の温度を所定の制限範囲内に保持するように適合されるのに対して、第2のサーモスタット22は、スチーム発生器20から出たスチームが、必要なアイロン処理温度に関係した温度となるように適合される。必要なアイロン処理温度に関するユーザからの入力を受信するため、第1のスチームアイロン組立体1は、回転式配置ディスク等の入力手段（図示されていない）を有する。

スチームアイロン処理の開始前に、ユーザは、第1のスチームアイロン組立体1の入力手段の設定値をチェックする。アイロン処理される必要のある布地の種類に対応するように、設定値がユーザの要望を反映している場合、入力手段の設定値を調整する必要はない。入力手段の設定値が、必要なアイロン処理温度に対応していない場合、ユーザは、入力手段の設定値を調整する。

スチームアイロン処理の開始時には、スチームアイロン10の底板11が所定の温度に加熱されるが、加熱処理プロセスは、第1のサーモスタット14によって制御される。所定の温度は、例えば110℃である。第1のサーモスタット14は、スチームアイロン処理の間、底板11の温度を、この所定の温度の近傍に保持するように適合される。

また、ポンプ40は、ウォータリザーバ30からスチーム発生器20の方に水を噴出させるように作動する。図1では、水が流れる流路が矢印で示されている。スチーム発生器20の内部では、第2の加熱手段21によって供給される熱の影響下で、水が蒸発してスチームとなる。第2のサーモスタット22の設定値は、入力手段の設定値によって定められ、これらの2つの設定値の間の関係は、設定アイロン処理温度がスチーム発生器20から排出されるスチームの温度に基づいた温度に到達するように、第2のサーモスタット22が、第2の加熱手段21を制御しなければならないという要求によって定められる。

発生スチームは、スチームアイロン10に供給されるとともに、スチームアイロン10の底板11のスチーム開口を介して、被アイロン処理品に供給される。図1では、スチーム発生器20からスチームアイロン10の底板11に流れるスチームの流路が、矢印で示されており、底板11およびスチーム開口を介して流れるスチームの流路は、3つの比較的小さな矢印で示されている。スチームアイロン10からスチーム開口を介して放出されるスチーム白煙は、図1に参照符号15で概略的に示されている。

スチームアイロン処理の際に、ユーザが入力手段の設定を変更すると、すかさず第2のサーモスタット22の設定値および第2の加熱手段21の動作が変更されるが、第1のサーモスタット14の設定値は、一定のまま維持される。入力手段がより高いアイロン処理温度が必要であることを示す場合、第2のサーモスタット22は、より高温に設定され、第2の加熱手段21は、スチーム発生器20の内部により多くの熱を供給するように制御され、スチーム発生器20から排出されるスチームの温度が上昇する。入力手段がより低いアイロン処理温度が必要であることを示す場合、第2のサーモスタット22は、より低い温度に設定され、第2の加熱手段21は、スチーム発生器20の内部に、より少ない熱が供給されるように制御され、スチーム発生器20から排出されるスチームの温度が低下する。この手順では、スチームの温度変化のみに基づいて、要求されたアイロン処理温度の変更がなされる。

アイロン処理温度が主として底板の温度によって定められる従来の状況とは異なり、この場合、アイロン処理温度は、主として、第1のスチームアイロン組立体1が使用された際に供給されるスチームの温度によって定められる。例えば、ポリエステルをアイロン処理する場合、スチーム温度は、約150℃に設定され、綿をアイロン処理する場合、温度は、より高いレベルの約180乃至200℃に設定される。スチームの温度は、第2のサーモスタット22の設定値を調整することにより、および／またはスチーム発生器20への出力を変えることにより、容易に変更することができる。

スチームアイロン処理工程の間、スチームアイロン10の底板11の温度は、第1のサーモスタット14の影響下で、一定のレベル近傍に保持される。底板11の温度は、比較的低いレベルに保持される。底板11の温度は、供給スチーム内で、水滴の形成が生じないように、十分に高いことが好ましい。底板11の温度の好適な値は、110℃であるが、この温度は、スチームの凝縮温度の直上の温度である。

第1のスチームアイロン組立体1の重要な利点は、アイロン処理温度の必要な変更が、極めて迅速になされることであり、そのような変更には、供給スチームの温度を変更することしか必要ではない。従って、底板の温度が過度に高くなり、被アイロン処理品が焼き焦げる状況が、事実上回避される。

第1のスチームアイロン組立体1の別の重要な利点は、どのような状況でも、スチームアイロン10の底板11の温度が、例えば110℃のような比較的低いレベルにされることである。ユーザの手からスチームアイロン10から離れてすぐに、スチームの生成を停止する手段が設けられても良い。この方法では、スチームアイロン10が無人のまま放置された際に、被アイロン処理品の温度は、底板11の接触表面12の温度による影響のみを受ける。

接触表面12の温度は、比較的低いため、被アイロン処理品が焼き焦げる危険性はほとんどない。第1のスチームアイロン組立体1の使用は、従来のスチームアイロン、または従来のスチームアイロン組立体の使用に比べて安全である。後者の場合、スチームアイロンの底板の接触表面の温度は、110℃よりも著しく高く、例えば150℃または230℃にも至る。

底板11の温度が比較的低い結果として、スチームアイロン10の昇温時間は、比較的短くなり、特に、底板11が低質量型の底板となるように選定された場合、昇温時間が短くなる。例えば、110℃の温度までの昇温に要する時間は、200グラムの底板11の場合、初期温度25℃から開始して、僅か18秒である。

スチームアイロン10の底板11の温度は、比較的低い、おおよそ一定のレベルに保持されるため、多くの材料を底板11に導入する材料として使用することができる。例えば、熱伝導性プラスチックまたは複合材料を適用することができる。また、底板11は、アルミニウムのような従来の材料を有することも可能である。

底板11が熱伝導性プラスチックを有する場合、第1の加熱手段13は、平坦抵抗加熱素子を形成する熱伝導性プラスチックに取り付けられた、少なくとも一つの導電性プラスチック製の部分を有しても良い。

本発明の範囲が、前述の実施例に限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲に記載の本発明の範囲から逸脱しないで、いくつかの修正および変更が可能であることは、当業者には明らかである。

底板11を加熱する第1の加熱手段13については、前述のように、これらの手段11は、少なくとも一つの平坦抵抗加熱素子を有することが好ましいことに留意する必要がある。また、第1の加熱手段13は、少なくとも一つのPTC加熱素子（PTCとは、正の温度係数（Positive Temperature Coefficient）を表す）を有することも可能である。そのような加熱素子の重要な特徴は、その加熱素子の電気抵抗が、温度上昇とともに増加することである。その結果、PTC加熱素子は、温度を所定の範囲内に保持する上で、極めて好適なものとなる。第1の加熱手段13がPTC加熱素子を有する場合、これらの加熱手段13の作動を制御するサーモスタットが不要となり、第1のサーモスタット14を省略することが可能となる。

前述の例では、スチームアイロン組立体1は、スチームアイロン10と、スチーム発生器20と、ウォータリザーバ30とを有するように示されている。また、ポンプ40は、ウォータリザーバ30からスチーム発生器20に水を送り出すために提供される。スチーム発生器20の内部では、水が加熱されスチームとなる。発生したスチームは、スチームアイロン10を通って被アイロン処理品の方に流通される。

スチームアイロン10は、被アイロン処理品と接触させるための接触表面12を有する底板11を有する。全スチームアイロン処理工程の間、底板11の温度は、例えば110℃のような、比較的低いレベルに保持され、一方アイロン処理温度の変更は、供給スチームの温度の変化を基にして行われる。

底板11の比較的低く、一定のレベルの温度のため、およびアイロン処理温度の変更が、極めて迅速に行われるため、被アイロン処理品の焼け焦げる危険性が抑制される。

図2には、本発明の第2の好適実施例によるスチームアイロン組立体2の部品を概略的に示す。前述のように、このスチームアイロン組立体2を、第2のスチームアイロン組立体2と称する。第1のスチームアイロン組立体1のように、第2のスチームアイロン組立体2は、底板11およびハウジング50を有するスチームアイロン10と、底板11を加熱する第1の加熱手段13とを有する。また、第2のスチームアイロン組立体2は、水を蒸気に変換するボイラ60を有し、このボイラは、スチームアイロン10の外側に設置される。

第2のスチームアイロン組立体2の作動の間、ボイラ60からスチームが排出され、スチームは、スチームアイロン10に輸送される。多くの場合、ボイラ60によって供給されたスチームは、飽和状態にあり、スチームは、スチームアイロン10に向かう途中で凝縮する。凝縮過程の結果として得られた水を、再度スチームに変換するため、スチームアイロン10で、スチームと水とが再加熱される。このため、スチームアイロン10は、再加熱装置65を有する。この再加熱装置65は、例えばマルチスチーム溝またはチャンバのような、水およびスチームを流通させる流通手段と、水およびスチームを加熱する第2の加熱手段66とを有する。

第1のスチームアイロン組立体1と同様に、第2のスチームアイロン組立体2は、入力手段（図示されていない）を有し、これにより、ユーザは、必要なアイロン処理温度を設定することができる。本発明の重要な態様では、底板11の温度は、入力手段の設定値に関わらず、所定の制限温度範囲内に保持される一方、再加熱装置65から排出されるスチームの温度は、必要なアイロン処理温度を得るため、正確に制御される。

底板11の温度は、第1の加熱手段13と関連する第1のサーモスタット14によって制御される。好適実施例では、このサーモスタット14は、一定の設定値を有する。例えば、第1のサーモスタット14は、底板11の温度を110℃に保持するように設定される。

第2の加熱手段66の作動は、第2のサーモスタット67によって制御される。第2のサーモスタット67の設定値は、必要なアイロン処理温度を表す入力手段の設定値と相関する。第2のサーモスタット67は、例えば、出力制御手段（図示されていない）に結合され、この出力制御手段により、第2の加熱手段66に供給される作動出力が制御される。

第2のスチームアイロン組立体2の作動の間、以下のステップが生じる：
ステップ1：ボイラ60内で、水がスチームに変換される。
ステップ2：スチームがスチームアイロン10に輸送される。これは、図2において、ボイラ60を始点とする矢印で、概略的に示されている。
ステップ3：一部が凝縮したスチームが、再加熱装置65内で加熱される。
ステップ4：再加熱装置65から底板11に、スチームが輸送される。これは、図2において、再加熱装置65を始点とする矢印で、概略的に示されている。
ステップ5：スチーム開口を介して、底板11からスチームが排出される。これらのスチーム開口は、図2に示されてはいないが、底板11およびスチーム開口を通るスチームが流れる流路は、3つの曲線状の矢印で示されている。また、スチーム開口を介して、スチームアイロン10によって排出されるスチームの白煙は、図2において、参照符号15で概略的に示されている。

前述の処理の間、底板11の温度は、一定の温度近傍に保持され、一方再加熱装置65によって供給されるスチームの温度は、必要なアイロン処理温度が得られるように、正確に制御される。再加熱装置65では、スチームは、第2の加熱手段66の影響下で加熱される。スチーム温度を定める際に重要な役割を果たす因子は、第2の加熱手段66によって供給される加熱出力と、再加熱装置65を通るスチームの流量である。供給加熱出力と同様に、流量も変更することが可能である。流量の制御のため、いかなる好適な種類の流量制御手段が配置されても良い。

前述の記載に基づけば、第2のスチームアイロン組立体2と第1のスチームアイロン組立体1の間に、多くの共通点があることは明らかであろう。実際には、第2のスチームアイロン組立体2は、スチーム供給用のボイラ60と再加熱装置60の組み合わせを有するのに対して、第1のスチームアイロン組立体1は、同目的のため単一のスチーム発生器20を有することだけが、有意な差異である。従って、スチームアイロン組立体1、2の両方は、同じ原理により機能し、同じ利点を提供することは明らかであろう。結果的に、第1のスチームアイロン組立体1に関する多くの記載は、第2のアイロン組立体2にも適用することができる。例えば、底板11を有する第2のスチームアイロン組立体2は、熱伝導性プラスチックまたは複合材料を有し、加熱手段13、66は、少なくとも一つの平坦抵抗加熱素子を有することが好ましいことも事実である。また、第2のスチームアイロン組立体2では、第1の加熱手段13は、少なくとも一つの平坦抵抗加熱素子の代わりに、少なくとも一つのPTC加熱素子を有しても良く、この場合、第1のサーモスタット14が省略できる。

本発明の第1の好適実施例によるスチームアイロン組立体の部品、およびこのスチームアイロン組立体に流れる水とスチームの流路を概略的に示した図である。 本発明の第2の好適実施例によるスチームアイロン組立体の部品、およびこのスチームアイロン組立体に流れる水とスチームの流路を概略的に示した図である。

Claims (12)

1. スチームアイロン処理プロセスの間のアイロン処理温度を制御する方法であって、
   被アイロン処理品と接触させるための底板を有するスチームアイロンと、スチームを発生させるスチーム発生器とが使用され、
   前記アイロン処理温度の変更は、前記底板に対する温度設定を実質的に一定の値に保持する一方で、前記スチームの温度を変更することにより行われることを特徴とする方法。
2. 前記底板の前記温度は、スチームの凝縮温度を超えるレベルに保持されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
3. 前記底板の前記温度は、110℃の温度近傍の制限温度範囲内に保持されることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
4. 前記スチームの前記温度は、前記スチーム発生器への電力供給の変化に基づいて変化することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一つに記載の方法。
5. 請求項1乃至4のいずれか一つに記載の方法を実施するための適用に適したスチームアイロン組立体であって、
   被アイロン処理品と接触させるための底板を有するスチームアイロンと、
   スチームを発生させ、供給するスチーム発生手段と、
   前記スチームアイロンの前記底板に関連する第1の加熱手段と、
   前記スチーム発生手段に関連する第2の加熱手段と、
   前記スチームアイロンの前記底板に対する温度設定を実質的に一定の値に保持するように適合された第1のサーモスタットと、
   前記アイロン処理温度が所望のレベルになるように、前記スチーム発生手段によって供給される前記スチームの温度を設定するように適合された第2のサーモスタットと、
   を有するスチームアイロン組立体。
6. 前記第1のサーモスタットは、前記スチームアイロンの前記底板の前記温度を、スチームの凝縮温度を超えるレベルに保持するように適合されていることを特徴とする請求項5に記載のスチームアイロン組立体。
7. 前記第1のサーモスタットは、前記スチームアイロンの前記底板の前記温度を、110℃の温度近傍の制限温度範囲内に保持するように適合されていることを特徴とする請求項5または6に記載のスチームアイロン組立体。
8. 少なくとも一つの平坦抵抗素子を有することを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一つに記載のスチームアイロン組立体。
9. 前記スチームアイロンの前記底板は、熱伝導性プラスチックを有することを特徴とする請求項5乃至8のいずれか一つに記載のスチームアイロン組立体。
10. 前記第1の加熱手段は、少なくとも一つの平坦抵抗加熱素子を有し、該平坦抵抗加熱素子は、前記スチームアイロンの前記底板の前記熱伝導性プラスチックに取り付けられた、導電性プラスチックを有する素子として定形されることを特徴とする請求項9に記載のスチームアイロン組立体。
11. 前記スチームアイロンの前記底板は、前記被アイロン処理品を平坦化するための接触表面を提供し、スチームの導管としての役割を果たすように構成されることを特徴とする請求項5乃至8のいずれか一つに記載のスチームアイロン組立体。
12. 請求項1乃至4のいずれか一つに記載の方法を実施するための適用に適したスチームアイロン組立体であって、
    被アイロン処理品と接触させるための底板を有するスチームアイロンと、
    スチームを発生させ、供給するスチーム発生手段と、
    前記スチームアイロンの前記底板に関連する少なくとも一つのPTC加熱素子を有する第1の加熱手段であって、前記スチームアイロンの前記底板に対する温度設定を実質的に一定の値に保持することの可能な第1の加熱手段と、
    前記スチーム発生手段に関連する第2の加熱手段と、
    前記アイロン処理温度が所望のレベルになるように、前記スチーム発生手段によって供給される前記スチームの温度を設定するように適合されたサーモスタットと、
    を有するスチームアイロン組立体。

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