JP4922220B2 - Insulating sheet and laminated structure - Google Patents

Insulating sheet and laminated structure Download PDF

Info

Publication number
JP4922220B2
JP4922220B2 JP2008076347A JP2008076347A JP4922220B2 JP 4922220 B2 JP4922220 B2 JP 4922220B2 JP 2008076347 A JP2008076347 A JP 2008076347A JP 2008076347 A JP2008076347 A JP 2008076347A JP 4922220 B2 JP4922220 B2 JP 4922220B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating sheet
filler
skeleton
particle size
insulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008076347A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009164093A (en
Inventor
卓司 青山
寛 前中
康成 日下
貴志 渡邉
勲夫 樋口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2008076347A priority Critical patent/JP4922220B2/en
Priority to US12/676,435 priority patent/US20100297453A1/en
Priority to KR1020107003904A priority patent/KR101174971B1/en
Priority to CN2008801058680A priority patent/CN101796106B/en
Priority to PCT/JP2008/065763 priority patent/WO2009031536A1/en
Priority to TW097134284A priority patent/TWI382928B/en
Publication of JP2009164093A publication Critical patent/JP2009164093A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4922220B2 publication Critical patent/JP4922220B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Insulating Bodies (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an insulating sheet capable of having high thermal conductivity and preparing a cured product being excellent on adhesive properties and insulating destruction-resistant characteristics. <P>SOLUTION: In the insulating sheet 3 used to glue the high thermal conductor 4 with thermal conductivity of &ge;10 W/m&times;k on a conductive layer 2, the insulating sheet 3 contains a polymer A with an aromatic structure and weight average molecular weight of &ge;30,000, an epoxy monomer B1 and/or an oxetane monomer B2 with an aromatic structure and weight average molecular weight of &le;600, a curing agent C, and a filler D. Globular filler D1 of 5-30 vol% with average particle sizes of 0.1-0.5 &mu;m, globular filler D2 of 20-60 vol% with average particle sizes of 2-6 &mu;m, and globular filler D3 of 20-60 vol% with average particle sizes of 10-40 &mu;m are included in 100 vol% filler D. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられる絶縁シートに関し、より詳細には、高い熱伝導率を有し、かつ接着性及び絶縁破壊特性に優れた硬化物を与える絶縁シート、及び該絶縁シートを用いた積層構造体に関する。   The present invention relates to an insulating sheet used for adhering a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, and more particularly, to an insulating sheet having high thermal conductivity and adhesion and insulation. The present invention relates to an insulating sheet that gives a cured product having excellent destructive properties, and a laminated structure using the insulating sheet.

近年、電気機器の小型化及び高性能化が進行している。それに伴って、電子部品の実装密度が高くなってきており、電子部品から発生する熱を効果的に放散させる必要が高まってきている。また、近年の環境意識の高まりを受け、環境負荷の抑制が可能な電気自動車などのパワーデバイス用途においては、高電圧が印加されたり、あるいは大電流が流れたりすることが余儀なくされている。この場合高い熱量が発生するが、発生する高い熱量に対処するために、従来にも増して高効率に熱を放散させる必要が高まってきている。   In recent years, miniaturization and high performance of electric devices have been advanced. Along with this, the mounting density of electronic components is increasing, and the need to effectively dissipate heat generated from electronic components is increasing. Further, in response to the recent increase in environmental awareness, in power device applications such as electric vehicles capable of suppressing environmental loads, it is unavoidable that a high voltage is applied or a large current flows. In this case, a high amount of heat is generated, but in order to cope with the high amount of heat generated, the necessity to dissipate heat more efficiently than ever is increasing.

熱を放散させる方法としては、高い放熱性を有し、かつ熱伝導率が10W/m・K以上であるアルミニウム等などの高熱伝導体を、発熱源に対して接着する方法が広く採用されている。また、この高熱伝導体を発熱源に接着するのに、絶縁性を有する絶縁接着材料が用いられている。絶縁接着材料には、高い熱伝導率を有することが強く求められている。   As a method of dissipating heat, a method of adhering a high heat conductor such as aluminum having high heat dissipation and a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a heat source is widely adopted. Yes. Further, an insulating adhesive material having an insulating property is used to bond the high thermal conductor to a heat source. Insulating adhesive materials are strongly required to have high thermal conductivity.

上記絶縁接着材料の一例として、下記の特許文献1には、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、エラストマー及び無機充填剤を含有する接着剤組成物を、ガラスクロスに含浸させた絶縁接着シートが開示されている。上記接着剤組成物では、無機充填材が3〜50質量%の割合で配合されていることが好ましいと記載されている。   As an example of the above insulating adhesive material, the following Patent Document 1 discloses an insulating material in which a glass cloth is impregnated with an adhesive composition containing an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, a curing accelerator, an elastomer, and an inorganic filler. An adhesive sheet is disclosed. In the adhesive composition, it is described that the inorganic filler is preferably blended at a ratio of 3 to 50% by mass.

また、下記の特許文献2には、平均粒径0.1〜0.9μmの無機粉末Aが15〜35重量%、平均粒径2.0〜6.0μmの無機粉末Bが0〜40重量%、平均粒径10.0〜30.0μmの無機粉末Cが40〜80重量%の範囲であって合計100重量%となるように配合されている接着剤が開示されている。この接着剤では、高い熱伝導率を有し、かつ電気絶縁性に優れた上記特定の無機粉末が上記特定の割合で配合されており、それによって放熱性が高められている。
特開2006−342238号公報 特許第2520988号公報
In Patent Document 2 below, inorganic powder A having an average particle size of 0.1 to 0.9 μm is 15 to 35% by weight, and inorganic powder B having an average particle size of 2.0 to 6.0 μm is 0 to 40% by weight. %, An adhesive having an average particle size of 10.0 to 30.0 μm in an amount of 40 to 80% by weight and 100% by weight in total is disclosed. In this adhesive, the specific inorganic powder having high thermal conductivity and excellent electrical insulation is blended at the specific ratio, thereby improving heat dissipation.
JP 2006-342238 A Japanese Patent No. 2520988

特許文献1に記載の絶縁接着シートでは、無機充填材が上記特定の割合で配合されていることが好ましいと記載されている。しかしながら、特許文献1には、どのような形状を有し、かつどのような粒径を有する無機充填材を用いるのかについては何ら記載されていない。従って、絶縁接着シートに配合される無機充填材の形状や粒径によっては、絶縁接着シートの熱伝導率が低くなり、充分な放熱性が得られないことがあった。   In the insulating adhesive sheet described in Patent Document 1, it is described that the inorganic filler is preferably blended at the specific ratio. However, Patent Document 1 does not describe what kind of shape and what particle size the inorganic filler is used. Therefore, depending on the shape and particle size of the inorganic filler compounded in the insulating adhesive sheet, the thermal conductivity of the insulating adhesive sheet may be low, and sufficient heat dissipation may not be obtained.

さらに、特許文献1に記載の絶縁接着シートでは、ハンドリング性などのシート特性を高めるために、ガラスクロスが用いられていた。ガラスクロスを用いた場合には、絶縁接着シートの熱伝導率が比較的低くなり、充分な放熱性が得られないことがあった。一方で、薄膜化やレーザー加工、ドリル穴開け加工等の各種加工を行うことが困難な場合があった。また、ガラスクロスに接着剤組成物を含浸させるために、特殊な含浸設備を用意しなければならなかった。   Furthermore, in the insulating adhesive sheet described in Patent Document 1, a glass cloth is used in order to enhance sheet characteristics such as handling properties. When glass cloth is used, the thermal conductivity of the insulating adhesive sheet is relatively low, and sufficient heat dissipation may not be obtained. On the other hand, it may be difficult to perform various processes such as thinning, laser processing, and drilling. In addition, special impregnation equipment had to be prepared in order to impregnate the glass cloth with the adhesive composition.

一方、特許文献2に記載の接着剤には、粒径が異なる3種の無機粉末A〜Cが配合されている。しかしながら、例えば、上記無機粉末Aとして平均粒径が0.5μmを超え、かつ0.9μm以下の無機粉末を用いた場合には、平均粒径2.0〜6.0μmの無機粉末Bと粒径が近すぎる為に、充分な充填性が確保できことがあった。そのため、熱伝導率が低下したり、局所的なフィラーの凝集が発生して接着力が低下したり、絶縁性が充分に得られないことがあった。また、平均粒径2.0〜6.0μmの無機粉末Bの配合量が少なすぎる場合、及び/又は平均粒径が10〜30μmの無機粉末Cの配合量が多すぎる場合にも、充分な充填性が確保できないことがあった。そのため、熱伝導率が低くなったり、局所的なフィラーの凝集が発生して接着力が低下したり、絶縁性が十分に得られないことがあった。   On the other hand, in the adhesive described in Patent Document 2, three types of inorganic powders A to C having different particle sizes are blended. However, for example, when an inorganic powder having an average particle size of more than 0.5 μm and not more than 0.9 μm is used as the inorganic powder A, the inorganic powder B and particles having an average particle size of 2.0 to 6.0 μm are used. Since the diameters were too close, sufficient filling properties could be secured. For this reason, thermal conductivity may decrease, local aggregation of fillers may occur and adhesive strength may decrease, and insulation may not be sufficiently obtained. Moreover, it is sufficient when the blending amount of the inorganic powder B having an average particle size of 2.0 to 6.0 μm is too small and / or when the blending amount of the inorganic powder C having an average particle size of 10 to 30 μm is too large. Fillability may not be ensured. For this reason, thermal conductivity may be lowered, local filler agglomeration may occur and adhesive strength may be reduced, or insulation may not be sufficiently obtained.

また、上記接着剤に配合される無機粉末A〜C以外の樹脂成分の種類によっては、接着剤の硬化物の絶縁破壊特性や接着性が低下することがあった。   Moreover, depending on the types of resin components other than the inorganic powders A to C blended in the adhesive, the dielectric breakdown characteristics and adhesiveness of the cured product of the adhesive may be reduced.

本発明の目的は、上述した従来技術の現状に鑑み、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられ、高い熱伝導率を有し、かつ接着性及び絶縁破壊特性に優れた硬化物を与える絶縁シート、及びそれを用いた積層構造体を提供することにある。   An object of the present invention is to adhere a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer in view of the current state of the prior art described above, and has a high thermal conductivity and adhesion. It is an object to provide an insulating sheet that provides a cured product having excellent properties and dielectric breakdown characteristics, and a laminated structure using the insulating sheet.

本発明の限定的な目的は、熱伝導率が更に一層高く、かつ絶縁破壊特性により一層優れた硬化物を与える絶縁シート、及びそれを用いた積層構造体を提供することにある。   A limited object of the present invention is to provide an insulating sheet that has a further higher thermal conductivity and provides a cured product with better dielectric breakdown characteristics, and a laminated structure using the insulating sheet.

本発明のより限定的な目的は、高い熱伝導率と、優れた接着性及び絶縁破壊特性とを有するだけでなく、耐熱性にも優れた硬化物を与える絶縁シート、及びそれを用いた積層構造体を提供することにある。   A more limited object of the present invention is to provide an insulating sheet that gives a cured product that has not only high thermal conductivity, excellent adhesion and dielectric breakdown characteristics, but also excellent heat resistance, and lamination using the same It is to provide a structure.

本発明によれば、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられる絶縁シートであって、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が3万以上であるポリマー(A)と、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1)及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2)と、硬化剤(C)と、フィラー(D)とを含有し、前記ポリマー(A)が熱硬化性樹脂であり、前記フィラー(D)100体積%中に、平均粒子径0.1〜0.5μmの球状フィラー(D1)5〜30体積%と、平均粒子径2〜6μmの球状フィラー(D2)20〜60体積%と、平均粒子径10〜40μmの球状フィラー(D3)20〜60体積%とが、球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)の合計が100体積%を超えない量でそれぞれ含まれており、絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量部に対して、前記ポリマー(A)の含有量が30〜60重量部の範囲内であることを特徴とする、絶縁シートが提供される。 According to the present invention, there is provided an insulating sheet used for bonding a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, having an aromatic skeleton, and having a weight average molecular weight of 30,000. The polymer (A) as described above, an epoxy monomer (B1) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less, and / or an oxetane having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less. It contains a monomer (B2), a curing agent (C), and a filler (D), the polymer (A) is a thermosetting resin, and an average particle size of 0 in 100% by volume of the filler (D). .1 to 0.5 μm spherical filler (D1) 5 to 30% by volume, spherical filler (D2) 20 to 60% by volume with an average particle size 2 to 6 μm, and spherical filler (D3) with an average particle size 10 to 40 μm 20-60% by volume is a sphere Filler (D1), (D2) and total (D3) is included respectively in an amount not to exceed 100% by volume, relative to total 100 parts by weight of the total resin component contained in the insulating sheet, the polymer the content of (a) is characterized in der Rukoto the range of 30 to 60 parts by weight, the insulating sheet is provided.

本発明の絶縁シートのある特定の局面では、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有する分散剤(F)がさらに含有されている。前記分散剤(F)の前記官能基のpKaは2〜10であることが好ましい。このような分散剤(F)を用いた場合には、絶縁シートの硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性がより一層高められる。   On the specific situation of the insulating sheet of this invention, the dispersing agent (F) which has a functional group containing the hydrogen atom which has hydrogen bonding property is further contained. It is preferable that pKa of the said functional group of the said dispersing agent (F) is 2-10. When such a dispersant (F) is used, the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product of the insulating sheet are further enhanced.

本発明では、上記フィラー(D)としては、様々なフィラーを用いることができるが、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種が好ましい。これらのフィラーを用いた場合には、絶縁シートの硬化物の熱伝導率がより一層高められる。   In the present invention, various fillers can be used as the filler (D), but at least one selected from the group consisting of alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, zinc oxide and magnesium oxide. Species are preferred. When these fillers are used, the thermal conductivity of the cured product of the insulating sheet is further enhanced.

本発明に係る絶縁シートのある特定の局面では、前記球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)の主成分が同一とされている。   In a specific aspect of the insulating sheet according to the present invention, the main components of the spherical fillers (D1), (D2), and (D3) are the same.

また、本発明では、上記ポリマー(A)としては、様々なポリマーを用いることができるが、フェノキシ樹脂が好ましく、それによって、耐熱性が高められる。また、上記フェノキシ樹脂は、ガラス転移温度Tgが95℃以上であることが好ましい。この場合、樹脂の熱劣化がより一層抑制される。   Further, in the present invention, various polymers can be used as the polymer (A), but a phenoxy resin is preferable, thereby improving heat resistance. The phenoxy resin preferably has a glass transition temperature Tg of 95 ° C. or higher. In this case, the thermal deterioration of the resin is further suppressed.

本発明では、上記硬化剤(C)としては、様々な硬化剤を用いることができる。中でも多脂環式骨格を有する酸無水物、もしくはテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物が好ましく用いられる。さらに、硬化剤(C)として、下記式(1)〜(3)のいずれかで表される酸無水物がより好ましく用いられる。これらの場合、絶縁シートの柔軟性、耐湿性及び/又は接着性などをより一層高めることができる。   In the present invention, various curing agents can be used as the curing agent (C). Among them, an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, an acid anhydride having an alicyclic skeleton obtained by addition reaction of a terpene compound and maleic anhydride, a water additive thereof, or a modified product thereof are preferably used. . Furthermore, an acid anhydride represented by any of the following formulas (1) to (3) is more preferably used as the curing agent (C). In these cases, the flexibility, moisture resistance and / or adhesion of the insulating sheet can be further enhanced.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

Figure 0004922220
Figure 0004922220

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記式(3)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素、炭素数1〜5のアルキル基、又は水酸基を示す。   In said formula (3), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group each independently.

また、本発明では、上記硬化剤(C)としては、様々な硬化剤を用いることができるが、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましい。この場合、シート柔軟性や難燃性をより一層高めることができる。   In the present invention, various curing agents can be used as the curing agent (C), and a phenol resin having a melamine skeleton or a triazine skeleton or a phenol resin having an allyl group is preferable. In this case, sheet flexibility and flame retardancy can be further enhanced.

本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されており、該絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させて形成されていることを特徴とする。   In the laminated structure according to the present invention, a conductive layer is laminated on at least one surface of a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer, and the insulating layer is configured according to the present invention. The insulating sheet thus formed is cured.

本発明に係る積層構造体のある特定の局面では、前記高熱伝導体は金属とされている。   In a specific aspect of the laminated structure according to the present invention, the high thermal conductor is a metal.

本発明によれば、絶縁シートが上記(A)〜(D)成分を含有し、かつ上記フィラー(D)中に、平均粒子径0.1〜0.5μmの球状フィラー(D1)と、平均粒子径1〜6μmの球状フィラー(D2)と、平均粒子径10〜40μmの球状フィラー(D3)とが上記特定の割合で含まれているので、絶縁シートの硬化物は、高い熱伝導率を有し、かつ接着性及び絶縁破壊特性に優れたものとなる。   According to the present invention, the insulating sheet contains the above components (A) to (D), and the filler (D) contains spherical fillers (D1) having an average particle size of 0.1 to 0.5 μm and an average. Since the spherical filler (D2) having a particle diameter of 1 to 6 μm and the spherical filler (D3) having an average particle diameter of 10 to 40 μm are contained in the specific ratio, the cured product of the insulating sheet has high thermal conductivity. It has excellent adhesion and dielectric breakdown characteristics.

水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有する分散剤(F)が含有されている場合には、絶縁シートの硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。   When the dispersant (F) having a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties is contained, the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product of the insulating sheet can be further enhanced.

本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されており、該絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させて形成されているので、導電層側からの熱が絶縁層を介して上記高熱伝導体に伝わり易く、該高熱伝導体によって熱を効率的に放散させることができる。さらに、積層構造体では、絶縁破壊や接着界面での剥離も生じ難い。   In the laminated structure according to the present invention, a conductive layer is laminated on at least one surface of a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer, and the insulating layer is configured according to the present invention. Since the formed insulating sheet is cured, heat from the conductive layer side is easily transferred to the high heat conductor through the insulating layer, and heat can be efficiently dissipated by the high heat conductor. Further, in the laminated structure, dielectric breakdown and peeling at the adhesive interface are unlikely to occur.

本願発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が3万以上であるポリマー(A)と、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1)及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2)と、硬化剤(C)と、フィラー(D)とを含む組成を採用し、かつこの特定の組成においてフィラー(D)中に、平均粒子径0.1〜0.5μmの球状フィラー(D1)と、平均粒子径1〜6μmの球状フィラー(D2)と、平均粒子径10〜40μmの球状フィラー(D3)とが上記特定の割合で含まれている構成とすることによって、高い熱伝導率を有し、かつ接着性及び絶縁破壊特性に優れた硬化物を与える絶縁シートが得られることを見出し、本発明を成すに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present application have a polymer (A) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 30,000 or more, an aromatic skeleton, and a weight. An epoxy monomer (B1) having an average molecular weight of 600 or less and / or an oxetane monomer (B2) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less, a curing agent (C), and a filler (D), In this specific composition, the filler (D) includes a spherical filler (D1) having an average particle size of 0.1 to 0.5 μm and a spherical filler (D2) having an average particle size of 1 to 6 μm. And a spherical filler (D3) having an average particle diameter of 10 to 40 μm is contained at the above-mentioned specific ratio, thereby having a high thermal conductivity and excellent adhesion and dielectric breakdown characteristics. Give things It found that edge sheet is obtained, thereby forming the basis of the present invention.

また、本願発明者らは、上記成分に加えて、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有する分散剤(F)をさらに含む組成を採用することによって、熱伝導性及び絶縁破壊特性により一層優れた硬化物を与える絶縁シートが得られることも見出した。   In addition to the above components, the inventors of the present application adopt a composition further including a dispersant (F) having a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties, thereby improving thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics. It has also been found that an insulating sheet giving a more excellent cured product can be obtained.

さらに、本願発明者らは、上記芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が3万以上であるポリマー(A)がフェノキシ樹脂である場合に、高い熱伝導率と、優れた接着性及び絶縁破壊特性とを有するだけでなく、耐熱性にも優れている硬化物を与える絶縁シートが得られることも見出した。   Furthermore, the inventors of the present application have high thermal conductivity, excellent adhesion and insulation when the polymer (A) having the above aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 30,000 or more is a phenoxy resin. It has also been found that an insulating sheet that gives a cured product that not only has destructive properties but also has excellent heat resistance can be obtained.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係る絶縁シートは、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が3万以上であるポリマー(A)と、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1)及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2)と、硬化剤(C)と、フィラー(D)とを含有する。本発明に係る絶縁シートは、好ましくは、これらの成分に加えて、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有する分散剤(F)をさらに含有する。   The insulating sheet according to the present invention includes a polymer (A) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 30,000 or more, and an epoxy monomer having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less ( B1) and / or an oxetane monomer (B2) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less, a curing agent (C), and a filler (D). The insulating sheet according to the present invention preferably further contains, in addition to these components, a dispersant (F) having a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties.

(ポリマー(A))
本発明に係る絶縁シートに含まれる上記ポリマー(A)は、芳香族骨格をポリマー全体の中に有していればよく、主鎖骨格内に含んでいてもよく、側鎖中に含んでいてもよい。耐熱性が高められるので、ポリマー(A)は、芳香族骨格を主鎖骨格内に有することが好ましい。
(Polymer (A))
The polymer (A) contained in the insulating sheet according to the present invention may have an aromatic skeleton in the whole polymer, may be contained in the main chain skeleton, and contained in the side chain. Also good. Since heat resistance is enhanced, the polymer (A) preferably has an aromatic skeleton in the main chain skeleton.

上記芳香族骨格としては特に限定はされず、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格等が挙げられる。なかでも、耐熱性がより一層高められるので、ビフェニル骨格、又はフルオレン骨格が好ましい。   The aromatic skeleton is not particularly limited, and examples thereof include a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, a biphenyl skeleton, an anthracene skeleton, a pyrene skeleton, a xanthene skeleton, and an adamantane skeleton. Especially, since heat resistance is further improved, a biphenyl skeleton or a fluorene skeleton is preferable.

上記ポリマー(A)としては特に限定はされず、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂などを用いることができる。   The polymer (A) is not particularly limited, and a thermoplastic resin or a thermosetting resin can be used.

上記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン等の熱可塑性樹脂、熱可塑性ポリイミド、熱硬化性ポリイミド、ベンゾオキサジン、ポリベンゾオキサゾールとベンゾオキサジンとの反応物などといったスーパーエンプラと呼ばれている耐熱性樹脂群を使用することができる。これら熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。また、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は、それぞれ単独で用いられても良いし、両者が併用されても良い。   The thermoplastic resin and the thermosetting resin are not particularly limited. For example, thermoplastic resins such as polyphenylene sulfide, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, and polyetherketone, A heat-resistant resin group called super engineering plastics such as plastic polyimide, thermosetting polyimide, benzoxazine, and a reaction product of polybenzoxazole and benzoxazine can be used. These thermoplastic resins and thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more. Moreover, a thermoplastic resin and a thermosetting resin may each be used independently, and both may be used together.

上記ポリマー(A)の中では、酸化劣化を防止でき、耐熱性がより一層高められるので、スチレン系重合体又はフェノキシ樹脂が好ましく、その中でもフェノキシ樹脂がより好ましい。   Among the polymers (A), oxidative deterioration can be prevented and the heat resistance is further enhanced, so that a styrene polymer or a phenoxy resin is preferable, and among these, a phenoxy resin is more preferable.

上記スチレン系重合体としては、具体的には、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−クロロスチレン、p−エチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、3,4−ジクロロスチレン等から少なくとも一つ選ばれるスチレン系モノマーの単独重合体、又はこれらモノマーと、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、β−ヒドロキシアクリル酸エチル、γ−アミノアクリル酸プロピル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル等から必要に応じて選ばれるアクリル系モノマーとの共重合体等を用いることができる。中でも、スチレン−メタクリル酸グリシジルの構造を有するスチレン系重合体を好適に用いることができる。   Specific examples of the styrenic polymer include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, p-chlorostyrene, p-ethylstyrene, pn-butyl styrene, p-tert-butyl styrene, pn-hexyl styrene, pn-octyl styrene, pn-nonyl styrene, pn-decyl styrene, pn-dodecyl styrene, 2 , 4-dimethylstyrene, 3,4-dichlorostyrene and the like, a styrene monomer homopolymer selected from these, or these monomers and acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, phenyl acrylate, Methyl tacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, ethyl β-hydroxyacrylate, propyl γ-aminoacrylate, stearyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate Further, a copolymer with an acrylic monomer selected from diethylaminoethyl methacrylate and the like as required can be used. Among these, a styrene polymer having a styrene-glycidyl methacrylate structure can be preferably used.

上記フェノキシ樹脂とは、具体的には、例えばエピハロヒドリンと2価フェノール化合物とを反応させて得られる樹脂、又は2価のエポキシ化合物と2価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂のことである。   Specifically, the phenoxy resin is, for example, a resin obtained by reacting an epihalohydrin and a divalent phenol compound, or a resin obtained by reacting a divalent epoxy compound and a divalent phenol compound. is there.

上記フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、ビスフェノールA/F混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びジシクロペンタジエン骨格からなる群から選択された少なくとも1つの骨格を有するフェノキシ樹脂が好ましい。中でも、耐熱性がより一層高められるので、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、ビスフェノールA/F混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格及びビフェニル骨格からなる群から選択された少なくとも1種の骨格を有するフェノキシ樹脂がより好ましく、フルオレン骨格及び/又はビフェニル骨格を有するフェノキシ樹脂が更に好ましい。   Examples of the phenoxy resin include bisphenol A skeleton, bisphenol F skeleton, bisphenol A / F mixed skeleton, naphthalene skeleton, fluorene skeleton, biphenyl skeleton, anthracene skeleton, pyrene skeleton, xanthene skeleton, adamantane skeleton and dicyclopentadiene skeleton. Phenoxy resins having at least one skeleton selected from the group consisting of Among them, since the heat resistance is further enhanced, at least one skeleton selected from the group consisting of a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a bisphenol A / F mixed skeleton, a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, and a biphenyl skeleton is used. A phenoxy resin having a fluorene skeleton and / or a biphenyl skeleton is more preferable.

上記フェノキシ樹脂は、主鎖中に多環式芳香族骨格を有することが好ましい。また、上記フェノキシ樹脂は、主鎖中に、下記式(4)〜(9)で表される骨格のうち、少なくとも1つの骨格を有することがより好ましい。   The phenoxy resin preferably has a polycyclic aromatic skeleton in the main chain. The phenoxy resin more preferably has at least one skeleton among the skeletons represented by the following formulas (4) to (9) in the main chain.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記式(4)中、Rは互いに同一であっても異なっていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、又は−CO−から選ばれる基である。 In the above formula (4), R 1 may be the same or different from each other and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen element, and X 1 is a single bond or carbon. It is a group selected from a divalent hydrocarbon group of formulas 1 to 7, —O—, —S—, —SO 2 —, or —CO—.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記式(5)中、R1aは互いに同一であっても異なっていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、Rは、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、Rは、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、mは0〜5の整数である。 In the formula (5), R 1a may be the same as or different from each other, and is a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen element, and R 2 is a hydrogen atom, It is a group selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen element, R 3 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and m is an integer of 0 to 5.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記式(6)中、R1bは互いに同一であっても異なっていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、Rは互いに同一であっても異なっていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、lは0〜4の整数である。 In the above formula (6), R 1b may be the same as or different from each other, and is a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen element, and R 4 is the same as each other. Or a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen element, and l is an integer of 0 to 4.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記式(8)中、R、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原子から選ばれるものであり、Xは−SO−、−CH−、−C(CH−、または−O−のいずれかであり、kは0または1の値である。 In the above formula (8), R 5 and R 6 are selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a halogen atom, and X 2 is —SO 2 —, —CH 2 —, —C ( CH 3 ) 2 —, or —O—, and k is a value of 0 or 1.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記ポリマー(A)としては、例えば、下記式(10)または下記式(11)で表されるフェノキシ樹脂を好適に用いることができる。   As the polymer (A), for example, a phenoxy resin represented by the following formula (10) or the following formula (11) can be suitably used.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記式(10)中、Aは上記式(4)〜(6)のいずれかで表される構造を有し、かつその構成は上記式(4)で表される構造が0〜60モル%、上記式(5)で表される構造が5〜95モル%、及び上記式(6)で表される構造が5〜95モル%であり、Aは水素原子、または上記式(7)で表される基であり、nは平均値で25〜500の数である。 In the above formula (10), A 1 has a structure represented by any of the above formulas (4) to (6), and the structure is 0 to 60 mol of the structure represented by the above formula (4). %, The structure represented by the above formula (5) is 5 to 95 mol%, and the structure represented by the above formula (6) is 5 to 95 mol%, and A 2 represents a hydrogen atom or the above formula (7 ), And n 1 is an average value of 25 to 500.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記式(11)中、Aは上記式(8)または上記式(9)で表される構造を有し、nは少なくとも21以上の値である。 In the above formula (11), A 3 has a structure represented by the above formula (8) or the above formula (9), and n 2 has a value of at least 21 or more.

上記ポリマー(A)のガラス転移温度Tgは、60〜200℃の範囲にあることが好ましい。より好ましくは、90〜180℃の範囲である。ポリマー(A)のTgが低すぎると、樹脂が熱劣化する場合があり、高すぎると、他の樹脂との相溶性が悪くなり、結果として絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁シートの硬化物の耐冷熱サイクル性及び耐高温放置性等の耐熱性が低下することがある。   The glass transition temperature Tg of the polymer (A) is preferably in the range of 60 to 200 ° C. More preferably, it is the range of 90-180 degreeC. If the Tg of the polymer (A) is too low, the resin may be thermally deteriorated. If the Tg is too high, the compatibility with other resins is deteriorated. As a result, the handling property of the insulating sheet and the cured product of the insulating sheet are deteriorated. Heat resistance such as cold cycle resistance and high temperature storage resistance may be reduced.

上記ポリマー(A)がフェノキシ樹脂である場合、ガラス転移温度Tgは、95℃以上であることが好ましく、110〜200℃の範囲がより好ましく、110〜180℃の範囲がさらに好ましい。フェノキシ樹脂のTgが低すぎると、樹脂が熱劣化することがあり、高すぎると、他の樹脂との相溶性が悪くなり、結果として絶縁シートの取扱い性、並びに絶縁シートの硬化物の耐冷熱サイクル性及び耐高温放置性等の耐熱性が低下することがある。   When the polymer (A) is a phenoxy resin, the glass transition temperature Tg is preferably 95 ° C. or higher, more preferably 110 to 200 ° C., and even more preferably 110 to 180 ° C. If the Tg of the phenoxy resin is too low, the resin may be thermally deteriorated. If the Tg is too high, the compatibility with other resins deteriorates. As a result, the handling properties of the insulating sheet and the heat resistance of the cured product of the insulating sheet are reduced. Heat resistance such as cycle performance and high temperature resistance may decrease.

上記ポリマー(A)の重量平均分子量は、30,000以上である。ポリマー(A)の重量平均分子量は、30,000〜1,000,000の範囲が好ましく、より好ましくは、40,000〜250,000の範囲である。重量平均分子量が小さすぎると、熱劣化することがあり、大きすぎると、他の樹脂との相溶性が悪くなり、結果として絶縁シートの取扱い性、並びに絶縁シートの硬化物の耐冷熱サイクル性及び耐高温放置性等の耐熱性が低下する場合がある。   The polymer (A) has a weight average molecular weight of 30,000 or more. The weight average molecular weight of the polymer (A) is preferably in the range of 30,000 to 1,000,000, more preferably in the range of 40,000 to 250,000. If the weight average molecular weight is too small, thermal degradation may occur.If the weight average molecular weight is too large, compatibility with other resins is deteriorated. As a result, the handling properties of the insulating sheet, and the thermal cycle resistance of the cured product of the insulating sheet and Heat resistance such as resistance to high-temperature standing may decrease.

上記ポリマー(A)の配合量としては、絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量部に対して、20〜60重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、30〜50重量部の範囲である。ポリマー(A)が少なすぎると、絶縁シートのハンドリング性が低下することがあり、多すぎると、フィラー(D)の分散が困難になることがある。なお、全樹脂成分とは、ポリマー(A)、エポキシモノマー(B1)、オキセタンモノマー(B2)、硬化剤(C)及び必要に応じて添加される他の樹脂構成成分の総和をいうものとする。   As a compounding quantity of the said polymer (A), the range of 20-60 weight part is preferable with respect to a total of 100 weight part of all the resin components contained in the insulating sheet, More preferably, it is 30-50 weight part. It is a range. When there are too few polymers (A), the handleability of an insulating sheet may fall, and when there are too many, dispersion | distribution of a filler (D) may become difficult. The total resin component means the sum of the polymer (A), the epoxy monomer (B1), the oxetane monomer (B2), the curing agent (C), and other resin components added as necessary. .

(エポキシモノマー(B1)及びオキセタンモノマー(B2))
本発明に係る絶縁シートは、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下のエポキシモノマー(B1)、及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下のオキセタンモノマー(B2)を含む。絶縁シートは、エポキシモノマー(B1)とオキセタンモノマー(B2)とのいずれか一方のみを含んでいてもよいし、両者を含んでいてもよい。
(Epoxy monomer (B1) and oxetane monomer (B2))
The insulating sheet according to the present invention has an aromatic skeleton and an epoxy monomer (B1) having a weight average molecular weight of 600 or less, and / or an oxetane monomer having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less ( B2). The insulating sheet may contain only one of the epoxy monomer (B1) and the oxetane monomer (B2), or may contain both.

上記エポキシモノマー(B1)としては特に限定はされないが、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型のビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー;ジシクロペンタジエンジオキシド、ジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシモノマーなどのジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマー;1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリシジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等のナフタレン骨格を有するエポキシモノマー;1,3−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンテン、2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンテン等のアダマンテン骨格を有するエポキシモノマー;9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン等のフルオレン骨格を有するエポキシモノマー、4,4’−ジグリシジルビフェニル、4,4’−ジグリシジル−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル等のビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂;1,1’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン等のバイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマー;1,3,4,5,6,8−ヘキサメチル−2,7−ビス−オキシラニルメトキシ−9−フェニル−9H−キサンテン等のキサンテン骨格を有するエポキシモノマー;アントラセン骨格やピレン骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。これらのエポキシモノマー(B1)は、1種のみが用いられても良いし、2種以上が併用されても良い。   The epoxy monomer (B1) is not particularly limited. For example, an epoxy monomer having a bisphenol skeleton of bisphenol A type, bisphenol F type, or bisphenol S type; a phenol novolac epoxy having a dicyclopentadiene dioxide or dicyclopentadiene skeleton. Epoxy monomers having a dicyclopentadiene skeleton such as monomers; 1-glycidylnaphthalene, 2-glycidylnaphthalene, 1,2-diglycidylnaphthalene, 1,5-diglycidylnaphthalene, 1,6-diglycidylnaphthalene, 1,7- Epoxy monomers having a naphthalene skeleton such as diglycidylnaphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene; 1,3-bis (4 Epoxy monomers having an adamantene skeleton such as glycidyloxyphenyl) adamantene and 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamanten; 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- Glycidyloxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-Glycidyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-methoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dic Rophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dibromophenyl) fluorene and other epoxy monomers having a fluorene skeleton, 4,4′-diglycidylbiphenyl, 4,4′-diglycidyl-3, Epoxy resins having a biphenyl skeleton such as 3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl; 1,1′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (2,7-glycidyloxy) Naphthyl) methane, 1,1′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,5-glycidyl) Oxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2′-bi (2,7-glycidyloxy) Epoxy having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton such as sinaphtyl) methane, 1,2'-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane Monomer; Epoxy monomer having xanthene skeleton such as 1,3,4,5,6,8-hexamethyl-2,7-bis-oxiranylmethoxy-9-phenyl-9H-xanthene; having anthracene skeleton or pyrene skeleton An epoxy monomer etc. are mentioned. As for these epoxy monomers (B1), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記オキセタンモノマー(B2)としては、特に限定はされないが、例えば、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、1,4−ベンゼンジカルボン酸ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メチル]エステル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、オキセタン化フェノールノボラック等が挙げられる。これらのオキセタンモノマー(B2)は、1種のみが用いられても良いし、2種以上が併用されても良い。   The oxetane monomer (B2) is not particularly limited, and examples thereof include 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, 1,4-benzenedicarboxylate bis [(3- Ethyl-3-oxetanyl) methyl] ester, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, oxetated phenol novolac and the like. As for these oxetane monomers (B2), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)の重量平均分子量は、600以下である。エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)の重量平均分子量の好ましい下限は200、好ましい上限は550である。重量平均分子量が小さすぎると、揮発性が高すぎて絶縁シートの取扱い性が低下することがあり、大きすぎると、シートが固くかつ脆くなったり、接着力が低下したりすることがある。   The epoxy monomer (B1) and / or oxetane monomer (B2) has a weight average molecular weight of 600 or less. The preferable lower limit of the weight average molecular weight of the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2) is 200, and the preferable upper limit is 550. If the weight average molecular weight is too small, the volatility is too high and the handleability of the insulating sheet may be lowered. If it is too large, the sheet may be hard and brittle, or the adhesive force may be lowered.

上記エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)の総配合量としては、絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量部に対して、10〜60重量部の範囲が好ましく、より好ましくは、10〜40重量部の範囲である。エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)が少なすぎると、接着性や耐熱性が低下することがあり、多すぎると、絶縁シートの柔軟性が低下することがある。   The total amount of the epoxy monomer (B1) and / or oxetane monomer (B2) is preferably in the range of 10 to 60 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of all resin components contained in the insulating sheet. More preferably, it is the range of 10-40 weight part. When there are too few epoxy monomers (B1) and / or oxetane monomers (B2), adhesiveness and heat resistance may fall, and when too much, the softness | flexibility of an insulating sheet may fall.

(硬化剤(C))
本発明に係る絶縁シートに含まれる硬化剤(C)としては、特に限定されないが、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤、アミン系硬化剤等の加熱硬化型硬化剤、あるいはジシアンジアミド等の潜在性硬化剤等が挙げられる。なかでも、耐熱性、耐湿性及び電気物性のバランスに優れた絶縁シートの硬化物が得られるので、フェノール樹脂、又は酸無水物、その水添加物もしくはその変性物が好ましく、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物がより好ましい。硬化剤(C)は、単独で用いられても良いし、2種以上が併用されても良い。
(Curing agent (C))
The curing agent (C) contained in the insulating sheet according to the present invention is not particularly limited, but is a thermosetting curing agent such as a phenolic curing agent, an acid anhydride curing agent, an amine curing agent, or dicyandiamide. Examples include latent curing agents. Among them, a cured product of an insulating sheet having an excellent balance of heat resistance, moisture resistance, and electrical properties can be obtained. Therefore, a phenol resin, an acid anhydride, a water additive thereof, or a modified product thereof is preferable. An acid anhydride having an aliphatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive thereof, or a modified product thereof is more preferable. A hardening | curing agent (C) may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記フェノール樹脂としては、特に限定されないが、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリパラビニルフェノール、ビスフェノールA型ノボラック、キシリレン変性ノボラック、デカリン変性ノボラック、ポリ(ジ−o−ヒドロキシフェニル)メタン、ポリ(ジ−m−ヒドロキシフェニル)メタン、ポリ(ジ−p−ヒドロキシフェニル)メタン等が挙げられる。なかでも、シート柔軟性や難燃性がより一層高められるので、メラミン骨格を有するフェノール樹脂、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましい。   The phenol resin is not particularly limited, but is phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, polyparavinylphenol, bisphenol A type novolak, xylylene modified novolak, decalin modified. Examples include novolak, poly (di-o-hydroxyphenyl) methane, poly (di-m-hydroxyphenyl) methane, poly (di-p-hydroxyphenyl) methane, and the like. Especially, since a sheet | seat softness | flexibility and a flame retardance are improved further, the phenol resin which has a melamine skeleton, the phenol resin which has a triazine skeleton, or the phenol resin which has an allyl group is preferable.

上記フェノール樹脂の市販品としては、明和化成社製のMEH−8005、MEH−8010、NEH−8015;ジャパンエポキシレジン社製のYLH903;大日本インキ社製のLA―7052、LA−7054、LA−7751、LA−1356、LA−3018−50P;群栄化学社製のPS6313及びPS6492等が挙げられる。   Examples of commercially available phenol resins include MEH-8005, MEH-8010, NEH-8015 manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd .; YLH903 manufactured by Japan Epoxy Resin; LA-7052, LA-7054, LA- 7751, LA-1356, LA-3018-50P; PS6313 and PS6492 manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.

上記酸無水物としては特に限定されないが、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物系硬化剤が挙げられる。   Although it does not specifically limit as said acid anhydride, For example, acid anhydride type hardening | curing agents, such as methyl tetrahydro phthalic anhydride, methyl hexahydro phthalic anhydride, methyl nadic acid anhydride, trialkyl tetrahydro phthalic anhydride, are mentioned.

また、芳香族骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物としては、特に限定されないが、例えば、スチレン/無水マレイン酸コポリマー、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、フェニルエチニルフタル酸無水物、グリセロールビス(アンヒドロトリメリテート)モノアセテート、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。なかでも、耐水性が高められるので、メチルナジック酸無水物やトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸が好ましい。   Further, the acid anhydride having an aromatic skeleton, its water additive or its modified product is not particularly limited, and examples thereof include styrene / maleic anhydride copolymer, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, Mellitic acid anhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, phenylethynyl phthalic anhydride, glycerol bis (anhydrotrimellitate) monoacetate, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), methyltetrahydrophthalic anhydride Methylhexahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride and the like. Of these, methylnadic acid anhydride and trialkyltetrahydrophthalic anhydride are preferable because water resistance is improved.

上記芳香族骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物の市販品としては、サートマー・ジャパン社製のSMAレジンEF30、SMAレジンEF40、SMAレジンEF60、SMAレジンEF80;マナック社製のODPA−M、PEPA;新日本理化社製のリカジットMTA―10、リカジットMTA−15、リカジットTMTA、リカジットTMEG−100、リカジットTMEG−200、リカジットTMEG−300、リカジットTMEG−500、リカジットTMEG−S、リカジットTH、リカジットHT−1A、リカジットHH、リカジットMH−700、リカジットMT−500、リカジットDSDA、リカジットTDA−100;大日本インキ化学社製のEPICLON B4400、EPICLON B650、EPICLON B570等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having an aromatic skeleton, water additives thereof, and modified products thereof include SMA Resin EF30, SMA Resin EF40, SMA Resin EF60, and SMA Resin EF80 manufactured by Sartomer Japan; manufactured by Manac ODPA-M, PEPA; Rikagit MTA-10, Rikagit MTA-15, Rikagit TMTA, Rikagit TMEG-100, Rikagit TMEG-200, Rikagit TMEG-300, Rikagit TMEG-500, Rikagit TMEG-S, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd. Rikagit TH, Rikagit HT-1A, Rikagit HH, Rikagit MH-700, Rikagit MT-500, Rikagit DSDA, Rikagit TDA-100; EPICLON B4400, EPICLON B65 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 0, EPICLON B570 and the like.

また、脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物としては、多脂環式骨格を有する酸無水物、テルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物が好ましい。この場合、絶縁シートの柔軟性、耐湿性及び/又は接着性などをより一層高めることができる。また、脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物としては、メチルナジック酸無水物、ジシクロペンタジエン骨格を有する酸無水物又はその変性物等も挙げることができる。   Moreover, as an acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water additive thereof, or a modified product thereof, an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, an alicyclic ring obtained by an addition reaction of a terpene compound and maleic anhydride An acid anhydride having a formula skeleton, a water additive thereof or a modified product thereof is preferred. In this case, the flexibility, moisture resistance, and / or adhesiveness of the insulating sheet can be further enhanced. Examples of the acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water additive thereof, or a modified product thereof include methyl nadic acid anhydride, an acid anhydride having a dicyclopentadiene skeleton, or a modified product thereof.

上記脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物の市販品としては、新日本理化社製のリカジットHNA、リカジットHNA−100;ジャパンエポキシレジン社製のエピキュアYH306、エピキュアYH307、エピキュアYH308H、エピキュアYH309等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having the alicyclic skeleton, water additives thereof, or modified products thereof include Rikajito HNA and Rikajito HNA-100 manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd .; EpiCure YH306 and EpiCure YH307 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Epicure YH308H, Epicure YH309, and the like.

上記硬化剤(C)としては、シートの柔軟性、耐湿性、接着性などがより一層高められるので、多脂環式骨格を有する酸無水物、もしくはテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物が好ましい。   As the curing agent (C), the flexibility, moisture resistance, adhesion and the like of the sheet are further enhanced, so that an addition reaction between an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton or a terpene compound and maleic anhydride is performed. An acid anhydride having an alicyclic skeleton obtained by the above, a water additive thereof, or a modified product thereof is preferred.

また、上記硬化剤(C)としては、シートの柔軟性、耐湿性、接着性などがより一層高められるので、下記式(1)〜(3)のいずれかで表される酸無水物がより好ましい。   Moreover, as the said hardening | curing agent (C), since the softness | flexibility of a sheet | seat, moisture resistance, adhesiveness, etc. are improved further, the acid anhydride represented by either of following formula (1)-(3) is more. preferable.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

Figure 0004922220
Figure 0004922220

Figure 0004922220
Figure 0004922220

上記式(3)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素、炭素数1〜5のアルキル基、又は水酸基を示す。   In said formula (3), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group each independently.

硬化速度や硬化物の物性などを調整するために、上記硬化剤とともに、硬化促進剤を併用しても良い。   In order to adjust the curing speed and the physical properties of the cured product, a curing accelerator may be used in combination with the curing agent.

上記硬化促進剤としては特に限定されないが、例えば、3級アミン、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアジン類、有機リン系化合物、4級ホスホニウム塩類、有機酸塩等のジアザビシクロアルケン類;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫やアルミニウムアセチルアセトン錯体等の有機金属化合物類;4級アンモニウム塩類;金属ハロゲン化物が挙げられる。   Although it does not specifically limit as said hardening accelerator, For example, diazabicycloalkenes, such as tertiary amine, imidazole, imidazoline, triazine, organophosphorus compound, quaternary phosphonium salt, organic acid salt; zinc octylate Organic metal compounds such as tin octylate and aluminum acetylacetone complex; quaternary ammonium salts; metal halides.

上記硬化促進剤としては、さらに高融点イミダゾール化合物、ジシアンジアミド又はアミンをエポキシモノマー等に付加したアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性促進剤、イミダゾール系、リン系又はホスフィン系の促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性促進剤、アミン塩型潜在性硬化促進剤、ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型で熱カチオン重合型の潜在性硬化促進剤等に代表される潜在性硬化促進剤を使用することもできる。なかでも、硬化速度や硬化物の物性などの調整をするための反応系の制御をしやすいことから、高融点イミダゾール系硬化促進剤が好適に用いられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。取扱性に優れているので、硬化促進剤の融点は100℃以上が好ましい。   Examples of the curing accelerator include high melting point imidazole compounds, dicyandiamide, or high melting point dispersion type latent accelerators such as amine addition type accelerators in which an amine is added to an epoxy monomer, imidazole-based, phosphorus-based or phosphine-based accelerators. Microcapsule-type latent accelerators coated with polymer, amine salt-type latent curing accelerators, high-temperature dissociation type thermal cationic polymerization type latent curing accelerators such as Lewis acid salts and Bronsted acid salts Representative latent curing accelerators can also be used. Especially, since it is easy to control the reaction system for adjusting a cure rate, the physical property of hardened | cured material, etc., a high melting point imidazole type hardening accelerator is used suitably. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more. Since the handleability is excellent, the curing accelerator preferably has a melting point of 100 ° C. or higher.

(フィラー(D))
本発明に係る絶縁シートは、フィラー(D)を含み、該フィラー(D)には、平均粒子径0.1〜0.5μmの球状フィラー(D1)と、平均粒子径2〜6μmの球状フィラー(D2)と、平均粒子径10〜40μmの球状フィラー(D3)とが含まれている。フィラー(D)100体積%中には、上記球状フィラー(D1)5〜30体積%と、上記球状フィラー(D2)20〜60体積%と、上記球状フィラー(D3)20〜60体積%とが、球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)の合計が100体積%を超えない量でそれぞれ含まれている。
(Filler (D))
The insulating sheet according to the present invention includes a filler (D), and the filler (D) includes a spherical filler (D1) having an average particle diameter of 0.1 to 0.5 μm and a spherical filler having an average particle diameter of 2 to 6 μm. (D2) and a spherical filler (D3) having an average particle diameter of 10 to 40 μm are included. In 100% by volume of the filler (D), 5 to 30% by volume of the spherical filler (D1), 20 to 60% by volume of the spherical filler (D2), and 20 to 60% by volume of the spherical filler (D3). , Spherical fillers (D1), (D2) and (D3) are included in amounts not exceeding 100% by volume.

すなわち、本発明では、上記(A)〜(D)成分を含む組成において、小粒径の球状フィラー(D1)と、中粒径の球状フィラー(D2)と、大粒径の球状フィラー(D3)とが上記特定の割合で併用されているので、絶縁シートの硬化物は、高い熱伝導率を有し、かつ接着性及び絶縁破壊特性に優れている。   That is, in the present invention, in the composition containing the above components (A) to (D), a small particle size spherical filler (D1), a medium particle size spherical filler (D2), and a large particle size spherical filler (D3). ) In combination with the above specific ratio, the cured product of the insulating sheet has high thermal conductivity and is excellent in adhesiveness and dielectric breakdown characteristics.

上記球状フィラー(D1)の平均粒子径が0.1μm未満であると、充填が困難であったり、接着性が低下することがある。   When the average particle diameter of the spherical filler (D1) is less than 0.1 μm, filling may be difficult or adhesiveness may be lowered.

上記球状フィラー(D1)の平均粒子径が0.5μmを超えたり、上記球状フィラー(D2)の平均粒子径が2μm未満であると、球状フィラー(D1)と球状フィラー(D2)との粒径が近すぎる為に細密充填構造がとりにくく、充分な充填性が確保できないことがある。そのため、絶縁シートの硬化物では、熱伝導率が低くなったり、あるいは局所的なフィラーの凝集が発生して接着性が低下したり、絶縁性が十分に得られなかったりすることがある。   When the average particle size of the spherical filler (D1) exceeds 0.5 μm, or the average particle size of the spherical filler (D2) is less than 2 μm, the particle size of the spherical filler (D1) and the spherical filler (D2) Is too close, it is difficult to form a densely packed structure, and sufficient filling properties may not be ensured. Therefore, in the cured product of the insulating sheet, the thermal conductivity may be lowered, or local filler agglomeration may occur and the adhesiveness may be lowered, or the insulating property may not be sufficiently obtained.

上記球状フィラー(D2)の平均粒子径が6μmを超えたり、上記フィラー(D3)の平均粒子径が10μm未満であると、球状フィラー(D2)と球状フィラー(D3)との粒径が近接するために充分な充填性が確保できないことがある。そのため、絶縁シートの硬化物では、熱伝導率が低くなったり、フィラーの凝集が発生し絶縁性が低下したり、接着力が十分に得られないことがある。   When the average particle diameter of the spherical filler (D2) exceeds 6 μm or the average particle diameter of the filler (D3) is less than 10 μm, the particle diameters of the spherical filler (D2) and the spherical filler (D3) are close to each other. Therefore, sufficient fillability may not be ensured. Therefore, in the cured product of the insulating sheet, the thermal conductivity may be lowered, the filler may be aggregated, the insulating property may be lowered, and the adhesive force may not be sufficiently obtained.

上記球状フィラー(D3)の平均粒子径が40μmを超えると、絶縁シートの膜厚を100μm程度に薄膜化した際に、絶縁性が著しく低くなることがある。   When the average particle diameter of the spherical filler (D3) exceeds 40 μm, the insulating property may be remarkably lowered when the thickness of the insulating sheet is reduced to about 100 μm.

なお、本明細書において、平均粒子径とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径のことである。   In addition, in this specification, an average particle diameter is an average particle diameter calculated | required from the particle size distribution measurement result in the volume average measured with the laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus.

上記フィラー(D)に、球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)が上記体積割合でそれぞれ含まれていない場合には、充分な充填性が確保できないことがある。そのため、熱伝導率が低くなったり、フィラーの凝集が発生し絶縁性が低下したり、接着力が十分に得られないことがある。   If the filler (D) does not contain the spherical fillers (D1), (D2), and (D3) at the volume ratios, sufficient filling properties may not be ensured. For this reason, thermal conductivity may be lowered, filler aggregation may occur, insulation may be reduced, and sufficient adhesive strength may not be obtained.

上記球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)は球状の形状を有する。球状とは、アスペクト比が1〜2の範囲にあるものをいうものとする。   The spherical fillers (D1), (D2), and (D3) have a spherical shape. A spherical shape means an aspect ratio in the range of 1-2.

本発明の絶縁シートは、上記特定の粒径の球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)を上記特定の割合でそれぞれ含有していればよい。また、フィラー(D)には、球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)とは粒径が異なるか、もしくは球状ではないフィラー(以下、フィラー(D4)という)が含有されていてもよい。絶縁シートは、上記フィラー(D4)を含まないことが好ましいが、フィラー(D4)を含む場合には、その含有量は好ましくは、フィラー(D)100体積%中、5体積%以下とされる。   The insulating sheet of this invention should just contain the spherical filler (D1), (D2), and (D3) of the said specific particle size in the said specific ratio, respectively. Further, the filler (D) may have a particle size different from the spherical fillers (D1), (D2), and (D3), or may contain a non-spherical filler (hereinafter referred to as filler (D4)). Good. The insulating sheet preferably does not contain the filler (D4), but when it contains the filler (D4), the content is preferably 5% by volume or less in 100% by volume of the filler (D). .

上記球状フィラー(D1)の粒度分布としては、最大粒子径が2μm以下であることが好ましく、最小粒子径が0.01μm以上であることが好ましい。上記球状フィラー(D2)の粒度分布としては、最大粒子径が40μm以下であることが好ましく、最小粒子径が0.1μm以上であることが好ましい。上記球状フィラー(D3)の粒度分布としては、最大粒子径が60μm以下であることが好ましく、最小粒子径が0.5μm以上であることが好ましい。   As the particle size distribution of the spherical filler (D1), the maximum particle size is preferably 2 μm or less, and the minimum particle size is preferably 0.01 μm or more. As the particle size distribution of the spherical filler (D2), the maximum particle size is preferably 40 μm or less, and the minimum particle size is preferably 0.1 μm or more. As the particle size distribution of the spherical filler (D3), the maximum particle size is preferably 60 μm or less, and the minimum particle size is preferably 0.5 μm or more.

本発明では、絶縁シートに含まれている全フィラー(D)の粒度分布を測定した場合に、粒径が小さいものからフィラー(D)の累積体積を計測したときに、粒径0.1μmにおける累積体積は0〜5%の範囲にあることが好ましく、粒径0.5μmにおける累積体積%は1〜10%の範囲にあることが好ましく、粒径2μmにおける累積体積%は2〜20%の範囲にあることが好ましく、粒径6μmにおける累積体積%は20〜50%の範囲にあることが好ましく、粒径10μmにおける累積体積%は30〜80%の範囲にあることが好ましく、粒径40μmにおける累積体積%は80〜100%の範囲にあることが好ましい。   In the present invention, when the particle size distribution of all the fillers (D) contained in the insulating sheet is measured, when the cumulative volume of the filler (D) is measured from the smallest particle size, the particle size is 0.1 μm. The cumulative volume is preferably in the range of 0 to 5%, the cumulative volume% in the particle size of 0.5 μm is preferably in the range of 1 to 10%, and the cumulative volume% in the particle size of 2 μm is 2 to 20%. The cumulative volume% at a particle size of 6 μm is preferably in the range of 20 to 50%, the cumulative volume% at a particle size of 10 μm is preferably in the range of 30 to 80%, and the particle size of 40 μm. The cumulative volume% in is preferably in the range of 80 to 100%.

なお、本明細書において、粒度分布とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布の場合の値を意味する。   In the present specification, the particle size distribution means a value in the case of a particle size distribution with a volume average measured by a laser diffraction particle size distribution measuring device.

上記フィラー(D)としては特に限定されないが、熱伝導率がより一層高められるので、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種が好ましい。後述する分散剤(F)として、pKaが低い、すなわち酸性度の高い分散剤を使用する場合、分散剤への溶解を防ぐことができるので、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素及び窒化ケイ素からなる群から選択された少なくとも1種がより好ましい。また、放熱性がさらに一層高められるので、球状アルミナ及び/又は球状窒化アルミニウムが更に好ましい。さらに、比重の違い等に起因する分散のばらつきが発生しにくいので、上記球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)の主成分は同一であることが好ましい。   Although it does not specifically limit as said filler (D), Since thermal conductivity is raised further, at least 1 selected from the group which consists of alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, zinc oxide, and magnesium oxide. Species are preferred. When a dispersant having a low pKa, that is, a high acidity is used as the dispersant (F) described later, dissolution in the dispersant can be prevented, so alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, and silicon nitride More preferred is at least one selected from the group consisting of Moreover, since heat dissipation is further improved, spherical alumina and / or spherical aluminum nitride is more preferable. Furthermore, since the dispersion | distribution dispersion | variation resulting from the difference in specific gravity etc. is hard to generate | occur | produce, it is preferable that the main components of the said spherical filler (D1), (D2), and (D3) are the same.

上記フィラー(D)の配合量としては、絶縁シート100体積%中、65〜90体積%の範囲が好ましい。65体積%未満では、放熱性が充分に高められないことがあり、90体積%を超えると、絶縁シートの柔軟性や接着性が著しく低下するおそれがある。   As a compounding quantity of the said filler (D), the range of 65-90 volume% is preferable in 100 volume% of insulating sheets. If it is less than 65 volume%, the heat dissipation may not be sufficiently improved, and if it exceeds 90 volume%, the flexibility and adhesiveness of the insulating sheet may be significantly reduced.

(分散剤(F))
本発明に係る絶縁シートは、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有する分散剤(F)をさらに含有することが好ましい。絶縁シートが上記分散剤(F)を含むと、絶縁シートの硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。
(Dispersant (F))
The insulating sheet according to the present invention preferably further contains a dispersant (F) having a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties. When an insulating sheet contains the said dispersing agent (F), the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristic of the hardened | cured material of an insulating sheet can be improved further.

上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、例えば、カルボキシル基(pKa=4)、リン酸基(pKa=7)、又はフェノール基(pKa=10)等が挙げられる。   Examples of the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding include a carboxyl group (pKa = 4), a phosphate group (pKa = 7), a phenol group (pKa = 10), and the like.

上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基のpKaは、2〜10の範囲にあることが好ましく、より好ましくは3〜9の範囲である。pKaが2未満であると、分散剤の酸性度が高すぎるために、原料樹脂成分中のエポキシ成分及び/又はオキセタン成分の反応が促進されやすく、未硬化状態の絶縁シートを貯蔵した場合に、その貯蔵安定性に劣ることがある。pKaが10を超えると、分散剤としての機能が充分に果たせず、絶縁シートの硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性が充分に向上しない場合がある。   The pKa of the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties is preferably in the range of 2 to 10, more preferably in the range of 3 to 9. When the pKa is less than 2, since the acidity of the dispersant is too high, the reaction of the epoxy component and / or the oxetane component in the raw resin component is easily promoted, and when the uncured insulating sheet is stored, Its storage stability may be inferior. When pKa exceeds 10, the function as a dispersant may not be sufficiently achieved, and the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product of the insulating sheet may not be sufficiently improved.

絶縁シートの硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をさらに一層高めることができるので、上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、カルボキシル基又はリン酸基が好ましい。   Since the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product of the insulating sheet can be further enhanced, the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties is preferably a carboxyl group or a phosphate group.

上記分散剤(F)としては、具体的には、例えば、ポリエステル系カルボン酸、ポリエーテル系カルボン酸、ポリアクリル系カルボン酸、脂肪族系カルボン酸、ポリシロキサン系カルボン酸、ポリエステル系リン酸、ポリエーテル系リン酸、ポリアクリル系リン酸、脂肪族系リン酸、ポリシロキサン系リン酸、ポリエステル系フェノール、ポリエーテル系フェノール、ポリアクリル系フェノール、脂肪族系フェノール、又はポリシロキサン系フェノール等が挙げられる。分散剤(F)は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the dispersant (F) include polyester carboxylic acid, polyether carboxylic acid, polyacrylic carboxylic acid, aliphatic carboxylic acid, polysiloxane carboxylic acid, polyester phosphoric acid, Polyether phosphoric acid, polyacrylic phosphoric acid, aliphatic phosphoric acid, polysiloxane phosphoric acid, polyester phenol, polyether phenol, polyacrylic phenol, aliphatic phenol, polysiloxane phenol, etc. Can be mentioned. A dispersing agent (F) may be used independently and may use 2 or more types together.

上記分散剤(F)の配合割合としては、絶縁シート100重量部中、0.01〜20重量部の範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜10重量部の範囲である。分散剤(F)の配合割合がこの範囲にある場合、フィラー(D)の凝集を抑制することができ、かつ絶縁シートの硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性を充分に高めることができる。   As a compounding ratio of the said dispersing agent (F), the range of 0.01-20 weight part is preferable in 100 weight part of insulating sheets, More preferably, it is the range of 0.1-10 weight part. When the blending ratio of the dispersant (F) is within this range, aggregation of the filler (D) can be suppressed, and the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product of the insulating sheet can be sufficiently enhanced.

(ゴム粒子(E))
本発明に係る絶縁シートは、ゴム微粒子(E)を含んでいてもよい。
(Rubber particles (E))
The insulating sheet according to the present invention may contain rubber fine particles (E).

上記ゴム粒子(E)としては特に限定されないが、例えば、アクリルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレンイソプレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、天然ゴム等を性状を問わず用いることができる。なかでも、応力緩和性、硬化後の絶縁シートの柔軟性が高められるので、シリコーンゴムが好ましい。   The rubber particles (E) are not particularly limited. For example, acrylic rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, styrene butadiene rubber, styrene isoprene rubber, urethane rubber, silicone rubber, fluorine rubber, natural rubber, etc. Can be used regardless. Of these, silicone rubber is preferable because stress relaxation and flexibility of the insulating sheet after curing are enhanced.

上記ゴム粒子(E)と上記フィラー(D)とを併用することで、絶縁シートが低い線熱膨張率と同時に応力緩和能を有し、高温下や冷熱サイクル条件下での剥離やクラック等の発生をより一層抑制することができる。   By using the rubber particles (E) and the filler (D) in combination, the insulating sheet has a low coefficient of linear thermal expansion and a stress relaxation capability, such as peeling and cracking under high temperature and cooling cycle conditions. Generation | occurrence | production can be suppressed further.

上記ゴム粒子(E)の配合割合としては、絶縁シート100重量部中、0.1〜40重量部の範囲が好ましく、より好ましくは0.3〜20重量部の範囲である。ゴム粒子(E)が少なすぎると、硬化物の応力緩和性が十分に発現しないことがあり、多すぎると、接着性が低くなることがある。   The blending ratio of the rubber particles (E) is preferably in the range of 0.1 to 40 parts by weight, more preferably in the range of 0.3 to 20 parts by weight, in 100 parts by weight of the insulating sheet. When there are too few rubber particles (E), the stress relaxation property of hardened | cured material may not fully express, and when too large, adhesiveness may become low.

(他の成分)
本発明に係る絶縁シートは、シート特性をより一層高めるために、ガラスクロス、ガラス不織布、アラミド不織布等の基材物質を含んでいてもよい。もっとも、それら基材物質を含まなくても、本発明の絶縁シートは室温(23℃)において未硬化状態でも自立性を有し、かつ優れたシート特性を有し得る。よって、絶縁シートは基材物質を含まないことが好ましく、特にガラスクロスを含まないことが好ましい。上記基材物質を含まない場合、絶縁シートの薄膜化が可能であり、かつ絶縁シートの熱伝導率がより一層高められ、さらに必要に応じて絶縁シートにレーザー加工、ドリル穴開け加工等の各種加工を容易に行うこともできる。なお、自立性とは、PETフィルムや銅箔といった支持体が存在しなくても、例え未硬化状態であっても、シートの形状を保持し、シートとしての取扱いが可能であることをいうものとする。
(Other ingredients)
The insulating sheet according to the present invention may contain a base material such as glass cloth, glass nonwoven fabric, and aramid nonwoven fabric in order to further enhance sheet characteristics. However, even if these base materials are not included, the insulating sheet of the present invention can be self-supporting even in an uncured state at room temperature (23 ° C.) and can have excellent sheet characteristics. Therefore, the insulating sheet preferably does not contain a base material, and particularly preferably does not contain glass cloth. When the base material is not included, the insulating sheet can be made thin, and the thermal conductivity of the insulating sheet can be further increased. Further, various types of laser processing, drilling, etc. are performed on the insulating sheet as necessary. Processing can also be performed easily. In addition, self-supporting means that the shape of the sheet can be maintained and handled as a sheet even in the absence of a support such as a PET film or copper foil, even in an uncured state. And

また、本発明の絶縁シートは、必要に応じて、チキソ性付与剤、分散剤、難燃剤、着色剤などを含有していても良い。   Moreover, the insulating sheet of the present invention may contain a thixotropic agent, a dispersant, a flame retardant, a colorant, and the like as necessary.

(絶縁シート)
本発明に係る絶縁シートは、特に限定はされないが、例えば、上述した材料を混合したものを溶剤キャスト法、押し出し成膜等の方法でシート状に成形することにより得ることができる。シート状に成形する際に、脱泡することが好ましい。
(Insulating sheet)
The insulating sheet according to the present invention is not particularly limited, but can be obtained, for example, by molding a mixture of the above-described materials into a sheet shape by a method such as a solvent casting method or an extrusion film forming method. Defoaming is preferred when forming into a sheet.

絶縁シートの膜厚としては特に限定はされないが、10〜300μmの範囲が好ましい。より好ましくは、50〜200μmの範囲であり、特に好ましくは70〜120μmである。膜厚が薄すぎると、絶縁性が低下することがあり、厚すぎると、金属体を導電層に接着したときに放熱性が低下することがある。   Although it does not specifically limit as a film thickness of an insulating sheet, The range of 10-300 micrometers is preferable. More preferably, it is the range of 50-200 micrometers, Most preferably, it is 70-120 micrometers. If the film thickness is too thin, the insulating property may be lowered, and if it is too thick, the heat dissipation may be lowered when the metal body is bonded to the conductive layer.

本発明に係る絶縁シートは、特に膜厚が厚い場合に極めて高い絶縁破壊特性を得ることができる。もっとも、膜厚が薄くても、絶縁シートは充分な絶縁破壊特性を有する。   The insulating sheet according to the present invention can obtain extremely high dielectric breakdown characteristics particularly when the film thickness is thick. However, even if the film thickness is small, the insulating sheet has sufficient dielectric breakdown characteristics.

また、本発明に係る絶縁シートの未硬化状態でのガラス転移温度Tgは、25℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が25℃を超えると、室温において固く、かつ脆くなる場合があり、絶縁シートのハンドリング性が低下することがある。   Moreover, it is preferable that the glass transition temperature Tg in the uncured state of the insulating sheet which concerns on this invention is 25 degrees C or less. When the glass transition temperature exceeds 25 ° C., it may be hard and brittle at room temperature, and the handling properties of the insulating sheet may be lowered.

絶縁シートの硬化後の熱伝導率は、3.0W/m・K以上であることが好ましい。より好ましくは5.0W/m・K以上、更に好ましくは7.0W/m・K以上である。熱伝導率が低すぎると、充分な放熱性が得られないことがある。   The thermal conductivity after curing of the insulating sheet is preferably 3.0 W / m · K or more. More preferably, it is 5.0 W / m · K or more, and still more preferably 7.0 W / m · K or more. If the thermal conductivity is too low, sufficient heat dissipation may not be obtained.

絶縁シートの硬化後の絶縁破壊電圧は、30kV/mm以上であることが好ましい。より好ましくは、40kV/mm以上、さらに好ましくは50kV/mm以上、さらに好ましくは80kV/mm以上、さらに好ましくは100kV/mm以上である。絶縁破壊電圧が低すぎると、例えば電力素子用のような大電流用途に用いた場合に充分な絶縁性が得られないことがある。   The dielectric breakdown voltage after curing of the insulating sheet is preferably 30 kV / mm or more. More preferably, it is 40 kV / mm or more, More preferably, it is 50 kV / mm or more, More preferably, it is 80 kV / mm or more, More preferably, it is 100 kV / mm or more. If the dielectric breakdown voltage is too low, sufficient insulation may not be obtained when used for high current applications such as for power devices.

絶縁シートの硬化後の体積抵抗率は、1014Ω・cm以上であることが好ましい。より好ましくは1016Ω・cm以上である。体積抵抗率が低すぎると、導体層と高熱伝導体間の絶縁を保てないことがある。 The volume resistivity after curing of the insulating sheet is preferably 10 14 Ω · cm or more. More preferably, it is 10 16 Ω · cm or more. If the volume resistivity is too low, insulation between the conductor layer and the high thermal conductor may not be maintained.

絶縁シートの硬化後の熱線膨張率は、30ppm/℃以下であることが好ましい。より好ましくは、20ppm/℃以下である。熱線膨張率が高すぎると、耐冷熱サイクル性に劣ることがある。   The coefficient of thermal expansion after curing of the insulating sheet is preferably 30 ppm / ° C. or less. More preferably, it is 20 ppm / ° C. or less. If the coefficient of thermal expansion is too high, the thermal cycle resistance may be inferior.

(積層構造体)
本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられる。また、本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されている積層構造体の絶縁層を構成するのに好適に用いられる。例えば、両面銅回路付き積層板又は多層配線板、銅箔、銅板、半導体素子、半導体パッケージ等の各導電層に、絶縁シートを介して金属体を接着した後、絶縁シートを硬化させることにより、上記積層構造体を得ることができる。
(Laminated structure)
The insulating sheet according to the present invention is used to bond a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer. The insulating sheet according to the present invention constitutes an insulating layer of a laminated structure in which a conductive layer is laminated on at least one surface of a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer. It is used suitably for. For example, by bonding a metal body via an insulating sheet to each conductive layer such as a laminated board with a double-sided copper circuit or a multilayer wiring board, copper foil, copper plate, semiconductor element, semiconductor package, etc., by curing the insulating sheet, The laminated structure can be obtained.

図1に、本発明の一実施形態に係る積層構造体を模式的に部分切欠正面断面図で示す。   In FIG. 1, the laminated structure which concerns on one Embodiment of this invention is typically shown with a partial notch front sectional drawing.

図1に示す積層構造体1は、発熱源としての導電層2の表面2aに、絶縁層3を介して、高熱伝導体4が積層されている。絶縁層3は、本発明の絶縁シートを硬化させて形成されている。高熱伝導体4としては、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体が用いられている。   In the laminated structure 1 shown in FIG. 1, a high thermal conductor 4 is laminated on a surface 2 a of a conductive layer 2 as a heat source via an insulating layer 3. The insulating layer 3 is formed by curing the insulating sheet of the present invention. As the high thermal conductor 4, a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is used.

上記積層構造体1では、絶縁層3が高い熱伝導率を有するので、導電層2側からの熱が絶縁層3を介して上記高熱伝導体4に伝わり易い。そして、該高熱伝導体4によって熱を効率的に放散させることができる。   In the laminated structure 1, since the insulating layer 3 has high thermal conductivity, heat from the conductive layer 2 side is easily transmitted to the high thermal conductor 4 through the insulating layer 3. And heat can be efficiently dissipated by the high thermal conductor 4.

上記熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体4としては特に限定されないが、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミ、グラファイトシート等が挙げられる。中でも、放熱性に優れているので、銅、アルミニウムが好ましい。   The high thermal conductor 4 having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is not particularly limited, and examples thereof include aluminum, copper, alumina, beryllia, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, and a graphite sheet. Especially, since it is excellent in heat dissipation, copper and aluminum are preferable.

本発明に係る絶縁シートは、基板上に半導体素子が実装されている半導体装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を接着するのに好適に用いられる。本発明に係る絶縁シートは、半導体素子以外の電子部品素子が基板上に搭載されている電子部品装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を接着するのにも好適に用いられる。   The insulating sheet according to the present invention is suitably used for bonding a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of a semiconductor device on which a semiconductor element is mounted on a substrate. The insulating sheet according to the present invention adheres a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of an electronic component device in which electronic component elements other than semiconductor elements are mounted on a substrate. Are also preferably used.

半導体素子が大電流用の電力用デバイス素子の場合には、より一層高い絶縁性、あるいはより一層高い耐熱性などが求められる。従って、このような用途において、本発明の絶縁シートはより好ましく用いられる。   In the case where the semiconductor element is a power device element for a large current, a higher insulation property or a higher heat resistance is required. Therefore, in such an application, the insulating sheet of the present invention is more preferably used.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. In addition, this invention is not limited to a following example.

以下の材料を用意した。   The following materials were prepared.

[ポリマー(A)]
(1)ビスフェノールA型フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:E1256、Mw=51,000、Tg=98℃)
(2)高耐熱フェノキシ樹脂(東都化成社製、商品名:FX−293、Mw=43,700、Tg=163℃)
(3)エポキシ基含有スチレン樹脂(日本油脂社製、商品名:マープルーフG−1010S、Mw=100,000、Tg=93℃)
[Polymer (A)]
(1) Bisphenol A-type phenoxy resin (trade name: E1256, Mw = 51,000, Tg = 98 ° C., manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
(2) High heat resistance phenoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name: FX-293, Mw = 43,700, Tg = 163 ° C.)
(3) Epoxy group-containing styrene resin (manufactured by NOF Corporation, trade name: Marproof G-1010S, Mw = 100,000, Tg = 93 ° C.)

[ポリマー(A)以外のポリマー]
(1)エポキシ基含有アクリル樹脂(日本油脂社製、商品名:マープルーフG−0130S、Mw=9,000,Tg=69℃)
[Polymers other than polymer (A)]
(1) Epoxy group-containing acrylic resin (manufactured by NOF Corporation, trade name: Marproof G-0130S, Mw = 9,000, Tg = 69 ° C.)

[エポキシモノマー(B1)]
(1)ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製、商品名:エピコート828US、Mw=370)
(2)ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製、商品名:エピコート806L、Mw=370)
(3)3官能グリシジルジアミン型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピコート630、Mw=300)
(4)フルオレン骨格エポキシ樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:オンコートEX1011、Mw=486)
(5)ナフタレン骨格液状エポキシ樹脂(大日本インキ化学社製、商品名:EPICLON HP−4032D、Mw=304)
[Epoxy monomer (B1)]
(1) Bisphenol A type liquid epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin, trade name: Epicoat 828US, Mw = 370)
(2) Bisphenol F type liquid epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin, trade name: Epicoat 806L, Mw = 370)
(3) Trifunctional glycidyldiamine type liquid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: Epicoat 630, Mw = 300)
(4) Fluorene skeleton epoxy resin (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., trade name: ONCOAT EX1011, Mw = 486)
(5) Naphthalene skeleton liquid epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: EPICLON HP-4032D, Mw = 304)

[オキセタンモノマー(B2)]
(1)ベンゼン骨格含有オキセタン樹脂(宇部興産社製、商品名:エタナコールOXTP、Mw=362.4)
[Oxetane monomer (B2)]
(1) Oxetane resin containing benzene skeleton (manufactured by Ube Industries, trade name: etanacol OXTP, Mw = 362.4)

[エポキシモノマー(B1)及びオキセタンモノマー(B2)以外のモノマー]
(1)ヘキサヒドロフタル酸骨格液状エポキシ樹脂(日本化薬社製、商品名:AK−601、Mw=284)
(2)ビスフェノールA型固体状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:1003、Mw=1300)
[Monomers other than epoxy monomer (B1) and oxetane monomer (B2)]
(1) Hexahydrophthalic acid skeleton liquid epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: AK-601, Mw = 284)
(2) Bisphenol A type solid epoxy resin (product name: 1003, Mw = 1300, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)

[硬化剤(C)]
(1)脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:MH−700)
(2)芳香族骨格酸無水物(サートマー・ジャパン社製、商品名:SMAレジンEF60)
(3)多脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:HNA−100)
(4)テルペン系骨格酸無水物(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピキュアYH−306)
(5)ビフェニル骨格フェノール樹脂(明和化成社製、商品名:MEH−7851−S)
(6)アリル基含有骨格フェノール樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:YLH−903)
(7)トリアジン骨格系フェノール樹脂(大日本インキ化学社製、商品名:フェノライトKA−7052−L2)
(8)メラミン骨格系フェノール樹脂(群栄化学工業社製、商品名:PS−6492)
(9)イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール(イミダゾール系硬化促進剤、四国化成社製、商品名:2MZA−PW)
[Curing agent (C)]
(1) Alicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., trade name: MH-700)
(2) Aromatic skeleton acid anhydride (manufactured by Sartomer Japan, trade name: SMA resin EF60)
(3) Polyalicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., trade name: HNA-100)
(4) Terpene-based skeleton acid anhydride (manufactured by Japan Epoxy Resin, trade name: Epicure YH-306)
(5) Biphenyl skeleton phenolic resin (Madewa Kasei Co., Ltd., trade name: MEH-7851-S)
(6) Allyl group-containing skeletal phenol resin (manufactured by Japan Epoxy Resin, trade name: YLH-903)
(7) Triazine skeleton phenolic resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: Phenolite KA-7052-L2)
(8) Melamine skeleton phenolic resin (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., trade name: PS-6492)
(9) Isocyanur-modified solid dispersion type imidazole (imidazole curing accelerator, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., trade name: 2MZA-PW)

[フィラー(D)]
球状フィラー(D1)
(1)球状アルミナ(住友化学社製、商品名:AKP−30、平均粒径0.4μm、アスペクト比1.1〜2.0、熱伝導率36W/m・K)
(2)球状酸化マグネシウム(堺化学工業社製、商品名:SMO Small Particle、平均粒径0.1μm、アスペクト比1.1〜1.5、熱伝導率42W/m・K)
[Filler (D)]
Spherical filler (D1)
(1) Spherical alumina (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: AKP-30, average particle size 0.4 μm, aspect ratio 1.1 to 2.0, thermal conductivity 36 W / m · K)
(2) Spherical magnesium oxide (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., trade name: SMO Small Particle, average particle size 0.1 μm, aspect ratio 1.1 to 1.5, thermal conductivity 42 W / m · K)

球状フィラー(D2)
(1)球状アルミナ(デンカ社製、商品名:DAM−05、平均粒径5μm、アスペクト比1〜1.2、熱伝導率36W/m・K)
(2)球状窒化アルミ(東洋アルミ社製、商品名:TOYALNITE―FLC、平均粒径3.7μm、アスペクト比 1〜1.3、熱伝導率200W/m・K)
Spherical filler (D2)
(1) Spherical alumina (Denka Co., Ltd., trade name: DAM-05, average particle size 5 μm, aspect ratio 1 to 1.2, thermal conductivity 36 W / m · K)
(2) Spherical aluminum nitride (manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd., trade name: TOYALNITE-FLC, average particle size 3.7 μm, aspect ratio 1-1.3, thermal conductivity 200 W / m · K)

球状フィラー(D3)
(1)球状アルミナ(アドマテックス社製、商品名:AO−820、平均粒径20μm、アスペクト比1〜1.1、熱伝導率36W/m・K)
(2)球状窒化アルミ(東洋アルミ社製、商品名:TOYALNITE―FLD、平均粒径30μm、アスペクト比1〜1.3、熱伝導率200W/m・K)
Spherical filler (D3)
(1) Spherical alumina (manufactured by Admatechs, trade name: AO-820, average particle size 20 μm, aspect ratio 1 to 1.1, thermal conductivity 36 W / m · K)
(2) Spherical aluminum nitride (manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd., trade name: TOYALNITE-FLD, average particle size 30 μm, aspect ratio 1-1.3, thermal conductivity 200 W / m · K)

[球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)以外のその他フィラー(D4)]
(1)球状アルミナ(住友化学社製、商品名:AA−07、平均粒径0.7μm、アスペクト比1.1〜2.0、熱伝導率36W/m・K)
[Other fillers (D4) other than spherical fillers (D1), (D2) and (D3)]
(1) Spherical alumina (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: AA-07, average particle size 0.7 μm, aspect ratio 1.1-2.0, thermal conductivity 36 W / m · K)

[分散剤(F)]
(1)アクリル系分散剤(ビックケミージャパン社製、商品名:Disperbyk−2070、pKaが4のカルボキシル基を有する)
(2)ポリエーテル系分散剤(楠本化成社製、商品名:ED151、pKaが7のリン酸基を有する)
[Dispersant (F)]
(1) Acrylic dispersant (manufactured by Big Chemie Japan, trade name: Disperbyk-2070, pKa has a carboxyl group of 4)
(2) Polyether-based dispersant (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., trade name: ED151, pKa has 7 phosphate groups)

[分散剤(F)以外の分散剤]
(1)ノニオン系分散剤(共栄社化学社製、商品名:D−90、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有しない分散剤)
[Dispersants other than dispersant (F)]
(1) Nonionic dispersant (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name: D-90, a dispersant having no functional group containing hydrogen atoms having hydrogen bonding properties)

[ゴム粒子(E)]
(1)コアシェル型ゴム微粒子(三菱レーヨン社製、商品名:KW4426、メチルメタクリレートからなるシェルと、ブチルアクリレートからなるコアとを有するゴム微粒子、平均粒径5μm)
(2)シリコンゴム微粒子(東レ・ダウコーニング社製、商品名:トレフィルE601、平均粒径2μm)
[Rubber particles (E)]
(1) Core shell type rubber fine particles (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade name: KW4426, rubber fine particles having a shell made of methyl methacrylate and a core made of butyl acrylate, an average particle size of 5 μm)
(2) Silicone rubber fine particles (manufactured by Dow Corning Toray, trade name: Trefil E601, average particle size 2 μm)

[添加剤]
(1)エポキシシランカップリング剤(信越化学社製、商品名:KBE403)
[Additive]
(1) Epoxysilane coupling agent (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBE403)

[溶剤]
(1)メチルエチルケトン
[solvent]
(1) Methyl ethyl ketone

(実施例1)
ホモディスパー型攪拌機を用い、下記の表1に示す割合で各化合物を配合・混練し、絶縁材料を調製した。
Example 1
Using a homodisper type stirrer, each compound was blended and kneaded at the ratio shown in Table 1 below to prepare an insulating material.

上記絶縁材料を50μm離形PETシートに100μm厚に塗工し、90℃オーブンにて30分乾燥して、PETシート上に絶縁シートを作製した。   The insulating material was applied to a 50 μm-released PET sheet to a thickness of 100 μm and dried in an oven at 90 ° C. for 30 minutes to produce an insulating sheet on the PET sheet.

(実施例2〜23及び比較例1〜5)
使用した各成分の種類及び配合量を下記の表1、2に示すようにしたこと以外は、実施例1と同様にして絶縁材料を調製し、PETシート上に絶縁シートを作製した。
(Examples 2 to 23 and Comparative Examples 1 to 5)
An insulating material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and blending amounts of the components used were as shown in Tables 1 and 2 below, and an insulating sheet was produced on the PET sheet.

(実施例24〜26)
使用した各成分の種類及び配合量を下記の表2に示すようにしたこと以外は、実施例1と同様にして絶縁材料を調製し、PETシート上に絶縁シートを作製した。
(Examples 24-26)
An insulating material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and blending amounts of the components used were as shown in Table 2 below, and an insulating sheet was produced on the PET sheet.

(実施例及び比較例の評価)
上記のようにして得られた各絶縁シートについて以下の項目を評価した。
(Evaluation of Examples and Comparative Examples)
The following items were evaluated for each insulating sheet obtained as described above.

(1.ハンドリング性)
PETシートと、該PETシート上に形成された絶縁シートとを460mm×610mm角に切り出したテストサンプルを用意した。このテストサンプルにおいて、室温(23℃)でPETシートから未硬化状態の絶縁シートを剥離したときのハンドリング性を下記の基準で評価した。
(1. Handling property)
A test sample was prepared by cutting a PET sheet and an insulating sheet formed on the PET sheet into a 460 mm × 610 mm square. In this test sample, the handling property when the uncured insulating sheet was peeled from the PET sheet at room temperature (23 ° C.) was evaluated according to the following criteria.

〇:絶縁シートの変形がなく、容易に剥離可能
△:絶縁シートを剥離できるが、シート伸びや破断が発生する
×:絶縁シートを剥離できない
○: The insulating sheet is not deformed and can be easily peeled. Δ: The insulating sheet can be peeled, but the sheet is stretched or broken. ×: The insulating sheet cannot be peeled.

(2.ガラス転移温度)
セイコーインスツルメンツ社製、示差走査熱量測定装置「DSC220C」を用いて、3℃/分の昇温速度で未硬化状態の絶縁シートのガラス転移温度を測定した。
(2. Glass transition temperature)
Using a differential scanning calorimeter “DSC220C” manufactured by Seiko Instruments Inc., the glass transition temperature of the uncured insulating sheet was measured at a heating rate of 3 ° C./min.

(3.熱伝導率)
絶縁シートをオーブンにて、120℃で1時間、その後200℃で1時間加温処理し、硬化させた。絶縁シートの硬化物の熱伝導率を、京都電子工業社製熱伝導率計「迅速熱伝導率計QTM−500」を用いて測定した。
(3. Thermal conductivity)
The insulating sheet was cured by heating in an oven at 120 ° C. for 1 hour and then at 200 ° C. for 1 hour. The heat conductivity of the hardened | cured material of the insulating sheet was measured using the Kyoto Denshi Kogyo company thermal conductivity meter "rapid thermal conductivity meter QTM-500".

(4.引き剥がし強さ)
絶縁シートを1mm厚のアルミ板と35μm厚の電解銅箔間に挟み、真空プレス機で4MPaの圧力を保持しながら120℃で1時間、更に200℃で1時間絶縁シートをプレス硬化し、金属ベース基板の銅張り積層板を形成した。得られた金属ベース基板の銅箔をエッチングして幅10mmの銅箔の帯を形成し、銅箔を基板に対して90℃の角度で50mm/分の引っ張り速度で剥離した際の引き剥がし強さを測定した。
(4. Peeling strength)
An insulating sheet is sandwiched between an aluminum plate having a thickness of 1 mm and an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm, and the insulating sheet is press-cured at 120 ° C. for 1 hour and further at 200 ° C. for 1 hour while maintaining a pressure of 4 MPa with a vacuum press machine. A copper-clad laminate of the base substrate was formed. The copper foil of the obtained metal base substrate is etched to form a 10 mm wide copper foil strip, and the peel strength when the copper foil is peeled from the substrate at an angle of 90 ° C. and a pulling speed of 50 mm / min. Was measured.

(5.絶縁破壊電圧)
絶縁シートを100mm×100mm角に切り出したものを120℃オーブンで1時間、更に200℃オーブンで1時間硬化し、テストサンプルを作製した。耐電圧試験器(MODEL7473、EXTECH Electronics社製)を用いて、1kV/秒の速度で電圧上昇して、テストサンプルの絶縁破壊電圧を測定した。
(5. Dielectric breakdown voltage)
An insulating sheet cut into 100 mm × 100 mm square was cured in a 120 ° C. oven for 1 hour and further in a 200 ° C. oven for 1 hour to prepare a test sample. Using a withstand voltage tester (MODEL7473, manufactured by EXTECH Electronics), the voltage was increased at a rate of 1 kV / sec, and the dielectric breakdown voltage of the test sample was measured.

(6.半田耐熱)
上記(4)引き剥がし強さの評価で作製した銅張り積層基板を50mm×60mmのサイズに切り出した。これを288℃の半田浴に銅箔側を下に向けて浮かべ、銅箔の膨れ・剥がれが発生するまでの時間を測定し以下の基準で判定した。
(6. Solder heat resistance)
The copper-clad laminate prepared by the above (4) evaluation of the peel strength was cut out to a size of 50 mm × 60 mm. This was floated in a solder bath at 288 ° C. with the copper foil side facing down, and the time until the copper foil swelled or peeled off was measured and judged according to the following criteria.

◎:10分経化しても膨れ、剥離の発生なし
〇:3分経過後、かつ10分経過する前に膨れ、剥離が発生した
△:1分経過後、かつ3分経過する前に膨れ、剥離が発生した
×:1分経過する前に膨れ、剥離が発生
◎: No swelling or peeling even after 10 minutes ◯: Swelling after 3 minutes and before 10 minutes passed, peeling occurred △: Swelled after 1 minute and before 3 minutes passed, Peeling occurred ×: Swelled and peeled before 1 minute passed

(7.フィラーの粒度分布)
絶縁シートに含まれている全フィラー(D)の粒度分布を、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて、測定した。測定結果を基に、粒径が小さいものからフィラー(D)の累積体積を算出することにより、粒径0.1μm、0.5μm、2.0μm、6.0μm及び10.0μmにおける累積体積%を得た。
(7. Particle size distribution of filler)
The particle size distribution of all fillers (D) contained in the insulating sheet was measured using a laser diffraction particle size distribution measuring device. Based on the measurement results, the cumulative volume of filler (D) is calculated from the small particle size, so that the cumulative volume% at the particle size of 0.1 μm, 0.5 μm, 2.0 μm, 6.0 μm and 10.0 μm. Got.

結果を下記の表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 0004922220
Figure 0004922220

Figure 0004922220
Figure 0004922220

図1は、本発明の一実施形態に係る積層構造体を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing a laminated structure according to an embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…積層構造体
2…導電層
2a…表面
3…絶縁層
4…高熱伝導体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated structure 2 ... Conductive layer 2a ... Surface 3 ... Insulating layer 4 ... High thermal conductor

Claims (12)

熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられる絶縁シートであって、
芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が3万以上であるポリマー(A)と、
芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1)及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2)と、
硬化剤(C)と、
フィラー(D)とを含有し、
前記ポリマー(A)が熱硬化性樹脂であり、
前記フィラー(D)100体積%中に、平均粒子径0.1〜0.5μmの球状フィラー(D1)5〜30体積%と、平均粒子径2〜6μmの球状フィラー(D2)20〜60体積%と、平均粒子径10〜40μmの球状フィラー(D3)20〜60体積%とが、球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)の合計が100体積%を超えない量でそれぞれ含まれており、
絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量部に対して、前記ポリマー(A)の含有量が30〜60重量部の範囲内であることを特徴とする、絶縁シート。
An insulating sheet used to adhere a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer,
A polymer (A) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 30,000 or more;
An epoxy monomer (B1) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 600 or less and / or an oxetane monomer (B2) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 600 or less;
A curing agent (C);
Containing filler (D),
The polymer (A) is a thermosetting resin,
In 100% by volume of the filler (D), 5 to 30% by volume of spherical filler (D1) having an average particle size of 0.1 to 0.5 μm and 20 to 60 volumes of spherical filler (D2) having an average particle size of 2 to 6 μm. % And spherical filler (D3) 20-60% by volume with an average particle size of 10-40 μm are included in amounts that the total of spherical fillers (D1), (D2) and (D3) does not exceed 100% by volume. and,
Per 100 parts by weight of the total resin components contained in the insulating sheet, the content of the polymer (A) is characterized in der Rukoto the range of 30 to 60 parts by weight, the insulating sheet.
水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有する分散剤(F)をさらに含有する、請求項1に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 1, further comprising a dispersant (F) having a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties. 前記分散剤(F)の前記官能基のpKaが、2〜10の範囲にある、請求項2に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 2, wherein pKa of the functional group of the dispersant (F) is in the range of 2 to 10. 前記フィラー(D)が、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The filler (D) according to any one of claims 1 to 3, wherein the filler (D) is at least one selected from the group consisting of alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, zinc oxide, and magnesium oxide. The insulating sheet described. 前記球状フィラー(D1)、(D2)及び(D3)の主成分が同一である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein main components of the spherical fillers (D1), (D2), and (D3) are the same. 前記ポリマー(A)がフェノキシ樹脂である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymer (A) is a phenoxy resin. 前記フェノキシ樹脂のガラス転移温度Tgが95℃以上である、請求項6に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 6 whose glass transition temperature Tg of said phenoxy resin is 95 ° C or more. 前記硬化剤(C)が、多脂環式骨格を有する酸無水物、もしくはテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The curing agent (C) is an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, an acid anhydride having an alicyclic skeleton obtained by addition reaction of a terpene compound and maleic anhydride, a water additive thereof, or The insulating sheet according to any one of claims 1 to 7, which is a modified product thereof. 前記硬化剤(C)が、下記式(1)〜(3)のいずれかで表される酸無水物である、請求項8に記載の絶縁シート。
Figure 0004922220
Figure 0004922220
Figure 0004922220
上記式(3)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素、炭素数1〜5のアルキル基、又は水酸基を示す。
The insulating sheet according to claim 8, wherein the curing agent (C) is an acid anhydride represented by any of the following formulas (1) to (3).
Figure 0004922220
Figure 0004922220
Figure 0004922220
In said formula (3), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group each independently.
前記硬化剤(C)が、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein the curing agent (C) is a phenol resin having a melamine skeleton or a triazine skeleton, or a phenol resin having an allyl group. 熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されており、該絶縁層が、請求項1〜10のいずれか1項に記載の絶縁シートを硬化させて形成されていることを特徴とする、積層構造体。   The conductive layer is laminated | stacked through the insulating layer on the at least single side | surface of the high heat conductor whose heat conductivity is 10 W / m * K or more, This insulating layer is any one of Claims 1-10. A laminated structure formed by curing an insulating sheet. 前記高熱伝導体が金属であることを特徴とする、請求項11に記載の積層構造体。   The laminated structure according to claim 11, wherein the high thermal conductor is a metal.
JP2008076347A 2007-09-05 2008-03-24 Insulating sheet and laminated structure Active JP4922220B2 (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008076347A JP4922220B2 (en) 2007-12-14 2008-03-24 Insulating sheet and laminated structure
US12/676,435 US20100297453A1 (en) 2007-09-05 2008-09-02 Insulating sheet and multilayer structure
KR1020107003904A KR101174971B1 (en) 2007-09-05 2008-09-02 Insulating sheet and multilayer structure
CN2008801058680A CN101796106B (en) 2007-09-05 2008-09-02 Insulating sheet and multilayer structure
PCT/JP2008/065763 WO2009031536A1 (en) 2007-09-05 2008-09-02 Insulating sheet and multilayer structure
TW097134284A TWI382928B (en) 2007-09-05 2008-09-05 Insulating sheet and laminated structure

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007323527 2007-12-14
JP2007323527 2007-12-14
JP2008076347A JP4922220B2 (en) 2007-12-14 2008-03-24 Insulating sheet and laminated structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009164093A JP2009164093A (en) 2009-07-23
JP4922220B2 true JP4922220B2 (en) 2012-04-25

Family

ID=40966467

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008076347A Active JP4922220B2 (en) 2007-09-05 2008-03-24 Insulating sheet and laminated structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4922220B2 (en)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5423590B2 (en) * 2010-06-10 2014-02-19 新神戸電機株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg and laminate
JP2012067205A (en) * 2010-09-24 2012-04-05 Hitachi Chemical Co Ltd High heat radiation insulating resin sheet and method of manufacturing the same
JP5431595B2 (en) * 2011-03-28 2014-03-05 日立化成株式会社 Resin composition, resin sheet, resin sheet cured product, resin sheet laminate, resin sheet laminate cured product and method for manufacturing the same, semiconductor device, and LED device
JP5942641B2 (en) * 2012-07-02 2016-06-29 日立化成株式会社 Resin sheet and manufacturing method thereof, cured resin sheet, and member for heat dissipation
KR102141722B1 (en) * 2014-02-13 2020-08-05 도레이첨단소재 주식회사 Adhesive composition for thermally conductive sheet and thermally conductive sheet therefrom
JP6061904B2 (en) * 2014-09-18 2017-01-18 デンカ株式会社 Insulating resin composition, cured product thereof, and hybrid integrated circuit using the same
JP2016104832A (en) * 2014-12-01 2016-06-09 Dic株式会社 Resin composition, thermally conductive adhesive, thermally conductive adhesive sheet, and laminate
JP6809220B2 (en) * 2015-03-27 2021-01-06 東レ株式会社 Adhesive composition sheet and its manufacturing method and semiconductor device
KR102524227B1 (en) * 2017-06-23 2023-04-21 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 Resin material, manufacturing method of resin material, and laminate
TW202031763A (en) 2019-01-25 2020-09-01 日商電化股份有限公司 Filler composition, silicone resin composition, and heat dissipation component
JPWO2021200491A1 (en) 2020-03-31 2021-10-07
JPWO2021200490A1 (en) 2020-03-31 2021-10-07
JP7468190B2 (en) * 2020-06-26 2024-04-16 三菱マテリアル株式会社 Insulating heat dissipation material, insulating film, and method for producing insulating film
JPWO2023013441A1 (en) 2021-08-05 2023-02-09

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2520988B2 (en) * 1991-04-23 1996-07-31 松下電工株式会社 Metal base wiring board
JPH0883963A (en) * 1994-09-12 1996-03-26 Hitachi Chem Co Ltd Metal-based board
KR100235082B1 (en) * 1995-04-04 1999-12-15 우찌가사끼 이사오 Adhesive, adhesive film and adhesive-backed metal foil
JP3646890B2 (en) * 1995-06-06 2005-05-11 日立化成工業株式会社 Metal body with insulating adhesive material and manufacturing method thereof
JPH09186462A (en) * 1996-01-04 1997-07-15 Hitachi Chem Co Ltd Manufacture of multilayered flexible printed wiring board
JP3209132B2 (en) * 1997-02-27 2001-09-17 日立化成工業株式会社 Metal base substrate
JP2004172597A (en) * 2002-10-30 2004-06-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device and its manufacturing method
JP4576794B2 (en) * 2003-02-18 2010-11-10 日立化成工業株式会社 Insulating resin composition and use thereof
JP4305406B2 (en) * 2005-03-18 2009-07-29 三菱電機株式会社 Cooling structure
JP2007145996A (en) * 2005-11-28 2007-06-14 Fujitsu Ltd Underfill composition and semiconductor apparatus using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009164093A (en) 2009-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4922220B2 (en) Insulating sheet and laminated structure
JP4495768B2 (en) Insulating sheet and laminated structure
KR101174971B1 (en) Insulating sheet and multilayer structure
JP2009144072A (en) Insulation sheet and laminated structure
JP4495772B1 (en) Insulating sheet and laminated structure
JP4922108B2 (en) Insulating sheet and laminated structure
JP2011070930A (en) Multi-layer insulating sheet, and laminated structure
JP2011168672A (en) Insulation sheet
JP2012067220A (en) Insulating sheet and laminated structure
JP2009161578A (en) Insulating sheet and laminated structure
WO2012073360A1 (en) Insulating sheet and laminated structure
JP2011124075A (en) Insulating sheet, laminated structure, and manufacturing method of laminated structure
JP2009224109A (en) Insulation sheet and laminated structural body
JP2012116146A (en) Insulating sheet and multilayer structure
JP4987161B1 (en) Insulation material
JP5520183B2 (en) Resin composition, resin sheet and laminated structure
JP2010157380A (en) Insulating sheet, and laminated structure
JP2009231249A (en) Insulation sheet and laminated structural body
JP5150326B2 (en) Insulating sheet and laminated structure
JP5075149B2 (en) Insulation sheet, laminate and multilayer laminate
JP5670136B2 (en) Insulating sheet and laminated structure
JP4495771B1 (en) Insulating sheet and laminated structure
JP2009149770A (en) Insulating sheet and multilayer structure
JP2010070653A (en) Insulating sheet and laminated structure
JP2012229319A (en) Insulating material and laminated structure body

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100113

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20100113

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20100212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101130

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110131

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120110

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120203

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4922220

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150210

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250