JP2009224109A - Insulation sheet and laminated structural body - Google Patents

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JP2009224109A JP2008065807A JP2008065807A JP2009224109A JP 2009224109 A JP2009224109 A JP 2009224109A JP 2008065807 A JP2008065807 A JP 2008065807A JP 2008065807 A JP2008065807 A JP 2008065807A JP 2009224109 A JP2009224109 A JP 2009224109A
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Hiroshi Maenaka
寛 前中
Takuji Aoyama
卓司 青山
Yasunari Kusaka
康成 日下
Isao Higuchi
勲夫 樋口
Takashi Watanabe
貴志 渡邉
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an insulation sheet bringing forth a cured object excellent in handleability at an uncured state, and yet, excellent in dielectric breakdown characteristics, thermal conductivity, and adhesion. <P>SOLUTION: The insulation sheet 3 contains a thermoplastic elastomer (A) as a block copolymer having at least two hard segments and at least one soft segment, used for bonding a high thermal conductor 4 with a thermal conductivity of 10 W/m×K or more to a conductive layer 2, with a weight-average molecular weight of 30,000 or more, an epoxy monomer (B1) and/or an oxetane monomer (B2) having an aromatic skeleton with a weight-average molecular weight of 600 or less, a curing agent (C) that is phenol resin or acid anhydride having an aromatic skeleton or alicyclic skeleton, its hydrogenated matter or degenerated matter, and a filler (D) with a thermal conductivity of 30 W/m×K or more. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられる絶縁シートに関し、より詳細には、未硬化状態でのハンドリング性に優れており、かつ絶縁破壊特性、熱伝導率及び接着性に優れた硬化物を与える絶縁シート、及び該絶縁シートを用いた積層構造体に関する。   The present invention relates to an insulating sheet used for bonding a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, and more specifically, has excellent handling properties in an uncured state, and The present invention relates to an insulating sheet that gives a cured product excellent in dielectric breakdown characteristics, thermal conductivity, and adhesiveness, and a laminated structure using the insulating sheet.

近年、電気機器の小型化及び高性能化が進行している。それに伴って、電子部品の実装密度が高くなってきており、電子部品から発生する熱を効果的に放散させる必要が高まってきている。熱を放散させる方法としては、高い放熱性を有し、かつ熱伝導率が10W/m・K以上であるアルミニウム等などの高熱伝導体を、発熱源に対して接着する方法が広く採用されている。また、この高熱伝導体を発熱源に接着するのに、絶縁性を有する絶縁接着材料が用いられている。この絶縁接着材料には、高い熱伝導率を有することが強く求められている。   In recent years, miniaturization and high performance of electric devices have been advanced. Along with this, the mounting density of electronic components is increasing, and the need to effectively dissipate heat generated from electronic components is increasing. As a method of dissipating heat, a method of adhering a high heat conductor such as aluminum having high heat dissipation and a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a heat source is widely adopted. Yes. Further, an insulating adhesive material having an insulating property is used to bond the high thermal conductor to a heat source. This insulating adhesive material is strongly required to have a high thermal conductivity.

上記絶縁接着材料の一例として、下記の特許文献1には、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、エラストマー及び無機充填剤を含有する接着剤組成物を、ガラスクロスに含浸させた絶縁接着シートが開示されている。   As an example of the above insulating adhesive material, the following Patent Document 1 discloses an insulating material in which a glass cloth is impregnated with an adhesive composition containing an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, a curing accelerator, an elastomer, and an inorganic filler. An adhesive sheet is disclosed.

一方、ガラスクロスを用いない絶縁接着材料も知られている。例えば、下記の特許文献2の実施例には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、フェノールノボラック、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及びアルミナを含む絶縁接着剤が開示されている。ここでは、エポキシ樹脂の硬化剤として、3級アミン、酸無水物、イミダゾール化合物、ポリフェノール樹脂、マスクイソシアネート等が挙げられている。
特開2006−342238号公報 特開平8−332696号公報
On the other hand, insulating adhesive materials that do not use glass cloth are also known. For example, the example of Patent Document 2 below includes an insulating adhesive containing bisphenol A type epoxy resin, phenoxy resin, phenol novolac, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and alumina. Agents are disclosed. Here, tertiary amines, acid anhydrides, imidazole compounds, polyphenol resins, mask isocyanates and the like are listed as curing agents for epoxy resins.
JP 2006-342238 A JP-A-8-332696

しかしながら、特許文献1に記載の絶縁接着シートでは、ハンドリング性を高めるために、ガラスクロスが用いられていた。ガラスクロスを用いた場合には、薄膜化が困難であり、かつレーザー加工、ドリル穴開け加工等の各種加工を行うことが困難であった。さらに、ガラスクロスを含む絶縁接着シートの硬化物は、熱伝導率が比較的低いため、充分な放熱性が得られないこともあった。さらに、ガラスクロスに接着剤組成物を含浸させるために、特殊な含浸設備を用意しなければならなかった。   However, in the insulating adhesive sheet described in Patent Document 1, a glass cloth is used in order to improve handling properties. When glass cloth is used, it is difficult to make a thin film, and it is difficult to perform various processes such as laser processing and drilling. Furthermore, since the cured product of the insulating adhesive sheet containing glass cloth has a relatively low thermal conductivity, sufficient heat dissipation may not be obtained. Furthermore, special impregnation equipment had to be prepared in order to impregnate the glass cloth with the adhesive composition.

一方、特許文献2の絶縁接着剤は、ガラスクロスを用いていないため、ガラスクロスの使用に伴う上記種々の弊害は生じない。しかし、この絶縁接着剤は、未硬化状態ではそれ自体が自立性を有するシートではなく、従ってハンドリング性が充分ではなかった。   On the other hand, since the insulating adhesive of Patent Document 2 does not use a glass cloth, the above-described various problems associated with the use of the glass cloth do not occur. However, this insulating adhesive is not a sheet that is self-supporting in an uncured state, and therefore handling properties are not sufficient.

本発明の目的は、上述した従来技術の現状に鑑み、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられ、ガラスクロスが用いられていなくても、未硬化状態でのハンドリング性に優れており、かつ絶縁破壊特性、熱伝導率及び接着性に優れた硬化物を与える絶縁シート、及びそれを用いた積層構造体を提供することにある。   The object of the present invention is used in order to adhere a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer in view of the above-described state of the prior art, and even if a glass cloth is not used, An object of the present invention is to provide an insulating sheet that provides a cured product that is excellent in handling properties in an uncured state and that has excellent dielectric breakdown characteristics, thermal conductivity, and adhesiveness, and a laminated structure using the insulating sheet.

本発明によれば、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられる絶縁シートであって、少なくとも2つのハードセグメントと少なくとも1つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体であり、かつ、重量平均分子量が3万以上である熱可塑性エラストマー(A)と、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1)及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2)と、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物である硬化剤(C)と、熱伝導率が30W/m・K以上であるフィラー(D)とを含有し、前記熱可塑性エラストマー(A)と、前記エポキシモノマー(B1)及び/又は前記オキセタンモノマー(B2)と、前記硬化剤(C)とを含む絶縁シート中の樹脂成分の合計100重量%中に、前記熱可塑性エラストマー(A)が20〜60重量%の割合、前記エポキシモノマー(B1)及び/又は前記オキセタンモノマー(B2)が10〜60重量%の割合、かつ前記熱可塑性エラストマー(A)と、前記エポキシモノマー(B1)及び/又は前記オキセタンモノマー(B2)との合計が100重量%未満となる割合でそれぞれ含まれていることを特徴とする、絶縁シートが提供される。   According to the present invention, there is provided an insulating sheet used for bonding a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, which has at least two hard segments and at least one soft segment. A block copolymer and a thermoplastic elastomer (A) having a weight average molecular weight of 30,000 or more, an epoxy monomer (B1) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less, and / or An oxetane monomer (B2) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less, a phenol resin, an acid anhydride having an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive thereof, or a modified product thereof A curing agent (C) and a filler (D) having a thermal conductivity of 30 W / m · K or more, the thermoplastic elastomer (A), and the epoxy The thermoplastic elastomer (A) is 20 to 60% by weight in a total of 100% by weight of the resin component in the insulating sheet containing the monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2) and the curing agent (C). %, The epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2) is 10 to 60% by weight, and the thermoplastic elastomer (A), the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer. An insulating sheet is provided, characterized in that the total content of (B2) is less than 100% by weight.

本発明の絶縁シートのある特定の局面では、前記ハードセグメントは、スチレン、芳香族ウレタン、脂環式ウレタン、アミド及びイミドからなる群から選択された少なくとも1種からなり、かつ、前記ソフトセグメントは、共役ジエンを有しない炭素数2〜5のオレフィン炭化水素、炭素数4〜6の共役ジエン化合物、炭素数4〜6の部分水添共役ジエンを構造単位として含む炭化水素化合物及びシリコーンからなる群から選択された少なくとも1種からなる。この場合、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性をより高めることができる。   In a specific aspect of the insulating sheet of the present invention, the hard segment is made of at least one selected from the group consisting of styrene, aromatic urethane, alicyclic urethane, amide, and imide, and the soft segment is , A olefin hydrocarbon having 2 to 5 carbon atoms having no conjugated diene, a conjugated diene compound having 4 to 6 carbon atoms, a hydrocarbon compound containing a partially hydrogenated conjugated diene having 4 to 6 carbon atoms as a structural unit, and silicone It consists of at least one selected from In this case, the handling property of the insulating sheet in an uncured state can be further enhanced.

本発明の絶縁シートの他の特定の局面では、前記ブロック共重合体におけるハードセグメントとソフトセグメントとの重量比(ハードセグメント:ソフトセグメント)は、10:90〜50:50の範囲にある。この場合、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性をより一層高めることができる。   In another specific aspect of the insulating sheet of the present invention, the weight ratio of the hard segment to the soft segment (hard segment: soft segment) in the block copolymer is in the range of 10:90 to 50:50. In this case, the handling property of the insulating sheet in an uncured state can be further enhanced.

本発明の絶縁シートのさらに他の特定の局面では、前記ハードセグメントは、エポキシ基、オキセタニル基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基を有する。この場合、絶縁シートの耐熱性をより高めることができる。   In still another specific aspect of the insulating sheet of the present invention, the hard segment has an epoxy group, an oxetanyl group, a (meth) acryloyl group, an amino group, a carboxyl group, or a hydroxyl group. In this case, the heat resistance of the insulating sheet can be further increased.

また、上記硬化剤(C)としては、多脂環式骨格を有する酸無水物、もしくはテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物も好ましく、中でも下記式(1)〜(3)のいずれかで表される酸無水物がより好ましい。これらの場合、絶縁シートの柔軟性、耐湿性及び/又は接着性などをより一層高めることができる。   Further, as the curing agent (C), an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, an acid anhydride having an alicyclic skeleton obtained by an addition reaction between a terpene compound and maleic anhydride, its water Additives or modified products thereof are also preferable, and acid anhydrides represented by any of the following formulas (1) to (3) are more preferable. In these cases, the flexibility, moisture resistance and / or adhesion of the insulating sheet can be further enhanced.

Figure 2009224109
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Figure 2009224109
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上記式(3)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素、炭素数1〜5のアルキル基、又は水酸基を示す。
Figure 2009224109
In said formula (3), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group each independently.

また、本発明では、上記硬化剤(C)としては、様々な硬化剤を用いることができるが、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましい。この場合、絶縁シートの硬化物のシート柔軟性や難燃性がより一層高められる。   In the present invention, various curing agents can be used as the curing agent (C), and a phenol resin having a melamine skeleton or a triazine skeleton or a phenol resin having an allyl group is preferable. In this case, the sheet flexibility and flame retardancy of the cured product of the insulating sheet are further enhanced.

本発明では、上記フィラー(D)としては、様々なフィラーを用いることができるが、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種が好ましく、球状アルミナ及び/又は球状窒化アルミニウムがより好ましい。これらのフィラー(D)を用いた場合には、絶縁シートの硬化物の放熱性をより一層高めることができる。   In the present invention, various fillers can be used as the filler (D), but at least one selected from the group consisting of alumina, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide and magnesium oxide. Seeds are preferred, and spherical alumina and / or spherical aluminum nitride are more preferred. When these fillers (D) are used, the heat dissipation of the cured product of the insulating sheet can be further enhanced.

本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されており、該絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させて形成されていることを特徴とする。   In the laminated structure according to the present invention, a conductive layer is laminated on at least one surface of a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer, and the insulating layer is configured according to the present invention. The insulating sheet thus formed is cured.

本発明に係る積層構造体のある特定の局面では、前記高熱伝導体は金属とされている。   In a specific aspect of the laminated structure according to the present invention, the high thermal conductor is a metal.

本発明に係る絶縁シートでは、少なくとも2つのハードセグメントと少なくとも1つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体であり、かつ、重量平均分子量が3万以上である熱可塑性エラストマー(A)が上記成分(B)〜(D)と併用されているので、絶縁シートの未硬化状態でのハンドリング性を高めることができる。さらに、本発明の絶縁シートを硬化させることにより、絶縁破壊特性、熱伝導率及び接着性に優れた硬化物を得ることができる。   In the insulating sheet according to the present invention, the thermoplastic elastomer (A), which is a block copolymer having at least two hard segments and at least one soft segment, and has a weight average molecular weight of 30,000 or more is the component ( Since it is used in combination with B) to (D), the handleability of the insulating sheet in the uncured state can be improved. Furthermore, by curing the insulating sheet of the present invention, a cured product having excellent dielectric breakdown characteristics, thermal conductivity, and adhesiveness can be obtained.

本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されており、該絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させて形成されているので、導電層側からの熱が絶縁層を介して上記高熱伝導体に伝わり易く、該高熱伝導体によって熱を効率的に放散させることができる。さらに、積層構造体では、絶縁破壊や接着界面での剥離が生じるのを抑制することができる。   In the laminated structure according to the present invention, a conductive layer is laminated on at least one surface of a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer, and the insulating layer is configured according to the present invention. Since the formed insulating sheet is cured, heat from the conductive layer side is easily transferred to the high heat conductor through the insulating layer, and heat can be efficiently dissipated by the high heat conductor. Furthermore, in the laminated structure, it is possible to suppress the occurrence of dielectric breakdown or peeling at the adhesion interface.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係る絶縁シートは、少なくとも2つのハードセグメントと少なくとも1つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体であり、かつ、重量平均分子量が3万以上である熱可塑性エラストマー(A)と、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1)及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2)と、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物である硬化剤(C)と、熱伝導率が30W/m・K以上であるフィラー(D)とを含有する。   The insulating sheet according to the present invention is a block copolymer having at least two hard segments and at least one soft segment, and has a weight average molecular weight of 30,000 or more, a thermoplastic elastomer (A), and an aromatic An epoxy monomer (B1) having a skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less and / or an oxetane monomer (B2) having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less, a phenol resin, or an aromatic A curing agent (C) which is an acid anhydride having an aliphatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive or a modified product thereof, and a filler (D) having a thermal conductivity of 30 W / m · K or more. .

本願発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、少なくとも2つのハードセグメントと少なくとも1つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体であり、かつ、重量平均分子量が3万以上である熱可塑性エラストマー(A)を、上記エポキシモノマー(B1)及び/又は上記オキセタンモノマー(B2)、上記硬化剤(C)及び上記フィラー(D)と組み合わせた組成を採用し、かつこの特定の組成において、上記熱可塑性エラストマー(A)と、上記エポキシモノマー(B1)及び/又は上記オキセタンモノマー(B2)とを上記特定の割合で用いることによって、未硬化状態でのハンドリング性に優れており、さらに絶縁破壊特性、熱伝導率及び接着性に優れた硬化物を与える絶縁シートが得られることを見出し、本発明を成すに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present application are block copolymers having at least two hard segments and at least one soft segment, and have a weight average molecular weight of 30,000 or more. Adopting a composition in which the thermoplastic elastomer (A) is combined with the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2), the curing agent (C) and the filler (D), and in this specific composition By using the thermoplastic elastomer (A) and the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2) in the specific ratio, the handling property in an uncured state is excellent, and further the insulation Found that an insulating sheet giving a cured product excellent in destructive properties, thermal conductivity and adhesiveness can be obtained, Leading to the completion of the invention.

(熱可塑性エラストマー(A))
本発明に係る絶縁シートに含まれている上記熱可塑性エラストマー(A)は、少なくとも2つのハードセグメントと少なくとも1つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体である。熱可塑性エラストマー(A)は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Thermoplastic elastomer (A))
The thermoplastic elastomer (A) contained in the insulating sheet according to the present invention is a block copolymer having at least two hard segments and at least one soft segment. A thermoplastic elastomer (A) may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記ブロック共重合体の構造としては、特に限定されず、ハードセグメントをAとし、かつソフトセグメントをBとしたときに、例えば、A−B−A構造、A−B−B−A構造等といったソフトセグメントの両端にハードセグメントが結合されているブロック共重合体等が挙げられる。   The structure of the block copolymer is not particularly limited, and when the hard segment is A and the soft segment is B, for example, an ABA structure, an ABBA structure, or the like. Examples thereof include a block copolymer in which hard segments are bonded to both ends of the soft segment.

上記ブロック共重合体におけるハードセグメントは、特に限定されないが、例えば、スチレン、芳香族ウレタン、脂環式ウレタン、アミド又はイミド等からなる。上記ハードセグメントは、ポリスチレン、芳香族ポリウレタン、脂環式ポリウレタン、ポリアミド、又はポリイミド等であってもよい。   Although the hard segment in the said block copolymer is not specifically limited, For example, it consists of styrene, aromatic urethane, alicyclic urethane, amide, imide, etc. The hard segment may be polystyrene, aromatic polyurethane, alicyclic polyurethane, polyamide, polyimide, or the like.

上記ブロック共重合体におけるハードセグメントは、エポキシ基、オキセタニル基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基を有することが好ましい。ハードセグメントがこれらの基を有することにより、熱可塑性エラストマー(A)とエポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)とを反応させることができる。そのため、硬化物の耐熱性をより一層高めることができる。   The hard segment in the block copolymer preferably has an epoxy group, oxetanyl group, (meth) acryloyl group, amino group, carboxyl group or hydroxyl group. When the hard segment has these groups, the thermoplastic elastomer (A) can be reacted with the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2). Therefore, the heat resistance of the cured product can be further improved.

上記ブロック共重合体におけるソフトセグメントは、特に限定されないが、例えば、共役ジエンを有しない炭素数2〜5のオレフィン炭化水素、炭素数4〜6の共役ジエン化合物、炭素数4〜6の部分水添共役ジエンを構造単位として含む炭化水素化合物、シリコーン等からなる。   Although the soft segment in the said block copolymer is not specifically limited, For example, C2-C5 olefin hydrocarbon which does not have a conjugated diene, C4-C6 conjugated diene compound, C4-C6 partial water It consists of a hydrocarbon compound, silicone and the like containing a conjugated diene as a structural unit.

上記共役ジエンを有しない炭素数2〜5のオレフィン炭化水素としては、例えば、エチレン、プロピレン、2−メチルプロペン(イソブチレン)、1−ブチレン、2−ブチレン、2−メチル−2−ブチレン、1−ペンテン、2−ペンテン、又は1,4−ペンタジエンが挙げられる。   Examples of the olefin hydrocarbon having 2 to 5 carbon atoms not having the conjugated diene include ethylene, propylene, 2-methylpropene (isobutylene), 1-butylene, 2-butylene, 2-methyl-2-butylene, 1- Examples include pentene, 2-pentene, or 1,4-pentadiene.

上記炭素数4〜6の共役ジエン化合物としては、例えば、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン又は1,3−ペンタジエン等が挙げられる。   Examples of the conjugated diene compound having 4 to 6 carbon atoms include 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, and the like.

上記ブロック共重合体は、上記ハードセグメントが、スチレン、芳香族ウレタン、脂環式ウレタン、アミド、及びイミドからなる群から選択された少なくとも1種からなり、かつ、上記ソフトセグメントは、共役ジエンを有しない炭素数2〜5のオレフィン炭化水素、炭素数4〜6の共役ジエン化合物、炭素数4〜6の部分水添共役ジエンを構造単位として含む炭化水素化合物及びシリコーンからなる群から選択された少なくとも1種からなることが好ましい。この場合、絶縁シートの未硬化状態でのハンドリング性をより一層高めることができる。   The block copolymer includes at least one selected from the group consisting of styrene, aromatic urethane, alicyclic urethane, amide, and imide, and the soft segment includes a conjugated diene. Selected from the group consisting of a hydrocarbon compound having 2 to 5 carbon atoms, a conjugated diene compound having 4 to 6 carbon atoms, a partially hydrogenated conjugated diene having 4 to 6 carbon atoms as a structural unit, and silicone It is preferable to consist of at least one. In this case, the handling property in the uncured state of the insulating sheet can be further enhanced.

上記ブロック共重合体としては、スチレンからなる2つのハードセグメントと2―メチルプロペンからなる1つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体、スチレンからなる2つのハードセグメントとエチレン及び1,3−ブタジエンからなる2つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体、又は芳香族ウレタン又は脂環式ウレタンからなる2つのハードセグメントとシリコーンからなる1つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体がより好ましい。熱可塑性エラストマーが、これらのブロック共重合体である場合には、絶縁シートの未硬化状態でのハンドリング性をより一層高めることができる。   The block copolymer includes a block copolymer having two hard segments made of styrene and one soft segment made of 2-methylpropene, two hard segments made of styrene, ethylene and 1,3-butadiene. A block copolymer having two soft segments or a block copolymer having two hard segments made of aromatic urethane or alicyclic urethane and one soft segment made of silicone is more preferable. When the thermoplastic elastomer is such a block copolymer, the handleability of the insulating sheet in the uncured state can be further enhanced.

上記ブロック共重合体におけるハードセグメントとソフトセグメントとの重量比(ハードセグメント:ソフトセグメント)は、10:90〜50:50の範囲にあることが好ましい。更に好ましくは20:80〜40:60の範囲である。この場合、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性をより一層高めることができる。ソフトセグメントに対するハードセグメントの割合が高くなりすぎると、絶縁シートの硬化物が固くかつ脆くなることがあり、ソフトセグメントに対するハードセグメントの割合が低くなりすぎると、絶縁シートの硬化物の強度が不十分になることがある。   The weight ratio of the hard segment to the soft segment (hard segment: soft segment) in the block copolymer is preferably in the range of 10:90 to 50:50. More preferably, it is the range of 20: 80-40: 60. In this case, the handling property of the insulating sheet in an uncured state can be further enhanced. If the ratio of the hard segment to the soft segment becomes too high, the cured product of the insulating sheet may become hard and brittle. If the ratio of the hard segment to the soft segment becomes too low, the strength of the cured product of the insulating sheet is insufficient. May be.

上記熱可塑性エラストマー(A)の重量平均分子量は、3万以上である。熱可塑性エラストマー(A)の重量平均分子量は、3万〜100万の範囲が好ましく、より好ましくは、4万〜25万の範囲である。重量平均分子量が小さすぎると、熱劣化することがあり、大きすぎると、他の樹脂成分との相溶性が悪くなり、結果として、絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁シートの硬化物の耐熱性が低下することがある。   The thermoplastic elastomer (A) has a weight average molecular weight of 30,000 or more. The weight average molecular weight of the thermoplastic elastomer (A) is preferably in the range of 30,000 to 1,000,000, more preferably in the range of 40,000 to 250,000. If the weight average molecular weight is too small, thermal degradation may occur, and if it is too large, the compatibility with other resin components deteriorates. As a result, the handling properties of the insulating sheet and the heat resistance of the cured product of the insulating sheet are reduced. May decrease.

上記熱可塑性エラストマー(A)と、上記エポキシモノマー(B1)及び/又は上記オキセタンモノマー(B2)と、上記硬化剤(C)とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量%中に、熱可塑性エラストマー(A)は20〜60重量%の割合、好ましくは30〜50重量%の割合で、かつ熱可塑性エラストマー(A)と、エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)との合計が100重量%未満となる割合で含まれる。熱可塑性エラストマー(A)が少なすぎると、絶縁シートのハンドリング性が低下することがあり、多すぎると、フィラー(D)の分散が困難になることがある。なお、全樹脂成分とは、熱可塑性エラストマー(A)、エポキシモノマー(B1)、オキセタンモノマー(B2)、硬化剤(C)及び必要に応じて添加される他の樹脂構成成分の総和をいうものとする。   100% by weight in total of all resin components contained in the insulating sheet containing the thermoplastic elastomer (A), the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2), and the curing agent (C). In the thermoplastic elastomer (A), the proportion of the thermoplastic elastomer (A) is 20 to 60% by weight, preferably 30 to 50% by weight, and the thermoplastic elastomer (A), the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2). ) And a total amount of less than 100% by weight. When there are too few thermoplastic elastomers (A), the handleability of an insulating sheet may fall, and when there are too many, dispersion | distribution of a filler (D) may become difficult. The total resin component means the sum of the thermoplastic elastomer (A), epoxy monomer (B1), oxetane monomer (B2), curing agent (C) and other resin components added as necessary. And

(エポキシモノマー(B1)及びオキセタンモノマー(B2))
本発明に係る絶縁シートは、芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下のエポキシモノマー(B1)、及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下のオキセタンモノマー(B2)を含む。絶縁シートは、エポキシモノマー(B1)とオキセタンモノマー(B2)との内のいずれか一方のみを含んでいてもよいし、両者を含んでいてもよい。
(Epoxy monomer (B1) and oxetane monomer (B2))
The insulating sheet according to the present invention has an aromatic skeleton and an epoxy monomer (B1) having a weight average molecular weight of 600 or less, and / or an oxetane monomer having an aromatic skeleton and a weight average molecular weight of 600 or less ( B2). The insulating sheet may contain only one of the epoxy monomer (B1) and the oxetane monomer (B2), or may contain both.

上記エポキシモノマー(B1)としては、特に限定はされないが、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型のビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー;ジシクロペンタジエンジオキシド、ジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシモノマーなどのジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマー;1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリシジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等のナフタレン骨格を有するエポキシモノマー;1,3−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンテン、2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンテン等のアダマンテン骨格を有するエポキシモノマー;9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン等のフルオレン骨格を有するエポキシモノマー、4,4’−ジグリシジルビフェニル、4,4’−ジグリシジル−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル等のビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂;1,1’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン等のバイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマー;1,3,4,5,6,8−ヘキサメチル−2,7−ビス−オキシラニルメトキシ−9−フェニル−9H−キサンテン等のキサンテン骨格を有するエポキシモノマー;アントラセン骨格やピレン骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。これらのエポキシモノマー(B1)は、1種のみが用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。   The epoxy monomer (B1) is not particularly limited. For example, an epoxy monomer having a bisphenol skeleton of bisphenol A type, bisphenol F type or bisphenol S type; a phenol novolak having a dicyclopentadiene dioxide or dicyclopentadiene skeleton. Epoxy monomers having a dicyclopentadiene skeleton such as epoxy monomers; 1-glycidylnaphthalene, 2-glycidylnaphthalene, 1,2-diglycidylnaphthalene, 1,5-diglycidylnaphthalene, 1,6-diglycidylnaphthalene, 1,7 Epoxy monomers having a naphthalene skeleton such as diglycidylnaphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene; 1,3-bis ( -Epoxy monomer having an adamantene skeleton such as glycidyloxyphenyl) adamantene and 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamantene; 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4 -Glycidyloxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-bromophenyl) fluorene, 9,9- Bis (4-glycidyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-methoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dimethylphenyl) Fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-di (Lolophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dibromophenyl) fluorene and other epoxy monomers having a fluorene skeleton, 4,4′-diglycidylbiphenyl, 4,4′-diglycidyl-3, Epoxy resins having a biphenyl skeleton such as 3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl; 1,1′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (2,7-glycidyloxy) Naphthyl) methane, 1,1′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,5-glycidyl) Oxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2′-bi (2,7-glycidylo) Epoxy having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton such as xylnaphthyl) methane, 1,2'-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane Monomer; Epoxy monomer having xanthene skeleton such as 1,3,4,5,6,8-hexamethyl-2,7-bis-oxiranylmethoxy-9-phenyl-9H-xanthene; having anthracene skeleton or pyrene skeleton An epoxy monomer etc. are mentioned. As for these epoxy monomers (B1), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記オキセタンモノマー(B2)としては、特に限定はされないが、例えば、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、1,4−ベンゼンジカルボン酸ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メチル]エステル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、オキセタン化フェノールノボラック等が挙げられる。これらのオキセタンモノマー(B2)は、1種のみが用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。   The oxetane monomer (B2) is not particularly limited. For example, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, bis-1,4-benzenedicarboxylate [(3- Ethyl-3-oxetanyl) methyl] ester, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, oxetated phenol novolac and the like. As for these oxetane monomers (B2), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)の重量平均分子量は、600以下である。エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)の重量平均分子量の好ましい下限は200、好ましい上限は550である。重量平均分子量が小さすぎると、揮発性が高すぎて絶縁シートの取扱い性が低下することがあり、大きすぎると、シートが固くかつ脆くなったり、接着力が低下したりすることがある。   The epoxy monomer (B1) and / or oxetane monomer (B2) has a weight average molecular weight of 600 or less. The preferable lower limit of the weight average molecular weight of the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2) is 200, and the preferable upper limit is 550. If the weight average molecular weight is too small, the volatility is too high and the handleability of the insulating sheet may be lowered. If it is too large, the sheet may be hard and brittle, or the adhesive force may be lowered.

上記エポキシモノマー(B1)と、上記オキセタンモノマー(B2)とを併用した場合又はいずれか一方を用いた場合には、上記熱可塑性エラストマー(A)と、上記エポキシモノマー(B1)及び/又は上記オキセタンモノマー(B2)と、上記硬化剤(C)とを含む絶縁シートに含まれている全樹脂成分の合計100重量%中に、エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)は10〜60重量%の割合、好ましくは10〜40重量%の割合で、かつ熱可塑性エラストマー(A)と、エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)との合計が100重量%未満となる割合で含まれる。   When the epoxy monomer (B1) and the oxetane monomer (B2) are used in combination or when any one of them is used, the thermoplastic elastomer (A), the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane are used. The epoxy monomer (B1) and / or oxetane monomer (B2) is 10 to 60 in a total of 100% by weight of all resin components contained in the insulating sheet containing the monomer (B2) and the curing agent (C). % By weight, preferably 10 to 40% by weight, and a ratio in which the total of the thermoplastic elastomer (A) and the epoxy monomer (B1) and / or oxetane monomer (B2) is less than 100% by weight. included.

エポキシモノマー(B1)及び/又はオキセタンモノマー(B2)が少なすぎると、接着性や耐熱性が低下することがあり、多すぎると、絶縁シートの柔軟性が低下することがある。   When there are too few epoxy monomers (B1) and / or oxetane monomers (B2), adhesiveness and heat resistance may fall, and when too much, the softness | flexibility of an insulating sheet may fall.

(硬化剤(C))
本発明に係る絶縁シートに含まれている硬化剤(C)は、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物である。この硬化剤(C)を用いることにより、耐熱性、耐湿性及び電気物性のバランスに優れた絶縁シートの硬化物を得ることができる。硬化剤(C)は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
(Curing agent (C))
The curing agent (C) contained in the insulating sheet according to the present invention is a phenol resin, an acid anhydride having an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive thereof, or a modified product thereof. By using this hardening | curing agent (C), the hardened | cured material of the insulating sheet excellent in heat resistance, moisture resistance, and the balance of an electrical property can be obtained. A hardening | curing agent (C) may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記フェノール樹脂としては、特に限定されないが、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリパラビニルフェノール、ビスフェノールA型ノボラック、キシリレン変性ノボラック、デカリン変性ノボラック、ポリ(ジ−o−ヒドロキシフェニル)メタン、ポリ(ジ−m−ヒドロキシフェニル)メタン、ポリ(ジ−p−ヒドロキシフェニル)メタンが挙げられる。なかでも、シート柔軟性や難燃性がより一層高められるので、メラミン骨格を有するフェノール樹脂、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂、またはアリル基を有するフェノール樹脂が好ましい。   The phenol resin is not particularly limited, but phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, polyparavinylphenol, bisphenol A type novolak, xylylene modified novolak, decalin modified Examples include novolak, poly (di-o-hydroxyphenyl) methane, poly (di-m-hydroxyphenyl) methane, and poly (di-p-hydroxyphenyl) methane. Especially, since a sheet | seat softness | flexibility and a flame retardance are improved further, the phenol resin which has a melamine skeleton, the phenol resin which has a triazine skeleton, or the phenol resin which has an allyl group is preferable.

上記フェノール樹脂の市販品としては、明和化成社製のMEH−8005、MEH−8010、NEH−8015;ジャパンエポキシレジン社製のYLH903;大日本インキ社製のLA―7052、LA−7054、LA−7751、LA−1356、LA−3018−50P;群栄化学社製のPS6313及びPS6492等が挙げられる。   Examples of commercially available phenol resins include MEH-8005, MEH-8010, NEH-8015 manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd .; YLH903 manufactured by Japan Epoxy Resin; LA-7052, LA-7054, LA- 7751, LA-1356, LA-3018-50P; PS6313 and PS6492 manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.

芳香族骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物としては、特に限定されないが、例えば、スチレン/無水マレイン酸コポリマー、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、フェニルエチニルフタル酸無水物、グリセロールビス(アンヒドロトリメリテート)モノアセテート、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。なかでも、耐水性が高められるので、メチルナジック酸無水物やトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸が好ましい。   An acid anhydride having an aromatic skeleton, a water additive thereof, or a modified product thereof is not particularly limited. For example, styrene / maleic anhydride copolymer, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, trimellitic acid Anhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, phenylethynyl phthalic anhydride, glycerol bis (anhydrotrimellitate) monoacetate, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl Examples include hexahydrophthalic anhydride and trialkyltetrahydrophthalic anhydride. Of these, methylnadic acid anhydride and trialkyltetrahydrophthalic anhydride are preferable because water resistance is improved.

上記芳香族骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物の市販品としては、サートマー・ジャパン社製のSMAレジンEF30、SMAレジンEF40、SMAレジンEF60、SMAレジンEF80;マナック社製のODPA−M、PEPA;新日本理化社製のリカジットMTA―10、リカジットMTA−15、リカジットTMTA、リカジットTMEG−100、リカジットTMEG−200、リカジットTMEG−300、リカジットTMEG−500、リカジットTMEG−S、リカジットTH、リカジットHT−1A、リカジットHH、リカジットMH−700、リカジットMT−500、リカジットDSDA、リカジットTDA−100;大日本インキ化学社製のEPICLON B4400、EPICLON B650、EPICLON B570等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having an aromatic skeleton, water additives thereof, and modified products thereof include SMA Resin EF30, SMA Resin EF40, SMA Resin EF60, and SMA Resin EF80 manufactured by Sartomer Japan; manufactured by Manac ODPA-M, PEPA; Rikagit MTA-10, Rikagit MTA-15, Rikagit TMTA, Rikagit TMEG-100, Rikagit TMEG-200, Rikagit TMEG-300, Rikagit TMEG-500, Rikagit TMEG-S, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd. Rikagit TH, Rikagit HT-1A, Rikagit HH, Rikagit MH-700, Rikagit MT-500, Rikagit DSDA, Rikagit TDA-100; EPICLON B4400, EPICLON B65 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. 0, EPICLON B570 and the like.

また、脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物としては、多脂環式骨格を有する酸無水物、テルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物が好ましい。この場合、絶縁シートの柔軟性、耐湿性及び/又は接着性などをより一層高めることができる。また、脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物としては、メチルナジック酸無水物、ジシクロペンタジエン骨格を有する酸無水物又はその変性物等も挙げることができる。   Moreover, as an acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water additive thereof, or a modified product thereof, an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, an alicyclic ring obtained by an addition reaction of a terpene compound and maleic anhydride An acid anhydride having a formula skeleton, a water additive thereof or a modified product thereof is preferred. In this case, the flexibility, moisture resistance, and / or adhesiveness of the insulating sheet can be further enhanced. Examples of the acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water additive thereof, or a modified product thereof include methyl nadic acid anhydride, an acid anhydride having a dicyclopentadiene skeleton, or a modified product thereof.

上記脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物又はその変性物の市販品としては、新日本理化社製のリカジットHNA、リカジットHNA−100;ジャパンエポキシレジン社製のエピキュアYH306、エピキュアYH307、エピキュアYH308H、エピキュアYH309等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having the alicyclic skeleton, water additives thereof, or modified products thereof include Rikajito HNA and Rikajito HNA-100 manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd .; EpiCure YH306 and EpiCure YH307 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Epicure YH308H, Epicure YH309, and the like.

また、上記硬化剤(C)としては、シートの柔軟性、耐湿性及び/又は接着性をより一層高めることができるので、下記式(1)〜(3)のいずれかで表される酸無水物がより好ましい。   Moreover, since the softness | flexibility of a sheet | seat, moisture resistance, and / or adhesiveness can be improved further as said hardening | curing agent (C), the acid anhydride represented by either of following formula (1)-(3). More preferred.

Figure 2009224109
Figure 2009224109

Figure 2009224109
Figure 2009224109

Figure 2009224109
上記式(3)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素、炭素数1〜5のアルキル基、又は水酸基を示す。
Figure 2009224109
In said formula (3), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group each independently.

硬化速度や硬化物の物性などを調整するために、上記硬化剤とともに、硬化促進剤を併用してもよい。   In order to adjust the curing speed and the physical properties of the cured product, a curing accelerator may be used in combination with the curing agent.

上記硬化促進剤としては、特に限定されないが、例えば、3級アミン、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアジン類、有機リン系化合物、4級ホスホニウム塩類、有機酸塩等のジアザビシクロアルケン類;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫やアルミニウムアセチルアセトン錯体等の有機金属化合物類;4級アンモニウム塩類;金属ハロゲン化物が挙げられる。   The curing accelerator is not particularly limited. For example, diazabicycloalkenes such as tertiary amines, imidazoles, imidazolines, triazines, organic phosphorus compounds, quaternary phosphonium salts, and organic acid salts; octylic acid Organometallic compounds such as zinc, tin octylate and aluminum acetylacetone complex; quaternary ammonium salts; metal halides.

上記硬化促進剤としては、さらに高融点イミダゾール化合物、ジシアンジアミド又はアミンをエポキシモノマー等に付加したアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性促進剤、イミダゾール系、リン系又はホスフィン系の促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性促進剤、アミン塩型潜在性硬化促進剤、ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型で熱カチオン重合型の潜在性硬化促進剤等に代表される潜在性硬化促進剤を使用することもできる。なかでも、硬化速度や硬化物の物性などの調整をするための反応系の制御をしやすいことから、高融点イミダゾール系硬化促進剤が好適に用いられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。取扱性に優れているので、硬化促進剤の融点は100℃以上が好ましい。   Examples of the curing accelerator include high melting point imidazole compounds, dicyandiamide, or high melting point dispersion type latent accelerators such as amine addition type accelerators in which an amine is added to an epoxy monomer, imidazole-based, phosphorus-based or phosphine-based accelerators. Microcapsule-type latent accelerators coated with polymer, amine salt-type latent curing accelerators, high-temperature dissociation type thermal cationic polymerization type latent curing accelerators such as Lewis acid salts and Bronsted acid salts Representative latent curing accelerators can also be used. Especially, since it is easy to control the reaction system for adjusting a cure rate, the physical property of hardened | cured material, etc., a high melting point imidazole type hardening accelerator is used suitably. These hardening accelerators may be used independently and 2 or more types may be used together. Since the handleability is excellent, the curing accelerator preferably has a melting point of 100 ° C. or higher.

(フィラー(D))
本発明に係る絶縁シートに含まれるフィラー(D)は、熱伝導率が30W/m・K以上であれば特に限定されない。フィラー(D)は、単独で用いられてもよし、2種以上が併用されてもよい。
(Filler (D))
The filler (D) contained in the insulating sheet according to the present invention is not particularly limited as long as the thermal conductivity is 30 W / m · K or more. A filler (D) may be used independently and 2 or more types may be used together.

熱伝導率が30W/m・K以上であるフィラー(D)としては、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種が好ましい。なかでも、放熱性をさらに一層高めることができるので、球状アルミナ及び/又は球状窒化アルミニウムがより好ましい。   The filler (D) having a thermal conductivity of 30 W / m · K or more is preferably at least one selected from the group consisting of alumina, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide and magnesium oxide. . Especially, since heat dissipation can be improved further, spherical alumina and / or spherical aluminum nitride are more preferable.

上記フィラー(D)の平均粒子径は、0.1〜40μmの範囲が好ましい。平均粒子径が0.1μm未満であると、高充填が困難なことがあり、40μmを超えると、絶縁破壊特性が低下することがある。   The average particle size of the filler (D) is preferably in the range of 0.1 to 40 μm. When the average particle size is less than 0.1 μm, high filling may be difficult, and when it exceeds 40 μm, the dielectric breakdown characteristics may be deteriorated.

上記フィラー(D)の配合量としては、絶縁シート100体積%中に、50〜90体積%の範囲が好ましい。フィラー(D)が50体積%未満であると、放熱性を充分に高めることができないことがあり、90体積%を超えると、絶縁シートの柔軟性や接着性が著しく低下するおそれがある。   As a compounding quantity of the said filler (D), the range of 50-90 volume% is preferable in 100 volume% of insulating sheets. If the filler (D) is less than 50% by volume, the heat dissipation may not be sufficiently improved, and if it exceeds 90% by volume, the flexibility and adhesiveness of the insulating sheet may be significantly reduced.

(他の成分)
本発明に係る絶縁シートは、ハンドリング性をより一層高めるために、ガラスクロス、ガラス不織布、アラミド不織布等の基材物質を含んでいてもよい。もっとも、それら基材物質を含まなくても、本発明の絶縁シートは、室温(23℃)において、未硬化状態でも自立性を有し、かつ優れたハンドリング性を有する。よって、絶縁シートは基材物質を含まないことが好ましく、特にガラスクロスを含まないことが好ましい。上記基材物質を含まない場合、絶縁シートの薄膜化が可能であり、かつ絶縁シートの熱伝導率をより一層高めることができ、さらに必要に応じて絶縁シートにレーザー加工、ドリル穴開け加工等の各種加工を容易に行うこともできる。なお、自立性とは、PETフィルムや銅箔といった支持体が存在しなくても、例え未硬化状態であっても、シートの形状を保持し、シートとしての取扱いが可能であることをいうものとする。
(Other ingredients)
The insulating sheet according to the present invention may contain a base material such as glass cloth, glass nonwoven fabric, and aramid nonwoven fabric in order to further improve handling properties. However, even if these base materials are not included, the insulating sheet of the present invention is self-supporting even in an uncured state at room temperature (23 ° C.) and has excellent handling properties. Therefore, the insulating sheet preferably does not contain a base material, and particularly preferably does not contain glass cloth. When the base material is not included, the insulating sheet can be made thin, and the thermal conductivity of the insulating sheet can be further increased. Further, if necessary, the insulating sheet is laser processed, drilled, etc. These various processes can be easily performed. In addition, self-supporting means that the shape of the sheet can be maintained and handled as a sheet even in the absence of a support such as a PET film or copper foil, even in an uncured state. And

また、本発明の絶縁シートは、必要に応じて、チキソ性付与剤、分散剤、難燃剤、着色剤などを含有していてもよい。   Moreover, the insulating sheet of the present invention may contain a thixotropic agent, a dispersant, a flame retardant, a colorant, and the like as necessary.

(絶縁シート)
本発明に係る絶縁シートは、特に限定はされないが、例えば、上述した材料を混合したものを溶剤キャスト法、押し出し成膜等の方法でシート状に成形することにより得ることができる。シート状に成形する際に、脱泡することが好ましい。
(Insulating sheet)
The insulating sheet according to the present invention is not particularly limited, but can be obtained, for example, by molding a mixture of the above-described materials into a sheet shape by a method such as a solvent casting method or an extrusion film forming method. Defoaming is preferred when forming into a sheet.

本発明に係る絶縁シートの未硬化状態でのガラス転移温度(Tg)は、25℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が25℃を超えると、室温において固く、かつ脆くなる場合があり、絶縁シートのハンドリング性が低下する場合がある。   The glass transition temperature (Tg) of the insulating sheet according to the present invention in an uncured state is preferably 25 ° C. or lower. When the glass transition temperature exceeds 25 ° C., it may be hard and brittle at room temperature, and the handling properties of the insulating sheet may be lowered.

絶縁シートの膜厚としては、特に限定はされないが、10〜300μmの範囲が好ましい。より好ましくは、30〜200μmの範囲であり、特に好ましくは40〜100μmである。膜厚が薄すぎると、絶縁性が低下することがあり、厚すぎると、金属体を導電層に接着したときに放熱性が低下することがある。   Although it does not specifically limit as a film thickness of an insulating sheet, The range of 10-300 micrometers is preferable. More preferably, it is the range of 30-200 micrometers, Most preferably, it is 40-100 micrometers. If the film thickness is too thin, the insulating property may be lowered, and if it is too thick, the heat dissipation may be lowered when the metal body is bonded to the conductive layer.

絶縁シートの硬化後の熱伝導率は、2.0W/m・K以上であることが好ましい。より好ましくは3.0W/m・K以上、更に好ましくは5.0W/m・K以上である。熱伝導率が低すぎると、充分な放熱性が得られないことがある。   The thermal conductivity after curing of the insulating sheet is preferably 2.0 W / m · K or more. More preferably, it is 3.0 W / m * K or more, More preferably, it is 5.0 W / m * K or more. If the thermal conductivity is too low, sufficient heat dissipation may not be obtained.

絶縁シートの硬化後の絶縁破壊電圧は、30kV/mm以上であることが好ましい。より好ましくは、40kV/mm以上、さらに好ましくは50kV/mm以上である。絶縁破壊電圧が低すぎると、例えば電力素子用のような大電流用途に用いた場合に充分な絶縁性が得られないことがある。   The dielectric breakdown voltage after curing of the insulating sheet is preferably 30 kV / mm or more. More preferably, it is 40 kV / mm or more, More preferably, it is 50 kV / mm or more. If the dielectric breakdown voltage is too low, sufficient insulation may not be obtained when used for high current applications such as for power devices.

絶縁シートの硬化後の体積抵抗率は、1014Ω・cm以上であることが好ましい。より好ましくは1016Ω・cm以上である。体積抵抗率が低すぎると、導体層と高熱伝導体間の絶縁を保てないことがある。 The volume resistivity after curing of the insulating sheet is preferably 10 14 Ω · cm or more. More preferably, it is 10 16 Ω · cm or more. If the volume resistivity is too low, insulation between the conductor layer and the high thermal conductor may not be maintained.

絶縁シートの硬化後の熱線膨張率は、30ppm/℃以下であることが好ましい。より好ましくは、20ppm/℃以下である。熱線膨張率が高すぎると、耐冷熱サイクル性に劣ることがある。   The coefficient of thermal expansion after curing of the insulating sheet is preferably 30 ppm / ° C. or less. More preferably, it is 20 ppm / ° C. or less. If the coefficient of thermal expansion is too high, the thermal cycle resistance may be inferior.

(積層構造体)
本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられる。また、本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されている積層構造体の絶縁層を構成するのに好適に用いられる。例えば、両面銅回路付き積層板または多層配線板、銅箔、銅板、半導体素子、半導体パッケージ等の各導電層に、絶縁シートを介して金属体を接着した後、絶縁シートを硬化させることにより、上記積層構造体を得ることができる。
(Laminated structure)
The insulating sheet according to the present invention is used to bond a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer. The insulating sheet according to the present invention constitutes an insulating layer of a laminated structure in which a conductive layer is laminated on at least one surface of a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer. It is used suitably for. For example, by bonding a metal body via an insulating sheet to each conductive layer such as a double-sided copper circuit laminated board or multilayer wiring board, copper foil, copper plate, semiconductor element, semiconductor package, etc., by curing the insulating sheet, The laminated structure can be obtained.

図1に、本発明の一実施形態に係る積層構造体を模式的に部分切欠正面断面図で示す。   In FIG. 1, the laminated structure which concerns on one Embodiment of this invention is typically shown with a partial notch front sectional drawing.

図1に示す積層構造体1は、発熱源としての導電層2の表面2aに、絶縁層3を介して、高熱伝導体4が積層されている。絶縁層3は、本発明の絶縁シートを硬化させて形成されている。高熱伝導体4としては、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体が用いられている。   In the laminated structure 1 shown in FIG. 1, a high thermal conductor 4 is laminated on a surface 2 a of a conductive layer 2 as a heat source via an insulating layer 3. The insulating layer 3 is formed by curing the insulating sheet of the present invention. As the high thermal conductor 4, a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is used.

上記積層構造体1では、絶縁層3が高い熱伝導率を有するので、導電層2側からの熱が絶縁層3を介して上記高熱伝導体4に伝わり易い。そして、該高熱伝導体4によって熱を効率的に放散させることができる。   In the laminated structure 1, since the insulating layer 3 has a high thermal conductivity, heat from the conductive layer 2 side is easily transferred to the high thermal conductor 4 through the insulating layer 3. And heat can be efficiently dissipated by the high thermal conductor 4.

上記熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体4としては、特に限定されないが、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミ、グラファイトシート等が挙げられる。中でも、放熱性に優れているので、銅、アルミニウムが好ましい。   The high thermal conductor 4 having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is not particularly limited, and examples thereof include aluminum, copper, alumina, beryllia, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, and a graphite sheet. Especially, since it is excellent in heat dissipation, copper and aluminum are preferable.

本発明に係る絶縁シートは、基板上に半導体素子が実装されている半導体装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を接着するのに好適に用いられる。本発明に係る絶縁シートは、半導体素子以外の電子部品素子が基板上に搭載されている電子部品装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を接着するのにも好適に用いられる。   The insulating sheet according to the present invention is suitably used for bonding a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of a semiconductor device on which a semiconductor element is mounted on a substrate. The insulating sheet according to the present invention adheres a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of an electronic component device in which electronic component elements other than semiconductor elements are mounted on a substrate. Are also preferably used.

半導体素子が大電流用の電力用デバイス素子の場合には、より一層高い絶縁性、あるいはより一層高い耐熱性などが求められる。従って、このような用途において、本発明の絶縁シートはより好ましく用いられる。   In the case where the semiconductor element is a power device element for a large current, a higher insulation property or a higher heat resistance is required. Therefore, in such an application, the insulating sheet of the present invention is more preferably used.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. In addition, this invention is not limited to a following example.

以下の材料を用意した。   The following materials were prepared.

[熱可塑性エラストマー(A)]
(合成例1)
乾燥した窒素で置換した耐圧容器中に、スチレンモノマー30gと、溶媒としてシクロヘキサン1000gとを投入し、重合開始剤としてsec−ブチルリチウム0.1gを添加して、40℃で1段階目の重合を行った。
[Thermoplastic elastomer (A)]
(Synthesis Example 1)
In a pressure-resistant container substituted with dry nitrogen, 30 g of styrene monomer and 1000 g of cyclohexane as a solvent are added, 0.1 g of sec-butyllithium is added as a polymerization initiator, and the first stage polymerization is performed at 40 ° C. went.

その後、ルイス塩基としてテトラヒドロフラン5gを加え、次いでイソブチレン60g、更にスチレンモノマー30gを順次添加し、2段階目の重合を行うことにより、スチレン:イソブチレン重量比=50:50のスチレン−イソブチレン−スチレンのトリブロック共重合体1を得た。得られたトリブロック共重合体1の重量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定されたポリスチレン換算の重量平均分子量)は、Mw=100,000であった。   Thereafter, 5 g of tetrahydrofuran is added as a Lewis base, then 60 g of isobutylene and 30 g of styrene monomer are sequentially added, and the second stage polymerization is carried out to obtain a styrene-isobutylene-styrene trisylate having a styrene: isobutylene weight ratio of 50:50. A block copolymer 1 was obtained. The obtained triblock copolymer 1 had a weight average molecular weight (polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC)) of Mw = 100,000.

(合成例2)
1段階目の重合でのスチレンモノマーの配合量を15gに代えたこと、並びに2段階目の重合でのイソブチレンの添加量を70g、かつスチレンモノマーの添加量を15gにそれぞれ代えたこと以外は合成例1と同様にして、スチレン:イソブチレン重量比=30:70のスチレン−イソブチレン−スチレンのトリブロック共重合体2を得た。得られたトリブロック共重合体2の重量平均分子量は、Mw=70,000であった。
(Synthesis Example 2)
Synthesis except that the blending amount of styrene monomer in the first stage polymerization was changed to 15 g, the addition amount of isobutylene in the second stage polymerization was changed to 70 g, and the addition amount of styrene monomer was changed to 15 g. In the same manner as in Example 1, a styrene-isobutylene-styrene triblock copolymer 2 having a styrene: isobutylene weight ratio of 30:70 was obtained. The weight average molecular weight of the obtained triblock copolymer 2 was Mw = 70,000.

(合成例3)
1段階目の重合でのスチレンモノマーの添加量を4gに代えたこと、並びに2段階目の重合でのイソブチレンの添加量を92g、かつスチレンモノマーの添加量を4gにそれぞれ代えたこと以外は合成例1と同様にして、スチレン:イソブチレン重量比=8:92のスチレン−イソブチレン−スチレンのトリブロック共重合体3を得た。得られたトリブロック共重合体3の重量平均分子量は、Mw=80,000であった。
(Synthesis Example 3)
Synthesis except that the amount of styrene monomer added in the first stage polymerization was changed to 4 g, the amount of isobutylene added in the second stage polymerization was changed to 92 g, and the amount of styrene monomer added was changed to 4 g. In the same manner as in Example 1, a styrene-isobutylene-styrene triblock copolymer 3 having a styrene: isobutylene weight ratio of 8:92 was obtained. The weight average molecular weight of the obtained triblock copolymer 3 was Mw = 80,000.

(合成例4)
2段階目の重合でのイソブチレンの添加量を40gに代えたこと以外は合成例1と同様にして、スチレン:イソブチレン重量比=60:40のスチレン−イソブチレン−スチレンのトリブロック共重合体4を得た。得られたトリブロック共重合体4の重量平均分子量は、Mw=92,000であった。
(Synthesis Example 4)
A styrene-isobutylene-styrene triblock copolymer 4 having a styrene: isobutylene weight ratio of 60:40 was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the amount of isobutylene added in the second stage polymerization was changed to 40 g. Obtained. The weight average molecular weight of the obtained triblock copolymer 4 was Mw = 92,000.

(合成例5)
1段階目の重合に際し、スチレンモノマー30gに代えて、スチレンモノマー27gと、4−アミノスチレン3gとを用いたこと、並びに2段階目の重合に際し、スチレンモノマー30gに代えて、スチレンモノマー27gと、4−アミノスチレン3gとを用いたこと以外は合成例1と同様にして、アミノスチレン含むスチレン:イソブチレン重量比=50:50のスチレン−イソブチレン−スチレンのトリブロック共重合体5を得た。得られたトリブロック共重合体5の重量平均分子量は、Mw=130,000であった。
(Synthesis Example 5)
In the first stage of polymerization, 27 g of styrene monomer and 3 g of 4-aminostyrene were used instead of 30 g of styrene monomer, and in the second stage of polymerization, 27 g of styrene monomer instead of 30 g of styrene monomer, A styrene-isobutylene-styrene triblock copolymer 5 having a styrene: isobutylene weight ratio of aminostyrene = 50: 50 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 3 g of 4-aminostyrene was used. The weight average molecular weight of the obtained triblock copolymer 5 was Mw = 130,000.

(合成例6)
乾燥した窒素で置換した耐圧容器中に、4,4’−ジフェニルメタンイソシアネート20gと、両末端水酸基含有シリコーン(Mw=30,000)60gとを加え、70℃〜90℃で溶解させた後、2時間攪拌した。
(Synthesis Example 6)
After adding 20 g of 4,4′-diphenylmethane isocyanate and 60 g of both-terminal hydroxyl group-containing silicone (Mw = 30,000) in a pressure-resistant container substituted with dry nitrogen and dissolving at 70 ° C. to 90 ° C., 2 Stir for hours.

攪拌後、ネオペンチルグリコール20gをさらに添加し、30分さらに攪拌し、重合させて、芳香族ポリウレタン:シリコーン=40:60の芳香族ポリウレタン−シリコーン−芳香族ポリウレタンのトリブロック共重合体6を得た。得られたトリブロック共重合体6の重量平均分子量は、Mw=52,000であった。   After stirring, 20 g of neopentyl glycol was further added, the mixture was further stirred for 30 minutes and polymerized to obtain an aromatic polyurethane: silicone = 40: 60 aromatic polyurethane-silicone-aromatic polyurethane triblock copolymer 6. It was. The weight average molecular weight of the obtained triblock copolymer 6 was Mw = 52,000.

[熱可塑性エラストマー(A)以外の熱可塑性エラストマー]
(合成例7)
乾燥した窒素で置換した耐圧容器中に、スチレンモノマー50gと、溶媒としてシクロヘキサン1000gとを投入し、重合開始剤としてsec−ブチルリチウム0.1gを添加して、40℃で1段階目の重合を行った。
[Thermoplastic elastomers other than the thermoplastic elastomer (A)]
(Synthesis Example 7)
In a pressure-resistant container substituted with dry nitrogen, 50 g of styrene monomer and 1000 g of cyclohexane as a solvent are added, 0.1 g of sec-butyllithium is added as a polymerization initiator, and the first stage polymerization is performed at 40 ° C. went.

その後、ルイス塩基としてテトラヒドロフラン5gを加え、次いでイソブチレン50gを添加し、2段階目の重合を行うことにより、スチレン:イソブチレン重量比=50:50のスチレン−イソブチレンのジブロック共重合体7を得た。得られたジブロック共重合体7の重量平均分子量は、Mw=120,000であった。   Thereafter, 5 g of tetrahydrofuran was added as a Lewis base, and then 50 g of isobutylene was added, and the second stage polymerization was performed to obtain a styrene-isobutylene diblock copolymer 7 having a styrene: isobutylene weight ratio of 50:50. . The weight average molecular weight of the obtained diblock copolymer 7 was Mw = 120,000.

(合成例8)
1段階目の重合でのスチレンモノマーの添加量を3gに代えたこと、並びに2段階目の重合でのイソブチレンの添加量を3g、かつスチレンモノマーの添加量を3gにそれぞれ代えたこと以外は合成例1と同様にして、スチレン:イソブチレン重量比=50:50のスチレン−イソブチレン−スチレンのトリブロック共重合体8を得た。得られたトリブロック共重合体8の重量平均分子量は、Mw=11,000であった。
(Synthesis Example 8)
Synthesis except that the addition amount of styrene monomer in the first stage polymerization was changed to 3 g, the addition amount of isobutylene in the second stage polymerization was changed to 3 g, and the addition amount of styrene monomer was changed to 3 g. In the same manner as in Example 1, a styrene-isobutylene-styrene triblock copolymer 8 having a styrene: isobutylene weight ratio of 50:50 was obtained. The weight average molecular weight of the obtained triblock copolymer 8 was Mw = 11,000.

[エポキシモノマー(B1)]
(1)ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製、商品名:エピコート828US、Mw=370)
(2)ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製、商品名:エピコート806L、Mw=370)
(3)3官能グリシジルジアミン型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピコート630、Mw=300)
(4)フルオレン骨格エポキシ樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:オンコートEX1011、Mw=486)
(5)ナフタレン骨格液状エポキシ樹脂(大日本インキ化学社製、商品名:EPICLON HP−4032D、Mw=304)
[Epoxy monomer (B1)]
(1) Bisphenol A type liquid epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin, trade name: Epicoat 828US, Mw = 370)
(2) Bisphenol F type liquid epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin, trade name: Epicoat 806L, Mw = 370)
(3) Trifunctional glycidyldiamine type liquid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: Epicoat 630, Mw = 300)
(4) Fluorene skeleton epoxy resin (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., trade name: ONCOAT EX1011, Mw = 486)
(5) Naphthalene skeleton liquid epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: EPICLON HP-4032D, Mw = 304)

[オキセタンモノマー(B2)]
(1)ベンゼン骨格オキセタン樹脂(宇部興産社製、商品名:エタナコールOXTP、Mw=362.4)
[Oxetane monomer (B2)]
(1) Benzene skeleton oxetane resin (manufactured by Ube Industries, trade name: etanacol OXTP, Mw = 362.4)

[エポキシモノマー(B1)及びオキセタンモノマー(B2)以外のモノマー]
(1)ヘキサヒドロフタル酸骨格液状エポキシ樹脂(日本化薬社製、商品名:AK−601、Mw=284)
(2)ビスフェノールA型固体状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:1003、Mw=1300)
[Monomers other than epoxy monomer (B1) and oxetane monomer (B2)]
(1) Hexahydrophthalic acid skeleton liquid epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: AK-601, Mw = 284)
(2) Bisphenol A type solid epoxy resin (product name: 1003, Mw = 1300, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)

[硬化剤(C)]
(1)脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:MH−700)
(2)芳香族骨格酸無水物(サートマー・ジャパン社製、商品名:SMAレジンEF60)
(3)多脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:HNA−100)
(4)テルペン骨格酸無水物(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピキュアYH−306)
(5)ビフェニル骨格フェノール樹脂(明和化成社製、商品名:MEH−7851−S)
(6)アリル骨格フェノール樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:YLH−903)
(7)トリアジン骨格フェノール樹脂(大日本インキ化学社製、商品名:フェノライトKA−7052−L2)
(8)メラミン骨格フェノール樹脂(群栄化学工業社製、商品名:PS−6492)
(9)イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール(イミダゾール系硬化促進剤、四国化成社製、商品名:2MZA−PW)
[Curing agent (C)]
(1) Alicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., trade name: MH-700)
(2) Aromatic skeleton acid anhydride (manufactured by Sartomer Japan, trade name: SMA resin EF60)
(3) Polyalicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., trade name: HNA-100)
(4) Terpene skeleton acid anhydride (trade name: Epicure YH-306, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
(5) Biphenyl skeleton phenolic resin (Madewa Kasei Co., Ltd., trade name: MEH-7851-S)
(6) Allyl skeleton phenol resin (product name: YLH-903, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
(7) Triazine skeleton phenolic resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name: Phenolite KA-7052-L2)
(8) Melamine skeleton phenol resin (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., trade name: PS-6492)
(9) Isocyanur-modified solid dispersion type imidazole (imidazole curing accelerator, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., trade name: 2MZA-PW)

[フィラー(D)]
(1)球状アルミナ(デンカ社製、商品名:DAM−10、平均粒径10μm、熱伝導率36W/m・K)
(2)窒化ホウ素(昭和電工社製、商品名:UHP−1、平均粒径8μm、熱伝導率60W/m・K)
(3)窒化アルミ(東洋アルミ社製、商品名:TOYALNITE―FLX、平均粒径14μm、熱伝導率200W/m・K)
[Filler (D)]
(1) Spherical alumina (Denka Co., Ltd., trade name: DAM-10, average particle size 10 μm, thermal conductivity 36 W / m · K)
(2) Boron nitride (manufactured by Showa Denko KK, trade name: UHP-1, average particle size 8 μm, thermal conductivity 60 W / m · K)
(3) Aluminum nitride (manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd., trade name: TOYALNITE-FLX, average particle size 14 μm, thermal conductivity 200 W / m · K)

[添加剤]
(1)エポキシシランカップリング剤(信越化学社製、商品名:KBE403)
[Additive]
(1) Epoxysilane coupling agent (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBE403)

[溶剤]
(1)メチルエチルケトン
(実施例1)
ホモディスパー型攪拌機を用い、下記の表1に示す割合(配合単位は重量部)で各原料を配合・混練し、絶縁材料を調製した。
[solvent]
(1) Methyl ethyl ketone (Example 1)
Using a homodisper type stirrer, each raw material was blended and kneaded in the proportions shown in Table 1 below (the blending unit is by weight) to prepare an insulating material.

上記絶縁材料を膜厚50μmの離型PETシートに100μm厚に塗工し、90℃オーブンにて30分乾燥して、PETシート上に絶縁シートを作製した。   The insulating material was applied to a release PET sheet having a thickness of 50 μm to a thickness of 100 μm and dried in an oven at 90 ° C. for 30 minutes to produce an insulating sheet on the PET sheet.

(実施例1〜20及び比較例1〜4)
使用した各原料の種類及び配合量を下記の表1、2に示すようにしたこと以外は、実施例1と同様にして絶縁材料を調製し、上記PETシート上に絶縁シートを作製した。
(Examples 1-20 and Comparative Examples 1-4)
An insulating material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and blending amounts of the raw materials used were as shown in Tables 1 and 2 below, and an insulating sheet was produced on the PET sheet.

(実施例及び比較例の評価)
上記のようにして得られた各絶縁シートについて以下の項目を評価した。
(Evaluation of Examples and Comparative Examples)
The following items were evaluated for each insulating sheet obtained as described above.

(1.ハンドリング性)
PETシートと、該PETシート上に形成された絶縁シートとを460mm×610mm角に切り出したテストサンプルを用意した。このテストサンプルにおいて、室温(23℃)でPETシートから未硬化状態の絶縁シートを剥離したときのハンドリング性を下記の基準で評価した。
(1. Handling property)
A test sample was prepared by cutting a PET sheet and an insulating sheet formed on the PET sheet into a 460 mm × 610 mm square. In this test sample, the handling property when the uncured insulating sheet was peeled from the PET sheet at room temperature (23 ° C.) was evaluated according to the following criteria.

〇:絶縁シートの変形がなく、容易に剥離可能
△:絶縁シートを剥離できるが、シート伸びや破断が発生する
×:絶縁シートを剥離できない
(2.自立性)
上記ハンドリング性の評価において、PETシートから剥離された後の未硬化状態の絶縁シートの四角を固定して、該四角が互いに水平方向に位置するように絶縁シートを宙吊りにし、23℃で10分間放置した。放置後の絶縁シートの変形を観察し、自立性を下記の基準で評価した。
○: There is no deformation of the insulating sheet and it can be easily peeled. Δ: The insulating sheet can be peeled, but the sheet is stretched or broken.
In the evaluation of the handling property, the squares of the uncured insulating sheet after being peeled off from the PET sheet are fixed, and the insulating sheet is suspended in the air so that the squares are positioned in the horizontal direction. I left it alone. The deformation of the insulating sheet after being allowed to stand was observed, and the self-supporting property was evaluated according to the following criteria.

○:絶縁シートが下方に向かってたわんでおり、絶縁シートの鉛直方向におけるたわみ距離(変形度合い)が5cm以内
△:絶縁シートが下方に向かってたわんでおり、絶縁シートの鉛直方向におけるたわみ距離(変形度合い)が5cmを超える
×:絶縁シートに破れが発生
(3.熱伝導率)
絶縁シートの熱伝導率を、京都電子工業社製熱伝導率計「迅速熱伝導率計QTM−500」を用いて測定した。
○: The insulation sheet is bent downward, and the insulation sheet is bent in the vertical direction (degree of deformation) within 5 cm. Δ: The insulation sheet is bent downward, and the insulation sheet is bent in the vertical direction ( Degree of deformation) exceeds 5 cm ×: Breaking occurs in the insulating sheet (3. Thermal conductivity)
The thermal conductivity of the insulating sheet was measured using a thermal conductivity meter “rapid thermal conductivity meter QTM-500” manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.

(4.引き剥がし強さ)
絶縁シートを1mm厚のアルミ板と35μm厚の電解銅箔間に挟み、真空プレス機で4MPaの圧力を保持しながら120℃で1時間、更に200℃で1時間絶縁シートをプレス硬化し、金属ベース基板の銅張り積層板を形成した。得られた金属ベース基板の銅箔をエッチングして幅10mmの銅箔の帯を形成し、銅箔を基板に対して90℃の角度で50mm/分の引っ張り速度で剥離した際の引き剥がし強さを測定した。
(4. Peeling strength)
An insulating sheet is sandwiched between an aluminum plate having a thickness of 1 mm and an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm, and the insulating sheet is press-cured at 120 ° C. for 1 hour and further at 200 ° C. for 1 hour while maintaining a pressure of 4 MPa with a vacuum press machine. A copper-clad laminate of the base substrate was formed. The copper foil of the obtained metal base substrate is etched to form a strip of copper foil having a width of 10 mm, and the peeling strength when the copper foil is peeled from the substrate at a pulling speed of 50 mm / min at an angle of 90 ° C. Was measured.

(5.絶縁破壊電圧)
絶縁シートを100mm×100mm角に切り出したものを120℃オーブンで1時間、更に200℃オーブンで1時間硬化し、テストサンプルを作製した。耐電圧試験器(MODEL7473、EXTECH Electronics社製)を用いて、1kV/秒の速度で電圧上昇して、テストサンプルの絶縁破壊電圧を測定した。
(5. Dielectric breakdown voltage)
An insulating sheet cut into 100 mm × 100 mm square was cured in a 120 ° C. oven for 1 hour and further in a 200 ° C. oven for 1 hour to prepare a test sample. Using a withstand voltage tester (MODEL7473, manufactured by EXTECH Electronics), the voltage was increased at a rate of 1 kV / sec, and the dielectric breakdown voltage of the test sample was measured.

(6.半田耐熱)
上記(4)引き剥がし強さの評価で作製した銅張り積層基板を50mm×60mmのサイズに切り出した。これを288℃の半田浴に銅箔側を下に向けて浮かべ、銅箔の膨れ・剥がれが発生するまでの時間を測定し以下の基準で判定した。
(6. Solder heat resistance)
The copper-clad laminate prepared by the above (4) evaluation of the peel strength was cut out to a size of 50 mm × 60 mm. This was floated in a solder bath at 288 ° C. with the copper foil side facing down, and the time until the copper foil swelled or peeled off was measured and judged according to the following criteria.

〇:3分経過しても膨れ、剥離の発生なし
△:1分経過後、かつ3分経過する前に膨れ、剥離が発生した
×:1分経過する前に膨れ、剥離が発生
結果を下記の表1、2に示す。
◯: No swelling or peeling even after 3 minutes △: Swelling and peeling occurred after 3 minutes passed and before 3 minutes passed. × Swelled and peeled before 1 minute passed. Tables 1 and 2 show.

Figure 2009224109
Figure 2009224109

Figure 2009224109
Figure 2009224109

図1は、本発明の一実施形態に係る積層構造体を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing a laminated structure according to an embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…積層構造体
2…導電層
2a…表面
3…絶縁層
4…高熱伝導体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated structure 2 ... Conductive layer 2a ... Surface 3 ... Insulating layer 4 ... High thermal conductor

Claims (11)

熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体を導電層に接着するのに用いられる絶縁シートであって、
少なくとも2つのハードセグメントと少なくとも1つのソフトセグメントとを有するブロック共重合体であり、かつ、重量平均分子量が3万以上である熱可塑性エラストマー(A)と、
芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるエポキシモノマー(B1)及び/又は芳香族骨格を有し、かつ重量平均分子量が600以下であるオキセタンモノマー(B2)と、
フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物である硬化剤(C)と、
熱伝導率が30W/m・K以上であるフィラー(D)とを含有し、
前記熱可塑性エラストマー(A)と、前記エポキシモノマー(B1)及び/又は前記オキセタンモノマー(B2)と、前記硬化剤(C)とを含む絶縁シート中の樹脂成分の合計100重量%中に、前記熱可塑性エラストマー(A)が20〜60重量%の割合、前記エポキシモノマー(B1)及び/又は前記オキセタンモノマー(B2)が10〜60重量%の割合、かつ前記熱可塑性エラストマー(A)と、前記エポキシモノマー(B1)及び/又は前記オキセタンモノマー(B2)との合計が100重量%未満となる割合でそれぞれ含まれている、絶縁シート。
An insulating sheet used to adhere a high thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer,
A thermoplastic elastomer (A), which is a block copolymer having at least two hard segments and at least one soft segment, and having a weight average molecular weight of 30,000 or more;
An epoxy monomer (B1) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 600 or less and / or an oxetane monomer (B2) having an aromatic skeleton and having a weight average molecular weight of 600 or less;
A curing agent (C) which is a phenol resin, or an acid anhydride having an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive thereof or a modified product thereof;
Containing a filler (D) having a thermal conductivity of 30 W / m · K or more,
In a total of 100% by weight of the resin component in the insulating sheet containing the thermoplastic elastomer (A), the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2), and the curing agent (C), The thermoplastic elastomer (A) is 20 to 60% by weight, the epoxy monomer (B1) and / or the oxetane monomer (B2) is 10 to 60% by weight, and the thermoplastic elastomer (A), The insulating sheet which is respectively contained in the ratio which the sum total with an epoxy monomer (B1) and / or the said oxetane monomer (B2) will be less than 100 weight%.
前記ハードセグメントが、スチレン、芳香族ウレタン、脂環式ウレタン、アミド及びイミドからなる群から選択された少なくとも1種からなり、かつ、
前記ソフトセグメントが、共役ジエンを有しない炭素数2〜5のオレフィン炭化水素、炭素数4〜6の共役ジエン化合物、炭素数4〜6の部分水添共役ジエンを構造単位として含む炭化水素化合物及びシリコーンからなる群から選択された少なくとも1種からなることを特徴とする、請求項1に記載の絶縁シート。
The hard segment comprises at least one selected from the group consisting of styrene, aromatic urethane, alicyclic urethane, amide and imide, and
The soft segment contains a olefin hydrocarbon having 2 to 5 carbon atoms having no conjugated diene, a conjugated diene compound having 4 to 6 carbon atoms, a partially hydrogenated conjugated diene having 4 to 6 carbon atoms as a structural unit, and The insulating sheet according to claim 1, comprising at least one selected from the group consisting of silicone.
前記ブロック共重合体におけるハードセグメントとソフトセグメントとの重量比(ハードセグメント:ソフトセグメント)が、10:90〜50:50の範囲にある、請求項1又は2に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 1 or 2, wherein a weight ratio of the hard segment to the soft segment (hard segment: soft segment) in the block copolymer is in the range of 10:90 to 50:50. 前記ハードセグメントが、エポキシ基、オキセタニル基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the hard segment has an epoxy group, an oxetanyl group, a (meth) acryloyl group, an amino group, a carboxyl group, or a hydroxyl group. 前記硬化剤(C)が、多脂環式骨格を有する酸無水物、もしくはテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られた脂環式骨格を有する酸無水物、その水添加物もしくはその変性物である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The curing agent (C) is an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, an acid anhydride having an alicyclic skeleton obtained by addition reaction of a terpene compound and maleic anhydride, a water additive thereof, or The insulating sheet according to any one of claims 1 to 4, which is a modified product thereof. 前記硬化剤(C)が、下記式(1)〜(3)のいずれかで表される酸無水物である、請求項5に記載の絶縁シート。
Figure 2009224109
Figure 2009224109
Figure 2009224109
上記式(3)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素、炭素数1〜5のアルキル基、又は水酸基を示す。
The insulating sheet according to claim 5, wherein the curing agent (C) is an acid anhydride represented by any of the following formulas (1) to (3).
Figure 2009224109
Figure 2009224109
Figure 2009224109
In said formula (3), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group each independently.
前記硬化剤(C)が、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the curing agent (C) is a phenol resin having a melamine skeleton or a triazine skeleton, or a phenol resin having an allyl group. 前記フィラー(D)が、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The filler (D) according to any one of claims 1 to 7, wherein the filler (D) is at least one selected from the group consisting of alumina, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide, and magnesium oxide. The insulating sheet described. 前記フィラー(D)が、球状アルミナ及び/又は球状窒化アルミニウムである、請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein the filler (D) is spherical alumina and / or spherical aluminum nitride. 熱伝導率が10W/m・K以上の高熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されており、該絶縁層が、請求項1〜9のいずれか1項に記載の絶縁シートを硬化させて形成されていることを特徴とする、積層構造体。   The conductive layer is laminated | stacked through the insulating layer on the at least single side | surface of the high heat conductor whose heat conductivity is 10 W / m * K or more, This insulating layer is any one of Claims 1-9. A laminated structure formed by curing an insulating sheet. 前記高熱伝導体が金属であることを特徴とする、請求項10に記載の積層構造体。   The laminated structure according to claim 10, wherein the high thermal conductor is a metal.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101240496B1 (en) 2011-03-14 2013-03-11 신흥에스이씨주식회사 Insulation films and methods of manufacturing the same
WO2013035354A1 (en) * 2011-09-08 2013-03-14 日立化成株式会社 Resin composition, resin sheet, resin sheet cured product, metal foil with resin, and heat dissipation member
JP2013095839A (en) * 2011-10-31 2013-05-20 Taiyo Ink Mfg Ltd Thermosetting resin composition, cured product thereof, and printed wiring board using the same
WO2014050800A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Film mirror, and composite film for use in same
JP2015061924A (en) * 2014-12-02 2015-04-02 日立化成株式会社 Thermal conductive sheet, method of manufacturing thermal conductive sheet and heat radiation device using thermal conductive sheet
JP2019116625A (en) * 2014-03-31 2019-07-18 ナミックス株式会社 Resin composition, adhesive film and semiconductor device
JP2021054922A (en) * 2019-09-30 2021-04-08 富士フイルム株式会社 Composition for forming thermally conductive material, thermally conductive material, thermally conductive sheet, device with thermally conductive layer

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101240496B1 (en) 2011-03-14 2013-03-11 신흥에스이씨주식회사 Insulation films and methods of manufacturing the same
WO2013035354A1 (en) * 2011-09-08 2013-03-14 日立化成株式会社 Resin composition, resin sheet, resin sheet cured product, metal foil with resin, and heat dissipation member
JPWO2013035354A1 (en) * 2011-09-08 2015-03-23 日立化成株式会社 Resin composition, resin sheet, cured resin sheet, metal foil with resin, and heat dissipation member
JP2013095839A (en) * 2011-10-31 2013-05-20 Taiyo Ink Mfg Ltd Thermosetting resin composition, cured product thereof, and printed wiring board using the same
WO2014050800A1 (en) 2012-09-28 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Film mirror, and composite film for use in same
JP2019116625A (en) * 2014-03-31 2019-07-18 ナミックス株式会社 Resin composition, adhesive film and semiconductor device
JP2015061924A (en) * 2014-12-02 2015-04-02 日立化成株式会社 Thermal conductive sheet, method of manufacturing thermal conductive sheet and heat radiation device using thermal conductive sheet
JP2021054922A (en) * 2019-09-30 2021-04-08 富士フイルム株式会社 Composition for forming thermally conductive material, thermally conductive material, thermally conductive sheet, device with thermally conductive layer

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