JP2012067221A - Insulating sheet and laminated structure - Google Patents

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Hiroshi Maenaka
寛 前中
Yasunari Kusaka
康成 日下
Takuji Aoyama
卓司 青山
Ryosuke Takahashi
良輔 高橋
Shunsuke Kondo
峻右 近藤
Takanori Inoue
孝徳 井上
Yu Yamada
佑 山田
Takashi Watanabe
貴志 渡邉
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an insulating sheet which is used in bonding a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W/m K or more to an electrically conductive layer, excels in handling properties in an uncured state, further has a low elastic modulus of a cured product after curing, and excels in the thermal conductivity of the cured product.SOLUTION: The insulating sheet is used in bonding a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W/m K or more to an electrically conductive layer. The insulating sheet includes a polyvinyl acetal resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more, a curable compound having an epoxy group or an oxetane group, a curing agent, and a filler having a thermal conductivity of 10 W/m K or more.

Description

本発明は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる絶縁シートに関し、より詳細には、未硬化状態でのハンドリング性に優れており、更に硬化後の硬化物の弾性率が低く、かつ該硬化物の熱伝導性にも優れている絶縁シート、及び該絶縁シートを用いた積層構造体に関する。   The present invention relates to an insulating sheet used for adhering a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, and more specifically, has excellent handling properties in an uncured state, Further, the present invention relates to an insulating sheet having a low elastic modulus of a cured product after curing and excellent thermal conductivity of the cured product, and a laminated structure using the insulating sheet.

電子機器及び通信機器では、絶縁層を有するプリント配線板が用いられている。該絶縁層は、ペースト状又はシート状の絶縁接着材料を用いて形成されている。   In electronic devices and communication devices, printed wiring boards having an insulating layer are used. The insulating layer is formed using a paste-like or sheet-like insulating adhesive material.

上記絶縁接着材料の一例として、下記の特許文献1には、エポキシ樹脂と、シアネートエステル樹脂と、グアニジン化合物とエポキシ樹脂とのアダクト体と、金属系硬化触媒とを含む樹脂組成物及び接着フィルムが開示されている。この樹脂組成物及び接着フィルムは、高分子樹脂及び無機充填材を含んでいてもよい。また、高分子樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂及びポリエステル樹脂が挙げられている。   As an example of the insulating adhesive material, Patent Document 1 below includes a resin composition and an adhesive film including an epoxy resin, a cyanate ester resin, an adduct of a guanidine compound and an epoxy resin, and a metal-based curing catalyst. It is disclosed. The resin composition and the adhesive film may contain a polymer resin and an inorganic filler. Polymer resins include polyvinyl acetal resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene ether resin, polycarbonate resin, polyetheretherketone resin and polyester resin. Is listed.

また、下記の特許文献2には、2個以上のエポキシ基を有する液状のエポキシ樹脂と、3個以上のエポキシ基を有する液状の芳香族系エポキシ樹脂と、特定のアミノ基含有リン酸エステル化合物と、有機高分子成分と、無機充填材とを含む樹脂組成物及び接着フィルムが開示されている。また、有機高分子成分としては、ポリビニルアセタール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂及びポリアミノイミド樹脂等が挙げられている。   Patent Document 2 below discloses a liquid epoxy resin having two or more epoxy groups, a liquid aromatic epoxy resin having three or more epoxy groups, and a specific amino group-containing phosphate ester compound. And a resin composition and an adhesive film containing an organic polymer component and an inorganic filler are disclosed. Examples of the organic polymer component include polyvinyl acetal resin, phenoxy resin, polyamide resin, and polyaminoimide resin.

特開2010−90237号公報JP 2010-90237 A 特開2009−295689号公報JP 2009-295589 A

近年、電気機器の小型化及び高性能化が進行している。このため、上記電子機器及び通信機器に用いられるプリント配線板では、多層化及び薄膜化が進行しており、かつ電子部品の実装密度が高くなっている。これに伴って、電子部品から大きな熱量が発生しやすくなっており、発生した熱を放散させる必要が高まっている。熱を放散させるために、プリント配線板の絶縁層は、高い熱伝導率を有する必要がある。   In recent years, miniaturization and high performance of electric devices have been advanced. For this reason, in the printed wiring board used for the said electronic device and communication apparatus, multilayering and a thin film are progressing, and the mounting density of an electronic component is high. Along with this, a large amount of heat is easily generated from the electronic components, and the need to dissipate the generated heat is increasing. In order to dissipate heat, the insulating layer of the printed wiring board needs to have high thermal conductivity.

しかしながら、特許文献1,2に記載のような従来の絶縁接着材料を用いたプリント配線板では、絶縁層の熱伝導率が低く、充分な放熱性が得られないことがある。さらに、絶縁層の弾性率が高すぎることがある。このため、リフロープロセスなどにおいて、絶縁層が高温下に晒されたときに、絶縁層にクラックが生じることがある。   However, in the conventional printed wiring board using the insulating adhesive material described in Patent Documents 1 and 2, the insulating layer has a low thermal conductivity, and sufficient heat dissipation may not be obtained. Furthermore, the elastic modulus of the insulating layer may be too high. For this reason, when the insulating layer is exposed to a high temperature in a reflow process or the like, a crack may occur in the insulating layer.

さらに、特許文献1,2に記載の接着フィルムは、ハンドリング性が低いことがある。   Furthermore, the adhesive films described in Patent Documents 1 and 2 may have low handling properties.

本発明の目的は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられ、未硬化状態でのハンドリング性に優れており、更に硬化後の硬化物の弾性率が低く、かつ該硬化物の熱伝導性にも優れている絶縁シート、及び該絶縁シートを用いた積層構造体を提供することである。   The object of the present invention is to adhere a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, and has excellent handling properties in an uncured state, and further a cured product after curing. An insulating sheet having a low elastic modulus and excellent thermal conductivity of the cured product, and a laminated structure using the insulating sheet.

本発明の広い局面によれば、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる絶縁シートであって、重量平均分子量が10000以上であるポリビニルアセタール樹脂と、エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、熱伝導率が10W/m・K以上であるフィラーとを含む、絶縁シートが提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided an insulating sheet used for bonding a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, and a polyvinyl acetal having a weight average molecular weight of 10,000 or more. There is provided an insulating sheet comprising a resin, a curable compound having an epoxy group or an oxetane group, a curing agent, and a filler having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more.

上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルブチラールであることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のガラス転移温度は40℃以上、75℃以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基の含有率は20モル%以上、40モル%以下であることが好ましい。   The polyvinyl acetal resin is preferably polyvinyl butyral. The glass transition temperature of the polyvinyl acetal resin is preferably 40 ° C. or higher and 75 ° C. or lower. It is preferable that the content rate of the hydroxyl group of the said polyvinyl acetal resin is 20 mol% or more and 40 mol% or less.

上記フィラーの新モース硬度は9以下であることが好ましい。   The filler preferably has a new Mohs hardness of 9 or less.

上記硬化剤は、芳香族骨格を有さないことが好ましい。上記硬化剤は、下記式(1)〜(4)の内のいずれかで表される酸無水物、又はジシアンジアミドであることが好ましい。   The curing agent preferably does not have an aromatic skeleton. The curing agent is preferably an acid anhydride represented by any of the following formulas (1) to (4) or dicyandiamide.

Figure 2012067221
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上記式(4)中、R1及びR2はそれぞれ水素、炭素数1〜5のアルキル基又は水酸基を示す。   In said formula (4), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group, respectively.

本発明に係る絶縁シートは、酸化防止剤をさらに含むことが好ましい。   The insulating sheet according to the present invention preferably further contains an antioxidant.

本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と、該熱伝導体の少なくとも一方の表面に積層された絶縁層と、該絶縁層の上記熱伝導体が積層された表面とは反対側の表面に積層された導電層とを備えており、上記絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させることにより形成されている。   The laminated structure according to the present invention includes a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, an insulating layer laminated on at least one surface of the heat conductor, and the heat conduction of the insulating layer. A conductive layer laminated on the surface opposite to the surface on which the body is laminated, and the insulating layer is formed by curing an insulating sheet configured according to the present invention.

上記熱伝導体は金属であることが好ましい。   The heat conductor is preferably a metal.

本発明に係る絶縁シートは、重量平均分子量が10000以上であるポリビニルアセタール樹脂と、エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、熱伝導率が10W/m・K以上であるフィラーとを含むので、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性を高めることができる。さらに、本発明に係る絶縁シートを硬化させることにより形成された硬化物の弾性率を低くすることができ、かつ該硬化物の熱伝導性を高くすることができる。   The insulating sheet according to the present invention includes a polyvinyl acetal resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more, a curable compound having an epoxy group or an oxetane group, a curing agent, and a filler having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. Therefore, the handleability of the insulating sheet in an uncured state can be enhanced. Furthermore, the elastic modulus of the cured product formed by curing the insulating sheet according to the present invention can be lowered, and the thermal conductivity of the cured product can be increased.

本発明に係る積層構造体では、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体の少なくとも一方の表面に、絶縁層を介して導電層が積層されており、該絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁シートを硬化させることにより形成されているので、導電層側からの熱が絶縁層を介して上記熱伝導体に伝わりやすい。このため、該熱伝導体によって熱を効率的に放散させることができる。   In the laminated structure according to the present invention, a conductive layer is laminated on at least one surface of a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer. Since it forms by hardening the insulating sheet comprised according to invention, the heat from the conductive layer side is easy to be transmitted to the said heat conductor through an insulating layer. For this reason, heat can be efficiently dissipated by the heat conductor.

図1は、本発明の一実施形態に係る積層構造体を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing a laminated structure according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係る絶縁シートは、重量平均分子量が10000以上であるポリビニルアセタール樹脂(A)と、エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物(B)と、硬化剤(C)と、熱伝導率が10W/m・K以上であるフィラー(D)とを含む。   The insulating sheet according to the present invention has a polyvinyl acetal resin (A) having a weight average molecular weight of 10,000 or more, a curable compound (B) having an epoxy group or an oxetane group, a curing agent (C), and a thermal conductivity. And a filler (D) that is 10 W / m · K or more.

上記組成の採用により、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性を高めることができる。さらに、絶縁シートの硬化物の弾性率を低くすることができ、かつ熱伝導性を高くすることができる。   By adopting the above composition, the handleability of the insulating sheet in an uncured state can be enhanced. Furthermore, the elastic modulus of the hardened | cured material of an insulating sheet can be made low, and heat conductivity can be made high.

以下、先ず本発明に係る絶縁シートに含まれている各成分の詳細を説明する。   Hereinafter, first, details of each component contained in the insulating sheet according to the present invention will be described.

(ポリビニルアセタール樹脂(A))
本発明に係る絶縁シートに含まれているポリビニルアセタール樹脂(A)は、重量平均分子量が10000以上であれば特に限定されない。ポリビニルアセタール樹脂として従来公知のポリビニルアセタール樹脂を用いることができる。ポリビニルアセタール樹脂(A)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Polyvinyl acetal resin (A))
The polyvinyl acetal resin (A) contained in the insulating sheet according to the present invention is not particularly limited as long as the weight average molecular weight is 10,000 or more. A conventionally known polyvinyl acetal resin can be used as the polyvinyl acetal resin. As for polyvinyl acetal resin (A), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

ポリビニルアセタール樹脂(A)は、エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物(B)との相溶性に優れている。例えば、ポリビニルアセタール樹脂(A)は、エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物(B)と充分に相溶し、絶縁シート中でポリビニルアセタール樹脂(A)と硬化性化合物(B)とが相分離し難い。このため、絶縁シートの硬化物の弾性率が低くなる。さらに、絶縁シートの硬化物の耐熱性及び接着性も高くなる。   The polyvinyl acetal resin (A) is excellent in compatibility with the curable compound (B) having an epoxy group or an oxetane group. For example, the polyvinyl acetal resin (A) is sufficiently compatible with the curable compound (B) having an epoxy group or an oxetane group, and the polyvinyl acetal resin (A) and the curable compound (B) are in phase in the insulating sheet. Hard to separate. For this reason, the elasticity modulus of the hardened | cured material of an insulating sheet becomes low. Furthermore, the heat resistance and adhesiveness of the hardened | cured material of an insulating sheet also become high.

ポリビニルアセタール樹脂(A)は、例えば、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することにより製造できる。上記ポリビニルアルコールは、例えば、ポリ酢酸ビニルをけん化することにより製造できる。上記ポリビニルアルコールのけん化度は、一般に80〜99.8モル%である。   The polyvinyl acetal resin (A) can be produced, for example, by acetalizing polyvinyl alcohol with an aldehyde. The polyvinyl alcohol can be produced, for example, by saponifying polyvinyl acetate. The saponification degree of the polyvinyl alcohol is generally 80 to 99.8 mol%.

上記ポリビニルアセタール樹脂に含まれているアセタール基の炭素数は特に限定されない。上記ポリビニルアセタール樹脂を製造する際に用いられるアルデヒドは特に限定されない。上記ポリビニルアセタール樹脂におけるアセタール基の炭素数は3又は4であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂におけるアセタール基の炭素数が3以上であると、絶縁シートのガラス転移温度が充分に低くなる。   The number of carbon atoms of the acetal group contained in the polyvinyl acetal resin is not particularly limited. The aldehyde used when manufacturing the said polyvinyl acetal resin is not specifically limited. The carbon number of the acetal group in the polyvinyl acetal resin is preferably 3 or 4. When the carbon number of the acetal group in the polyvinyl acetal resin is 3 or more, the glass transition temperature of the insulating sheet is sufficiently low.

上記アルデヒドは特に限定されない。上記アルデヒドとして、一般には、炭素数が1〜10のアルデヒドが好適に用いられる。上記炭素数が1〜10のアルデヒドとしては、例えば、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド、2−エチルブチルアルデヒド、n−ヘキシルアルデヒド、n−オクチルアルデヒド、n−ノニルアルデヒド、n−デシルアルデヒド、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド及びベンズアルデヒド等が挙げられる。なかでも、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−ヘキシルアルデヒド又はn−バレルアルデヒドが好ましく、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド又はイソブチルアルデヒドがより好ましく、n−ブチルアルデヒドが更に好ましい。上記アルデヒドは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The aldehyde is not particularly limited. In general, an aldehyde having 1 to 10 carbon atoms is preferably used as the aldehyde. Examples of the aldehyde having 1 to 10 carbon atoms include n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, n-valeraldehyde, 2-ethylbutyraldehyde, n-hexylaldehyde, n-octylaldehyde, n-nonylaldehyde, n- Examples include decyl aldehyde, formaldehyde, acetaldehyde, and benzaldehyde. Among these, propionaldehyde, n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, n-hexylaldehyde or n-valeraldehyde is preferable, propionaldehyde, n-butyraldehyde or isobutyraldehyde is more preferable, and n-butyraldehyde is still more preferable. As for the said aldehyde, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

ポリビニルアセタール樹脂(A)は、ポリビニルブチラールであることが好ましい。ポリビニルブチラールの使用により、絶縁シートのガラス転移温度をより一層低くすることができる。   The polyvinyl acetal resin (A) is preferably polyvinyl butyral. By using polyvinyl butyral, the glass transition temperature of the insulating sheet can be further lowered.

ポリビニルアセタール樹脂(A)のガラス転移温度は40℃以上、75℃以下であることが好ましい。ポリビニルアセタール樹脂(A)のガラス転移温度が40〜75℃であると、ポリビニルアセタール樹脂の熱劣化を抑制でき、硬化物の弾性率をより一層低くすることができる。   The glass transition temperature of the polyvinyl acetal resin (A) is preferably 40 ° C. or higher and 75 ° C. or lower. When the glass transition temperature of the polyvinyl acetal resin (A) is 40 to 75 ° C., thermal degradation of the polyvinyl acetal resin can be suppressed, and the elastic modulus of the cured product can be further reduced.

ポリビニルアセタール樹脂(A)の水酸基の含有率(水酸基量)は、好ましくは10モル%以上、より好ましくは15モル%以上、更に好ましくは20モル%以上、好ましくは40モル%以下、より好ましくは35モル%以下、特に好ましくは30モル%以下である。上記水酸基の含有率が上記下限以上であると、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性が高くなり、絶縁シートの取扱いが容易になる。上記水酸基の含有率が上記上限以下であると、硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The hydroxyl group content (hydroxyl group amount) of the polyvinyl acetal resin (A) is preferably 10 mol% or more, more preferably 15 mol% or more, still more preferably 20 mol% or more, preferably 40 mol% or less, more preferably. It is 35 mol% or less, and particularly preferably 30 mol% or less. When the hydroxyl group content is not less than the above lower limit, the handling property of the insulating sheet in an uncured state becomes high, and the handling of the insulating sheet becomes easy. When the hydroxyl group content is not more than the above upper limit, the heat resistance of the cured product is further increased.

ポリビニルアセタール樹脂(A)の水酸基の含有率は、20モル%以上、40モル%以下であることが特に好ましく、20モル%以上、30モル%以下であることが最も好ましい。水酸基の含有率が20〜40モル%又は20〜30モル%であると、ポリビニルアセタール樹脂(A)と硬化性化合物(B)との相溶性がより一層高くなり、更にフィラー(D)の分散性もより高くなる。   The hydroxyl group content of the polyvinyl acetal resin (A) is particularly preferably 20 mol% or more and 40 mol% or less, and most preferably 20 mol% or more and 30 mol% or less. When the hydroxyl group content is 20 to 40 mol% or 20 to 30 mol%, the compatibility between the polyvinyl acetal resin (A) and the curable compound (B) is further enhanced, and the dispersion of the filler (D) is further increased. Sex is also higher.

ポリビニルアセタール樹脂(A)の水酸基の含有率は、水酸基が結合しているエチレン基量を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率である。上記水酸基が結合しているエチレン基量は、例えば、JIS K6726「ポリビニルアルコール試験方法」に準拠して、原料となるポリビニルアルコールの水酸基が結合しているエチレン基量を測定することにより求めることができる。   The content of hydroxyl groups in the polyvinyl acetal resin (A) is a molar fraction obtained by dividing the amount of ethylene groups to which hydroxyl groups are bonded by the total amount of ethylene groups in the main chain. The amount of ethylene group to which the hydroxyl group is bonded can be determined, for example, by measuring the amount of ethylene group to which the hydroxyl group of polyvinyl alcohol as a raw material is bonded in accordance with JIS K6726 “Testing method for polyvinyl alcohol”. it can.

ポリビニルアセタール樹脂(A)のアセチル化度(アセチル基量)は、好ましくは3モル%以下であることが好ましい。上記アセチル化度が上記上限以下であると、硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The acetylation degree (acetyl group amount) of the polyvinyl acetal resin (A) is preferably 3 mol% or less. When the acetylation degree is not more than the above upper limit, the heat resistance of the cured product is further increased.

上記アセチル化度は、主鎖の全エチレン基量から、アセタール基が結合しているエチレン基量と、水酸基が結合しているエチレン基量とを差し引いた値を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率である。上記アセタール基が結合しているエチレン基量は、例えば、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠して測定できる。   The degree of acetylation is obtained by subtracting the amount of ethylene groups to which acetal groups are bonded and the amount of ethylene groups to which hydroxyl groups are bonded from the total amount of ethylene groups of the main chain, The mole fraction obtained by dividing by. The amount of ethylene group to which the acetal group is bonded can be measured, for example, according to JIS K6728 “Testing method for polyvinyl butyral”.

上記ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度(ポリビニルブチラールの場合はブチラール化度)は、好ましくは60モル%以上、より好ましくは63モル%以上、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、更に好ましくは80モル%以下である。上記アセタール化度が上記下限以上であると、相溶性と耐湿性とを高めることができる。上記アセタール化度が上記上限以下であると、ポリビニルアセタール樹脂を製造するために必要な反応時間が短くなる。   The degree of acetalization of the polyvinyl acetal resin (in the case of polyvinyl butyral, the degree of butyralization) is preferably 60 mol% or more, more preferably 63 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, More preferably, it is 80 mol% or less. When the degree of acetalization is not less than the above lower limit, compatibility and moisture resistance can be improved. When the degree of acetalization is less than or equal to the above upper limit, the reaction time required for producing a polyvinyl acetal resin is shortened.

上記アセタール化度は、アセタール基が結合しているエチレン基量を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率である。   The degree of acetalization is a mole fraction obtained by dividing the amount of ethylene groups to which acetal groups are bonded by the total amount of ethylene groups in the main chain.

上記アセタール化度は、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法により、又は核磁気共鳴法(NMR)を用いた方法により、アセチル基量とビニルアルコール量とを測定し、得られた測定結果からモル分率を算出し、次いで、100モル%からアセチル基量とビニルアルコール量とを差し引くことにより算出され得る。   The degree of acetalization is obtained by measuring the amount of acetyl group and the amount of vinyl alcohol by a method based on JIS K6728 “Testing method for polyvinyl butyral” or by a method using nuclear magnetic resonance (NMR). The molar fraction can be calculated from the result, and then calculated by subtracting the amount of acetyl group and the amount of vinyl alcohol from 100 mol%.

なお、ポリビニルアセタール樹脂がポリビニルブチラール樹脂である場合には、上記アセタール化度(ブチラール化度)およびアセチル基量は、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法により測定された結果から算出され得る。   When the polyvinyl acetal resin is a polyvinyl butyral resin, the degree of acetalization (degree of butyralization) and the amount of acetyl group are calculated from the results measured by a method according to JIS K6728 “Testing methods for polyvinyl butyral”. obtain.

ポリビニルアセタール樹脂(A)の重量平均分子量は、10000以上である。ポリビニルアセタール樹脂(A)の重量平均分子量は、より好ましくは20000以上、更に好ましくは30000以上、好ましくは1000000以下、より好ましくは250000以下である。ポリビニルアセタール樹脂(A)の重量平均分子量が10000以下であると、絶縁シートが熱劣化しやすい。ポリビニルアセタール樹脂(A)の重量平均分子量が大きいほど、絶縁シートの熱劣化を抑制できる。ポリビニルアセタール樹脂(A)の重量平均分子量が上記上限以下であると、ポリビニルアセタール樹脂(A)と他の樹脂との相溶性がより一層高くなる。この結果、絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁シートの硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The weight average molecular weight of the polyvinyl acetal resin (A) is 10,000 or more. The weight average molecular weight of the polyvinyl acetal resin (A) is more preferably 20000 or more, further preferably 30000 or more, preferably 1000000 or less, more preferably 250,000 or less. When the weight average molecular weight of the polyvinyl acetal resin (A) is 10,000 or less, the insulating sheet is likely to be thermally deteriorated. As the weight average molecular weight of the polyvinyl acetal resin (A) is larger, the thermal deterioration of the insulating sheet can be suppressed. When the weight average molecular weight of the polyvinyl acetal resin (A) is not more than the above upper limit, the compatibility between the polyvinyl acetal resin (A) and another resin is further enhanced. As a result, the handling property of the insulating sheet and the heat resistance of the cured product of the insulating sheet are further enhanced.

絶縁シート中の全樹脂成分(以下、全樹脂成分Xと略記することがある)の合計100重量%中、ポリビニルアセタール樹脂(A)の含有量は20重量%以上、60重量%以下であることが好ましい。全樹脂成分Xの合計100重量%中のポリビニルアセタール樹脂(A)の含有量は、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは50重量%以下である。ポリビニルアセタール樹脂(A)の含有量が上記下限以上であると、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性がより一層高くなる。ポリビニルアセタール樹脂(A)の含有量が上記上限以下であると、フィラー(D)の分散性が高くなる。なお、全樹脂成分Xとは、ポリビニルアセタール樹脂(A)、硬化性化合物(B)、硬化剤(C)及び必要に応じて添加される他の樹脂成分の総和をいう。全樹脂成分Xには、フィラー(D)は含まれない。全樹脂成分Xには、酸化防止剤(E)は含まれる。   The content of the polyvinyl acetal resin (A) is 20% by weight or more and 60% by weight or less in the total 100% by weight of all the resin components in the insulating sheet (hereinafter sometimes abbreviated as “all resin component X”). Is preferred. The content of the polyvinyl acetal resin (A) in the total 100% by weight of all the resin components X is more preferably 30% by weight or more, and more preferably 50% by weight or less. When the content of the polyvinyl acetal resin (A) is not less than the above lower limit, the handleability of the insulating sheet in an uncured state is further enhanced. When the content of the polyvinyl acetal resin (A) is not more than the above upper limit, the dispersibility of the filler (D) is increased. The total resin component X refers to the total of the polyvinyl acetal resin (A), the curable compound (B), the curing agent (C), and other resin components added as necessary. The total resin component X does not contain the filler (D). All the resin components X contain an antioxidant (E).

(エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物(B))
本発明に係る絶縁シートに含まれている硬化性化合物(B)は、エポキシ基又はオキセタン基を有していれば特に限定されない。エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物(B)として、従来公知のエポキシ化合物又はオキセタン化合物を用いることができる。オキセタン基はオキセタニル基とも呼ばれる。硬化性化合物(B)は、硬化剤(C)の作用により硬化する。硬化性化合物(B)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Curable compound having epoxy group or oxetane group (B))
The curable compound (B) contained in the insulating sheet according to the present invention is not particularly limited as long as it has an epoxy group or an oxetane group. As the curable compound (B) having an epoxy group or an oxetane group, a conventionally known epoxy compound or oxetane compound can be used. Oxetane groups are also called oxetanyl groups. The curable compound (B) is cured by the action of the curing agent (C). As for a curable compound (B), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化性化合物(B)は、エポキシ基を有するエポキシ化合物(B1)を含んでいてもよく、オキセタン基を有するオキセタン化合物(B2)を含んでいてもよい。   The curable compound (B) may contain an epoxy compound (B1) having an epoxy group, or may contain an oxetane compound (B2) having an oxetane group.

硬化物の耐熱性及び絶縁破壊特性をより一層高める観点からは、硬化性化合物(B)は、芳香族骨格を有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving the heat resistance and dielectric breakdown characteristics of the cured product, the curable compound (B) preferably has an aromatic skeleton.

エポキシ基を有するエポキシ化合物(B1)の具体例としては、ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマー、ナフタレン骨格を有するエポキシモノマー、アダマンタン骨格を有するエポキシモノマー、フルオレン骨格を有するエポキシモノマー、ビフェニル骨格を有するエポキシモノマー、バイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマー、キサンテン骨格を有するエポキシモノマー、アントラセン骨格を有するエポキシモノマー、及びピレン骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。これらの水素添加物又は変性物を用いてもよい。エポキシ化合物(B1)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the epoxy compound (B1) having an epoxy group include an epoxy monomer having a bisphenol skeleton, an epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton, an epoxy monomer having a naphthalene skeleton, an epoxy monomer having an adamantane skeleton, and an epoxy having a fluorene skeleton. Examples of the monomer include an epoxy monomer having a biphenyl skeleton, an epoxy monomer having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton, an epoxy monomer having a xanthene skeleton, an epoxy monomer having an anthracene skeleton, and an epoxy monomer having a pyrene skeleton. These hydrogenated products or modified products may be used. As for an epoxy compound (B1), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマーとしては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型又はビスフェノールS型のビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a bisphenol skeleton include an epoxy monomer having a bisphenol A type, bisphenol F type, or bisphenol S type bisphenol skeleton.

上記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマーとしては、ジシクロペンタジエンジオキシド、及びジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシモノマー等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton include dicyclopentadiene dioxide and a phenol novolac epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton.

上記ナフタレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリシジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、及び1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a naphthalene skeleton include 1-glycidylnaphthalene, 2-glycidylnaphthalene, 1,2-diglycidylnaphthalene, 1,5-diglycidylnaphthalene, 1,6-diglycidylnaphthalene, 1,7-diglycidyl. Naphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene and the like can be mentioned.

上記アダマンタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,3−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンタン、及び2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンタン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having an adamantane skeleton include 1,3-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamantane and 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamantane.

上記フルオレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレン、及び9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a fluorene skeleton include 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) fluorene, and 9,9-bis (4- Glycidyloxy-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-Glycidyloxy-3-methoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dichlorophenyl) Fluorene and 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dibromophenyl) Fluorene, and the like.

上記ビフェニル骨格を有するエポキシモノマーとしては、4,4’−ジグリシジルビフェニル、及び4,4’−ジグリシジル−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a biphenyl skeleton include 4,4'-diglycidylbiphenyl and 4,4'-diglycidyl-3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl.

上記バイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,1’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、及び1,2’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton include 1,1′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane 1,8'-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) Examples include methane and 1,2′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane.

上記キサンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,3,4,5,6,8−ヘキサメチル−2,7−ビス−オキシラニルメトキシ−9−フェニル−9H−キサンテン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a xanthene skeleton include 1,3,4,5,6,8-hexamethyl-2,7-bis-oxiranylmethoxy-9-phenyl-9H-xanthene.

オキセタン基を有するオキセタン化合物(B2)の具体例としては、例えば、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、1,4−ベンゼンジカルボン酸ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メチル]エステル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、及びオキセタン変性フェノールノボラック等が挙げられる。オキセタン化合物(B2)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the oxetane compound (B2) having an oxetane group include, for example, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, 1,4-benzenedicarboxylate bis [(3- Ethyl-3-oxetanyl) methyl] ester, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, and oxetane-modified phenol novolac. As for an oxetane compound (B2), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化性化合物(B)の重量平均分子量は、10000未満であることが好ましい。硬化性化合物(B)の重量平均分子量は、好ましくは200以上、より好ましくは600以下、更に好ましくは550以下である。硬化性化合物(B)の重量平均分子量が上記下限以上であると、硬化性化合物(B)の揮発性が低くなり、絶縁シートの取扱い性がより一層高くなる。硬化性化合物(B)の重量平均分子量が上記上限以下であると、硬化物の接着性がより一層高くなる。さらに、絶縁シートが固くかつ脆くなり難く、硬化物の接着性がより一層高くなる。   The weight average molecular weight of the curable compound (B) is preferably less than 10,000. The weight average molecular weight of the curable compound (B) is preferably 200 or more, more preferably 600 or less, and still more preferably 550 or less. When the weight average molecular weight of the curable compound (B) is not less than the above lower limit, the volatility of the curable compound (B) is lowered, and the handleability of the insulating sheet is further enhanced. When the weight average molecular weight of the curable compound (B) is not more than the above upper limit, the adhesiveness of the cured product is further enhanced. Furthermore, the insulating sheet is hard and not easily brittle, and the adhesiveness of the cured product is further enhanced.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、硬化性化合物(B)の含有量は10重量%以上、60重量%以下であることが好ましい。全樹脂成分Xの合計100重量%中の硬化性化合物(B)の含有量は、より好ましくは20重量%以上、より好ましくは50重量%以下である。硬化性化合物(B)の含有量が上記下限以上であると、硬化物の接着性及び耐熱性がより一層高くなる。硬化性化合物(B)の含有量が上記上限以下であると、絶縁シートのハンドリング性がより一層高くなる。   In the total 100% by weight of all the resin components X, the content of the curable compound (B) is preferably 10% by weight or more and 60% by weight or less. The content of the curable compound (B) in 100% by weight of the total resin component X is more preferably 20% by weight or more, and more preferably 50% by weight or less. When the content of the curable compound (B) is not less than the above lower limit, the adhesiveness and heat resistance of the cured product are further increased. When the content of the curable compound (B) is not more than the above upper limit, the handling property of the insulating sheet is further enhanced.

(硬化剤(C))
本発明に係る絶縁シートに含まれている硬化剤(C)は絶縁シートを硬化させることが可能であれば特に限定されない。硬化剤(C)は、熱硬化剤であることが好ましい。硬化剤(C)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Curing agent (C))
The curing agent (C) contained in the insulating sheet according to the present invention is not particularly limited as long as the insulating sheet can be cured. The curing agent (C) is preferably a thermosetting agent. As for a hardening | curing agent (C), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化剤(C)としては、フェノール樹脂、又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物が挙げられる。硬化剤(C)としては、ジシアンジアミドも用いられる。これらの硬化剤の使用により、耐熱性、耐湿性及び電気物性のバランスに優れた硬化物を得ることができる。これらの硬化剤は、熱硬化剤である。   Examples of the curing agent (C) include a phenol resin, an acid anhydride having an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride. Dicyandiamide is also used as the curing agent (C). By using these curing agents, a cured product having an excellent balance of heat resistance, moisture resistance and electrical properties can be obtained. These curing agents are thermosetting agents.

硬化物の弾性率をより一層低くする観点からは、硬化剤(C)は、酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はジシアンジアミドであることが好ましい。   From the viewpoint of further reducing the elastic modulus of the cured product, the curing agent (C) is preferably an acid anhydride, a water additive of the acid anhydride or a modified product of the acid anhydride, or dicyandiamide.

上記フェノール樹脂は特に限定されない。上記フェノール樹脂の具体例としては、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリパラビニルフェノール、ビスフェノールA型ノボラック、キシリレン変性ノボラック、デカリン変性ノボラック、ポリ(ジ−o−ヒドロキシフェニル)メタン、ポリ(ジ−m−ヒドロキシフェニル)メタン、及びポリ(ジ−p−ヒドロキシフェニル)メタン等が挙げられる。なかでも、絶縁シートの柔軟性及び硬化物の難燃性をより一層高める観点からは、メラミン骨格を有するフェノール樹脂、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましい。   The phenol resin is not particularly limited. Specific examples of the phenol resin include phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, polyparavinylphenol, bisphenol A type novolak, xylylene modified novolak, decalin modified novolak, Examples include poly (di-o-hydroxyphenyl) methane, poly (di-m-hydroxyphenyl) methane, and poly (di-p-hydroxyphenyl) methane. Among these, from the viewpoint of further enhancing the flexibility of the insulating sheet and the flame retardancy of the cured product, a phenol resin having a melamine skeleton, a phenol resin having a triazine skeleton, or a phenol resin having an allyl group is preferable.

上記フェノール樹脂の市販品としては、MEH−8005、MEH−8010及びMEH−8015(以上いずれも明和化成社製)、YLH903(ジャパンエポキシレジン社製)、LA―7052、LA−7054、LA−7751、LA−1356及びLA−3018−50P(以上いずれもDIC社製)、並びにPS6313及びPS6492(群栄化学社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available phenol resins include MEH-8005, MEH-8010, and MEH-8015 (all of which are manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), YLH903 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), LA-7052, LA-7054, and LA-7751. LA-1356 and LA-3018-50P (all of which are manufactured by DIC), PS6313 and PS6492 (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.), and the like.

芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、特に限定されない。芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、例えば、スチレン/無水マレイン酸コポリマー、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、フェニルエチニルフタル酸無水物、グリセロールビス(アンヒドロトリメリテート)モノアセテート、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、及びトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。なかでも、メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸が好ましい。メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸の使用により、硬化物の耐水性を高めることができる。   An acid anhydride having an aromatic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride is not particularly limited. Examples of the acid anhydride having an aromatic skeleton, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride include, for example, a styrene / maleic anhydride copolymer, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, Trimellitic anhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, phenylethynylphthalic anhydride, glycerol bis (anhydrotrimellitate) monoacetate, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), methyltetrahydrophthalic anhydride Examples include acid, methylhexahydrophthalic anhydride, and trialkyltetrahydrophthalic anhydride. Of these, methyl nadic acid anhydride or trialkyltetrahydrophthalic anhydride is preferable. By using methyl nadic acid anhydride or trialkyltetrahydrophthalic anhydride, the water resistance of the cured product can be increased.

上記芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、SMAレジンEF30、SMAレジンEF40、SMAレジンEF60及びSMAレジンEF80(以上いずれもサートマー・ジャパン社製)、ODPA−M及びPEPA(以上いずれもマナック社製)、リカシッドMTA−10、リカシッドMTA−15、リカシッドTMTA、リカシッドTMEG−100、リカシッドTMEG−200、リカシッドTMEG−300、リカシッドTMEG−500、リカシッドTMEG−S、リカシッドTH、リカシッドHT−1A、リカシッドHH、リカシッドMH−700、リカシッドMT−500、リカシッドDSDA及びリカシッドTDA−100(以上いずれも新日本理化社製)、並びにEPICLON B4400、EPICLON B650、及びEPICLON B570(以上いずれもDIC社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having an aromatic skeleton, water additives of the acid anhydrides, or modified products of the acid anhydrides include SMA Resin EF30, SMA Resin EF40, SMA Resin EF60, and SMA Resin EF80 (any of the above Also manufactured by Sartomer Japan), ODPA-M and PEPA (all manufactured by Manac), Ricacid MTA-10, Ricacid MTA-15, Ricacid TMTA, Ricacid TMEG-100, Ricacid TMEG-200, Ricacid TMEG-300, Ricacid TMEG-500, Ricacid TMEG-S, Ricacid TH, Ricacid HT-1A, Ricacid HH, Ricacid MH-700, Ricacid MT-500, Ricacid DSDA and Ricacid TDA-100 (all of which are manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) PICLON B4400, EPICLON B650, and EPICLON B570 (all manufactured by both DIC Corporation).

硬化物の弾性率をより一層低くする観点からは、硬化剤(C)は、芳香族骨格を有さないことが好ましい。硬化物の弾性率をより一層低くする観点からは、硬化剤(C)は、芳香族骨格を有さない酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はジシアンジアミドであることが好ましい。ジシアンジアミドは芳香族骨格を有さない。硬化物の弾性率をさらに一層低くする観点からは、硬化剤(C)は、脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はジシアンジアミドであることがより好ましい。ジシアンジアミドの使用により、絶縁シートのガラス転移温度がより一層低くなる。   From the viewpoint of further reducing the elastic modulus of the cured product, the curing agent (C) preferably does not have an aromatic skeleton. From the viewpoint of further reducing the elastic modulus of the cured product, the curing agent (C) is an acid anhydride having no aromatic skeleton, a water additive of the acid anhydride or a modified product of the acid anhydride, or Dicyandiamide is preferred. Dicyandiamide has no aromatic skeleton. From the viewpoint of further reducing the elastic modulus of the cured product, the curing agent (C) is an acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride or a modified product of the acid anhydride, or dicyandiamide. It is more preferable that By using dicyandiamide, the glass transition temperature of the insulating sheet is further lowered.

硬化物の弾性率をさらに一層低くする観点からは、硬化剤(C)は、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物、又はジシアンジアミドであることが好ましい。また、これらの硬化剤の使用により、硬化物の柔軟性、並びに硬化物の耐湿性及び接着性がより一層高くなる。   From the viewpoint of further reducing the elastic modulus of the cured product, the curing agent (C) is an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride or a modified product of the acid anhydride, or An acid anhydride having an alicyclic skeleton obtained by addition reaction of a terpene compound and maleic anhydride, a water additive of the acid anhydride or a modified product of the acid anhydride, or dicyandiamide is preferable. In addition, the use of these curing agents further increases the flexibility of the cured product and the moisture resistance and adhesion of the cured product.

上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、メチルナジック酸無水物、ジシクロペンタジエン骨格を有する酸無水物又は該酸無水物の変性物等も挙げられる。   Examples of the acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride include methyl nadic acid anhydride, acid anhydride having a dicyclopentadiene skeleton, and the acid anhydride And the like.

上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、リカシッドHNA及びリカシッドHNA−100(以上いずれも新日本理化社製)、並びにエピキュアYH306、エピキュアYH307、エピキュアYH308H及びエピキュアYH309(以上いずれもジャパンエポキシレジン社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having the alicyclic skeleton, water additions of the acid anhydrides, or modified products of the acid anhydrides include Ricacid HNA and Ricacid HNA-100 (all of which are manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) , And EpiCure YH306, EpiCure YH307, EpiCure YH308H, EpiCure YH309 (all of which are manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like.

硬化剤(C)は、下記式(1)〜(4)の内のいずれかで表される酸無水物、又はジシアンジアミドであることがより好ましい。この好ましい硬化剤の使用により、硬化物の柔軟性、及び硬化物の耐湿性又は接着性がより一層高くなる。   The curing agent (C) is more preferably an acid anhydride represented by any of the following formulas (1) to (4) or dicyandiamide. By using this preferable curing agent, the flexibility of the cured product and the moisture resistance or adhesion of the cured product are further increased.

Figure 2012067221
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Figure 2012067221

上記式(4)中、R1及びR2はそれぞれ水素、炭素数1〜5のアルキル基又は水酸基を示す。   In said formula (4), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group, respectively.

硬化速度又は硬化物の物性などを調整するために、上記硬化剤と硬化促進剤とを併用してもよい。   In order to adjust the curing speed or the physical properties of the cured product, the curing agent and the curing accelerator may be used in combination.

上記硬化促進剤は特に限定されない。硬化促進剤の具体例としては、例えば、3級アミン、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアジン類、有機リン系化合物、4級ホスホニウム塩類及び有機酸塩等のジアザビシクロアルケン類等が挙げられる。また、上記硬化促進剤としては、有機金属化合物類、4級アンモニウム塩類及び金属ハロゲン化物等が挙げられる。上記有機金属化合物類としては、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫及びアルミニウムアセチルアセトン錯体等が挙げられる。   The said hardening accelerator is not specifically limited. Specific examples of the curing accelerator include tertiary amines, imidazoles, imidazolines, triazines, organic phosphorus compounds, quaternary phosphonium salts and diazabicycloalkenes such as organic acid salts. Examples of the curing accelerator include organometallic compounds, quaternary ammonium salts, metal halides, and the like. Examples of the organometallic compounds include zinc octylate, tin octylate and aluminum acetylacetone complex.

上記硬化促進剤として、高融点のイミダゾール硬化促進剤、高融点の分散型潜在性硬化促進剤、マイクロカプセル型潜在性硬化促進剤、アミン塩型潜在性硬化促進剤、及び高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等を使用できる。上記硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the curing accelerator include a high melting point imidazole curing accelerator, a high melting point dispersion type latent curing accelerator, a microcapsule type latent curing accelerator, an amine salt type latent curing accelerator, and a high temperature dissociation type and thermal cation. A polymerization type latent curing accelerator or the like can be used. As for the said hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記高融点の分散型潜在性促進剤としては、ジシアンジアミド又はアミンがエポキシモノマー等に付加されたアミン付加型促進剤等が挙げられる。上記マイクロカプセル型潜在性促進剤としては、イミダゾール系、リン系又はホスフィン系の促進剤の表面がポリマーにより被覆されたマイクロカプセル型潜在性促進剤が挙げられる。上記高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤としては、ルイス酸塩及びブレンステッド酸塩等が挙げられる。   Examples of the high melting point dispersion type latent accelerator include amine addition type accelerators in which dicyandiamide or amine is added to an epoxy monomer or the like. Examples of the microcapsule type latent accelerator include a microcapsule type latent accelerator in which the surface of an imidazole, phosphorus or phosphine accelerator is coated with a polymer. Examples of the high-temperature dissociation type and thermal cationic polymerization type latent curing accelerator include Lewis acid salts and Bronsted acid salts.

上記硬化促進剤は、高融点のイミダゾール系硬化促進剤であることが好ましい。高融点のイミダゾール系硬化促進剤の使用により、反応系を容易に制御でき、かつ絶縁シートの硬化速度、及び硬化物の物性などをより一層容易に調整できる。融点100℃以上の高融点の硬化促進剤は、取扱性に優れている。従って、硬化促進剤の融点は100℃以上であることが好ましい。   The curing accelerator is preferably a high melting point imidazole curing accelerator. By using a high melting point imidazole curing accelerator, the reaction system can be easily controlled, and the curing speed of the insulating sheet and the physical properties of the cured product can be more easily adjusted. A high-melting-point curing accelerator having a melting point of 100 ° C. or higher is excellent in handleability. Accordingly, the melting accelerator preferably has a melting point of 100 ° C. or higher.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、硬化剤(C)の含有量は10重量%以上、40重量%以下であることが好ましい。全樹脂成分Xの合計100重量%中、硬化剤(C)の含有量は、より好ましくは12重量%以上、より好ましくは25重量%以下である。硬化剤(C)の含有量が上記下限以上であると、絶縁シートを充分に硬化させることが容易である。硬化剤(C)の含有量が上記上限以下であると、硬化に関与しない余剰な硬化剤(C)が発生し難くなる。このため、硬化物の耐熱性及び接着性がより一層高くなる。   In a total of 100% by weight of all the resin components X, the content of the curing agent (C) is preferably 10% by weight or more and 40% by weight or less. In the total 100% by weight of all the resin components X, the content of the curing agent (C) is more preferably 12% by weight or more, more preferably 25% by weight or less. When the content of the curing agent (C) is not less than the above lower limit, it is easy to sufficiently cure the insulating sheet. When the content of the curing agent (C) is not more than the above upper limit, it becomes difficult to generate an excessive curing agent (C) that does not participate in curing. For this reason, the heat resistance and adhesiveness of hardened | cured material become still higher.

(フィラー(D))
本発明に係る絶縁シートに含まれているフィラー(D)は、熱伝導率が10W/m・K以上であれば特に限定されない。このフィラー(D)の使用により、硬化物の熱伝導性を高めることができる。この結果、硬化物の放熱性が高くなる。フィラー(D)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Filler (D))
The filler (D) contained in the insulating sheet according to the present invention is not particularly limited as long as the thermal conductivity is 10 W / m · K or more. By using this filler (D), the thermal conductivity of the cured product can be increased. As a result, the heat dissipation of the cured product is increased. As for a filler (D), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

フィラー(D)の熱伝導率が10W/m・Kよりも小さいと、硬化物の熱伝導性を充分に高めることは困難である。フィラー(D)の熱伝導率は、好ましくは15W/m・K以上、より好ましくは20W/m・K以上である。フィラー(D)の熱伝導率の上限は特に限定されない。熱伝導率300W/m・K程度の無機フィラーは広く知られており、また熱伝導率200W/m・K程度の無機フィラーは容易に入手できる。   When the thermal conductivity of the filler (D) is smaller than 10 W / m · K, it is difficult to sufficiently increase the thermal conductivity of the cured product. The thermal conductivity of the filler (D) is preferably 15 W / m · K or more, more preferably 20 W / m · K or more. The upper limit of the thermal conductivity of the filler (D) is not particularly limited. Inorganic fillers having a thermal conductivity of about 300 W / m · K are widely known, and inorganic fillers having a thermal conductivity of about 200 W / m · K are easily available.

硬化物の放熱性をより一層高める観点からは、フィラー(D)は、無機フィラーであることが好ましい。   From the viewpoint of further improving the heat dissipation of the cured product, the filler (D) is preferably an inorganic filler.

フィラー(D)は、アルミナ、合成マグネサイト、結晶性シリカ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましく、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることがより好ましい。これらの好ましいフィラーの使用により、硬化物の放熱性をより一層高めることができる。   The filler (D) is preferably at least one selected from the group consisting of alumina, synthetic magnesite, crystalline silica, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide and magnesium oxide. More preferred is at least one selected from the group consisting of boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide and magnesium oxide. By using these preferable fillers, the heat dissipation of the cured product can be further enhanced.

フィラー(D)は、球状アルミナ、破砕アルミナ及び球状窒化アルミニウムからなる群から選択された少なくとも1種であることがより好ましく、球状アルミナ又は球状窒化アルミニウムであることがさらに好ましい。これらの好ましいフィラーの使用により、硬化物の放熱性をより一層高めることができる。   The filler (D) is more preferably at least one selected from the group consisting of spherical alumina, crushed alumina and spherical aluminum nitride, and more preferably spherical alumina or spherical aluminum nitride. By using these preferable fillers, the heat dissipation of the cured product can be further enhanced.

フィラー(D)の新モース硬度は、好ましくは12以下、より好ましくは9以下である。   The new Mohs hardness of the filler (D) is preferably 12 or less, more preferably 9 or less.

フィラー(D)の新モース硬度が9以下であると、硬化物の加工性をより一層高めることができる。   When the new Mohs hardness of the filler (D) is 9 or less, the workability of the cured product can be further enhanced.

硬化物の加工性をより一層高める観点からは、新モース硬度が9以下であるので、フィラー(D)は、合成マグネサイト、結晶シリカ、酸化亜鉛、及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。   From the viewpoint of further improving the workability of the cured product, since the new Mohs hardness is 9 or less, the filler (D) is at least selected from the group consisting of synthetic magnesite, crystalline silica, zinc oxide, and magnesium oxide. One type is preferable.

フィラー(D)は球状のフィラーであってもよく、破砕されたフィラーであってもよい。フィラー(D)は、球状であることが特に好ましい。球状フィラーの場合には、高密度で充填可能であるため、硬化物の放熱性をより一層高めることができる。   The filler (D) may be a spherical filler or a crushed filler. The filler (D) is particularly preferably spherical. In the case of a spherical filler, since it can be filled with high density, the heat dissipation of the cured product can be further enhanced.

上記破砕されたフィラーとしては、破砕アルミナ等が挙げられる。破砕されたフィラーは、例えば、一軸破砕機、二軸破砕機、ハンマークラッシャー又はボールミル等を用いて、塊状の無機物質を破砕することにより得られる。破砕されたフィラーの使用により、絶縁シート中のフィラーが、橋掛け又は効率的に近接された構造となりやすい。従って、絶縁シートの硬化物の熱伝導性をより一層高めることができる。また、破砕されたフィラーは、一般的に、通常のフィラーに比べて安価である。このため、破砕されたフィラーの使用により、絶縁シートのコストを低減できる。   Examples of the crushed filler include crushed alumina. The crushed filler can be obtained, for example, by crushing a massive inorganic substance using a uniaxial crusher, a biaxial crusher, a hammer crusher, a ball mill, or the like. By using the crushed filler, the filler in the insulating sheet is likely to have a structure that is bridged or effectively brought close together. Therefore, the thermal conductivity of the cured product of the insulating sheet can be further enhanced. Moreover, the crushed filler is generally cheaper than a normal filler. For this reason, the cost of an insulating sheet can be reduced by using the crushed filler.

破砕されたフィラーの平均粒子径は、12μm以下であることが好ましい。平均粒子径が12μmを超えると、絶縁シート中に、破砕されたフィラーを高密度に分散させることができず、絶縁シートの硬化物の絶縁破壊特性が低下することがある。破砕されたフィラーの平均粒子径は、より好ましくは10μm以下、好ましくは1μm以上である。破砕されたフィラーの平均粒子径が小さすぎると、破砕されたフィラーを高密度に充填させることが困難となることがある。   The average particle size of the crushed filler is preferably 12 μm or less. If the average particle diameter exceeds 12 μm, the crushed filler cannot be dispersed with high density in the insulating sheet, and the dielectric breakdown characteristics of the cured product of the insulating sheet may deteriorate. The average particle size of the crushed filler is more preferably 10 μm or less, and preferably 1 μm or more. If the average particle size of the crushed filler is too small, it may be difficult to fill the crushed filler with high density.

破砕されたフィラーのアスペクト比は、特に限定されない。破砕されたフィラーのアスペクト比は、1.5以上、20以下であることが好ましい。アスペクト比が1.5未満のフィラーは、比較的高価である。従って、絶縁シートのコストが高くなる。上記アスペクト比が20以下であると、破砕されたフィラーの充填が容易である。   The aspect ratio of the crushed filler is not particularly limited. The aspect ratio of the crushed filler is preferably 1.5 or more and 20 or less. Fillers with an aspect ratio of less than 1.5 are relatively expensive. Therefore, the cost of the insulating sheet increases. When the aspect ratio is 20 or less, filling of the crushed filler is easy.

破砕されたフィラーのアスペクト比は、例えば、デジタル画像解析方式粒度分布測定装置(商品名:FPA、日本ルフト社製)を用いて、フィラーの破砕面を測定することにより求めることができる。   The aspect ratio of the crushed filler can be determined, for example, by measuring the crushed surface of the filler using a digital image analysis type particle size distribution measuring device (trade name: FPA, manufactured by Nippon Luft).

フィラー(D)が球状のフィラーである場合には、球状のフィラーの平均粒子径は、0.1μm以上、40μm以下であることが好ましい。平均粒子径が0.1μm以上であると、フィラー(D)を高密度で容易に充填できる。平均粒子径が40μm以下であると、硬化物の絶縁破壊特性がより一層高くなる。   When the filler (D) is a spherical filler, the average particle diameter of the spherical filler is preferably 0.1 μm or more and 40 μm or less. When the average particle size is 0.1 μm or more, the filler (D) can be easily filled at a high density. When the average particle size is 40 μm or less, the dielectric breakdown characteristics of the cured product are further enhanced.

上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。   The “average particle diameter” is an average particle diameter obtained from a volume average particle size distribution measurement result measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus.

絶縁シート100体積%中、フィラー(D)の含有量は20体積%以上、90体積%以下であることが好ましい。フィラー(D)の含有量が20〜90体積%であると、硬化物の放熱性がより一層高くなり、更に絶縁シートのハンドリング性がより一層良好になる。硬化物の放熱性をより一層高める観点からは、絶縁シート100体積%中のフィラー(D)の含有量は、30体積%以上であることが特に好ましい。絶縁シート100体積%中のフィラー(D)の含有量は、より好ましくは35体積%以上、より好ましくは85体積%以下、更に好ましくは80体積%以下、特に好ましくは70体積%以下、最も好ましくは60体積%以下である。フィラー(D)の含有量が上記下限以上であると、硬化物の放熱性がより一層高くなる。フィラー(D)の含有量が上記上限以下であると、絶縁シートのハンドリング性がより一層高くなる。   In 100% by volume of the insulating sheet, the content of the filler (D) is preferably 20% by volume or more and 90% by volume or less. When the content of the filler (D) is 20 to 90% by volume, the heat dissipation property of the cured product is further enhanced, and the handling property of the insulating sheet is further improved. From the viewpoint of further improving the heat dissipation of the cured product, the content of the filler (D) in 100% by volume of the insulating sheet is particularly preferably 30% by volume or more. The content of the filler (D) in 100% by volume of the insulating sheet is more preferably 35% by volume or more, more preferably 85% by volume or less, still more preferably 80% by volume or less, particularly preferably 70% by volume or less, and most preferably. Is 60% by volume or less. When the content of the filler (D) is not less than the above lower limit, the heat dissipation of the cured product is further enhanced. When the content of the filler (D) is not more than the above upper limit, the handling property of the insulating sheet is further enhanced.

(酸化防止剤(E))
硬化物の耐熱性をより一層高める観点からは、本発明に係る絶縁シートは、酸化防止剤(E)を含むことがより好ましい。酸化防止剤(E)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Antioxidant (E))
From the viewpoint of further improving the heat resistance of the cured product, the insulating sheet according to the present invention more preferably contains an antioxidant (E). As for antioxidant (E), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

酸化防止剤(E)としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤及びラクトン系酸化防止剤等が挙げられる。硬化物の耐熱性をより一層高める観点からは、酸化防止剤(E)は、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤からなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましく、フェノール系酸化防止剤であることがより好ましい。   Examples of the antioxidant (E) include phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, amine-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, and lactone-based antioxidants. From the viewpoint of further increasing the heat resistance of the cured product, the antioxidant (E) is at least one selected from the group consisting of phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, and amine antioxidants. The phenolic antioxidant is more preferable.

上記フェノール系酸化防止剤の具体例としては、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサン−1,6−ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオンアミド]、ベンゼンプロパン酸、3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ C7−C9側鎖アルキルエステル、3,3’,3’’,5,5’,5’’−ヘキサ−tert−ブチル−a,a’,a’’−(メシチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾール、4,6−ビス(ドデシルチオメチル)−o−クレゾール、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート]、ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、1,3,5−トリス[(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−キシリル)メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、2,6−ジ−tert−ブチル−4−[4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ]フェノール、及びジエチル{[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル}ホスフォネート等が挙げられる。   Specific examples of the phenolic antioxidant include pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], thiodiethylenebis [3- (3,5-di-). tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-hexane-1,6-diylbis [3- ( 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], benzenepropanoic acid, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy C7-C9 side chain alkyl ester, 3, 3 ′, 3 ″, 5,5 ′, 5 ″ -hexa-tert-butyl-a, a ′, a ″-(mesitylene-2 4,6-triyl) tri-p-cresol, 4,6-bis (dodecylthiomethyl) -o-cresol, 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, ethylenebis (oxyethylene) bis [ 3- (5-tert-butyl 4-hydroxy-m-tolyl) propionate], hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,3,5- Tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 1,3,5-tris [( 4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-xylyl) methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 2,6-di-tert -Butyl-4- [4,6-bis (octylthio) -1,3,5-triazin-2-ylamino] phenol and diethyl {[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy Phenyl] methyl} phosphonate and the like.

上記リン系酸化防止剤としては、シクロヘキシルフォスフィン、及びトリフェニルフォスフィン等が挙げられる。さらに、上記リン系酸化防止剤の具体例としては、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)フォスファイト、トリス{2−[(2,4,8,10−テトラ−tert−ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1,3,2〕ジオキサフォスフェフィン−6−イル)オキシ]エチル}アミン、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイト、ビス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル亜リン酸、及びテトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)(1,1−ビフェニル)−4,4’−ジイルビスホスフォナイト等が挙げられる。   Examples of the phosphorus antioxidant include cyclohexylphosphine and triphenylphosphine. Furthermore, specific examples of the phosphorus antioxidant include tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris {2-[(2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenzo). [D, f] [1,3,2] dioxaphosphine-6-yl) oxy] ethyl} amine, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis [2 , 4-Bis (1,1-dimethylethyl) -6-methylphenyl] ethyl ester phosphorous acid and tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) (1,1-biphenyl) -4,4 ′ -Diyl bisphosphonite etc. are mentioned.

上記アミン系酸化防止剤の具体例としては、トリエチルアミン、ジシアンジアミド、メラミン、エチルジアミノ−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−トリル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−キシリル−S−トリアジン、及び第四級アンモニウム塩誘導体等が挙げられる。   Specific examples of the amine antioxidant include triethylamine, dicyandiamide, melamine, ethyldiamino-S-triazine, 2,4-diamino-S-triazine, 2,4-diamino-6-tolyl-S-triazine, 2 , 4-diamino-6-xylyl-S-triazine, quaternary ammonium salt derivatives, and the like.

上記ラクトン系酸化防止剤の具体例としては、3−ヒドロキシ−5,7−ジ−tert−ブチル−フラン−2−オンとo−キシレンの反応生成物等が挙げられる。   Specific examples of the lactone antioxidant include a reaction product of 3-hydroxy-5,7-di-tert-butyl-furan-2-one and o-xylene.

上記フェノール系酸化防止剤の市販品としては、IRGANOX 1010、IRGANOX 1035、IRGANOX 1076、IRGANOX 1135、IRGANOX 245、IRGANOX 259、IRGANOX 295(以上、いずれもチバ・ジャパン社製)、アデカスタブ AO−30、アデカスタブ AO−40、アデカスタブ AO−50、アデカスタブ AO−60、アデカスタブ AO−70、アデカスタブ AO−80、アデカスタブ AO−90、アデカスタブ AO−330(以上、いずれもADEKA社製)、Sumilizer GA−80、Sumilizer MDP−S、Sumilizer BBM−S、Sumilizer GM、Sumilizer GS(F)、Sumilizer GP(以上、いずれも住友化学工業社製)、HOSTANOX O10、HOSTANOX O16、HOSTANOX O14、HOSTANOX O3(以上、いずれもクラリアント社製)、アンテージ BHT、アンテージ W−300、アンテージ W−400、アンテージ W500(以上、いずれも川口化学工業社製)、並びにSEENOX 224M、SEENOX 326M(以上、いずれもシプロ化成社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available phenolic antioxidants include IRGANOX 1010, IRGANOX 1035, IRGANOX 1076, IRGANOX 1135, IRGANOX 245, IRGANOX 259, IRGANOX 295 (all of which are manufactured by Ciba Japan), ADK STAB AO-30, ADK STAB AO-40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-70, ADK STAB AO-80, ADK STAB AO-90, ADK STAB AO-330 (all of which are manufactured by ADEKA), Sumilizer GA-80, and Sumizer MD -S, Sumilizer BBM-S, Sumilizer GM, Sumilizer GS (F), Sumilizer GP , All manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), HOSTANOX O10, HOSTANOX O16, HOSTANOX O14, HOSTANOX O3 (all are manufactured by Clariant), Antage BHT, Antage W-300, Antage W-400, Antage W500 (and above, any As well as SEENOX 224M and SEENOX 326M (all of which are manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.).

上記リン系酸化防止剤の市販品としては、アデアスタブ PEP−4C、アデアスタブ PEP−8、アデアスタブ PEP−24G、アデアスタブ PEP−36、アデアスタブ HP−10、アデアスタブ 2112、アデアスタブ 260、アデアスタブ 522A、アデアスタブ 1178、アデアスタブ 1500、アデアスタブ C、アデアスタブ 135A、アデアスタブ 3010、アデアスタブ TPP(以上、いずれもADEKA社製)、サンドスタブ P−EPQ、ホスタノックス PAR24(以上、いずれもクラリアント社製)、並びにJP−312L、JP−318−0、JPM−308、JPM−313、JPP−613M、JPP−31、JPP−2000PT、JPH−3800(以上、いずれも城北化学工業社製)等が挙げられる。   Commercially available products of the above phosphorus antioxidants include Adeastab PEP-4C, Adeastab PEP-8, Adeastab PEP-24G, Adeastab PEP-36, Adeastab HP-10, Adeastab 2112, Adeastab 260, Adeastab 522A, Adeastab 1178, Adeastab 1500, Adeastab C, Adeastab 135A, Adeastab 3010, Adeastab TPP (all are made by ADEKA), Sandstub P-EPQ, Hostanox PAR24 (all are made by Clariant), and JP-312L, JP-318 -0, JPM-308, JPM-313, JPP-613M, JPP-31, JPP-2000PT, JPH-3800 (all of which are manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.) Etc. The.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、酸化防止剤(E)の含有量は、0.01重量%以上、5.0重量%以下であることが好ましい。全樹脂成分Xの合計100重量%中、酸化防止剤(E)の含有量は、より好ましくは0.05重量%以上、より好ましくは3重量%以下である。酸化防止剤(E)の含有量が上記下限以上であると、硬化物の耐熱性がより一層高くなる。酸化防止剤(E)の含有量が上記上限以下であると、耐熱性の向上に大きく関与しない余剰な酸化防止剤(E)が発生し難くなる。   The content of the antioxidant (E) in the total 100% by weight of the total resin component X is preferably 0.01% by weight or more and 5.0% by weight or less. In the total 100% by weight of all resin components X, the content of the antioxidant (E) is more preferably 0.05% by weight or more, more preferably 3% by weight or less. When the content of the antioxidant (E) is not less than the above lower limit, the heat resistance of the cured product is further increased. When the content of the antioxidant (E) is not more than the above upper limit, it is difficult to generate an excessive antioxidant (E) that does not greatly contribute to the improvement of heat resistance.

(他の成分)
本発明に係る絶縁シートは、ゴム粒子を含んでいてもよい。該ゴム粒子の使用により、絶縁シートの応力緩和性及び柔軟性を高めることができる。
(Other ingredients)
The insulating sheet according to the present invention may contain rubber particles. By using the rubber particles, the stress relaxation property and flexibility of the insulating sheet can be enhanced.

本発明に係る絶縁シートは、分散剤を含んでいてもよい。該分散剤の使用により、硬化物の熱伝導率及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。   The insulating sheet according to the present invention may contain a dispersant. Use of the dispersant can further enhance the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product.

上記分散剤は、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有することが好ましい。上記分散剤が水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有することで、硬化物の熱伝導率及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、例えば、カルボキシル基(pKa=4)、リン酸基(pKa=7)、及びフェノール基(pKa=10)等が挙げられる。   The dispersant preferably has a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties. When the dispersing agent has a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties, the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product can be further enhanced. Examples of the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding include a carboxyl group (pKa = 4), a phosphoric acid group (pKa = 7), a phenol group (pKa = 10), and the like.

上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基のpKaは、好ましくは2以上、より好ましくは3以上、好ましくは10以下、より好ましくは9以下である。上記官能基のpKaが上記下限以上であると、上記分散剤の酸性度が高くなりすぎない。従って、絶縁シートの貯蔵安定性がより一層高くなる。上記官能基のpKaが上記上限以下であると、上記分散剤としての機能が充分に果たされ、硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性がより一層高くなる。   The pKa of the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding property is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, preferably 10 or less, more preferably 9 or less. When the pKa of the functional group is not less than the lower limit, the acidity of the dispersant does not become too high. Therefore, the storage stability of the insulating sheet is further enhanced. When the pKa of the functional group is not more than the above upper limit, the function as the dispersant is sufficiently fulfilled, and the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product are further enhanced.

上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基は、カルボキシル基又はリン酸基であることが好ましい。この場合には、硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性がさらに一層高くなる。   The functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties is preferably a carboxyl group or a phosphate group. In this case, the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product are further enhanced.

上記分散剤としては、具体的には、例えば、ポリエステル系カルボン酸、ポリエーテル系カルボン酸、ポリアクリル系カルボン酸、脂肪族系カルボン酸、ポリシロキサン系カルボン酸、ポリエステル系リン酸、ポリエーテル系リン酸、ポリアクリル系リン酸、脂肪族系リン酸、ポリシロキサン系リン酸、ポリエステル系フェノール、ポリエーテル系フェノール、ポリアクリル系フェノール、脂肪族系フェノール、及びポリシロキサン系フェノール等が挙げられる。上記分散剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the dispersant include a polyester carboxylic acid, a polyether carboxylic acid, a polyacrylic carboxylic acid, an aliphatic carboxylic acid, a polysiloxane carboxylic acid, a polyester phosphoric acid, and a polyether type. Examples thereof include phosphoric acid, polyacrylic phosphoric acid, aliphatic phosphoric acid, polysiloxane phosphoric acid, polyester phenol, polyether phenol, polyacrylic phenol, aliphatic phenol, and polysiloxane phenol. As for the said dispersing agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

絶縁シート100重量%中、上記分散剤の含有量は、好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは20重量%以下、より好ましくは10重量%以下である。上記分散剤の含有量が上記下限以上及び上限以下であると、フィラー(D)の凝集を抑制でき、かつ硬化物の放熱性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。   In 100% by weight of the insulating sheet, the content of the dispersant is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less. . When the content of the dispersant is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, aggregation of the filler (D) can be suppressed, and the heat dissipation and dielectric breakdown characteristics of the cured product can be further enhanced.

ハンドリング性をより一層高めるために、本発明に係る絶縁シートに、ガラスクロス、ガラス不織布、アラミド不織布等の基材物質を含んでいてもよい。ただし、上記基材物質を含まなくても、絶縁シートは室温(23℃)において自立性を有し、かつ優れたハンドリング性を有する。よって、絶縁シートは基材物質を含まないことが好ましく、特にガラスクロスを含まないことが好ましい。絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、絶縁シートの厚みを薄くすることができ、かつ硬化物の熱伝導性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、必要に応じて絶縁シートにレーザー加工又はドリル穴開け加工等の各種加工を容易に行うこともできる。なお、自立性とは、PETフィルム又は銅箔といった支持体が存在しなくても、シートの形状を保持し、シートとして取り扱うことができることをいう。   In order to further improve the handling property, the insulating sheet according to the present invention may contain a base material such as glass cloth, glass nonwoven fabric, and aramid nonwoven fabric. However, even if the base material is not included, the insulating sheet has a self-supporting property at room temperature (23 ° C.) and an excellent handling property. Therefore, the insulating sheet preferably does not contain a base material, and particularly preferably does not contain glass cloth. When an insulating sheet does not contain the said base material, the thickness of an insulating sheet can be made thin and the thermal conductivity of hardened | cured material can be improved further. Furthermore, when an insulating sheet does not contain the said base material, various processes, such as a laser processing or a drilling process, can also be easily performed to an insulating sheet as needed. In addition, self-supporting means that the shape of a sheet can be maintained and handled as a sheet even if there is no support such as a PET film or copper foil.

また、本発明に係る絶縁シートは、スチレン系重合体、(メタ)アクリル系重合体又はフェノキシ樹脂等を含んでいてもよい。   The insulating sheet according to the present invention may contain a styrene polymer, a (meth) acrylic polymer, a phenoxy resin, or the like.

さらに、本発明に係る絶縁シートは、必要に応じて、粘着性付与剤、可塑剤、カップリング剤、チキソ性付与剤、難燃剤、光増感剤及び着色剤などを含んでいてもよい。   Furthermore, the insulating sheet according to the present invention may contain a tackifier, a plasticizer, a coupling agent, a thixotropic agent, a flame retardant, a photosensitizer, a colorant, and the like as necessary.

(絶縁シート)
本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる。
(Insulating sheet)
The insulating sheet according to the present invention is used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer.

本発明に係る絶縁シートの製造方法は特に限定されない。絶縁シートは、例えば、上述した材料を混合した混合物を溶剤キャスト法又は押し出し成膜法等の方法でシート状に成形することにより得ることができる。シート状に成形する際に、脱泡することが好ましい。   The manufacturing method of the insulating sheet which concerns on this invention is not specifically limited. The insulating sheet can be obtained, for example, by forming a mixture obtained by mixing the above-described materials into a sheet shape by a method such as a solvent casting method or an extrusion film forming method. Defoaming is preferred when forming into a sheet.

絶縁シートの厚みは特に限定されない。絶縁シートの厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは50μm以上、更に好ましくは70μm以上、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下、更に好ましくは120μm以下である。厚みが上記下限以上であると、絶縁シートの硬化物の絶縁性が高くなる。厚みが上記上限以下であると、金属体を導電層に接着したときに放熱性が高くなる。   The thickness of the insulating sheet is not particularly limited. The thickness of the insulating sheet is preferably 10 μm or more, more preferably 50 μm or more, further preferably 70 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, and still more preferably 120 μm or less. When the thickness is not less than the above lower limit, the insulating property of the cured product of the insulating sheet is increased. When the thickness is less than or equal to the above upper limit, the heat dissipation becomes high when the metal body is bonded to the conductive layer.

未硬化状態での絶縁シートのガラス転移温度Tgは、25℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が25℃以下であると、絶縁シートが室温において固く、かつ脆くなり難い。このため、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性が高くなる。   The glass transition temperature Tg of the insulating sheet in an uncured state is preferably 25 ° C. or lower. When the glass transition temperature is 25 ° C. or lower, the insulating sheet is hard and not easily brittle at room temperature. For this reason, the handleability of the insulating sheet in an uncured state is enhanced.

絶縁シートが硬化されたときに、絶縁シートの硬化物の25℃での引張弾性率は、好ましくは15000MPa以下、より好ましくは10000MPa以下である。絶縁シートの硬化物の25℃での引張弾性率が上記上限以下であると、絶縁シートの硬化物が固くかつ脆くなりすぎず、絶縁シートの硬化物にクラック等が生じ難くなる。   When the insulating sheet is cured, the tensile elastic modulus at 25 ° C. of the cured product of the insulating sheet is preferably 15000 MPa or less, more preferably 10,000 MPa or less. When the tensile elastic modulus at 25 ° C. of the cured product of the insulating sheet is not more than the above upper limit, the cured product of the insulating sheet is not too hard and brittle, and cracks or the like are hardly generated in the cured product of the insulating sheet.

上記引張弾性率は、例えば、DMA装置(DVA−200、アイティー計測制御社製)にて引張モードで測定できる。また、絶縁シートの硬化物の引張弾性率を測定する際に、絶縁シートの硬化物は、120℃で1時間、次に200℃で1時間の2段階の温度により硬化させることにより得られる。   The tensile elastic modulus can be measured, for example, in a tensile mode using a DMA device (DVA-200, manufactured by IT Measurement Control Co., Ltd.). Moreover, when measuring the tensile elasticity modulus of the hardened | cured material of an insulating sheet, the hardened | cured material of an insulating sheet is obtained by making it harden | cure by the temperature of two steps of 120 degreeC for 1 hour and then 200 degreeC for 1 hour.

絶縁シートの硬化物の熱伝導性は、好ましくは0.7W/m・K以上、より好ましくは1.0W/m・K以上、更に好ましくは1.5W/m・K以上である。熱伝導率が上記下限以上であると、絶縁シートの硬化物の放熱性が充分に高くなる。   The thermal conductivity of the cured product of the insulating sheet is preferably 0.7 W / m · K or more, more preferably 1.0 W / m · K or more, and further preferably 1.5 W / m · K or more. The heat dissipation of the hardened | cured material of an insulating sheet becomes high enough that heat conductivity is more than the said minimum.

絶縁シートの硬化物の絶縁破壊電圧は、好ましくは30kV/mm以上、より好ましくは40kV/mm以上、更に好ましくは50kV/mm以上、特に好ましくは80kV/mm以上、最も好ましくは100kV/mm以上である。絶縁破壊電圧が低すぎると、絶縁シートが例えば電力素子用のような大電流用途に用いられた場合に、絶縁性が低くなることがある。   The dielectric breakdown voltage of the cured product of the insulating sheet is preferably 30 kV / mm or more, more preferably 40 kV / mm or more, still more preferably 50 kV / mm or more, particularly preferably 80 kV / mm or more, and most preferably 100 kV / mm or more. is there. If the dielectric breakdown voltage is too low, the insulating property may be lowered when the insulating sheet is used for a large current application such as for a power element.

(積層構造体)
本発明に係る絶縁シートは、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されている積層構造体の絶縁層を構成するのに好適に用いられる。
(Laminated structure)
The insulating sheet according to the present invention constitutes an insulating layer of a laminated structure in which a conductive layer is laminated via an insulating layer on at least one side of a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more. Is preferably used.

図1に、本発明の一実施形態に係る絶縁シートを用いた積層構造体の一例を示す。   In FIG. 1, an example of the laminated structure using the insulating sheet which concerns on one Embodiment of this invention is shown.

図1に示す積層構造体1は、熱伝導体2と、熱伝導体2の一方の面2aに積層された絶縁層3と、絶縁層3の熱伝導体2が積層された表面とは反対側の表面に積層された導電層4とを備える。絶縁層3は、本発明に係る絶縁シートを硬化させることにより形成されている。熱伝導体2の熱伝導率は10W/m・K以上である。   The laminated structure 1 shown in FIG. 1 is opposite to the heat conductor 2, the insulating layer 3 laminated on one surface 2a of the heat conductor 2, and the surface of the insulating layer 3 on which the heat conductor 2 is laminated. And a conductive layer 4 laminated on the surface on the side. The insulating layer 3 is formed by curing the insulating sheet according to the present invention. The heat conductivity of the heat conductor 2 is 10 W / m · K or more.

熱伝導体2の少なくとも一方の面2aに、絶縁層3と導電層4とがこの順に積層されていればよく、熱伝導体2の他方の面2bにも、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていてもよい。   It is only necessary that the insulating layer 3 and the conductive layer 4 are laminated in this order on at least one surface 2a of the heat conductor 2, and the insulating layer and the conductive layer are also formed on the other surface 2b of the heat conductor 2. You may laminate | stack in order.

積層構造体1では、絶縁層3が高い熱伝導率を有するので、導電層4側からの熱が絶縁層3を介して熱伝導体2に伝わりやすい。積層構造体1では、熱伝導体2によって熱を効率的に放散させることができる。   In the laminated structure 1, since the insulating layer 3 has a high thermal conductivity, heat from the conductive layer 4 side is easily transmitted to the thermal conductor 2 through the insulating layer 3. In the laminated structure 1, heat can be efficiently dissipated by the heat conductor 2.

例えば、両面に銅回路が設けられた積層板又は多層配線板、銅箔、銅板、半導体素子又は半導体パッケージ等の各導電層に、絶縁シートを介して金属体を接着した後、絶縁シートを硬化させることにより、積層構造体1を得ることができる。   For example, after bonding a metal body to each conductive layer such as a laminated board or multilayer wiring board provided with copper circuits on both sides, copper foil, copper plate, semiconductor element or semiconductor package via an insulating sheet, the insulating sheet is cured. By doing so, the laminated structure 1 can be obtained.

上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体は特に限定されない。上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体としては、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム又はグラファイトシート等が挙げられる。中でも、上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体は、銅又はアルミニウムであることが好ましい。銅又はアルミニウムは、放熱性に優れている。   The heat conductor whose heat conductivity is 10 W / m · K or more is not particularly limited. Examples of the heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more include aluminum, copper, alumina, beryllia, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, and graphite sheet. Especially, it is preferable that the heat conductor whose said heat conductivity is 10 W / m * K or more is copper or aluminum. Copper or aluminum is excellent in heat dissipation.

本発明に係る絶縁シートは、基板上に半導体素子が実装されている半導体装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を接着するために好適に用いられる。   The insulating sheet according to the present invention is suitably used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of a semiconductor device in which a semiconductor element is mounted on a substrate.

本発明に係る絶縁シートは、半導体素子以外の電子部品素子が基板上に搭載されている電子部品装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を接着するためにも好適に用いられる。   The insulating sheet according to the present invention adheres a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of an electronic component device in which electronic component elements other than semiconductor elements are mounted on a substrate. Also preferably used.

半導体素子が大電流用の電力用デバイス素子である場合には、絶縁シートの硬化物には、絶縁性又は耐熱性等により一層優れていることが求められる。従って、このような用途に、本発明の絶縁シートは好適に用いられる。   When the semiconductor element is a power device element for a large current, the cured product of the insulating sheet is required to be more excellent in insulation or heat resistance. Therefore, the insulating sheet of this invention is used suitably for such a use.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. The present invention is not limited to the following examples.

以下の材料を用意した。   The following materials were prepared.

[ポリビニルアセタール樹脂(A)]
(1)ポリビニルブチラール1(積水化学工業社製、商品名:BL−5、重量平均分子量32000、ガラス転移温度62℃、水酸基の含有率21モル%、アセチル化度3モル%以下、ブチラール化度77モル%以上)
(2)ポリビニルブチラール2(積水化学工業社製、商品名:BM−S、重量平均分子量53000、ガラス転移温度60℃、水酸基の含有率22モル%、アセチル化度4〜6モル%、ブチラール化度73モル%)
(3)ポリビニルブチラール3(積水化学工業社製、商品名:BH−S、重量平均分子量66000、ガラス転移温度64℃、水酸基の含有率22モル%、アセチル化度4〜6モル%、ブチラール化度73モル%)
[Polyvinyl acetal resin (A)]
(1) Polyvinyl butyral 1 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name: BL-5, weight average molecular weight 32000, glass transition temperature 62 ° C., hydroxyl group content 21 mol%, acetylation degree 3 mol% or less, butyral degree) 77 mol% or more)
(2) Polyvinyl butyral 2 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name: BM-S, weight average molecular weight 53,000, glass transition temperature 60 ° C., hydroxyl group content 22 mol%, acetylation degree 4 to 6 mol%, butyral) Degree 73 mol%)
(3) Polyvinyl butyral 3 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name: BH-S, weight average molecular weight 66000, glass transition temperature 64 ° C., hydroxyl group content 22 mol%, acetylation degree 4-6 mol%, butyralization Degree 73 mol%)

[ポリビニルアセタール樹脂(A)以外のポリマー]
エポキシ基含有アクリル樹脂(日油社製、商品名:マープルーフG−0130S、Mw=9000、Tg=69℃)
[Polymers other than polyvinyl acetal resin (A)]
Epoxy group-containing acrylic resin (manufactured by NOF Corporation, trade name: Marproof G-0130S, Mw = 9000, Tg = 69 ° C.)

[エポキシ基を有するエポキシ化合物(B1)]
(1)ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピコート828US、Mw=370)
(2)ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピコート806L、Mw=370)
(3)3官能グリシジルジアミン型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピコート630、Mw=300)
(4)フルオレン骨格エポキシ樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:オンコートEX1011、Mw=486)
(5)ナフタレン骨格液状エポキシ樹脂(DIC社製、商品名:EPICLON HP−4032D、Mw=304)
(6)ヘキサヒドロフタル酸骨格液状エポキシ樹脂(日本化薬社製、商品名:AK−601、Mw=284)
(7)ビスフェノールA型固体状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:1003、Mw=1300)
[Epoxy compound having epoxy group (B1)]
(1) Bisphenol A type liquid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: Epicoat 828US, Mw = 370)
(2) Bisphenol F type liquid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: Epicoat 806L, Mw = 370)
(3) Trifunctional glycidyldiamine type liquid epoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: Epicoat 630, Mw = 300)
(4) Fluorene skeleton epoxy resin (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., trade name: ONCOAT EX1011, Mw = 486)
(5) Naphthalene skeleton liquid epoxy resin (manufactured by DIC, trade name: EPICLON HP-4032D, Mw = 304)
(6) Hexahydrophthalic acid skeleton liquid epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: AK-601, Mw = 284)
(7) Bisphenol A type solid epoxy resin (product name: 1003, Mw = 1300, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)

[オキセタン基を有するオキセタン化合物(A2)]
(1)ベンゼン骨格含有オキセタン樹脂(宇部興産社製、商品名:エタナコールOXTP、Mw=362.4)
[Oxetane compound having oxetane group (A2)]
(1) Oxetane resin containing benzene skeleton (manufactured by Ube Industries, trade name: etanacol OXTP, Mw = 362.4)

[硬化剤(C)]
(1)脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:MH−700)
(2)芳香族骨格酸無水物(サートマー・ジャパン社製、商品名:SMAレジンEF60)
(3)多脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:HNA−100)
(4)テルペン系骨格酸無水物(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:エピキュアYH−306)
(5)ビフェニル骨格フェノール樹脂(明和化成社製、商品名:MEH−7851−S)
(6)アリル基含有骨格フェノール樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:YLH−903)
(7)トリアジン骨格系フェノール樹脂(DIC社製、商品名:フェノライトKA−7052−L2)
(8)メラミン骨格系フェノール樹脂(群栄化学工業社製、商品名:PS−6492)
(9)ジシアンジアミド(ジャパンエポキシレジン社製、商品名:DICY7)
[Curing agent (C)]
(1) Alicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., trade name: MH-700)
(2) Aromatic skeleton acid anhydride (manufactured by Sartomer Japan, trade name: SMA resin EF60)
(3) Polyalicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., trade name: HNA-100)
(4) Terpene-based skeleton acid anhydride (manufactured by Japan Epoxy Resin, trade name: Epicure YH-306)
(5) Biphenyl skeleton phenolic resin (Madewa Kasei Co., Ltd., trade name: MEH-7851-S)
(6) Allyl group-containing skeletal phenol resin (manufactured by Japan Epoxy Resin, trade name: YLH-903)
(7) Triazine skeleton phenolic resin (manufactured by DIC, trade name: Phenolite KA-7052-L2)
(8) Melamine skeleton phenolic resin (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., trade name: PS-6492)
(9) Dicyandiamide (trade name: DICY7, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)

[フィラー(D)]
(1)5μm破砕アルミナ(破砕フィラー、日本軽金属社製、商品名:LT300C、平均粒子径5μm、最大粒子径15μm、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(2)2μm破砕アルミナ(破砕フィラー、日本軽金属社製、商品名:LS−242C、平均粒子径2μm、最大粒子径20μm、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(3)球状アルミナ(デンカ社製、商品名:DAM−10、平均粒子径10μm、最大粒子径30μm、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(4)合成マグネサイト(神島化学社製、商品名:MSL、平均粒子径6μm、最大粒子径20μm、熱伝導率15W/m・K、新モース硬度3.5)
(5)窒化アルミニウム(東洋アルミ社製、商品名:TOYALNITE―FLX、平均粒子径14μm、最大粒子径30μm、熱伝導率200W/m・K新モース硬度11)
(6)結晶シリカ(龍森社製、商品名:クリスタライトCMC−12、平均粒子径5μm、最大粒子径20μm、熱伝導率10W/m・K、新モース硬度9)
(7)炭化ケイ素(信濃電気製錬社製、商品名:シナノランダムGP#700、平均粒子径17μm、最大粒子径70μm、熱伝導率125W/m・K、新モース硬度13)
(8)酸化亜鉛(堺化学工業社製、商品名:LPZINC−5、平均粒子径5μm、最大粒子径20μm、熱伝導率54W/m・K、新モース硬度5)
(9)酸化マグネシウム(堺化学工業社製、商品名:SMO Large Particle、平均粒子径1.1μm、最大粒子径7μm、熱伝導率35W/m・K、新モース硬度6)
[Filler (D)]
(1) 5 μm crushed alumina (crushed filler, manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., trade name: LT300C, average particle diameter 5 μm, maximum particle diameter 15 μm, thermal conductivity 36 W / m · K, new Mohs hardness 12)
(2) 2 μm crushed alumina (crushed filler, manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., trade name: LS-242C, average particle diameter 2 μm, maximum particle diameter 20 μm, thermal conductivity 36 W / m · K, new Mohs hardness 12)
(3) Spherical alumina (Denka Co., Ltd., trade name: DAM-10, average particle size 10 μm, maximum particle size 30 μm, thermal conductivity 36 W / m · K, new Mohs hardness 12)
(4) Synthetic magnesite (Kamishima Chemical Co., Ltd., trade name: MSL, average particle diameter 6 μm, maximum particle diameter 20 μm, thermal conductivity 15 W / m · K, new Mohs hardness 3.5)
(5) Aluminum nitride (manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd., trade name: TOYALNITE-FLX, average particle diameter 14 μm, maximum particle diameter 30 μm, thermal conductivity 200 W / m · K new Mohs hardness 11)
(6) Crystalline silica (manufactured by Tatsumori Co., Ltd., trade name: Crystallite CMC-12, average particle size 5 μm, maximum particle size 20 μm, thermal conductivity 10 W / m · K, new Mohs hardness 9)
(7) Silicon carbide (manufactured by Shinano Electric Smelting Co., Ltd., trade name: Shinano Random GP # 700, average particle diameter 17 μm, maximum particle diameter 70 μm, thermal conductivity 125 W / m · K, new Mohs hardness 13)
(8) Zinc oxide (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., trade name: LPZINC-5, average particle diameter 5 μm, maximum particle diameter 20 μm, thermal conductivity 54 W / m · K, new Mohs hardness 5)
(9) Magnesium oxide (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., trade name: SMO Large Particle, average particle size 1.1 μm, maximum particle size 7 μm, thermal conductivity 35 W / m · K, new Mohs hardness 6)

[フィラー(D)以外の他のフィラー]
(1)溶融シリカ(トクヤマ社製、商品名SE15、平均粒径15μm、新モース硬度7)
[Fillers other than filler (D)]
(1) Fused silica (manufactured by Tokuyama Corporation, trade name SE15, average particle size 15 μm, new Mohs hardness 7)

[酸化防止剤(E)]
(1)フェノール系酸化防止剤(チバ社製、商品名:IRGANOX1010)
[Antioxidant (E)]
(1) Phenol antioxidant (Ciba, trade name: IRGANOX1010)

[分散剤]
(1)アクリル系分散剤(ビックケミージャパン社製、商品名:Disperbyk−2070、pKaが4のカルボキシル基を有する)
(2)ポリエーテル系分散剤(楠本化成社製、商品名:ED151、pKaが7のリン酸基を有する)
[Dispersant]
(1) Acrylic dispersant (manufactured by Big Chemie Japan, trade name: Disperbyk-2070, pKa has a carboxyl group of 4)
(2) Polyether-based dispersant (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., trade name: ED151, pKa has 7 phosphate groups)

[添加剤]
(1)エポキシシランカップリング剤(信越化学工業社製、商品名:KBE403)
[Additive]
(1) Epoxysilane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBE403)

[溶剤]
(1)メチルエチルケトン
[solvent]
(1) Methyl ethyl ketone

(実施例1〜30及び比較例1〜4)
ホモディスパー型攪拌機を用いて、下記の表1〜5に示す割合(配合単位は重量部)で各原料を配合し、混練し、絶縁材料を調製した。
(Examples 1-30 and Comparative Examples 1-4)
Using a homodisper type stirrer, each raw material was blended in the proportions shown in Tables 1 to 5 below (the blending unit is parts by weight) and kneaded to prepare an insulating material.

厚み50μmの離型PETシートに、上記絶縁材料を100μmの厚みになるように塗工し、90℃のオーブン内で30分乾燥して、PETシート上に絶縁シートを作製した。   The insulating material was applied to a release PET sheet having a thickness of 50 μm so as to have a thickness of 100 μm, and dried in an oven at 90 ° C. for 30 minutes to produce an insulating sheet on the PET sheet.

(評価)
(1)ハンドリング性
PETシートと、該PETシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを460mm×610mmの大きさに切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを用いて、室温(23℃)でPETシートから熱硬化前の絶縁シートを剥離したときのハンドリング性を下記の基準で評価した。
(Evaluation)
(1) Handling property A laminate sheet having a PET sheet and an insulating sheet formed on the PET sheet was cut into a size of 460 mm x 610 mm to obtain a test sample. Using the obtained test sample, handling properties when the insulating sheet before thermosetting was peeled from the PET sheet at room temperature (23 ° C.) were evaluated according to the following criteria.

[ハンドリング性の判定基準]
〇:絶縁シートの変形がなく、容易に剥離可能
△:絶縁シートを剥離できるものの、シート伸び又は破断が発生する
×:絶縁シートを剥離できない
[Handling criteria]
○: The insulating sheet is not deformed and can be easily peeled. Δ: The insulating sheet can be peeled, but the sheet is stretched or broken. ×: The insulating sheet cannot be peeled.

(2)ガラス転移温度
示差走査熱量測定装置「DSC220C」(セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、3℃/分の昇温速度で未硬化状態での絶縁シートのガラス転移温度を測定した。
(2) Glass transition temperature Using a differential scanning calorimeter “DSC220C” (manufactured by Seiko Instruments Inc.), the glass transition temperature of the insulating sheet in an uncured state was measured at a rate of temperature increase of 3 ° C./min.

(3)熱伝導率
京都電子工業社製熱伝導率計「迅速熱伝導率計QTM−500」を用いて、絶縁シートの熱伝導率を測定した。
(3) Thermal conductivity The thermal conductivity of the insulating sheet was measured using a thermal conductivity meter “quick thermal conductivity meter QTM-500” manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.

(4)半田耐熱試験
厚み1.5mmのアルミニウム板と厚み35μmの電解銅箔との間に絶縁シートを挟み、真空プレス機で4MPaの圧力を保持しながら120℃で1時間、更に200℃で1時間、絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。得られた銅張り積層板を50mm×60mmの大きさに切り出し、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを288℃の半田浴に銅箔側を下に向けて浮かべ、銅箔の膨れ又は剥がれが発生するまでの時間を測定し、以下の基準で判定した。
(4) Solder heat resistance test An insulating sheet is sandwiched between an aluminum plate having a thickness of 1.5 mm and an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm, and while maintaining a pressure of 4 MPa with a vacuum press machine at 120 ° C. for 1 hour, further at 200 ° C. The insulating sheet was press-cured for 1 hour to form a copper-clad laminate. The obtained copper-clad laminate was cut into a size of 50 mm × 60 mm to obtain a test sample. The obtained test sample was floated in a solder bath at 288 ° C. with the copper foil side facing down, and the time until the copper foil swelled or peeled off was measured and judged according to the following criteria.

[半田耐熱試験の判定基準]
○○:10分経過しても膨れ及び剥離の発生なし
○:3分経過後、かつ10分経過する前に膨れ又は剥離が発生
△:1分経過後、かつ3分経過する前に膨れ又は剥離が発生
×:1分経過する前に膨れ又は剥離が発生
[Criteria for solder heat resistance test]
○: No swelling or peeling even after 10 minutes ○: Swelling or peeling occurs after 3 minutes and before 10 minutes Δ: Swelling or after 3 minutes and before 3 minutes Peeling occurs ×: Swelling or peeling occurs before 1 minute elapses

(5)絶縁破壊電圧
絶縁シートを100mm×100mmの大きさに切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを120℃のオーブン内で1時間、更に200℃のオーブン内で1時間硬化させ、絶縁シートの硬化物を得た。耐電圧試験器(MODEL7473、EXTECH Electronics社製)を用いて、絶縁シートの硬化物間に1kV/秒の速度で電圧が上昇するように、交流電圧を印加した。絶縁シートの硬化物が破壊した電圧を、絶縁破壊電圧とした。
(5) Dielectric breakdown voltage The insulation sheet was cut out to a size of 100 mm × 100 mm to obtain a test sample. The obtained test sample was cured in an oven at 120 ° C. for 1 hour and further in an oven at 200 ° C. for 1 hour to obtain a cured product of an insulating sheet. An AC voltage was applied using a withstand voltage tester (MODEL7473, manufactured by EXTECH Electronics) so that the voltage increased at a rate of 1 kV / second between the cured products of the insulating sheet. The voltage at which the cured product of the insulating sheet was broken was defined as the dielectric breakdown voltage.

(6)加工性
厚み1.5mmのアルミニウム板と厚み35μmの電解銅箔との間に絶縁シートを挟み、真空プレス機で4MPaの圧力を保持しながら120℃で1時間、更に200℃で1時間、絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。得られた銅張り積層板を直径2.0mmのドリル(ユニオンツール社製、RA series)を用いて、回転数30000及びテーブル送り速度0.5m/分の条件でルーター加工した。ばりが発生するまでの加工距離を測定し、加工性を以下の基準で評価した。
(6) Workability An insulating sheet is sandwiched between an aluminum plate having a thickness of 1.5 mm and an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm, and the pressure of 4 MPa is maintained with a vacuum press machine at 120 ° C. for 1 hour, and further at 200 ° C. The insulating sheet was press cured for a time to form a copper-clad laminate. The obtained copper-clad laminate was router-processed using a drill with a diameter of 2.0 mm (Union Tool, RA series) under conditions of a rotation speed of 30000 and a table feed speed of 0.5 m / min. The processing distance until the flash was generated was measured, and the workability was evaluated according to the following criteria.

[加工性の判定基準]
○○:ばりが発生することなく20m以上加工可能
○:ばりが発生することなく5m以上、20m未満加工可能
△:ばりが発生することなく1m以上、5m未満加工可能
×:1m未満の加工によりばりが発生
[Criteria for workability]
○○: Machining of 20m or more without burring ○: Machining of 5m or more and less than 20m without burring △: Machining of 1m or more but less than 5m without burring × By machining of less than 1m Burr occurs

(7)弾性率
絶縁シートを5mm×50mmの大きさに切り出した後、120℃で1時間、200℃で1時間オーブン内で硬化させ、テストサンプルを作製した。このテストサンプルを用いて、DMA装置(DVA−200、アイティー計測制御社製)にて引張モード、チャック間距離24mm、昇温速度5℃毎分、測定周波数10Hz及び1%歪みの各条件で−60〜320℃まで昇温した時の温度−貯蔵弾性率(E’)を読み取った。得られた測定値から、絶縁シートの硬化物の25℃での引張弾性率を評価した。
(7) Elastic modulus After cutting the insulating sheet into a size of 5 mm × 50 mm, it was cured in an oven at 120 ° C. for 1 hour and at 200 ° C. for 1 hour to prepare a test sample. Using this test sample, in a DMA apparatus (DVA-200, manufactured by IT Measurement & Control Co., Ltd.) under tension mode, distance between chucks of 24 mm, heating rate of 5 ° C. per minute, measurement frequency of 10 Hz and 1% strain. The temperature-storage elastic modulus (E ′) when the temperature was raised to −60 to 320 ° C. was read. From the measured value obtained, the tensile elastic modulus at 25 ° C. of the cured product of the insulating sheet was evaluated.

結果を下記の表1〜5に示す。   The results are shown in Tables 1 to 5 below.

Figure 2012067221
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1…積層構造体
2…熱伝導体
2a…第1の表面
2b…第2の表面
3…絶縁層
4…導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated structure 2 ... Thermal conductor 2a ... 1st surface 2b ... 2nd surface 3 ... Insulating layer 4 ... Conductive layer

Claims (10)

熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる絶縁シートであって、
重量平均分子量が10000以上であるポリビニルアセタール樹脂と、
エポキシ基又はオキセタン基を有する硬化性化合物と、
硬化剤と、
熱伝導率が10W/m・K以上であるフィラーとを含む、絶縁シート。
An insulating sheet used for bonding a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer,
A polyvinyl acetal resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more;
A curable compound having an epoxy group or an oxetane group;
A curing agent;
An insulating sheet comprising a filler having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more.
前記ポリビニルアセタール樹脂が、ポリビニルブチラールである、請求項1に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 1, wherein the polyvinyl acetal resin is polyvinyl butyral. 前記ポリビニルアセタール樹脂のガラス転移温度が40℃以上、75℃以下である、請求項1又は2に記載の絶縁シート。   The insulating sheet of Claim 1 or 2 whose glass transition temperature of the said polyvinyl acetal resin is 40 degreeC or more and 75 degrees C or less. 前記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基の含有率が20モル%以上、40モル%以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of hydroxyl groups in the polyvinyl acetal resin is 20 mol% or more and 40 mol% or less. 前記フィラーの新モース硬度が9以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 1, wherein the filler has a new Mohs hardness of 9 or less. 前記硬化剤が、芳香族骨格を有さない、請求項1〜5のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to claim 1, wherein the curing agent does not have an aromatic skeleton. 前記硬化剤が、下記式(1)〜(4)の内のいずれかで表される酸無水物、又はジシアンジアミドである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の絶縁シート。
Figure 2012067221
Figure 2012067221
Figure 2012067221
Figure 2012067221
上記式(4)中、R1及びR2はそれぞれ水素、炭素数1〜5のアルキル基又は水酸基を示す。
The insulating sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein the curing agent is an acid anhydride or dicyandiamide represented by any of the following formulas (1) to (4).
Figure 2012067221
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Figure 2012067221
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In said formula (4), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group, respectively.
酸化防止剤をさらに含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の絶縁シート。   The insulating sheet according to any one of claims 1 to 7, further comprising an antioxidant. 熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と、
前記熱伝導体の少なくとも一方の表面に積層された絶縁層と、
前記絶縁層の前記熱伝導体が積層された表面とは反対側の表面に積層された導電層とを備え、
前記絶縁層が、請求項1〜8のいずれか1項に記載の絶縁シートを硬化させることにより形成されている、積層構造体。
A thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more;
An insulating layer laminated on at least one surface of the thermal conductor;
A conductive layer laminated on a surface opposite to the surface on which the thermal conductor of the insulating layer is laminated,
The laminated structure in which the said insulating layer is formed by hardening the insulating sheet of any one of Claims 1-8.
前記熱伝導体が金属である、請求項9に記載の積層構造体。   The laminated structure according to claim 9, wherein the heat conductor is a metal.
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