JP4987161B1 - Insulation material - Google Patents

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Abstract

【課題】硬化後の硬化物の熱伝導性に優れており、かつ該硬化物の耐湿性にも優れている絶縁材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る絶縁材料は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体2と導電層4とを接着するために用いられ、絶縁シート又は絶縁ペーストである。本発明に係る絶縁材料は、分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、シリカと、アルミニウム原子を有する有機化合物とを含む。上記絶縁材料100重量%中、上記シリカの含有量は15体積%以上、70体積%以下である。
【選択図】図1
The present invention provides an insulating material that is excellent in thermal conductivity of a cured product after curing and also excellent in moisture resistance of the cured product.
An insulating material according to the present invention is an insulating sheet or an insulating paste used for bonding a thermal conductor 2 having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more and a conductive layer 4. The insulating material according to the present invention includes a curable compound having a molecular weight of less than 10,000 and having a cyclic ether group, a curing agent, silica, and an organic compound having an aluminum atom. In 100% by weight of the insulating material, the content of silica is 15% by volume or more and 70% by volume or less.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、硬化性化合物と硬化剤と無機フィラーとを含む絶縁材料に関する。また、本発明は、該絶縁材料を用いた積層構造体に関する。   The present invention relates to an insulating material containing a curable compound, a curing agent, and an inorganic filler. The present invention also relates to a laminated structure using the insulating material.

電子機器及び通信機器では、絶縁層を有するプリント配線板が用いられている。該絶縁層は、ペースト状又はシート状の絶縁接着材料を用いて形成されている。   In electronic devices and communication devices, printed wiring boards having an insulating layer are used. The insulating layer is formed using a paste-like or sheet-like insulating adhesive material.

上記絶縁接着材料の一例として、下記の特許文献1には、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、エラストマー及び無機充填剤を含む接着剤組成物を、ガラスクロスに含浸させた絶縁接着シートが開示されている。   As an example of the above-mentioned insulating adhesive material, the following patent document 1 discloses an insulating adhesive in which a glass cloth is impregnated with an adhesive composition containing an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, a curing accelerator, an elastomer and an inorganic filler. A sheet is disclosed.

ガラスクロスを含まない絶縁接着材料も知られている。例えば、下記の特許文献2の実施例には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、フェノールノボラック、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及びアルミナを含む絶縁接着剤が開示されている。   Insulating adhesive materials that do not contain glass cloth are also known. For example, the example of Patent Document 2 below includes an insulating adhesive containing bisphenol A type epoxy resin, phenoxy resin, phenol novolak, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and alumina. Agents are disclosed.

特開2006−342238号公報JP 2006-342238 A 特開平8−332696号公報JP-A-8-332696

近年、電子機器及び通信機器の小型化及び高性能化が進行している。このため、上記電子機器及び通信機器に用いられるプリント配線板では、多層化及び薄膜化が進行しており、かつ電子部品の実装密度が高くなっている。これに伴って、電子部品から大きな熱量が発生しやすくなっており、発生した熱を放散させる必要が高まっている。熱を放散させるために、プリント配線板の絶縁層は、かなり高い熱伝導率を有する必要がある。   In recent years, electronic devices and communication devices have been reduced in size and performance. For this reason, in the printed wiring board used for the said electronic device and communication apparatus, multilayering and a thin film are progressing, and the mounting density of an electronic component is high. Along with this, a large amount of heat is easily generated from the electronic components, and the need to dissipate the generated heat is increasing. In order to dissipate heat, the insulating layer of the printed wiring board needs to have a fairly high thermal conductivity.

しかしながら、特許文献1,2に記載のような従来の絶縁接着材料の硬化物では、熱伝導性が充分に高くならないことがある。   However, the conventional cured products of insulating adhesive materials described in Patent Documents 1 and 2 may not have sufficiently high thermal conductivity.

さらに、従来の絶縁接着材料の硬化物では、耐湿性が低くなることがある。例えば、硬化物のプレッシャークッカーテスト(PCT)を行ったときに、硬化物の耐電圧性が低くなることがある。   Furthermore, moisture resistance may be lowered in the cured product of the conventional insulating adhesive material. For example, when a pressure cooker test (PCT) of a cured product is performed, the voltage resistance of the cured product may be lowered.

本発明の目的は、硬化後の硬化物の熱伝導性に優れており、かつ該硬化物の耐湿性にも優れている絶縁材料を提供することである。また、本発明の限定的な目的は、シート状であるときに、取扱性が良好である絶縁材料を提供することである。   The objective of this invention is providing the insulating material which is excellent in the heat conductivity of the hardened | cured material after hardening, and is excellent also in the moisture resistance of this hardened | cured material. Moreover, the limited object of this invention is to provide the insulating material which is easy to handle when it is in sheet form.

また、本発明の目的は、硬化後の硬化物の熱伝導性に優れており、かつ該硬化物の耐湿性にも優れている積層構造体を提供することである。   Moreover, the objective of this invention is providing the laminated structure which is excellent in the heat conductivity of the hardened | cured material after hardening, and is excellent also in the moisture resistance of this hardened | cured material.

本発明の広い局面によれば、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と導電層とを接着するために用いられる絶縁シートであるか、又は上記熱伝導体もしくは上記導電層上でシート化された後に該熱伝導体と該導電層とを接着するために用いられる絶縁ペーストである絶縁材料(プリプレグを除く)であって、分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、シリカと、アルミニウム原子を有する有機化合物とを含み、上記硬化性化合物が、エポキシ基を有するエポキシ化合物又はオキセタニル基を有するオキセタン化合物であり、上記アルミニウム原子を有する有機化合物が、アルミニウム系カップリング剤であり、絶縁材料100重量%中、上記シリカの含有量が15体積%以上、70体積%以下である、絶縁材料が提供される。 According to a wide aspect of the present invention, it is an insulating sheet used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more and a conductive layer, or the heat conductor or the conductive layer. An insulating material (excluding a prepreg) which is an insulating paste used for bonding the thermal conductor and the conductive layer after being formed into a sheet above, having a molecular weight of less than 10,000 and having a cyclic ether group A curable compound, a curing agent, silica, and an organic compound having an aluminum atom, wherein the curable compound is an epoxy compound having an epoxy group or an oxetane compound having an oxetanyl group, and has the aluminum atom. organic compound, an aluminum-based coupling agent, an insulating material 100 wt%, the content of the silica is 15% by volume or more, 70 bodies % Or less, the insulating material is provided.

また、本発明の広い局面によれば、上述した絶縁材料を用いた積層構造体が提供される。   Moreover, according to the wide situation of this invention, the laminated structure using the insulating material mentioned above is provided.

すなわち、本発明の広い局面によれば、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と、該熱伝導体の表面に積層された絶縁層と、該絶縁層の上記熱伝導体側とは反対の表面に積層された導電層とを備え、上記絶縁層が、絶縁材料(但し、プリプレグを除く)をシート状で硬化させることにより形成されており、上記絶縁材料が、分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、シリカと、アルミニウム原子を有する有機化合物とを含み、上記硬化性化合物が、エポキシ基を有するエポキシ化合物又はオキセタニル基を有するオキセタン化合物であり、上記アルミニウム原子を有する有機化合物が、アルミニウム系カップリング剤であり、上記絶縁材料100重量%中、上記シリカの含有量が15体積%以上、70体積%以下である、積層構造体が提供される。 That is, according to the wide aspect of the present invention, a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, an insulating layer laminated on the surface of the heat conductor, and the heat conductor side of the insulating layer A conductive layer laminated on the surface opposite to the above, and the insulating layer is formed by curing an insulating material (except prepreg) in a sheet form, and the insulating material has a molecular weight of 10,000. And a curable compound having a cyclic ether group, a curing agent, silica, and an organic compound having an aluminum atom, and the curable compound has an epoxy compound having an epoxy group or an oxetane having an oxetanyl group. a compound, an organic compound having an aluminum atom, an aluminum-based coupling agent, the insulating material 100 wt%, the content of the silica is 15 Product% or more, 70% by volume or less, the laminated structure is provided.

本明細書では、上述した絶縁材料に関する発明と、上述した積層構造体に関する発明との双方が開示される。   In this specification, both the invention related to the insulating material described above and the invention related to the laminated structure described above are disclosed.

記絶縁材料は、シランカップリング剤をさらに含むことが好ましい。上記シリカは破砕シリカであることが好ましい。上記絶縁材料は、有機フィラーを含み、上記絶縁材料100重量%中、上記有機フィラーの含有量は0.1体積%以上、3体積%以下であることが好ましい。上記絶縁材料は、重量平均分子量が10000以上であるポリマーをさらに含むことが好ましい。上記硬化剤は、塩基性の硬化剤を含むことが好ましい。上記熱伝導体は金属であることが好ましい。
Upper Symbol insulating material preferably further comprises a silane coupling agent. The silica is preferably crushed silica. The insulating material includes an organic filler, and the content of the organic filler is preferably 0.1% by volume or more and 3% by volume or less in 100% by weight of the insulating material. The insulating material preferably further includes a polymer having a weight average molecular weight of 10,000 or more. The curing agent preferably contains a basic curing agent. The heat conductor is preferably a metal.

本発明に係る絶縁材料は、分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、シリカと、アルミニウム原子を有する有機化合物とを含み、更に上記絶縁材料100重量%中の上記シリカの含有量が15体積%以上、70体積%以下であるので、硬化後の硬化物の熱伝導性を高めることができ、かつ該硬化物の耐湿性も高めることができる。   The insulating material according to the present invention includes a curable compound having a molecular weight of less than 10,000 and having a cyclic ether group, a curing agent, silica, and an organic compound having an aluminum atom, and further 100% by weight of the insulating material. Since the content of the silica in the content is 15% by volume or more and 70% by volume or less, the thermal conductivity of the cured product after curing can be enhanced, and the moisture resistance of the cured product can also be enhanced.

本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と、上記熱伝導体の表面に積層された絶縁層と、該絶縁層の上記熱伝導体側とは反対の表面に積層された導電層とを備えており、上記絶縁層が、絶縁材料をシート状で硬化させることにより形成されており、上記絶縁材料が、分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、シリカと、アルミニウム原子を有する有機化合物とを含み、更に上記絶縁材料100重量%中の上記シリカの含有量が15体積%以上、70体積%以下であるので、上記絶縁層の熱伝導性を高めることができ、かつ上記絶縁層の耐湿性も高めることができる。   The laminated structure according to the present invention includes a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, an insulating layer laminated on the surface of the thermal conductor, and the thermal conductor side of the insulating layer. A conductive layer laminated on the opposite surface, the insulating layer is formed by curing the insulating material in a sheet form, the insulating material has a molecular weight of less than 10,000, and a cyclic ether A curable compound having a group, a curing agent, silica, and an organic compound having an aluminum atom, and the content of the silica in 100% by weight of the insulating material is 15% by volume to 70% by volume. Therefore, the thermal conductivity of the insulating layer can be increased, and the moisture resistance of the insulating layer can be increased.

図1は、本発明の一実施形態に係る絶縁材料を用いた積層構造体を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front cross-sectional view schematically showing a laminated structure using an insulating material according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明に係る絶縁材料は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と導電層とを接着するために用いられる絶縁シートであるか、又は上記熱伝導体もしくは上記導電層上でシート化された後に該熱伝導体と該導電層とを接着するために用いられる絶縁ペーストである。本発明に係る絶縁材料(絶縁ペースト)は、上記熱伝導体上でシート化された後に、シート化された絶縁材料(絶縁シート)に上記導電層を積層して用いられてもよい。本発明に係る絶縁材料(絶縁ペースト)は、上記導電層上でシート化された後に、シート化された絶縁材料(絶縁シート)に上記熱伝導体を積層して用いられてもよい。   The insulating material according to the present invention is an insulating sheet used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more and a conductive layer, or on the heat conductor or the conductive layer. This is an insulating paste used for bonding the thermal conductor and the conductive layer after being formed into a sheet. The insulating material (insulating paste) according to the present invention may be used by laminating the conductive layer on the insulating material (insulating sheet) formed into a sheet after being formed into a sheet on the heat conductor. The insulating material (insulating paste) according to the present invention may be used by laminating the thermal conductor on a sheeted insulating material (insulating sheet) after being formed into a sheet on the conductive layer.

本発明に係る絶縁材料は、分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する硬化性化合物(B)と、硬化剤(C)と、無機フィラー(D)と、アルミニウム原子を有する有機化合物(E)とを含む。本発明に係る絶縁材料は、上記無機フィラー(D)としてシリカを含む。また、上記絶縁材料100重量%中、上記シリカの含有量は15体積%以上、70体積%以下である。   The insulating material according to the present invention has a molecular weight of less than 10,000 and a curable compound (B) having a cyclic ether group, a curing agent (C), an inorganic filler (D), and an organic compound having an aluminum atom ( E). The insulating material according to the present invention contains silica as the inorganic filler (D). Further, in 100% by weight of the insulating material, the content of the silica is 15% by volume or more and 70% by volume or less.

本発明に係る絶縁材料における上記組成の採用により、硬化後の硬化物の熱伝導性を高めることができ、かつ該硬化物の耐湿性も高めることができる。また、本発明に係る絶縁材料における上記組成の採用により、耐電圧性に優れた硬化物を得ることができ、更に該硬化物の耐湿性が高いことから、該硬化物のプレッシャークッカーテスト(PCT)を行ったときに、耐電圧性を高く維持できる。   By adopting the above composition in the insulating material according to the present invention, the thermal conductivity of the cured product after curing can be enhanced, and the moisture resistance of the cured product can also be enhanced. Further, by adopting the above composition in the insulating material according to the present invention, a cured product having excellent voltage resistance can be obtained, and further, since the cured product has high moisture resistance, the pressure cooker test (PCT) of the cured product can be obtained. ), The voltage resistance can be maintained high.

本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と、上記熱伝導体の表面に積層された絶縁層と、該絶縁層の上記熱伝導体側とは反対の表面に積層された導電層とを備える。上記絶縁層は、絶縁材料をシート状で硬化させることにより形成されている。上記絶縁層は、上記絶縁材料が硬化した硬化物である。上記絶縁層は硬化物層である。上記絶縁層は、絶縁シートを硬化させることにより形成されていてもよい。また、上記熱伝導体もしくは上記導電層上で上記絶縁材料(絶縁ペースト)がシート化された後に、該絶縁材料をシート状で硬化させることにより形成されていてもよい。   The laminated structure according to the present invention includes a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, an insulating layer laminated on the surface of the thermal conductor, and the thermal conductor side of the insulating layer. And a conductive layer laminated on the opposite surface. The insulating layer is formed by curing an insulating material in a sheet form. The insulating layer is a cured product obtained by curing the insulating material. The insulating layer is a cured product layer. The insulating layer may be formed by curing an insulating sheet. Further, the insulating material (insulating paste) may be formed into a sheet after the insulating material (insulating paste) is formed into a sheet on the heat conductor or the conductive layer.

本発明に係る積層構造体では、上記絶縁材料が、分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する硬化性化合物(B)と、硬化剤(C)と、無機フィラー(D)と、アルミニウム原子を有する有機化合物(E)とを含む。本発明に係る絶縁材料は、上無機フィラー(D)としてシリカを含む。また、上記絶縁材料100重量%中、上記シリカの含有量は15体積%以上、70体積%以下である。   In the laminated structure according to the present invention, the insulating material has a molecular weight of less than 10,000 and a curable compound (B) having a cyclic ether group, a curing agent (C), an inorganic filler (D), and aluminum. And an organic compound (E) having an atom. The insulating material according to the present invention contains silica as the upper inorganic filler (D). Further, in 100% by weight of the insulating material, the content of the silica is 15% by volume or more and 70% by volume or less.

本発明に係る積層構造体における上記構成の採用により、上記絶縁層の熱伝導性を高めることができ、かつ上記絶縁層の耐湿性も高めることができる。さらに、絶縁層の耐電圧性が高くなり、更に該絶縁層の耐湿性が高いことから、該絶縁層のプレッシャークッカーテスト(PCT)を行ったときに、耐電圧性を高く維持できる。   By adopting the above configuration in the laminated structure according to the present invention, the thermal conductivity of the insulating layer can be increased, and the moisture resistance of the insulating layer can also be increased. Furthermore, since the withstand voltage of the insulating layer is increased and the moisture resistance of the insulating layer is high, the withstand voltage can be maintained high when a pressure cooker test (PCT) of the insulating layer is performed.

上記絶縁材料は、重量平均分子量が10000以上であるポリマー(A)をさらに含むことが好ましい。ポリマー(A)の使用により、絶縁材料がシート状であるときに、シート状の絶縁材料の取扱性が高くなる。上記絶縁材料がシート状であるときに取扱性が良好であると、該絶縁材料をシート状で硬化させた硬化物層(絶縁層)が均質かつ良好になりやすい。   The insulating material preferably further includes a polymer (A) having a weight average molecular weight of 10,000 or more. By using the polymer (A), when the insulating material is in the form of a sheet, the handleability of the sheet-like insulating material is improved. If the insulating material is in the form of a sheet and the handleability is good, a cured product layer (insulating layer) obtained by curing the insulating material in the form of a sheet tends to be uniform and good.

以下、先ず、本発明に係る絶縁材料に含まれている各成分の詳細を説明する。   Hereinafter, first, the details of each component contained in the insulating material according to the present invention will be described.

(ポリマー(A))
上記絶縁材料は、重量平均分子量が10000以上であるポリマー(A)を含む。ポリマー(A)は、芳香族骨格を有することが好ましい。この場合には、硬化物の耐熱性が高くなり、かつ硬化物の耐湿性も高くなる。ポリマー(A)が芳香族骨格を有する場合には、ポリマー(A)は、芳香族骨格をポリマー全体のいずれかの部分に有していればよく、主鎖骨格内に有していてもよく、側鎖中に有していてもよい。硬化物の耐熱性をより一層高くし、かつ硬化物の耐湿性をより一層高くする観点からは、ポリマー(A)は、芳香族骨格を主鎖骨格内に有することが好ましい。ポリマー(A)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Polymer (A))
The insulating material includes a polymer (A) having a weight average molecular weight of 10,000 or more. The polymer (A) preferably has an aromatic skeleton. In this case, the heat resistance of the cured product increases and the moisture resistance of the cured product also increases. When the polymer (A) has an aromatic skeleton, the polymer (A) may have an aromatic skeleton in any part of the whole polymer, and may have in the main chain skeleton. , May be present in the side chain. From the viewpoint of further increasing the heat resistance of the cured product and further increasing the moisture resistance of the cured product, the polymer (A) preferably has an aromatic skeleton in the main chain skeleton. As for a polymer (A), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記芳香族骨格としては特に限定されず、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びビスフェノールA型骨格等が挙げられる。なかでも、ビフェニル骨格又はフルオレン骨格が好ましい。この場合には、硬化物の耐冷熱サイクル特性及び耐熱性がより一層高くなる。   The aromatic skeleton is not particularly limited, and examples thereof include naphthalene skeleton, fluorene skeleton, biphenyl skeleton, anthracene skeleton, pyrene skeleton, xanthene skeleton, adamantane skeleton, and bisphenol A skeleton. Of these, a biphenyl skeleton or a fluorene skeleton is preferable. In this case, the thermal cycle resistance and heat resistance of the cured product are further enhanced.

ポリマー(A)として、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂などの硬化性樹脂等が使用可能である。ポリマー(A)は熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂であることが好ましい。ポリマー(A)は硬化性樹脂であることが好ましい。ポリマー(A)は熱可塑性樹脂であることが好ましく、熱硬化性樹脂であることも好ましい。   As the polymer (A), a curable resin such as a thermoplastic resin and a thermosetting resin can be used. The polymer (A) is preferably a thermoplastic resin or a thermosetting resin. The polymer (A) is preferably a curable resin. The polymer (A) is preferably a thermoplastic resin, and is preferably a thermosetting resin.

上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は、特に限定されない。上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、スチレン樹脂、フェノキシ樹脂、フタレート樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ケトン樹脂及びノルボルネン樹脂等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、アミノ樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂及びアミノアルキド樹脂等が挙げられる。上記アミノ樹脂としては、尿素樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。   The thermoplastic resin and thermosetting resin are not particularly limited. The thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include styrene resin, phenoxy resin, phthalate resin, thermoplastic urethane resin, polyamide resin, thermoplastic polyimide resin, ketone resin, and norbornene resin. The thermosetting resin is not particularly limited, and examples thereof include amino resins, phenol resins, thermosetting urethane resins, epoxy resins, thermosetting polyimide resins, and amino alkyd resins. Examples of the amino resin include urea resin and melamine resin.

硬化物の酸化劣化を抑え、硬化物の耐冷熱サイクル特性及び耐熱性をより一層高め、更に硬化物の吸水率をより一層低くする観点からは、上記ポリマー(A)は、スチレン樹脂、フェノキシ樹脂又はエポキシ樹脂であることが好ましく、フェノキシ樹脂又はエポキシ樹脂であることがより好ましく、フェノキシ樹脂であることが更に好ましい。特に、フェノキシ樹脂又はエポキシ樹脂の使用により、硬化物の耐熱性がより一層高くなる。また、フェノキシ樹脂の使用により、硬化物の弾性率がより一層低くなり、かつ硬化物の耐冷熱サイクル特性がより一層高くなる。なお、ポリマー(A)は、エポキシ基などの環状エーテル基を有していなくてもよい。   From the viewpoint of suppressing the oxidative deterioration of the cured product, further improving the heat cycle resistance and heat resistance of the cured product, and further reducing the water absorption rate of the cured product, the polymer (A) is a styrene resin or phenoxy resin. Alternatively, an epoxy resin is preferable, a phenoxy resin or an epoxy resin is more preferable, and a phenoxy resin is further preferable. In particular, use of a phenoxy resin or an epoxy resin further increases the heat resistance of the cured product. Moreover, use of a phenoxy resin further lowers the elastic modulus of the cured product and further improves the cold-heat cycle characteristics of the cured product. The polymer (A) may not have a cyclic ether group such as an epoxy group.

上記スチレン樹脂として、具体的には、スチレン系モノマーの単独重合体、及びスチレン系モノマーとアクリル系モノマーとの共重合体等が使用可能である。中でも、スチレン−メタクリル酸グリシジルの構造を有するスチレン重合体が好ましい。   As the styrene resin, specifically, a homopolymer of a styrene monomer, a copolymer of a styrene monomer and an acrylic monomer, or the like can be used. Among these, a styrene polymer having a styrene-glycidyl methacrylate structure is preferable.

上記スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−クロロスチレン、p−エチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン、2,4−ジメチルスチレン及び3,4−ジクロロスチレン等が挙げられる。   Examples of the styrene monomer include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, p-chlorostyrene, p-ethylstyrene, and pn-. Butyl styrene, p-tert-butyl styrene, pn-hexyl styrene, pn-octyl styrene, pn-nonyl styrene, pn-decyl styrene, pn-dodecyl styrene, 2,4-dimethyl Examples include styrene and 3,4-dichlorostyrene.

上記フェノキシ樹脂は、具体的には、例えばエピハロヒドリンと2価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂、又は2価のエポキシ化合物と2価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂である。   Specifically, the phenoxy resin is, for example, a resin obtained by reacting an epihalohydrin with a divalent phenol compound, or a resin obtained by reacting a divalent epoxy compound with a divalent phenol compound.

上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、ビスフェノールA/F混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びジシクロペンタジエン骨格からなる群から選択された少なくとも1つの骨格を有することが好ましい。中でも、上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、ビスフェノールA/F混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格及びビフェニル骨格からなる群から選択された少なくとも1種の骨格を有することがより好ましく、フルオレン骨格及びビフェニル骨格の内の少なくとも1種の骨格を有することが更に好ましい。これらの好ましい骨格を有するフェノキシ樹脂の使用により、硬化物の耐熱性が更に一層高くなる。   The phenoxy resin comprises a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a bisphenol A / F mixed skeleton, a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, a biphenyl skeleton, an anthracene skeleton, a pyrene skeleton, a xanthene skeleton, an adamantane skeleton, and a dicyclopentadiene skeleton. It is preferred to have at least one skeleton selected from the group. Among these, the phenoxy resin preferably has at least one skeleton selected from the group consisting of a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a bisphenol A / F mixed skeleton, a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, and a biphenyl skeleton. Preferably, it has at least one skeleton of a fluorene skeleton and a biphenyl skeleton. Use of the phenoxy resin having these preferable skeletons further increases the heat resistance of the cured product.

上記エポキシ樹脂は、上記フェノキシ樹脂以外のエポキシ樹脂である。上記エポキシ樹脂としては、スチレン骨格含有エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリシクロデカン骨格を有するエポキシ樹脂、及びトリアジン核を骨格に有するエポキシ樹脂等が挙げられる。   The epoxy resin is an epoxy resin other than the phenoxy resin. Examples of the epoxy resins include styrene skeleton-containing epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, biphenol type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, and fluorene type epoxy resins. , Phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, epoxy resin having adamantane skeleton, epoxy resin having tricyclodecane skeleton, and epoxy resin having triazine nucleus in skeleton Etc.

ポリマー(A)の重量平均分子量は10000以上である。ポリマー(A)の重量平均分子量は、好ましくは30000以上、より好ましくは40000以上、好ましくは1000000以下、より好ましくは250000以下である。ポリマー(A)の重量平均分子量が上記下限以上であると、絶縁材料が熱劣化し難い。ポリマー(A)の重量平均分子量が上記上限以下であると、ポリマー(A)と他の樹脂との相溶性が高くなる。この結果、未硬化状態のシート状の絶縁材料の取扱性がより一層良好になり、並びに硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The weight average molecular weight of the polymer (A) is 10,000 or more. The weight average molecular weight of the polymer (A) is preferably 30000 or more, more preferably 40000 or more, preferably 1000000 or less, more preferably 250,000 or less. When the weight average molecular weight of the polymer (A) is not less than the above lower limit, the insulating material is hardly thermally deteriorated. When the weight average molecular weight of the polymer (A) is not more than the above upper limit, the compatibility between the polymer (A) and another resin is increased. As a result, the handleability of the uncured sheet-like insulating material is further improved, and the heat resistance of the cured product is further increased.

ポリマー(A)は、原材料として添加されていてもよく、また本発明の絶縁材料又は絶縁シートの作製時における攪拌、塗工及び乾燥などの各工程中における反応を利用して生成されたポリマーであってもよい。   The polymer (A) may be added as a raw material, and is a polymer produced by utilizing a reaction in each step such as stirring, coating and drying at the time of producing the insulating material or insulating sheet of the present invention. There may be.

絶縁材料及び絶縁シートに含まれている全樹脂成分(以下、全樹脂成分Xと略記することがある)の合計100重量%中、ポリマー(A)の含有量は好ましくは20重量%以上、より好ましくは30重量%以上、好ましくは60重量%以下、更に好ましくは50重量%以下である。ポリマー(A)の含有量が上記下限以上であると、未硬化状態のシート状の絶縁材料の取扱性が良好になる。ポリマー(A)の含有量が上記上限以下であると、無機フィラー(D)の分散が容易になる。なお、全樹脂成分Xとは、硬化性化合物(B)、硬化剤(C)、アルミニウム原子を有する有機化合物(E)及び必要に応じて添加される他の樹脂成分の総和をいう。全樹脂成分Xに、無機フィラー(D)は含まれない。   The content of the polymer (A) is preferably 20% by weight or more in the total 100% by weight of the total resin components (hereinafter, may be abbreviated as the total resin component X) contained in the insulating material and the insulating sheet. It is preferably 30% by weight or more, preferably 60% by weight or less, and more preferably 50% by weight or less. When the content of the polymer (A) is at least the above lower limit, the handleability of the uncured sheet-like insulating material becomes good. Dispersion | distribution of an inorganic filler (D) becomes easy that content of a polymer (A) is below the said upper limit. The total resin component X refers to the total of the curable compound (B), the curing agent (C), the organic compound (E) having an aluminum atom, and other resin components added as necessary. The inorganic filler (D) is not included in all the resin components X.

(硬化性化合物(B))
上記絶縁材料に含まれている硬化性化合物(B)は、分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する。該環状エーテル基としては、エポキシ基及びオキセタニル基等が挙げられる。環状エーテル基を有する硬化性化合物(B)は、エポキシ基又はオキセタニル基を有する硬化性化合物であることが好ましい。硬化性化合物(B)は、硬化剤(C)の作用により硬化する。硬化性化合物(B)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Curable compound (B))
The curable compound (B) contained in the insulating material has a molecular weight of less than 10,000 and has a cyclic ether group. Examples of the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group. The curable compound (B) having a cyclic ether group is preferably a curable compound having an epoxy group or an oxetanyl group. The curable compound (B) is cured by the action of the curing agent (C). As for a curable compound (B), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化性化合物(B)は、エポキシ基を有するエポキシ化合物(B1)を含んでいてもよく、オキセタニル基を有するオキセタン化合物(B2)を含んでいてもよい。   The curable compound (B) may contain an epoxy compound (B1) having an epoxy group, or may contain an oxetane compound (B2) having an oxetanyl group.

硬化物の耐熱性及び耐電圧性をより高める観点からは、硬化性化合物(B)は芳香族骨格を有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving the heat resistance and voltage resistance of the cured product, the curable compound (B) preferably has an aromatic skeleton.

エポキシ基を有するエポキシ化合物(B1)の具体例としては、ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマー、ナフタレン骨格を有するエポキシモノマー、アダマンタン骨格を有するエポキシモノマー、フルオレン骨格を有するエポキシモノマー、ビフェニル骨格を有するエポキシモノマー、バイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマー、キサンテン骨格を有するエポキシモノマー、アントラセン骨格を有するエポキシモノマー、及びピレン骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。これらの水素添加物又は変性物を用いてもよい。エポキシ化合物(B1)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the epoxy compound (B1) having an epoxy group include an epoxy monomer having a bisphenol skeleton, an epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton, an epoxy monomer having a naphthalene skeleton, an epoxy monomer having an adamantane skeleton, and an epoxy having a fluorene skeleton. Examples of the monomer include an epoxy monomer having a biphenyl skeleton, an epoxy monomer having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton, an epoxy monomer having a xanthene skeleton, an epoxy monomer having an anthracene skeleton, and an epoxy monomer having a pyrene skeleton. These hydrogenated products or modified products may be used. As for an epoxy compound (B1), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマーとしては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型又はビスフェノールS型のビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a bisphenol skeleton include an epoxy monomer having a bisphenol A type, bisphenol F type, or bisphenol S type bisphenol skeleton.

上記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマーとしては、ジシクロペンタジエンジオキシド、及びジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシモノマー等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton include dicyclopentadiene dioxide and a phenol novolac epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton.

上記ナフタレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリシジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、及び1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a naphthalene skeleton include 1-glycidylnaphthalene, 2-glycidylnaphthalene, 1,2-diglycidylnaphthalene, 1,5-diglycidylnaphthalene, 1,6-diglycidylnaphthalene, 1,7-diglycidyl. Naphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene and the like can be mentioned.

上記アダマンタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,3−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンタン、及び2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンタン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having an adamantane skeleton include 1,3-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamantane and 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamantane.

上記フルオレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレン、及び9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a fluorene skeleton include 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) fluorene, and 9,9-bis (4- Glycidyloxy-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-Glycidyloxy-3-methoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dichlorophenyl) Fluorene and 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dibromophenyl) Fluorene, and the like.

上記ビフェニル骨格を有するエポキシモノマーとしては、4,4’−ジグリシジルビフェニル、及び4,4’−ジグリシジル−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a biphenyl skeleton include 4,4'-diglycidylbiphenyl and 4,4'-diglycidyl-3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl.

上記バイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,1’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、及び1,2’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton include 1,1′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane 1,8'-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) Examples include methane and 1,2′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane.

上記キサンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,3,4,5,6,8−ヘキサメチル−2,7−ビス−オキシラニルメトキシ−9−フェニル−9H−キサンテン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a xanthene skeleton include 1,3,4,5,6,8-hexamethyl-2,7-bis-oxiranylmethoxy-9-phenyl-9H-xanthene.

オキセタニル基を有するオキセタン化合物(B2)の具体例としては、例えば、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、1,4−ベンゼンジカルボン酸ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メチル]エステル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、及びオキセタン変性フェノールノボラック等が挙げられる。オキセタン化合物(B2)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the oxetane compound (B2) having an oxetanyl group include, for example, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, 1,4-benzenedicarboxylate bis [(3- Ethyl-3-oxetanyl) methyl] ester, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, and oxetane-modified phenol novolac. As for an oxetane compound (B2), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化物の耐熱性をより一層良好にする観点からは、硬化性化合物(B)は、環状エーテル基を2つ以上有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving the heat resistance of the cured product, the curable compound (B) preferably has two or more cyclic ether groups.

硬化物の耐熱性をより一層良好にする観点からは、硬化性化合物(B)の合計100重量%中、環状エーテル基を2つ以上有する硬化性化合物の含有量は、好ましくは70重量%以上、より好ましくは80重量%以上、100重量%以下である。硬化性化合物(B)の合計100重量%中、環状エーテル基を2つ以上有する硬化性化合物の含有量は10重量%以上、100重量%以下であってもよい。また、硬化性化合物(B)の全体が、環状エーテル基を2つ以上有する硬化性化合物であってもよい。   From the viewpoint of further improving the heat resistance of the cured product, the content of the curable compound having two or more cyclic ether groups in the total 100% by weight of the curable compound (B) is preferably 70% by weight or more. More preferably, it is 80% by weight or more and 100% by weight or less. The content of the curable compound having two or more cyclic ether groups in the total 100% by weight of the curable compound (B) may be 10% by weight or more and 100% by weight or less. Further, the entire curable compound (B) may be a curable compound having two or more cyclic ether groups.

硬化性化合物(B)の分子量は、10000未満であることが好ましい。硬化性化合物(B)の分子量は、好ましくは200以上、より好ましくは1200以下、更に好ましくは600以下、特に好ましくは550以下である。硬化性化合物(B)の分子量が上記下限以上であると、硬化物の表面の粘着性が低くなり、絶縁材料の取扱い性がより一層高くなる。硬化性化合物(B)の分子量が上記上限以下であると、硬化物の接着性がより一層高くなる。さらに、硬化物が固くかつ脆くなり難く、硬化物の接着性がより一層高くなる。   The molecular weight of the curable compound (B) is preferably less than 10,000. The molecular weight of the curable compound (B) is preferably 200 or more, more preferably 1200 or less, still more preferably 600 or less, and particularly preferably 550 or less. When the molecular weight of the curable compound (B) is not less than the above lower limit, the adhesiveness of the surface of the cured product is lowered, and the handling property of the insulating material is further enhanced. When the molecular weight of the curable compound (B) is not more than the above upper limit, the adhesiveness of the cured product is further enhanced. Furthermore, the cured product is hard and hard to be brittle, and the adhesiveness of the cured product is further enhanced.

なお、本明細書において、硬化性化合物(B)における分子量とは、重合体ではない場合、及び構造式が特定できる場合は、当該構造式から算出できる分子量を意味し、重合体である場合は、重量平均分子量を意味する。   In the present specification, the molecular weight in the curable compound (B) means a molecular weight that can be calculated from the structural formula when it is not a polymer and when the structural formula can be specified. Means weight average molecular weight.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、硬化性化合物(B)の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは20重量%以上、好ましくは90重量%以下、より好ましくは80重量%以下、更に好ましくは70重量%以下、特に好ましくは60重量%以下、最も好ましくは50重量%以下である。硬化性化合物(B)の含有量が上記下限以上であると、硬化物の接着性及び耐熱性がより一層高くなる。硬化性化合物(B)の含有量が上記上限以下であると、絶縁材料の塗工性及びシート状の絶縁材料の取扱性がより一層高くなる。   In the total 100% by weight of the total resin component X, the content of the curable compound (B) is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, preferably 90% by weight or less, more preferably 80% by weight. Hereinafter, it is more preferably 70% by weight or less, particularly preferably 60% by weight or less, and most preferably 50% by weight or less. When the content of the curable compound (B) is not less than the above lower limit, the adhesiveness and heat resistance of the cured product are further increased. When the content of the curable compound (B) is not more than the above upper limit, the coating property of the insulating material and the handleability of the sheet-like insulating material are further enhanced.

(硬化剤(C))
上記絶縁材料は硬化剤(C)を含む。硬化剤(C)は、絶縁材料を硬化させることが可能であれば特に限定されない。硬化剤(C)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Curing agent (C))
The insulating material contains a curing agent (C). The curing agent (C) is not particularly limited as long as the insulating material can be cured. As for a hardening | curing agent (C), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化物の耐熱性をより一層高める観点からは、硬化剤(C)は、芳香族骨格又は脂環式骨格を有することが好ましい。硬化剤(C)は、アミン硬化剤(アミン化合物)、イミダゾール硬化剤、フェノール硬化剤(フェノール化合物)又は酸無水物硬化剤(酸無水物)を含むことが好ましく、アミン硬化剤を含むことがより好ましい。上記酸無水物硬化剤は、芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物を含むか、又は、脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物を含むことが好ましい。   From the viewpoint of further improving the heat resistance of the cured product, the curing agent (C) preferably has an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton. The curing agent (C) preferably includes an amine curing agent (amine compound), an imidazole curing agent, a phenol curing agent (phenol compound), or an acid anhydride curing agent (acid anhydride), and includes an amine curing agent. More preferred. The acid anhydride curing agent includes an acid anhydride having an aromatic skeleton, a water additive of the acid anhydride or a modified product of the acid anhydride, or an acid anhydride having an alicyclic skeleton, It is preferable to include a water additive of an acid anhydride or a modified product of the acid anhydride.

硬化剤(C)は塩基性の硬化剤を含むか、メラミン骨格もしくはトリアジン骨格を有するフェノール樹脂を含むか、又はアリル基を有するフェノール樹脂を含むことが好ましい。さらに、無機フィラー(D)の分散性を良好にし、更に硬化物の耐電圧性及び熱伝導性をより一層高める観点からは、硬化剤(C)は塩基性の硬化剤を含むことが好ましい。また、無機フィラー(D)の分散性をより一層良好にし、更に硬化物の耐電圧性及び熱伝導性をより一層高める観点からは、硬化剤(C)は、アミン硬化剤又はイミダゾール硬化剤を含むことがより好ましく、アミン硬化剤を含むことがより好ましく、ジシアンジアミドを含むことが特に好ましい。また、硬化剤(C)は、ジシアンジアミドとイミダゾール硬化剤との双方を含むことも好ましい。これらの好ましい硬化剤の使用により、無機フィラー(D)の絶縁材料中での分散性が高くなり、更に耐熱性、耐湿性及び電気物性のバランスに優れた硬化物が得られる。この結果、無機フィラー(D)の含有量が少なくても、熱伝導性がかなり高くなる。特にジシアンジアミドを用いた場合には、硬化物と熱伝導体及び導電層との接着性がかなり高くなる。   The curing agent (C) preferably contains a basic curing agent, a phenol resin having a melamine skeleton or a triazine skeleton, or a phenol resin having an allyl group. Furthermore, from the viewpoint of improving the dispersibility of the inorganic filler (D) and further enhancing the voltage resistance and thermal conductivity of the cured product, the curing agent (C) preferably contains a basic curing agent. Moreover, from the viewpoint of further improving the dispersibility of the inorganic filler (D) and further enhancing the voltage resistance and thermal conductivity of the cured product, the curing agent (C) is an amine curing agent or an imidazole curing agent. More preferably, it includes an amine curing agent, and particularly preferably includes dicyandiamide. Moreover, it is also preferable that a hardening | curing agent (C) contains both a dicyandiamide and an imidazole hardening | curing agent. By using these preferable curing agents, the dispersibility of the inorganic filler (D) in the insulating material is increased, and further, a cured product having an excellent balance of heat resistance, moisture resistance and electrical properties can be obtained. As a result, even if the content of the inorganic filler (D) is small, the thermal conductivity is considerably increased. In particular, when dicyandiamide is used, the adhesiveness between the cured product, the heat conductor, and the conductive layer is considerably increased.

上記アミン硬化剤としては、ジシアンジアミド、イミダゾール化合物、ジアミノジフェニルメタン及びジアミノジフェニルスルフォン等が挙げられる。硬化物と熱伝導体及び導電層との接着性をより一層高める観点からは、上記アミン硬化剤は、ジシアンジアミド又はイミダゾール硬化剤であることがより一層好ましい。絶縁材料の貯蔵安定性をより一層高める観点からは、上記硬化剤(C)は、融点が180℃以上である硬化剤を含むことが好ましく、融点が180℃以上であるアミン硬化剤を含むことがより好ましい。   Examples of the amine curing agent include dicyandiamide, imidazole compounds, diaminodiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone. From the viewpoint of further enhancing the adhesion between the cured product, the heat conductor and the conductive layer, the amine curing agent is more preferably a dicyandiamide or an imidazole curing agent. From the viewpoint of further improving the storage stability of the insulating material, the curing agent (C) preferably includes a curing agent having a melting point of 180 ° C. or higher, and includes an amine curing agent having a melting point of 180 ° C. or higher. Is more preferable.

上記イミダゾール硬化剤としては、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール及び2−フェニル−4−メチル−5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the imidazole curing agent include 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, and 1-benzyl. 2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2- Undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2 '-Methyl Midazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 [2′-Ethyl-4′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine Isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and 2-phenyl-4-methyl-5-dihydroxymethylimidazole Can be mentioned.

上記フェノール硬化剤としては、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリパラビニルフェノール、ビスフェノールA型ノボラック、キシリレン変性ノボラック、デカリン変性ノボラック、ポリ(ジ−o−ヒドロキシフェニル)メタン、ポリ(ジ−m−ヒドロキシフェニル)メタン、及びポリ(ジ−p−ヒドロキシフェニル)メタン等が挙げられる。硬化物の柔軟性及び硬化物の難燃性をより一層高める観点からは、メラミン骨格を有するフェノール樹脂、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましい。   Examples of the phenol curing agent include phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, polyparavinylphenol, bisphenol A type novolak, xylylene modified novolak, decalin modified novolak, poly ( And di-o-hydroxyphenyl) methane, poly (di-m-hydroxyphenyl) methane, and poly (di-p-hydroxyphenyl) methane. From the viewpoint of further enhancing the flexibility of the cured product and the flame retardancy of the cured product, a phenol resin having a melamine skeleton, a phenol resin having a triazine skeleton, or a phenol resin having an allyl group is preferable.

上記フェノール硬化剤の市販品としては、MEH−8005、MEH−8010及びMEH−8015(以上いずれも明和化成社製)、YLH903(三菱化学社製)、LA−7052、LA−7054、LA−7751、LA−1356及びLA−3018−50P(以上いずれもDIC社製)、並びにPS6313及びPS6492(以上いずれも群栄化学社製)等が挙げられる。   Commercially available products of the phenol curing agent include MEH-8005, MEH-8010, and MEH-8015 (all of which are manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), YLH903 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), LA-7052, LA-7054, and LA-7751. LA-1356 and LA-3018-50P (all of which are manufactured by DIC Corporation), PS6313 and PS6492 (all of which are manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.), and the like.

上記芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、例えば、スチレン/無水マレイン酸コポリマー、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、フェニルエチニルフタル酸無水物、グリセロールビス(アンヒドロトリメリテート)モノアセテート、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、及びトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。   Examples of the acid anhydride having an aromatic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride include, for example, a styrene / maleic anhydride copolymer, a benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, and a pyromellitic acid anhydride. , Trimellitic anhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, phenylethynyl phthalic anhydride, glycerol bis (anhydrotrimellitate) monoacetate, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), methyltetrahydroanhydride Examples include phthalic acid, methylhexahydrophthalic anhydride, and trialkyltetrahydrophthalic anhydride.

上記芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、SMAレジンEF30、SMAレジンEF40、SMAレジンEF60及びSMAレジンEF80(以上いずれもサートマー・ジャパン社製)、ODPA−M及びPEPA(以上いずれもマナック社製)、リカシッドMTA−10、リカシッドMTA−15、リカシッドTMTA、リカシッドTMEG−100、リカシッドTMEG−200、リカシッドTMEG−300、リカシッドTMEG−500、リカシッドTMEG−S、リカシッドTH、リカシッドHT−1A、リカシッドHH、リカシッドMH−700、リカシッドMT−500、リカシッドDSDA及びリカシッドTDA−100(以上いずれも新日本理化社製)、並びにEPICLON B4400、EPICLON B650、及びEPICLON B570(以上いずれもDIC社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having an aromatic skeleton, water additives of the acid anhydrides, or modified products of the acid anhydrides include SMA Resin EF30, SMA Resin EF40, SMA Resin EF60, and SMA Resin EF80 (any of the above Also manufactured by Sartomer Japan), ODPA-M and PEPA (all manufactured by Manac), Ricacid MTA-10, Ricacid MTA-15, Ricacid TMTA, Ricacid TMEG-100, Ricacid TMEG-200, Ricacid TMEG-300, Ricacid TMEG-500, Ricacid TMEG-S, Ricacid TH, Ricacid HT-1A, Ricacid HH, Ricacid MH-700, Ricacid MT-500, Ricacid DSDA and Ricacid TDA-100 (all of which are manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) PICLON B4400, EPICLON B650, and EPICLON B570 (all manufactured by both DIC Corporation).

上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物であることが好ましい。これらの硬化剤の使用により、硬化物の柔軟性、並びに硬化物の耐湿性及び接着性がより一層高くなる。   The acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride is an acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or the A modified product of an acid anhydride, or an acid anhydride having an alicyclic skeleton obtained by addition reaction of a terpene compound and maleic anhydride, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride It is preferable. By using these curing agents, the flexibility of the cured product and the moisture resistance and adhesion of the cured product are further increased.

上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、メチルナジック酸無水物、ジシクロペンタジエン骨格を有する酸無水物又は該酸無水物の変性物等も挙げられる。   Examples of the acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride include methyl nadic acid anhydride, acid anhydride having a dicyclopentadiene skeleton, and the acid anhydride And the like.

上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、リカシッドHNA及びリカシッドHNA−100(以上いずれも新日本理化社製)、並びにエピキュアYH306、エピキュアYH307、エピキュアYH308H及びエピキュアYH309(以上いずれも三菱化学社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having the alicyclic skeleton, water additions of the acid anhydrides, or modified products of the acid anhydrides include Ricacid HNA and Ricacid HNA-100 (all of which are manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) , And EpiCure YH306, EpiCure YH307, EpiCure YH308H, EpiCure YH309 (all of which are manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and the like.

硬化剤(C)は、メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸であることも好ましい。メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸の使用により、硬化物の耐水性が高くなる。   The curing agent (C) is also preferably methyl nadic acid anhydride or trialkyltetrahydrophthalic anhydride. Use of methyl nadic anhydride or trialkyltetrahydrophthalic anhydride increases the water resistance of the cured product.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、硬化剤(C)の含有量は好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは1重量%以上、好ましくは40重量%以下、より好ましくは25重量%以下である。硬化剤(C)の含有量が上記下限以上であると、絶縁材料を充分に硬化させることが容易である。硬化剤(C)の含有量が上記上限以下であると、硬化に関与しない余剰な硬化剤(C)が発生し難くなる。このため、硬化物の耐熱性及び接着性がより一層高くなる。 In the total 100% by weight of the total resin component X, the content of the curing agent (C) is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, preferably 40% by weight or less, more preferably 25% by weight. % Or less. When the content of the curing agent (C) is not less than the above lower limit, it is easy to sufficiently cure the insulating material. When the content of the curing agent (C) is not more than the above upper limit, it becomes difficult to generate an excessive curing agent (C) that does not participate in curing. For this reason, the heat resistance and adhesiveness of hardened | cured material become still higher.

(無機フィラー(D))
上記絶縁材料は、無機フィラー(D)を含む。無機フィラー(D)の使用により、硬化物の熱伝導性がかなり高くなる。無機フィラー(D)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。また、上記絶縁材料は、無機フィラー(D)としてシリカを必須で含む。
(Inorganic filler (D))
The insulating material includes an inorganic filler (D). By using the inorganic filler (D), the thermal conductivity of the cured product is considerably increased. As for an inorganic filler (D), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. Moreover, the said insulating material contains a silica essential as an inorganic filler (D).

硬化物の熱伝導性をより一層高める観点からは、無機フィラー(D)の熱伝導率は好ましくは10W/m・K以上、より好ましくは15W/m・K以上、更に好ましくは20W/m・K以上である。無機フィラー(D)の熱伝導率の上限は特に限定されない。熱伝導率が300W/m・K程度である無機フィラーは広く知られており、また熱伝導率が200W/m・K程度である無機フィラーは容易に入手できる。   From the viewpoint of further increasing the thermal conductivity of the cured product, the thermal conductivity of the inorganic filler (D) is preferably 10 W / m · K or more, more preferably 15 W / m · K or more, and further preferably 20 W / m ·. K or more. The upper limit of the thermal conductivity of the inorganic filler (D) is not particularly limited. Inorganic fillers having a thermal conductivity of about 300 W / m · K are widely known, and inorganic fillers having a thermal conductivity of about 200 W / m · K are easily available.

シリカ以外の無機フィラー(D)は、アルミナ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましく、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることがより好ましい。これらの好ましい無機フィラーの使用により、硬化物の熱伝導性がより一層高くなる。   The inorganic filler (D) other than silica is preferably at least one selected from the group consisting of alumina, synthetic magnesite, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide and magnesium oxide. More preferred is at least one selected from the group consisting of boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, zinc oxide and magnesium oxide. Use of these preferable inorganic fillers further increases the thermal conductivity of the cured product.

シリカ以外の無機フィラー(D)は、球状アルミナ、破砕アルミナ及び球状窒化アルミニウムからなる群から選択された少なくとも1種であることがより好ましく、球状アルミナ又は球状窒化アルミニウムであることが更に好ましい。これらの好ましい無機フィラーの使用により、硬化物の熱伝導性がより一層高くなる。   The inorganic filler (D) other than silica is preferably at least one selected from the group consisting of spherical alumina, crushed alumina and spherical aluminum nitride, and more preferably spherical alumina or spherical aluminum nitride. Use of these preferable inorganic fillers further increases the thermal conductivity of the cured product.

無機フィラー(D)の新モース硬度は、好ましくは12以下、より好ましくは9以下である。無機フィラー(D)の新モース硬度が9以下であると、硬化物の加工性がより一層高くなる。   The new Mohs hardness of the inorganic filler (D) is preferably 12 or less, more preferably 9 or less. When the new Mohs hardness of the inorganic filler (D) is 9 or less, the workability of the cured product is further enhanced.

硬化物の加工性をより一層高める観点からは、無機フィラー(D)は、合成マグネサイト、結晶シリカ、酸化亜鉛、及び酸化マグネシウムからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。これらの無機フィラーの新モース硬度は9以下である。   From the viewpoint of further improving the workability of the cured product, the inorganic filler (D) is preferably at least one selected from the group consisting of synthetic magnesite, crystalline silica, zinc oxide, and magnesium oxide. The new Mohs hardness of these inorganic fillers is 9 or less.

無機フィラー(D)は、球状のフィラー(球状フィラー)を含んでいてもよく、破砕されたフィラー(破砕フィラー)を含んでいてもよく、板状のフィラー(板状フィラー)を含んでいてもよい。無機フィラー(D)は、球状フィラーを含むことが特に好ましい。球状フィラーは高密度で充填可能であるため、球状フィラーの使用により硬化物の熱伝導性がより一層高くなる。   The inorganic filler (D) may contain a spherical filler (spherical filler), may contain a crushed filler (crushed filler), or may contain a plate-like filler (plate-like filler). Good. It is particularly preferable that the inorganic filler (D) includes a spherical filler. Since spherical fillers can be filled at high density, the use of spherical fillers further increases the thermal conductivity of the cured product.

上記破砕フィラーとしては、破砕アルミナ及び破砕シリカ等が挙げられる。破砕フィラーは、例えば、一軸破砕機、二軸破砕機、ハンマークラッシャー又はボールミル等を用いて、塊状の無機物質を破砕することにより得られる。破砕フィラーの使用により、硬化物中のフィラーが、橋掛け又は効率的に近接された構造となりやすい。従って、硬化物の熱伝導性がより一層高くなる。また、破砕フィラーは、一般的に、通常のフィラーに比べて安価である。このため、破砕フィラーの使用により、絶縁材料のコストが低くなる。   Examples of the crushed filler include crushed alumina and crushed silica. The crushing filler is obtained, for example, by crushing a lump-like inorganic substance using a uniaxial crusher, a biaxial crusher, a hammer crusher, a ball mill, or the like. By using the crushed filler, the filler in the cured product tends to be bridged or effectively brought into a close structure. Therefore, the thermal conductivity of the cured product is further increased. Moreover, generally the crushing filler is cheap compared with a normal filler. For this reason, the cost of an insulating material becomes low by use of a crushing filler.

上記シリカは、破砕されたシリカ(破砕シリカ)であることが好ましい。上記破砕シリカの使用により、硬化物の耐湿性がより一層高くなり、硬化物のプレッシャークッカーテストが行われたときに耐電圧性がより一層低下し難くなる。   The silica is preferably crushed silica (crushed silica). By using the crushed silica, the moisture resistance of the cured product is further enhanced, and the voltage resistance is further unlikely to be lowered when the pressure cooker test of the cured product is performed.

上記破砕フィラーの平均粒子径は、好ましくは12μm以下、より好ましくは10μm以下、好ましくは1μm以上である。破砕フィラーの平均粒子径が上記上限以下であると、絶縁材料中に、破砕フィラーを高密度に分散させることが可能であり、硬化物の耐電圧性がより一層高くなる。破砕フィラーの平均粒子径が上記下限以上であると、破砕フィラーを高密度に充填させることが容易になる。   The average particle diameter of the crushed filler is preferably 12 μm or less, more preferably 10 μm or less, and preferably 1 μm or more. When the average particle size of the crushed filler is not more than the above upper limit, the crushed filler can be dispersed with high density in the insulating material, and the voltage resistance of the cured product is further enhanced. When the average particle diameter of the crushed filler is not less than the above lower limit, it becomes easy to fill the crushed filler with high density.

破砕フィラーのアスペクト比は特に限定されない。破砕フィラーのアスペクト比は、好ましくは1.5以上、好ましくは20以下である。アスペクト比が1.5未満のフィラーは、比較的高価であり、絶縁材料のコストが高くなる。上記アスペクト比が20以下であると、破砕フィラーの充填が容易である。   The aspect ratio of the crushing filler is not particularly limited. The aspect ratio of the crushed filler is preferably 1.5 or more, and preferably 20 or less. Fillers with an aspect ratio of less than 1.5 are relatively expensive and increase the cost of the insulating material. When the aspect ratio is 20 or less, filling of the crushed filler is easy.

上記破砕フィラーのアスペクト比は、例えば、デジタル画像解析方式粒度分布測定装置(日本ルフト社製「FPA」)を用いて、フィラーの破砕面を測定することにより求めることが可能である。   The aspect ratio of the crushed filler can be determined, for example, by measuring the crushed surface of the filler using a digital image analysis particle size distribution measuring apparatus (“FPA” manufactured by Nippon Luft).

無機フィラー(D)の平均粒径は、好ましくは0.1μm以上、好ましくは40μm以下である。平均粒子径が上記下限以上であると、無機フィラー(D)を高密度で容易に充填できる。平均粒子径が上記上限以下であると、硬化物の耐電圧性がより一層高くなる。   The average particle diameter of the inorganic filler (D) is preferably 0.1 μm or more, and preferably 40 μm or less. When the average particle diameter is not less than the above lower limit, the inorganic filler (D) can be easily filled at a high density. When the average particle size is not more than the above upper limit, the withstand voltage of the cured product is further enhanced.

上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。   The “average particle diameter” is an average particle diameter obtained from a volume average particle size distribution measurement result measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus.

上記絶縁材料100体積%中、無機フィラー(D)の含有量は15体積%以上、より好ましくは30体積%以上、更に好ましくは50体積%以上、好ましくは90体積%以下、より好ましくは85体積%以下、更に好ましくは80体積%以下、特に好ましくは75体積%以下、最も好ましくは70体積%以下である。無機フィラー(D)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、絶縁材料の塗工性も良好になり、かつシート状の絶縁材料の取扱性も良好になる。   In 100 volume% of the insulating material, the content of the inorganic filler (D) is 15 volume% or more, more preferably 30 volume% or more, still more preferably 50 volume% or more, preferably 90 volume% or less, more preferably 85 volume. % Or less, more preferably 80% by volume or less, particularly preferably 75% by volume or less, and most preferably 70% by volume or less. When the content of the inorganic filler (D) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the coating property of the insulating material is improved and the handleability of the sheet-like insulating material is also improved.

上記絶縁材料100体積%中、シリカの含有量は15体積%以上、70体積%以下である。シリカの含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、絶縁材料の塗工性も良好になり、かつシート状の絶縁材料の取扱性も良好になる。さらに、硬化物の耐湿性がより一層高くなり、硬化物のプレッシャークッカーテストが行われたときに耐電圧性がより一層低下し難くなる。上記絶縁材料100体積%中、シリカの含有量は50体積%以上であることが好ましい。シリカの含有量が50体積%以上であると、硬化物の熱伝導性がより一層高くなり、また硬化物の耐湿性が更に一層高くなり、硬化物のプレッシャークッカーテストが行われたときに耐電圧性が更に一層低下し難くなる。   In 100% by volume of the insulating material, the content of silica is 15% by volume or more and 70% by volume or less. When the content of silica is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the coating property of the insulating material is improved and the handleability of the sheet-like insulating material is also improved. Furthermore, the moisture resistance of the cured product is further increased, and the voltage resistance is less likely to be lowered when a pressure cooker test of the cured product is performed. In 100% by volume of the insulating material, the silica content is preferably 50% by volume or more. When the silica content is 50% by volume or more, the thermal conductivity of the cured product is further increased, the moisture resistance of the cured product is further increased, and when the pressure cooker test of the cured product is performed, The voltage property is further hardly lowered.

(アルミニウム原子を有する有機化合物(E))
上記絶縁材料は、アルミニウム原子を有する有機化合物(E)を含む。アルミニウム原子を有する有機化合物(E)の使用により、硬化物の耐湿性が高くなり、硬化物のプレッシャークッカーテストが行われたときに耐電圧性が低下し難くなる。
(Organic compound having an aluminum atom (E))
The insulating material includes an organic compound (E) having an aluminum atom. By using the organic compound (E) having an aluminum atom, the moisture resistance of the cured product is increased, and the voltage resistance is hardly lowered when a pressure cooker test of the cured product is performed.

硬化物の耐湿性をより一層高くし、硬化物のプレッシャークッカーテストが行われたときに耐電圧性の低下をより一層抑制する観点からは、アルミニウム原子を有する有機化合物(E)は、アルミニウム系カップリング剤であることが好ましい。   From the viewpoint of further increasing the moisture resistance of the cured product and further suppressing the decrease in voltage resistance when the pressure cooker test of the cured product is performed, the organic compound (E) having an aluminum atom is an aluminum-based compound. A coupling agent is preferred.

アルミニウム原子を有する有機化合物(E)としては、アルミニウムエチレート、アルミニウムイソプロピレート、アルミニウムジイソプロピレートモノ−sec−ブチレート及びアルミニウム−sec−ブチレート等が挙げられる。   Examples of the organic compound (E) having an aluminum atom include aluminum ethylate, aluminum isopropylate, aluminum diisopropylate mono-sec-butyrate, and aluminum-sec-butyrate.

さらに、アルミニウム原子を有する有機化合物(E)として、キレート構造及びアルミニウム原子を有する有機化合物も使用可能である。キレート構造及びアルミニウム原子を有する有機化合物の使用により、絶縁材料の貯蔵安定性が高くなる。キレート構造及びアルミニウム原子を有する有機化合物としては、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムアルキルアセトアセテート・ジイソプロピレート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート及びアセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。   Furthermore, as the organic compound (E) having an aluminum atom, an organic compound having a chelate structure and an aluminum atom can also be used. The use of an organic compound having a chelate structure and an aluminum atom increases the storage stability of the insulating material. Examples of organic compounds having a chelate structure and an aluminum atom include aluminum ethyl acetoacetate / diisopropylate, aluminum trisethyl acetoacetate, aluminum alkyl acetoacetate / diisopropylate, aluminum bisethyl acetoacetate / monoacetylacetonate, aluminum trisacetyl Examples include acetonate and acetoalkoxyaluminum diisopropylate.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、アルミニウム原子を有する有機化合物(E)の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.05重量%以上、好ましくは20重量%以下、より好ましくは10重量%以下である。アルミニウム原子を有する有機化合物(E)の含有量が上記下限以上であると、硬化物の耐熱性と耐湿性とがより一層高くなる。アルミニウム原子を有する有機化合物(E)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化物の耐湿性がより一層高くなり、硬化物のプレッシャークッカーテストが行われたときに耐電圧性がより一層低下し難くなる。上記全樹脂成分Xには、アルミニウム原子を有する有機化合物(E)が含まれる。   The content of the organic compound (E) having an aluminum atom is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.05% by weight or more, preferably 20% by weight or less in the total 100% by weight of the total resin component X. More preferably, it is 10% by weight or less. When the content of the organic compound (E) having an aluminum atom is not less than the above lower limit, the heat resistance and moisture resistance of the cured product are further increased. When the content of the organic compound (E) having an aluminum atom is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the moisture resistance of the cured product is further increased, and the withstand voltage when the pressure cooker test of the cured product is performed. Becomes more difficult to decrease. The total resin component X includes an organic compound (E) having an aluminum atom.

(カップリング剤(F))
上記絶縁材料は、カップリング剤(F)を含むことが好ましい。カップリング剤(F)には、アルミニウム原子を有する有機化合物は含まれないこととする。カップリング剤(F)はアルミニウム原子を有さないことが好ましい。カップリング剤(F)は、シラン系のカップリング剤を含むことが好ましい。さらに、カップリング剤(F)は、シラン系、チタン系、又はジルコン系のカップリング剤を含むことが好ましく、チタン系又はジルコン系のカップリング剤を含むことが好ましく、更にチタン系のカップリング剤を含むことが好ましい。チタン系又はジルコン系のカップリング剤の使用により、硬化物の耐水性及び耐湿性、並びに絶縁材料の硬化物の接着対象物に対する接着性がかなり高くなり、特に銅により形成された導電層に対する接着性がかなり高くなる。さらに、チタン系又はジルコン系のカップリング剤の使用により、硬化物の耐熱性も高くなる。また、チタン系又はジルコン系のカップリング剤の使用により、無機フィラー(D)の凝集が抑えられ、かつ硬化物の熱伝導性及び耐電圧性がより一層高くなる。カップリング剤(F)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Coupling agent (F))
The insulating material preferably contains a coupling agent (F). The coupling agent (F) does not include an organic compound having an aluminum atom. The coupling agent (F) preferably has no aluminum atom. The coupling agent (F) preferably contains a silane coupling agent. Further, the coupling agent (F) preferably contains a silane, titanium or zircon coupling agent, preferably contains a titanium or zircon coupling agent, and further comprises a titanium coupling. It is preferable that an agent is included. The use of a titanium or zircon coupling agent significantly increases the water and moisture resistance of the cured product and the adhesion of the cured material of the insulating material to the object to be bonded, particularly to the conductive layer formed of copper. Sex is considerably higher. Furthermore, use of a titanium-based or zircon-based coupling agent also increases the heat resistance of the cured product. In addition, the use of a titanium-based or zircon-based coupling agent suppresses the aggregation of the inorganic filler (D) and further increases the thermal conductivity and voltage resistance of the cured product. As for a coupling agent (F), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記カップリング剤(F)がシラン系のカップリング剤(シランカップリング剤)である場合には、上記カップリング剤(F)としては、アミノシランカップリング剤、イミダゾールシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤及びエポキシシランカップリング剤等が挙げられる。シランカップリング剤の使用により、無機フィラー(D)の凝集が抑えられ、かつ硬化物の熱伝導性及び耐電圧性がより一層高くなる。シランカップリング剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   When the coupling agent (F) is a silane coupling agent (silane coupling agent), the coupling agent (F) is an aminosilane coupling agent, an imidazole silane coupling agent, or a vinyl silane coupling. And an epoxy silane coupling agent. By using the silane coupling agent, aggregation of the inorganic filler (D) is suppressed, and the thermal conductivity and voltage resistance of the cured product are further enhanced. As for a silane coupling agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

カップリング剤(F)は、チタン系のカップリング剤であってもよく、ジルコン系のカップリング剤であってもよい。硬化物の耐熱性及び耐湿性をより一層高める観点からは、カップリング剤(F)は、チタン系のカップリング剤であることが好ましい。   The coupling agent (F) may be a titanium-based coupling agent or a zircon-based coupling agent. From the viewpoint of further improving the heat resistance and moisture resistance of the cured product, the coupling agent (F) is preferably a titanium-based coupling agent.

上記チタン系のカップリング剤は、チタン原子を含む。チタン系のカップリング剤としては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン及びテトラブトキシチタン等が挙げられる。チタン系のカップリング剤の市販品としては、プレンアクトTTS、プレンアクト55、プレンアクト46B、プレンアクト338X、プレンアクト238S、プレンアクト38S、プレンアクト138S、プレンアクト41B、プレンアクト9SA及びプレンアクトKR44(いずれも味の素ファインテクノ社製)等が挙げられる。これら以外のチタン系のカップリング剤を用いてもよい。チタン系のカップリング剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The titanium-based coupling agent contains a titanium atom. Examples of the titanium-based coupling agent include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetrapropoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, and tetrabutoxy titanium. Commercially available titanium coupling agents include Preneact TTS, Preneact 55, Preneact 46B, Preneact 338X, Preneact 238S, Preneact 38S, Preneact 138S, Preneact 41B, Preneact 9SA and Preneact KR44 (all manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) Etc. Titanium-based coupling agents other than these may be used. Only one type of titanium coupling agent may be used, or two or more types may be used in combination.

上記ジルコン系のカップリング剤は、ジルコン原子を含む。ジルコン系のカップリング剤の市販品としては、NZ01、NZ09、NZ12、NZ33、NZ37、NZ38、NZ39、NZ44、NZ66A、NZ97、NZ38J、KZTPP及びKZ55(いずれもケンリッチ・ペトロケミカル社製)等が挙げられる。これら以外のジルコン系のカップリング剤を用いてもよい。ジルコン系のカップリング剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The zircon-based coupling agent contains a zircon atom. Examples of commercially available zircon coupling agents include NZ01, NZ09, NZ12, NZ33, NZ37, NZ38, NZ39, NZ44, NZ66A, NZ97, NZ38J, KZTPP, and KZ55 (all manufactured by Kenrich Petrochemical). It is done. Zircon coupling agents other than these may be used. Only one type of zircon coupling agent may be used, or two or more types may be used in combination.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、カップリング剤(F)の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.05重量%以上、好ましくは20重量%以下、より好ましくは10重量%以下である。カップリング剤(F)の含有量が上記下限以上であると、硬化物の耐熱性と耐湿性とがより一層高くなる。カップリング剤(F)の含有量が上記上限以下であると、絶縁材料の硬化物の耐熱性、及びシート状の絶縁材料の取扱性がより一層高くなる。さらに、カップリング剤(F)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、無機フィラー(D)の凝集がより一層抑えられ、かつ硬化物の熱伝導性及び耐電圧性がより一層高くなる。上記全樹脂成分Xには、カップリング剤(F)が含まれる。   In the total 100% by weight of the total resin component X, the content of the coupling agent (F) is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.05% by weight or more, preferably 20% by weight or less, more preferably Is 10% by weight or less. When the content of the coupling agent (F) is not less than the above lower limit, the heat resistance and moisture resistance of the cured product are further increased. The heat resistance of the hardened | cured material of an insulating material and the handleability of a sheet-like insulating material become it still higher that content of a coupling agent (F) is below the said upper limit. Furthermore, when the content of the coupling agent (F) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the aggregation of the inorganic filler (D) is further suppressed, and the thermal conductivity and voltage resistance of the cured product are further improved. Get higher. The total resin component X includes a coupling agent (F).

(有機フィラー(G))
上記絶縁材料は有機フィラー(G)を含むことが好ましい。有機フィラー(G)は柔軟性が比較的高い。従って、有機フィラー(G)の使用により、硬化物の耐湿性がより一層高くなり、硬化物のプレッシャークッカーテストが行われたときに耐電圧性がより一層低下し難くなる。
(Organic filler (G))
The insulating material preferably contains an organic filler (G). The organic filler (G) has a relatively high flexibility. Therefore, by using the organic filler (G), the moisture resistance of the cured product is further increased, and the voltage resistance is hardly further lowered when the pressure cooker test of the cured product is performed.

上記有機フィラー(G)は、モノマーにより形成された繰返し構造を含む不溶性粒子であることが好ましい。上記モノマーは、アクリル系モノマー又はスチレン系モノマーであることが好ましい。アクリル系モノマー及びスチレン系モノマーはそれぞれ、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The organic filler (G) is preferably insoluble particles including a repeating structure formed of monomers. The monomer is preferably an acrylic monomer or a styrene monomer. As for an acryl-type monomer and a styrene-type monomer, only 1 type may respectively be used and 2 or more types may be used together.

上記アクリル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、β−ヒドロキシアクリル酸エチル、γ−アミノアクリル酸プロピル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、及びメタクリル酸ジエチルアミノエチル等が挙げられる。上記アクリル系モノマーは1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the acrylic monomer include acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, acrylate-2-ethylhexyl, cyclohexyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, ethyl β-hydroxyacrylate, propyl γ-aminoacrylate, stearyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, and diethylaminoethyl methacrylate Can be mentioned. As for the said acrylic monomer, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記スチレン系モノマーとして、例えば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−クロロスチレン、p−エチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン、2,4−ジメチルスチレン及び3,4−ジクロロスチレン等が挙げられる。スチレン系モノマーは1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the styrene monomer include styrene, o-methyl styrene, m-methyl styrene, p-methyl styrene, p-methoxy styrene, p-phenyl styrene, p-chloro styrene, p-ethyl styrene, pn-butyl. Styrene, p-tert-butyl styrene, pn-hexyl styrene, pn-octyl styrene, pn-nonyl styrene, pn-decyl styrene, pn-dodecyl styrene, 2,4-dimethylstyrene And 3,4-dichlorostyrene. Only one type of styrenic monomer may be used, or two or more types may be used in combination.

有機フィラー(G)は、コアシェル構造を有することが好ましい。コアシェル構造を有する有機フィラーの使用により、硬化物の耐熱性がより一層高くなる。コアシェル構造を有する有機フィラーは、コア層と、該コア層を被覆しているシェル層とを有する。上記コア層及び該コア層を被覆しているシェル層はアクリル系化合物であることが好ましい。   The organic filler (G) preferably has a core-shell structure. Use of the organic filler having a core-shell structure further increases the heat resistance of the cured product. The organic filler having a core-shell structure has a core layer and a shell layer covering the core layer. The core layer and the shell layer covering the core layer are preferably acrylic compounds.

有機フィラー(G)は、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物と、有機物とを含む複合フィラーであることが好ましい。この場合には、硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The organic filler (G) is preferably a composite filler containing a compound having a skeleton in which oxygen atoms are directly bonded to silicon atoms and an organic substance. In this case, the heat resistance of the cured product is further increased.

上記コア層が、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むことが好ましい。上記シェル層が、有機物を含むことが好ましい。有機フィラー(G)は、上記ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むコア層と、上記有機物を含むシェル層とを有する複合フィラーであることが好ましい。   The core layer preferably contains a compound having a skeleton in which oxygen atoms are directly bonded to silicon atoms. The shell layer preferably contains an organic substance. The organic filler (G) is preferably a composite filler having a core layer containing a compound having a skeleton in which an oxygen atom is directly bonded to the silicon atom, and a shell layer containing the organic substance.

上記ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物は、シロキサン系ポリマーであることが好ましい。上記有機物は、アクリル系化合物であることが好ましい。   The compound having a skeleton in which an oxygen atom is directly bonded to the silicon atom is preferably a siloxane polymer. The organic material is preferably an acrylic compound.

有機フィラー(G)の平均粒子径は、好ましくは0.1μm以上、好ましくは40μm以下、より好ましくは20μm以下である。有機フィラー(G)の平均粒子径が上記下限以上であると、有機フィラー(G)を高密度で容易に充填できる。有機フィラー(G)の平均粒子径が上記上限以下であると、硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The average particle diameter of the organic filler (G) is preferably 0.1 μm or more, preferably 40 μm or less, more preferably 20 μm or less. When the average particle diameter of the organic filler (G) is not less than the above lower limit, the organic filler (G) can be easily filled at a high density. When the average particle diameter of the organic filler (G) is not more than the above upper limit, the heat resistance of the cured product is further increased.

上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。   The “average particle diameter” is an average particle diameter obtained from a volume average particle size distribution measurement result measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus.

上記絶縁材料100体積%中、有機フィラー(G)の含有量は好ましくは0.01体積%以上、より好ましくは0.1体積%以上、好ましくは10体積%以下、より好ましくは5体積%以下、更に好ましくは3体積%以下である。有機フィラー(G)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化物の耐湿性がより一層高くなり、硬化物のプレッシャークッカーテストが行われたときに耐電圧性がより一層低下し難くなる。   In 100% by volume of the insulating material, the content of the organic filler (G) is preferably 0.01% by volume or more, more preferably 0.1% by volume or more, preferably 10% by volume or less, more preferably 5% by volume or less. More preferably, it is 3% by volume or less. When the content of the organic filler (G) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the moisture resistance of the cured product is further increased, and the withstand voltage is further reduced when the pressure cooker test of the cured product is performed. It becomes difficult to do.

(分散剤)
上記絶縁材料は、分散剤を含むことが好ましい。該分散剤の使用により、硬化物の熱伝導性及び耐電圧性がより一層高くなる。
(Dispersant)
The insulating material preferably contains a dispersant. Use of the dispersant further increases the thermal conductivity and voltage resistance of the cured product.

上記分散剤は、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有することが好ましい。上記分散剤が水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有することで、硬化物の熱伝導率及び耐電圧性がより一層高くなる。上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、例えば、カルボキシル基(pKa=4)、リン酸基(pKa=7)、及びフェノール基(pKa=10)等が挙げられる。   The dispersant preferably has a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties. When the dispersing agent has a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties, the thermal conductivity and voltage resistance of the cured product are further enhanced. Examples of the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding include a carboxyl group (pKa = 4), a phosphoric acid group (pKa = 7), a phenol group (pKa = 10), and the like.

上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基のpKaは、好ましくは2以上、より好ましくは3以上、好ましくは10以下、より好ましくは9以下である。上記官能基のpKaが上記下限以上であると、上記分散剤の酸性度が高くなりすぎない。従って、シート状の絶縁材料の貯蔵安定性がより一層高くなる。上記官能基のpKaが上記上限以下であると、上記分散剤の機能が充分に発揮され、硬化物の熱伝導性及び耐電圧性がより一層高くなる。   The pKa of the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding property is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, preferably 10 or less, more preferably 9 or less. When the pKa of the functional group is not less than the lower limit, the acidity of the dispersant does not become too high. Therefore, the storage stability of the sheet-like insulating material is further enhanced. When the pKa of the functional group is not more than the above upper limit, the function of the dispersant is sufficiently exhibited, and the thermal conductivity and voltage resistance of the cured product are further enhanced.

上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基は、カルボキシル基又はリン酸基であることが好ましい。この場合には、硬化物の熱伝導性及び耐電圧性が更に一層高くなる。   The functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties is preferably a carboxyl group or a phosphate group. In this case, the thermal conductivity and voltage resistance of the cured product are further increased.

上記分散剤としては、具体的には、例えば、ポリエステル系カルボン酸、ポリエーテル系カルボン酸、ポリアクリル系カルボン酸、脂肪族系カルボン酸、ポリシロキサン系カルボン酸、ポリエステル系リン酸、ポリエーテル系リン酸、ポリアクリル系リン酸、脂肪族系リン酸、ポリシロキサン系リン酸、ポリエステル系フェノール、ポリエーテル系フェノール、ポリアクリル系フェノール、脂肪族系フェノール、及びポリシロキサン系フェノール等が挙げられる。上記分散剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the dispersant include a polyester carboxylic acid, a polyether carboxylic acid, a polyacrylic carboxylic acid, an aliphatic carboxylic acid, a polysiloxane carboxylic acid, a polyester phosphoric acid, and a polyether type. Examples thereof include phosphoric acid, polyacrylic phosphoric acid, aliphatic phosphoric acid, polysiloxane phosphoric acid, polyester phenol, polyether phenol, polyacrylic phenol, aliphatic phenol, and polysiloxane phenol. As for the said dispersing agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、上記分散剤の含有量は、好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは20重量%以下、より好ましくは10重量%以下である。上記分散剤の含有量が上記下限以上及び上限以下であると、無機フィラー(D)の凝集が抑えられ、かつ硬化物の熱伝導性及び耐電圧性がより一層高くなる。   In the total 100% by weight of the total resin component X, the content of the dispersant is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight. % By weight or less. When the content of the dispersant is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, the aggregation of the inorganic filler (D) is suppressed, and the thermal conductivity and voltage resistance of the cured product are further enhanced.

(他の成分)
取扱性をより一層高めるために、上記絶縁シートは、ガラスクロス、ガラス不織布、アラミド不織布等の基材物質を含んでいてもよい。ただし、上記基材物質を含まなくても、上記組成を有するシート状の絶縁材料(絶縁シート)は室温(23℃)において自立性を有し、かつ優れた取扱性を有する。よって、絶縁シートは基材物質を含まないことが好ましく、特にガラスクロスを含まないことが好ましい。絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、絶縁シートの厚みを薄くすることができ、かつ硬化物の熱伝導性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、必要に応じて絶縁シートにレーザー加工又はドリル穴開け加工等の各種加工を容易に行うこともできる。なお、自立性とは、PETフィルム又は銅箔といった支持体が存在しなくても、シートの形状を保持し、シートとして取り扱うことができることをいう。
(Other ingredients)
In order to further improve the handleability, the insulating sheet may contain a base material such as glass cloth, glass nonwoven fabric, and aramid nonwoven fabric. However, even if the base material is not included, the sheet-like insulating material (insulating sheet) having the above composition is self-supporting at room temperature (23 ° C.) and has excellent handleability. Therefore, the insulating sheet preferably does not contain a base material, and particularly preferably does not contain glass cloth. When an insulating sheet does not contain the said base material, the thickness of an insulating sheet can be made thin and the thermal conductivity of hardened | cured material can be improved further. Furthermore, when an insulating sheet does not contain the said base material, various processes, such as a laser processing or a drilling process, can also be easily performed to an insulating sheet as needed. In addition, self-supporting means that the shape of a sheet can be maintained and handled as a sheet even if there is no support such as a PET film or copper foil.

さらに、上記絶縁材料は、必要に応じて、粘着性付与剤、可塑剤、チキソ性付与剤、難燃剤、光増感剤及び着色剤などを含んでいてもよい。   Furthermore, the insulating material may contain a tackifier, a plasticizer, a thixotropic agent, a flame retardant, a photosensitizer, a colorant, and the like as necessary.

(絶縁材料の他の詳細)
上記絶縁材料は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる。
(Other details of insulation materials)
The insulating material is used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer.

上記絶縁シートの製造方法は特に限定されない。絶縁シートは、例えば、上述した材料を混合した混合物を溶剤キャスト法又は押し出し成膜法等の方法でシート状に成形することにより得ることができる。シート状に成形する際に、脱泡することが好ましい。   The manufacturing method of the said insulating sheet is not specifically limited. The insulating sheet can be obtained, for example, by forming a mixture obtained by mixing the above-described materials into a sheet shape by a method such as a solvent casting method or an extrusion film forming method. Defoaming is preferred when forming into a sheet.

絶縁シートの厚みは特に限定されない。また、絶縁材料をシート化したときのシート状の絶縁材料の厚みは特に限定されない。絶縁シート及びシート状の絶縁材料の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、更に好ましくは30μm以上、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下、更に好ましくは120μm以下である。厚みが上記下限以上であると、硬化物の絶縁性が高くなる。厚みが上記上限以下であると、金属体を導電層に接着したときに放熱性が高くなる。   The thickness of the insulating sheet is not particularly limited. Further, the thickness of the sheet-like insulating material when the insulating material is formed into a sheet is not particularly limited. The thickness of the insulating sheet and the sheet-like insulating material is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, further preferably 30 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, and still more preferably 120 μm or less. When the thickness is not less than the above lower limit, the insulating property of the cured product is increased. When the thickness is less than or equal to the above upper limit, the heat dissipation becomes high when the metal body is bonded to the conductive layer.

絶縁材料の硬化物の熱伝導率は、好ましくは0.3W/m・K以上、より好ましくは1.0W/m・K以上、更に好ましくは1.5W/m・K以上である。熱伝導率が高いほど、硬化物の熱伝導性が十分に高くなる。   The thermal conductivity of the cured product of the insulating material is preferably 0.3 W / m · K or more, more preferably 1.0 W / m · K or more, and further preferably 1.5 W / m · K or more. The higher the thermal conductivity, the higher the thermal conductivity of the cured product.

絶縁材料の硬化物の絶縁破壊電圧は、好ましくは40kV/mm以上、より好ましくは50kV/mm以上、更に好ましくは60kV/mm以上、特に好ましくは70kV/mm以上である。絶縁破壊電圧が高いほど、絶縁材料が例えば電力素子用のような大電流用途に用いられた場合に、絶縁性を十分に確保できる。   The dielectric breakdown voltage of the cured product of the insulating material is preferably 40 kV / mm or more, more preferably 50 kV / mm or more, still more preferably 60 kV / mm or more, and particularly preferably 70 kV / mm or more. The higher the dielectric breakdown voltage, the more sufficient insulation can be ensured when the insulating material is used for large current applications such as for power devices.

(積層構造体の他の詳細)
本発明に係る絶縁材料は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されている積層構造体の絶縁層を構成するために好適に用いられる。
(Other details of laminated structure)
The insulating material according to the present invention constitutes an insulating layer of a laminated structure in which a conductive layer is laminated on at least one surface of a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer. Is preferably used.

図1に、本発明の一実施形態に係る絶縁材料を用いた積層構造体の一例を示す。   FIG. 1 shows an example of a laminated structure using an insulating material according to an embodiment of the present invention.

図1に示す積層構造体1は、熱伝導体2と、熱伝導体2の第1の表面2aに積層された絶縁層3と、絶縁層3の熱伝導体2が積層された表面とは反対側の表面に積層された導電層4とを備える。熱伝導体2の第1の表面2aとは反対の第2の表面2bには、絶縁層及び導電層は積層されていない。絶縁層3は、本発明に係る絶縁材料を硬化させることにより形成されている。熱伝導体2の熱伝導率は10W/m・K以上である。   The laminated structure 1 shown in FIG. 1 includes a heat conductor 2, an insulating layer 3 laminated on the first surface 2a of the heat conductor 2, and a surface on which the heat conductor 2 of the insulating layer 3 is laminated. And a conductive layer 4 laminated on the opposite surface. The insulating layer and the conductive layer are not laminated on the second surface 2b opposite to the first surface 2a of the heat conductor 2. The insulating layer 3 is formed by curing the insulating material according to the present invention. The heat conductivity of the heat conductor 2 is 10 W / m · K or more.

熱伝導体の少なくとも一方の面に、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていればよく、熱伝導体の他方の面にも、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていてもよい。   It is sufficient that the insulating layer and the conductive layer are laminated in this order on at least one surface of the heat conductor, and the insulating layer and the conductive layer are laminated in this order on the other surface of the heat conductor. Good.

積層構造体1では、絶縁層3が高い熱伝導率を有するので、導電層4側からの熱が絶縁層3を介して熱伝導体2に伝わりやすい。積層構造体1では、熱伝導体2によって熱を効率的に放散させることができる。   In the laminated structure 1, since the insulating layer 3 has a high thermal conductivity, heat from the conductive layer 4 side is easily transmitted to the thermal conductor 2 through the insulating layer 3. In the laminated structure 1, heat can be efficiently dissipated by the heat conductor 2.

例えば、両面に銅回路が設けられた積層板又は多層配線板、銅箔、銅板、半導体素子又は半導体パッケージ等の各導電層に、絶縁材料を介して金属体を接着した後、絶縁材料を硬化させることにより、積層構造体1を得ることができる。   For example, after bonding a metal body to each conductive layer such as a laminated board or multilayer wiring board provided with copper circuits on both sides, copper foil, copper plate, semiconductor element or semiconductor package via an insulating material, the insulating material is cured. By doing so, the laminated structure 1 can be obtained.

上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体は特に限定されない。上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体としては、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム及びグラファイトシート等が挙げられる。上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体は、金属であることが好ましく、銅又はアルミニウムであることがより好ましい。銅又はアルミニウムは、放熱性に優れている。   The heat conductor whose heat conductivity is 10 W / m · K or more is not particularly limited. Examples of the heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more include aluminum, copper, alumina, beryllia, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, and graphite sheet. The thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is preferably a metal, and more preferably copper or aluminum. Copper or aluminum is excellent in heat dissipation.

本発明に係る絶縁材料は、基板上に半導体素子が実装されている半導体装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を接着するために好適に用いられる。   The insulating material according to the present invention is suitably used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of a semiconductor device on which a semiconductor element is mounted on a substrate.

本発明に係る絶縁材料は、半導体素子以外の電子部品素子が基板上に搭載されている電子部品装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を接着するためにも好適に用いられる。   The insulating material according to the present invention adheres a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of an electronic component device in which an electronic component element other than a semiconductor element is mounted on a substrate. Also preferably used.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. The present invention is not limited to the following examples.

以下の材料を用意した。   The following materials were prepared.

[ポリマー(A)]
(1)ビスフェノールA型フェノキシ樹脂(三菱化学社製「E1256」、Mw=51000、Tg=98℃)
(2)高耐熱フェノキシ樹脂(新日鐵化学社製「FX−293」、Mw=43700、Tg=163℃)
(3)エポキシ基含有スチレン樹脂(日油社製「マープルーフG−1010S」、Mw=100000、Tg=93℃)
[Polymer (A)]
(1) Bisphenol A type phenoxy resin (“E1256” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Mw = 51000, Tg = 98 ° C.)
(2) High heat resistance phenoxy resin (“FX-293” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., Mw = 43700, Tg = 163 ° C.)
(3) Epoxy group-containing styrene resin (“Marproof G-1010S” manufactured by NOF Corporation, Mw = 100000, Tg = 93 ° C.)

[硬化性化合物(B)]
(1)ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(三菱化学社製「エピコート828US」、Mw=370)
(2)ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂(三菱化学社製「エピコート806L」、Mw=370)
(3)フルオレン骨格エポキシ樹脂(大阪ガスケミカル社製「オンコートEX1011」、Mw=486)
(4)ベンゼン骨格含有オキセタン樹脂(宇部興産社製「エタナコールOXTP」、Mw=362.4)
(5)ヘキサヒドロフタル酸骨格液状エポキシ樹脂(日本化薬社製「AK−601」、Mw=284)
(6)ビスフェノールA型固体状エポキシ樹脂(三菱化学社製「1003」、Mw=1300)
[Curable compound (B)]
(1) Bisphenol A liquid epoxy resin ("Epicoat 828US" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Mw = 370)
(2) Bisphenol F type liquid epoxy resin (“Epicoat 806L” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Mw = 370)
(3) Fluorene skeleton epoxy resin (Osaka Gas Chemical Co., Ltd. “Oncoat EX1011”, Mw = 486)
(4) Oxetane resin containing a benzene skeleton (“Ethanacol OXTP” manufactured by Ube Industries, Ltd., Mw = 362.4)
(5) Hexahydrophthalic acid skeleton liquid epoxy resin (“AK-601” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Mw = 284)
(6) Bisphenol A type solid epoxy resin ("1003" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Mw = 1300)

[硬化剤(C)]
(1)脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製「MH−700」)
(2)芳香族骨格酸無水物(サートマー・ジャパン社製「SMAレジンEF60」)
(3)ビフェニル骨格フェノール樹脂(明和化成社製「MEH−7851−S」)
(4)トリアジン骨格系フェノール樹脂(DIC社製「フェノライトKA−7052−L2」)
(5)ジシアンジアミド(三菱化学社製「DICY7」)
(6)イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール(イミダゾール系硬化促進剤、四国化成工業社製「2MZA−PW」)
[Curing agent (C)]
(1) Alicyclic skeleton acid anhydride (“MH-700” manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
(2) Aromatic skeleton acid anhydride ("SMA Resin EF60" manufactured by Sartomer Japan)
(3) Biphenyl skeleton phenol resin (“MEH-7851-S” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)
(4) Triazine skeleton phenol resin (“Phenolite KA-7052-L2” manufactured by DIC)
(5) Dicyandiamide ("DICY7" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(6) Isocyanur-modified solid dispersion type imidazole (imidazole curing accelerator, “2MZA-PW” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)

[無機フィラー(D)]
(1)8μmシリカ(球状シリカ、龍森社製「MSS−7」、平均粒子径8μm、熱伝導率10W/m・K、新モース硬度9)
(2)10μmシリカ(破砕シリカ、龍森社製「CMC−1」、平均粒子径10μm、熱伝導率10W/m・K、新モース硬度9)
(3)5μmシリカ(破砕シリカ、龍森社製「VX−S2」、平均粒子径5μm、熱伝導率10W/m・K、新モース硬度9)
(4)5μmアルミナ(破砕アルミナ、日本軽金属社製「LT300C」、平均粒子径5μm、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(5)6μm窒化アルミニウム(破砕窒化アルミニウム、東洋アルミニウム社製「FLC」、平均粒子径6μm、熱伝導率200W/m・K、新モース硬度11)
[Inorganic filler (D)]
(1) 8 μm silica (spherical silica, “MSS-7” manufactured by Tatsumori, average particle diameter 8 μm, thermal conductivity 10 W / m · K, new Mohs hardness 9)
(2) 10 μm silica (crushed silica, “CMC-1” manufactured by Tatsumori, average particle diameter 10 μm, thermal conductivity 10 W / m · K, new Mohs hardness 9)
(3) 5 μm silica (crushed silica, “VX-S2” manufactured by Tatsumori, average particle diameter 5 μm, thermal conductivity 10 W / m · K, new Mohs hardness 9)
(4) 5 μm alumina (crushed alumina, “LT300C” manufactured by Nippon Light Metal Co., Ltd., average particle size 5 μm, thermal conductivity 36 W / m · K, new Mohs hardness 12)
(5) 6 μm aluminum nitride (crushed aluminum nitride, “FLC” manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd., average particle diameter 6 μm, thermal conductivity 200 W / m · K, new Mohs hardness 11)

[アルミニウム原子を有する有機化合物(E)]
(1)アルミニウム−sec−ブチレート(川研ファインケミカル社製)
(2)アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート(味の素ファインテクノ社製「AL−M」)
[Organic compound having an aluminum atom (E)]
(1) Aluminum-sec-butyrate (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.)
(2) Acetoalkoxyaluminum diisopropylate (“AL-M” manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co.)

[カップリング剤(F)]
(1)アミノシランカップリング剤(信越化学工業社製「KBM903」)
(2)エポキシシランカップリング剤(信越化学工業社製「KBE403」)
[Coupling agent (F)]
(1) Aminosilane coupling agent (“KBM903” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(2) Epoxysilane coupling agent (“KBE403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

[有機フィラー(G)]
(1)0.1μm粒子(コアシェル型シリコーン−アクリル粒子、旭化成ワッカーシリコーン社製「P22」、平均粒子径0.1μm、コアシェル構造を有する、ケイ素原子に酸素原子が直接結合された骨格を有する化合物を含むコア層と有機物を含む)
(2)0.5μm粒子(コアシェル型有機粒子、ガンツ化成社製「AC−3355」、平均粒子径0.5μm、コアシェル構造を有する)
(3)4μm粒子(ガンツ化成社製「GM−0401S」、平均粒子径4μm)
[Organic filler (G)]
(1) 0.1 μm particles (core-shell type silicone-acrylic particles, “P22” manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd., having an average particle size of 0.1 μm, a core-shell structure and a skeleton in which oxygen atoms are directly bonded to silicon atoms Including core layer and organic matter)
(2) 0.5 μm particles (core-shell type organic particles, “AC-3355” manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd., having an average particle diameter of 0.5 μm and a core-shell structure)
(3) 4 μm particles (“GM-0401S” manufactured by Ganz Chemical Co., Ltd., average particle diameter of 4 μm)

[溶剤]
(1)メチルエチルケトン
[solvent]
(1) Methyl ethyl ketone

(実施例1〜36及び比較例1〜8)
ホモディスパー型撹拌機を用いて、下記の表1〜5に示す割合(配合単位は重量部)で各成分を配合し、混練し、絶縁材料を調製した。
(Examples 1-36 and Comparative Examples 1-8)
Using a homodisper type stirrer, each component was blended in the proportions shown in Tables 1 to 5 below (blending unit is parts by weight) and kneaded to prepare an insulating material.

厚み50μmの離型PETシートに、上記絶縁材料を100μmの厚みになるように塗工し、90℃のオーブン内で30分乾燥して、PET(ポリエチレンテレフタレート)シート上に絶縁シートを作製した。   The insulating material was applied to a release PET sheet having a thickness of 50 μm so as to have a thickness of 100 μm, and dried in an oven at 90 ° C. for 30 minutes to produce an insulating sheet on a PET (polyethylene terephthalate) sheet.

(評価)
(1)取扱性
PETシートと、該PETシート上に形成された作製直後の絶縁シートとを有する積層シートを460mm×610mmの大きさに切り出して、絶縁シートをPETシートを剥離して、テストサンプルを得た。
(Evaluation)
(1) Handling property A laminated sheet having a PET sheet and an insulating sheet immediately after production formed on the PET sheet is cut into a size of 460 mm × 610 mm, the insulating sheet is peeled off, and the test sample is peeled off. Got.

半径0.5mmの丸棒に、上記テストサンプルを巻き付けて180°折り曲げて、折り曲げ試験を実施した。上記テストサンプルに割れが発生する巻き付け回数から、取り扱い性を下記の基準で判定した。   The test sample was wound around a round bar having a radius of 0.5 mm and bent by 180 °, and a bending test was performed. From the number of windings at which cracks occur in the test sample, the handleability was determined according to the following criteria.

[取扱性の判定基準]
〇○:巻き付け回数30回でも割れが発生しない
○:巻き付け回数5回以上、29回以下で割れが発生
×:巻き付け回数4回以下で割れが発生
[Handling criteria]
○ ○: No cracking occurs even when the winding number is 30 times ○: Cracking occurs when the winding number is 5 times or more and 29 times or less ×: Cracking occurs when the winding number is 4 times or less

(2)熱伝導性
熱伝導率計(京都電子工業社製「迅速熱伝導率計QTM−500」)を用いて、作製直後の絶縁シートの熱伝導率を測定した。熱伝導性を下記の基準で判定した。
(2) Thermal conductivity The thermal conductivity of the insulating sheet immediately after production was measured using a thermal conductivity meter (“Rapid thermal conductivity meter QTM-500” manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.). Thermal conductivity was determined according to the following criteria.

[熱伝導性の判定基準]
○○:熱伝導率が1.5W/m・K以上
○:熱伝導率が0.3W/m・K以上、1.5W/m・K未満
×:熱伝導率が0.3W/m・K未満
[Criteria of thermal conductivity]
○○: Thermal conductivity of 1.5 W / m · K or more ○: Thermal conductivity of 0.3 W / m · K or more, less than 1.5 W / m · K ×: Thermal conductivity of 0.3 W / m · K Less than K

(3)絶縁破壊電圧(耐電圧性)
作製直後の絶縁シートを100mm×100mmの大きさに切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを120℃のオーブン内で1時間、更に200℃のオーブン内で1時間硬化させ、絶縁シートの硬化物を得た。耐電圧試験器(MODEL7473、EXTECH Electronics社製)を用いて、絶縁シートの硬化物間に1kV/秒の速度で電圧が上昇するように、交流電圧を印加した。絶縁シートの硬化物が破壊した電圧を、絶縁破壊電圧(PCT前の絶縁破壊電圧)とした。絶縁破壊電圧(耐電圧性)を下記の基準で判定した。
(3) Dielectric breakdown voltage (withstand voltage)
The insulating sheet immediately after production was cut out to a size of 100 mm × 100 mm to obtain a test sample. The obtained test sample was cured in an oven at 120 ° C. for 1 hour and further in an oven at 200 ° C. for 1 hour to obtain a cured product of an insulating sheet. An AC voltage was applied using a withstand voltage tester (MODEL7473, manufactured by EXTECH Electronics) so that the voltage increased at a rate of 1 kV / second between the cured products of the insulating sheet. The voltage at which the cured product of the insulating sheet was broken was defined as the dielectric breakdown voltage (dielectric breakdown voltage before PCT). The dielectric breakdown voltage (voltage resistance) was determined according to the following criteria.

[絶縁破壊電圧(耐電圧性)の判定基準]
〇○:70kV/mm以上
○:50kV/mm以上、70kV/mm未満
×:50kV/mm未満
[Criteria for dielectric breakdown voltage (withstand voltage)]
○: 70 kV / mm or more ○: 50 kV / mm or more, less than 70 kV / mm ×: less than 50 kV / mm

(4)プレッシャークッカーテスト(PCT)後の絶縁破壊電圧(耐電圧製)
作製直後の絶縁シートを100mm×100mmの大きさに切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを120℃のオーブン内で1時間、更に200℃のオーブン内で1時間硬化させ、絶縁シートの硬化物を得た。
(4) Dielectric breakdown voltage after pressure cooker test (PCT) (withstand voltage)
The insulating sheet immediately after production was cut out to a size of 100 mm × 100 mm to obtain a test sample. The obtained test sample was cured in an oven at 120 ° C. for 1 hour and further in an oven at 200 ° C. for 1 hour to obtain a cured product of an insulating sheet.

得られた硬化物を120℃100%RHの条件で250時間処理することにより、プレッシャークッカーテスト(PCT)を行った。   A pressure cooker test (PCT) was performed by treating the obtained cured product for 250 hours under conditions of 120 ° C. and 100% RH.

耐電圧試験器(MODEL7473、EXTECH Electronics社製)を用いて、PCT後の絶縁シートの硬化物間に1kV/秒の速度で電圧が上昇するように、交流電圧を印加した。絶縁シートの硬化物が破壊した電圧を、絶縁破壊電圧とした。PCT後の絶縁破壊電圧(耐電圧性)を下記の基準で判定した。   Using a withstand voltage tester (MODEL7473, manufactured by EXTECH Electronics), an alternating voltage was applied so that the voltage increased at a rate of 1 kV / sec between the cured products of the insulating sheet after PCT. The voltage at which the cured product of the insulating sheet was broken was defined as the dielectric breakdown voltage. The dielectric breakdown voltage (voltage resistance) after PCT was determined according to the following criteria.

[絶縁破壊電圧(耐電圧性)の判定基準]
〇○:PCT後の絶縁破壊電圧が、PCT前の絶縁破壊電圧の70%以上
○:PCT後の絶縁破壊電圧が、PCT前の絶縁破壊電圧の30%以上、70%未満
×:PCT後の絶縁破壊電圧が、PCT前の絶縁破壊電圧の30%未満
[Criteria for dielectric breakdown voltage (withstand voltage)]
○: Dielectric breakdown voltage after PCT is 70% or more of dielectric breakdown voltage before PCT ○: Dielectric breakdown voltage after PCT is 30% or more and less than 70% of dielectric breakdown voltage before PCT ×: After PCT The breakdown voltage is less than 30% of the breakdown voltage before PCT

結果を下記の表1〜5に示す。下記の表5において、*1は、硬化しなかったことを示し、「−」は評価していないことを示す。また、下記の表1〜5において、シリカの含有量(体積%)及び有機フィラー(G)の含有量(体積%)は、絶縁シート100体積%中での割合を示す。   The results are shown in Tables 1 to 5 below. In Table 5 below, * 1 indicates that the composition was not cured, and “-” indicates that it was not evaluated. Moreover, in the following Tables 1-5, content (volume%) of a silica and content (volume%) of an organic filler (G) show the ratio in 100 volume% of insulating sheets.

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なお、破砕シリカを用いた実施例19と球状シリカを用いた実施例29とでは、PCT後の絶縁破壊電圧の評価結果はいずれも「○○」であるが、実施例19の方が実施例29よりもPCT後の絶縁破壊電圧の評価結果の数値は高かった。   In Example 19 using crushed silica and Example 29 using spherical silica, the evaluation results of the dielectric breakdown voltage after PCT are both “◯◯”, but Example 19 is the Example. The evaluation result of the dielectric breakdown voltage after PCT was higher than 29.

有機フィラー(G)を用いた実施例1と有機フィラー(G)を用いていない実施例19とでは、PCT後の絶縁破壊電圧の評価結果はいずれも「○○」であるが、実施例1の方が実施例19よりもPCT後の絶縁破壊電圧の評価結果の数値は高かった。   In Example 1 using the organic filler (G) and Example 19 not using the organic filler (G), the dielectric breakdown voltage evaluation results after PCT are both “◯◯”. The numerical value of the evaluation result of the dielectric breakdown voltage after PCT was higher than that in Example 19.

カップリング剤(F)を用いた実施例20とカップリング剤(F)を用いていない実施例19とでは、PCT後の絶縁破壊電圧の評価結果はいずれも「○○」であるが、実施例20の方が実施例19よりもPCT後の絶縁破壊電圧の評価結果の数値は高かった。   In Example 20 using the coupling agent (F) and Example 19 not using the coupling agent (F), the evaluation results of the dielectric breakdown voltage after PCT are both “◯◯”. The numerical value of the evaluation result of the dielectric breakdown voltage after PCT was higher in Example 20 than in Example 19.

1…積層構造体
2…熱伝導体
2a…第1の表面
2b…第2の表面
3…絶縁層
4…導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated structure 2 ... Thermal conductor 2a ... 1st surface 2b ... 2nd surface 3 ... Insulating layer 4 ... Conductive layer

Claims (7)

熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と導電層とを接着するために用いられる絶縁シートであるか、又は前記熱伝導体もしくは前記導電層上でシート化された後に該熱伝導体と該導電層とを接着するために用いられる絶縁ペーストである絶縁材料(但し、プリプレグを除く)であって、
分子量が10000未満であり、かつ環状エーテル基を有する硬化性化合物と、
硬化剤と、
シリカと、
アルミニウム原子を有する有機化合物とを含み、
前記硬化性化合物が、エポキシ基を有するエポキシ化合物又はオキセタニル基を有するオキセタン化合物であり、
前記アルミニウム原子を有する有機化合物が、アルミニウム系カップリング剤であり、
絶縁材料100重量%中、前記シリカの含有量が15体積%以上、70体積%以下である、絶縁材料。
It is an insulating sheet used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more and a conductive layer, or the heat conductor after being formed into a sheet on the heat conductor or the conductive layer. An insulating material (excluding a prepreg) that is an insulating paste used to bond a conductor and the conductive layer,
A curable compound having a molecular weight of less than 10,000 and having a cyclic ether group;
A curing agent;
Silica,
An organic compound having an aluminum atom,
The curable compound is an epoxy compound having an epoxy group or an oxetane compound having an oxetanyl group,
The organic compound having an aluminum atom is an aluminum coupling agent,
The insulating material whose content of the said silica is 15 volume% or more and 70 volume% or less in 100 weight% of insulating materials.
シランカップリング剤をさらに含む、請求項1に記載の絶縁材料。 The insulating material according to claim 1, further comprising a silane coupling agent. 前記シリカが破砕シリカである、請求項1又は2に記載の絶縁材料。 The silica is crushed silica, insulating material according to claim 1 or 2. 有機フィラーを含み、
前記絶縁材料100重量%中、前記有機フィラーの含有量が0.1体積%以上、3体積%以下である、請求項1又は2に記載の絶縁材料。
Contains organic filler,
The insulating material according to claim 1 or 2 , wherein a content of the organic filler is 0.1 vol% or more and 3 vol% or less in 100 wt% of the insulating material.
重量平均分子量が10000以上であるポリマーをさらに含み、
前記ポリマーが熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂である、請求項1〜のいずれか1項に記載の絶縁材料。
Further look-containing polymer has a weight average molecular weight of 10,000 or more,
The insulating material according to any one of claims 1 to 4 , wherein the polymer is a thermoplastic resin or a thermosetting resin .
前記硬化剤がアミン硬化剤を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の絶縁材料。 Wherein the curing agent comprises an amine curing agent, an insulating material according to any one of claims 1-5. 前記熱伝導体が金属である、請求項1〜のいずれか1項に記載の絶縁材料。 The heat conductor is a metal, an insulating material according to any one of claims 1-6.
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