JP4921022B2 - スルホニウム塩の製造方法 - Google Patents
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Description
近年においては、画像情報をコンピュータ等を用いて電子的に処理、蓄積、出力するデジタル化技術が広く普及してきており、上記リスフィルムを介することなく、レーザー光を用いて、コンピュータから直接印刷版を製造するCTP(Computer To Plate)技術が確立されている。
例えば、平版印刷版原版の記録層成分として、光または熱により酸を発生する酸発生剤と、酸発生剤から発生した酸を開始剤として重合反応を生起・進行する重合性化合物と、を含有する化学増幅型のネガ型CTP刷版(例えば、特許文献1参照。)や、あるいは、記録層成分として、熱または光によりラジカルを発生するラジカル重合開始剤と、ラジカル重合開始剤から発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起・進行する重合性化合物と、を含有するネガ型のCTP刷版が開発されてきた。
更に、放射線の照射により反応して性質が変化する放射線感応性組成物に関し、詳しくは3次元光造形、ホログラフィー、カラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターといった画像形成材料や、インク、塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料用途に利用できるカチオン重合開始剤が開発されてきた。
また近年、インク組成物として好適に用いることができる放射線感応性組成物、これを用いたインクジェット記録方法、及び、印刷物、さらに、該放射線感応性組成物を用いて得られる平版印刷版が開発されている。
また、エポキシ樹脂用熱潜在性触媒にも利用されている。
これらの方法は、出発物質としてジアリールスルホキシド又はジアリールスルフィドを使用しているが、例えばアリール部分に置換基を有しているトリアリール型スルホニウム塩を合成する場合は、これに対応する、アリール部分に置換基を有するジアリールスルホキシド又はジアリールスルフィドの入手が困難であり、出発物質を予め合成する必要があるため、手間とコストがかかる等の問題点を有している。
また、トリアルキルスルホニウム塩の合成法としては、例えばジアルキルスルフィドとハロゲン化アルキルとを反応させる方法(例えば非特許文献6参照。)、ジアルキルスルフィド、ハロゲン化アルキル及び銀塩を反応させる方法(例えば非特許文献7参照。)、ジアルキルスルフィドとフルオロアルキルスルホン酸エステルを反応させる方法(例えば非特許文献8参照。)等が知られている。
しかし、これらの方法は、例えば出発物質がジアルキルスルフィドの場合は市販で入手できるものが限られているため、市販で入手不可能なものは予め合成する必要がある、その他の試薬が高価である、アニオンが限定されてしまう、反応性が低い等の問題点を有している。
しかし、この方法では反応性の高いアリールグリニャール試薬を使用するため、例えば反応を制御するのが困難であり、また、別途アリールグリニャール試薬を調製する工程を有するため、生産性低下の問題を有している。
しかしながら、ベンゼン環に電子供与性基であるヒドロキシ基が置換した反応性の高いフェノール類の記載はあるが、電子求引性を有する反応性の低いアリール化合物についての記載はない。
<1> アリールハライド化合物と式(I)で表される化合物とを、酸触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする式(II)で表されるスルホニウム塩の製造方法。
本発明に用いることができるアリールハライド化合物は、芳香環にハロゲン原子が結合した化合物であって、芳香環に結合した水素原子を少なくとも1つ有する化合物であれば、特に制限はない。
アリールハライド化合物は1種単独で用いても、2種以上を併用してもよいが、1種単独で用いることが好ましい。
アリールハライド化合物における芳香環としては、単環であっても、2以上の芳香環の縮合環であってもよく、また、芳香族炭化水素であることが好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環、又は、アントラセン環であることがより好ましい。
アリールハライド化合物におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子が挙げられる。
また、アリールハライド化合物は、芳香環上にハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい。前記置換基としては、アリールハライド化合物と式(I)で表される化合物との酸触媒反応を妨げない基であれば、特に制限はなく、例えば、炭素数1〜12の分岐を有していてもよいアルキル基等が好ましく挙げられる。また、前記置換基は可能であれば、さらに置換されていてもよく、また、環構造を有していてもよい。
次に、式(I)で表される化合物について説明する。
Y1及びY2におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Y1及びY2におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
Y1及びY2におけるアリーロキシ基としては、フェノキシ基等が挙げられる。
また、Y1及びY2は互いに連結して環構造を形成していても良い。
このようなY1及びY2としては、反応性、及び、入手性の観点から、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましく、塩素原子が最も好ましい。
次に、酸触媒について説明する。
本発明に用いることができる酸触媒としては、アリールハライド化合物と式(I)で表される化合物とを反応させることができる酸であれば、特に制限はなく、ブレンステッド酸触媒であっても、ルイス酸触媒であってもよい。また、本発明に用いることができる酸触媒の使用量は、反応基質に対し少量、いわゆる触媒量である必要はなく、過剰量を使用してもよい。
本発明に用いることができる酸触媒として具体的には、塩酸、硫酸、リン酸、ギ酸、蓚酸、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化アンチモン(V)、塩化鉄(III)、塩化鉄(II)、塩化チタン(IV)、三弗化硼素、塩化錫(IV)、塩化ビスマス(III)、塩化亜鉛(II)、塩化水銀(II)、塩化第二錫、塩化第二鉄、塩化第二銅、硫酸第二銅、硫酸第二水銀、硫酸第一水銀、塩化第二水銀、塩化第一水銀、硫酸銀、硫酸水素ナトリウム、メタンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸、テトラフルオロボロン酸、p−トルエンスルホン酸、炭素原子数が1〜6個のアルキル基を有するジアルキル硫酸、弗化水素酸、ポリリン酸、p−トルエンスルホン酸又は弗化アルカンスルホン酸(例えば、三弗化メタンスルホン酸又は六弗化プロパンスルホン酸が挙げられる。)が好ましく例示できる。これらの中でも、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、及び、弗化アルカンスルホン酸がより好ましく、塩化アルミニウム、弗化アルカンスルホン酸が特に好ましい。
本発明のスルホニウム塩の製造方法により式(II)で表されるスルホニウム塩が得られる。本発明のスルホニウム塩の製造方法の目的物質である下記式(II)で表されるトリアリールスルホニウム塩について説明する。
式(II)で表されるスルホニウム塩におけるハロゲン原子Xとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及び、ヨウ素原子が挙げられる。
式(II)で表されるスルホニウム塩におけるハロゲン原子の置換数nは、1以上の整数であり、また、芳香環における置換可能な位置の数から硫黄原子の置換数1を除いた数以下である。
また、式(II)で表されるスルホニウム塩は、芳香環上にハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい。前記置換基としては、アリールハライド化合物と式(I)で表される化合物との酸触媒反応を妨げない基であれば、特に制限はなく、例えば、炭素数1〜20の分岐を有していてもよいアルキル基等が好ましく挙げられる。また、前記置換基は可能であれば、さらに置換されていてもよく、また、環構造を有していてもよい。
なお、本発明における「芳香族化合物残基」とは、芳香族化合物の芳香環上の水素原子を、ハロゲン原子の結合数(n個)とスルホニウム基との結合数(1個)の計(n+1)個除いた(n+1)価の基である。
例えば2−フルオロベンゼンスルホン酸アニオン、3−フルオロベンゼンスルホン酸アニオン、4−フルオロベンゼンスルホン酸アニオン、2−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、3−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、4−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、2−ブロモベンゼンスルホン酸アニオン、3−ブロモベンゼンスルホン酸アニオン、4−ブロモベンゼンスルホン酸アニオン、2−ヨードベンゼンスルホン酸アニオン、4−ヨードベンゼンスルホン酸アニオン、2,4−ジフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、2,6−ジフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、2,4−ジクロロベンゼンスルホン酸アニオン、2,6−ジクロロベンゼンスルホン酸アニオン、2,4−ジブロモベンゼンスルホン酸アニオン、2,6−ジブロモベンゼンスルホン酸アニオン、2,4−ジヨードベンゼンスルホン酸アニオン、2,6−ジヨードベンゼンスルホン酸アニオン、2,4,6−トリフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、3,4,5−トリフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、2,4,6−トリクロロベンゼンスルホン酸アニオン、3,4,5−トリクロロベンゼンスルホン酸アニオン、2,4,6−トリブロモベンゼンスルホン酸アニオン、3,4,5−トリブロモベンゼンスルホン酸アニオン、2,4,6−トリヨードベンゼンスルホン酸アニオン、3,4,5−トリヨードベンゼンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、ペンタクロロベンゼンスルホン酸アニオン、ペンタブロモベンゼンスルホン酸アニオン、ペンタヨードベンゼンスルホン酸アニオン、フルオロナフタレンスルホン酸アニオン、クロロナフタレンスルホン酸アニオン、ブロモナフタレンスルホン酸アニオン、ヨードナフタレンスルホン酸アニオン、フルオロアントラセンスルホン酸アニオン、クロロアントラセンスルホン酸アニオン、ブロモアントラセンスルホン酸アニオン、ヨードアントラセンスルホン酸アニオン等のハロゲン化芳香族スルホン酸アニオン、
例えば2−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸アニオン、2−トリクロロメチルベンゼンスルホン酸アニオン、2−トリブロモメチルベンゼンスルホン酸アニオン、2−トリヨードメチルベンゼンスルホン酸アニオン、3−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸アニオン、3−トリクロロメチルベンゼンスルホン酸アニオン、3−トリブロモメチルベンゼンスルホン酸アニオン、3−トリヨードメチルベンゼンスルホン酸アニオン、4−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸アニオン、4−トリクロロメチルベンゼンスルホン酸アニオン、4−トリブロモメチルベンゼンスルホン酸アニオン、4−トリヨードメチルベンゼンスルホン酸アニオン、2,6−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンスルホン酸アニオン、2,6−ビス(トリクロロメチル)ベンゼンスルホン酸アニオン、2,6−ビス(トリブロモメチル)ベンゼンスルホン酸アニオン、2,6−ビス(トリヨードメチル)ベンゼンスルホン酸アニオン、3,5−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンスルホン酸アニオン、3,5−ビス(トリクロロメチル)ベンゼンスルホン酸アニオン、3,5−ビス(トリブロモメチル)ベンゼンスルホン酸アニオン、3,5−ビス(トリヨードメチル)ベンゼンスルホン酸アニオン等のハロゲン化アルキル芳香族スルホン酸アニオン、
例えば4−フルオロフェニルメチルスルホン酸アニオン、4−クロロフェニルメチルスルホン酸アニオン、4−ブロモフェニルメチルスルホン酸アニオン、4−ヨードフェニルメチルスルホン酸アニオン、テトラフルオロフェニルメチルスルホン酸アニオン、テトラクロロフェニルメチルスルホン酸アニオン、テトラブロモフェニルメチルスルホン酸アニオン、テトラヨードフェニルメチルスルホン酸アニオン、4−フルオロフェニルエチルスルホン酸アニオン、4−クロロフェニルエチルスルホン酸アニオン、4−ブロモフェニルエチルスルホン酸アニオン、4−ヨードフェニルエチルスルホン酸アニオン、4−フルオロフェニルプロピルスルホン酸アニオン、4−クロロフェニルプロピルスルホン酸アニオン、4−ブロモフェニルプロピルスルホン酸アニオン、4−ヨードフェニルプロピルスルホン酸アニオン、4−フルオロフェニルブチルスルホン酸アニオン、4−クロロフェニルブチルスルホン酸アニオン、4−ブロモフェニルブチルスルホン酸アニオン、4−ヨードフェニルブチルスルホン酸アニオン等のハロゲン化芳香脂肪族スルホン酸アニオン、
例えばカンファースルホン酸アニオン、アダマンタンカルボン酸アニオン等の脂環式スルホン酸アニオン等が挙げられる。
例えば3−ヒドロキシ−2−(トリフルオロメチル)プロピオン酸アニオン、3−ヒドロキシ−2−(トリクロロメチル)プロピオン酸アニオン、3−ヒドロキシ−2−(トリブロモメチル)プロピオン酸アニオン、3−ヒドロキシ−2−(トリヨードメチル)プロピオン酸アニオン、2−ヒドロキシ−2−(トリフルオロメチル)酪酸アニオン、2−ヒドロキシ−2−(トリクロロメチル)酪酸アニオン、2−ヒドロキシ−2−(トリブロモメチル)酪酸アニオン、2−ヒドロキシ−2−(トリヨードメチル)酪酸アニオン等のハロゲン化ヒドロキシ脂肪族カルボン酸アニオン、
例えば4−フルオロシクロヘキサンカルボン酸アニオン、4−クロロシクロヘキサンカルボン酸アニオン、4−ブロモシクロヘキサンカルボン酸アニオン、4−ヨードシクロヘキサンカルボン酸アニオン、ペンタフルオロシクロヘキサンカルボン酸アニオン、ペンタクロロシクロヘキサンカルボン酸アニオン、ペンタブロモシクロヘキサンカルボン酸アニオン、ペンタヨードシクロヘキサンカルボン酸アニオン、4−(トリフルオロメチル)シクロヘキサンカルボン酸アニオン、4−(トリクロロメチル)シクロヘキサンカルボン酸アニオン、4−(トリブロモメチル)シクロヘキサンカルボン酸アニオン、4−(トリヨードメチル)シクロヘキサンカルボン酸アニオン等のハロゲン化脂環式カルボン酸アニオン、
例えば安息香酸アニオン、ナフトエ酸アニオン、アントラセンカルボン酸アニオン、ピレンカルボン酸アニオン、ピリレンカルボン酸アニオン、ペンタフェンカルボン酸アニオン等の芳香族カルボン酸アニオン、
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例えばホモゲンチジン酸アニオン等のヒドロキシ芳香脂肪族カルボン酸アニオン、
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本発明のスルホニウム塩の製造方法は、アリールハライド化合物と式(I)で表される化合物との脱水縮合であるため、反応系内に過剰の水分がある場合は反応が遅くなり、収率が低下する。このため、本発明のスルホニウム塩の製造方法は、必要により脱水剤の存在下で行うことが好ましい。
本発明に用いることができる脱水剤としては、五酸化リン、オキシ塩化リン等の無機酸化物、ポリリン酸等の無機酸、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水フタル酸等の有機酸無水物等が挙げられる。
これらの脱水剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。
また、これらの脱水剤のうち好ましいものは、無水酢酸等の有機酸無水物、特に好ましくは無水酢酸である。
なお、系内水分とは、酸触媒として水溶液や水和物を使用する場合の水、酸触媒を発生させるために使用する硫酸中の水、溶媒中の水、及びアリールハライド化合物と式(I)で表される化合物との反応により生成する水等の合計をいう。
本発明のスルホニウム塩の製造方法は、溶媒の存在下に行ってもよい。
本発明に用いることができる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素系有機溶剤、メタノール及びエタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、酢酸等の有機酸、無水酢酸及び無水プロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸無水物、並びに、アセトニトリル等の極性有機溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち好ましいものは、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素系有機溶剤、酢酸等の有機酸、無水酢酸、プロピオン酸無水物等の有機酸無水物、及び、アセトニトリル等の極性有機溶媒であり、特に好ましいものは、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、クロロホルム、酢酸、無水酢酸、トリフルオロ酢酸、及び、アセトニトリルである。
溶媒の使用量は、アリールハライド化合物、式(I)で表される化合物、酸触媒、脱水剤及び溶媒の合計重量に基づき、好ましくは0〜80重量%である。
本発明のスルホニウム塩の製造方法は、アリールハライド化合物と式(I)で表される化合物とを、酸触媒の存在下で反応させる工程(反応工程)を含む。
また、溶媒及び/又は脱水剤を、必要に応じて、任意の順序で仕込んでも良い。
また、酸触媒存在下、アリールハライド化合物、式(I)で表される化合物を反応させ、一旦スルホキシドを生成させた後、溶媒及び/又は脱水剤を必要に仕込んで、式(II)で表されるスルホニウム塩を得ても良い。
また、酸触媒存在下、アリールハライド化合物、式(I)で表される化合物を反応させ、一旦スルホキシドを生成させた後、酸触媒の種類を変え、式(II)で表されるスルホニウム塩を得ても良い。
また、式(I)で表される化合物とアリールハライド化合物の混合比については、特に制限はないが、式(I)で表される化合物に対し、アリールハライド化合物が3モル当量以上用いることが好ましく、3〜50モル当量用いることがより好ましく、5〜10モル当量用いることがさらに好ましい。また、式(I)で表される化合物に対し、アリールハライド化合物を溶媒量用いる、すなわち、反応工程における溶媒としてアリールハライド化合物を用いることも好ましい。
前記反応工程における反応時間は、反応温度、反応濃度、撹拌の程度によるが、好ましくは0.5〜24時間、より好ましくは1〜20時間である。
また、反応工程においては、式(I)で表される化合物と1番目及び2番目に反応するアリールハライド化合物に比べ、3番目に反応するアリールハライド化合物が立体障害等の影響により反応しにくいと考えられる。そのため、前記反応工程においては、発熱による収率の低下を抑えるため、反応初期の反応温度を低く設定し、また、反応を十分に進行させるため、反応後期の反応温度を高く設定することが好ましい。具体的には、反応初期の反応温度を−30℃〜20℃にすることが好ましく、−10℃〜20℃にすることがより好ましく、0℃〜5℃とすることがさらに好ましく、反応後期の反応温度は、80℃〜200℃とすることが好ましく、100℃〜180℃とすることがより好ましく、130℃〜170℃とすることがさらに好ましい。また、反応後期の反応温度は、アリールハライド化合物の沸点以上であることが好ましく、アリールハライド化合物が還流している状態で反応を行うことができる温度であることがより好ましい。
本発明のスルホニウム塩の製造方法は、所望の対アニオンを有する式(II)で表されるスルホニウム塩とするため、得られたスルホニウム塩の対アニオンを交換する工程(以下、「塩交換工程」ともいう。)を含むことが好ましい。また、得られたスルホニウム塩が複数の対アニオンを有する塩の混合物である、また、安定性や結晶性のよくない塩である場合、前記塩交換工程を行い、安定性や結晶性に優れた単一の対アニオンを有するスルホニウム塩とすることも好ましい。
前記塩交換工程としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができ、例えば、式(II)で表されるスルホニウム塩の生成後、酸、有機塩、又は、金属塩等の所望の対アニオンを生成する化合物を添加し、塩交換することができる。
本発明のスルホニウム塩の製造方法は、得られたスルホニウム塩を含む溶液より該スルホニウム塩を析出させる工程(析出工程)を含むことが好ましい。前記析出工程では、単なるスルホニウム塩の析出のみではなく、再結晶や再沈殿も含まれる。また、前記析出工程は、複数回繰り返してもよい。
前記得られたスルホニウム塩を含む溶液の溶媒としては、有機溶媒であることが好ましい。有機溶媒としては、スルホニウム塩を溶解できるものであれば特に制限はなく、エステル系、エーテル系、ケトン系、塩素系有機溶剤、芳香族系有機溶媒、及び、アルコール類等の公知の溶媒を好ましく用いることができる。これらの中でも、メタノール、エタノール、アセトン、ブタノン、N−メチルピロリドン、アセトニトリル、及び、酢酸エチルが好ましく挙げられる。前記溶媒は、1種単独で使用しても、2種以上を混合して使用してもよい。また、前記得られたスルホニウム塩を含む溶液は、加熱していてもよい。
該スルホニウム塩を析出させる方法としては、溶液の温度を下げ析出させる方法、スルホニウム塩の溶液に対しスルホニウム塩の溶解度の小さい貧溶媒を添加し析出させる方法、これらを組み合わせた方法などが好ましく例示でき、貧溶媒を添加し、さらに混合溶液の温度を下げ析出させる方法がより好ましく例示できる。
前記貧溶媒としては、炭化水素系有機溶剤、エーテル系有機溶剤、及び、アルコール類等が好ましく挙げられ、これらの中でも、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアルキルエーテル、ヘキサン、トルエン、及び、水がより好ましく挙げられる。また、前記貧溶媒は、1種単独で使用しても、2種以上を混合して使用してもよい。
スルホニウム塩の析出温度は、スルホニウム塩や用いる溶媒等により温度を適宜変えることができるが、−78℃〜15℃であることが好ましく、−20℃〜10℃であることがより好ましい。
本発明における析出工程としては、得られたスルホニウム塩を含む酢酸エチル溶液に、貧溶媒であるイソプロピルアルコールを添加し、さらに混合溶液の温度を下げて該スルホニウム塩を析出させる工程であることが特に好ましい。
また、本発明における析出工程では、一旦単離したスルホニウム塩を再度溶液とし、再結晶や再沈殿を行ってもよい。
〔実施例1:トリス(4−クロロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロリン酸塩の合成〕
4−クロロベンゼン40g(355.4mmol)に、塩化アルミニウム24.6g(183.8mmol)を加え、0〜5℃で塩化チオニル4.4g(37.0mmol)を滴下し、0〜5℃で30分撹拌し、室温で1時間撹拌した。更に、反応液を140℃で10時間撹拌し、放冷した。この反応溶液を氷水300gへゆっくり投入し、クロロベンゼン層を廃棄した。続いて水層に酢酸エチル100gを加えて、更にKPF6を6.9g(37.5mmol)加え、室温で1時間撹拌し、有機層を抽出した。次に、イソプロピルアルコール200mlを加え、10℃に冷却すると、固体が析出した。固体を濾過により分取し、イソプロピルアルコール100mlで洗浄し、真空乾燥を行い、白色固体9.4g(収率50%)が得られた。
1H−NMR(300MHz,CDCl3) δ(ppm)=7.866(s,6H),7.871(s,6H).
KPF6に代えて、ベンゾイルギ酸を加えた以外は実施例1と同様にして、白色固体9.0g(収率47%)を得た。
1H−NMR(300MHz,CDCl3) δ(ppm)=7.40(t,2H,J=7.8Hz),7.51(t,1H,J=7.2Hz),7.61(d,6H,J=9.3Hz),7.86(d,6H,J=8.7Hz),8.02(d,2H,J=7.8Hz).
KPF6に代えて、1−ナフタレンスルホン酸ナトリウムを加えた以外は実施例1と同様にして、白色固体10.5g(収率50%)を得た。
1H−NMR(300MHz,CDCl3) δ(ppm)=7.33(t,1H,J=6.9Hz),7.42〜7.52(m,8H),7.71〜7.81(m,8H),8.12(d,1H,J=7.2Hz),8.97(m,1H).
4−クロロベンゼンに代えて、4−フルオロベンゼンを用いた以外は実施例1と同様にして、白色固体8.7g(収率50%)を得た。
1H−NMR(400MHz,CDCl3) δ(ppm)=7.93(dd,6H,J=4.7,9.0Hz),7.67(t,6H,J=9.0Hz).
また、実施例1〜4は、スルホニウム塩の塩交換も行った例であるが、これによれば、本発明の方法で得られたスルホニウム塩は、このような通常の塩交換の工程により、目的の化合物が高収率で得られることが分かった。
Claims (6)
- アリールハライド化合物と式(I)で表される化合物とを、酸触媒の存在下、−30℃〜20℃で反応させ、その後、100℃〜180℃で反応させ、式(II)で表されるスルホニウム塩を得る反応工程を含むことを特徴とする
式(II)で表されるスルホニウム塩の製造方法。
- アリールハライド化合物と式(I)で表される化合物との混合比が、式(I)で表される化合物に対し、アリールハライド化合物が3〜50モル当量である請求項1に記載のスルホニウム塩の製造方法。
- 前記反応工程において、前記100℃〜180℃における反応をアリールハライド化合物が還流している状態で行う請求項1又は2に記載のスルホニウム塩の製造方法。
- 前記反応工程において、アリールハライド化合物を溶媒として用いる請求項1〜3のいずれか1項に記載のスルホニウム塩の製造方法。
- 前記アリールハライド化合物が、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヨードベンゼン、1−クロロ−2−フルオロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1−ブロモ−2−フルオロベンゼン、1−ブロモ−2−クロロベンゼン、1,2−ジブロモベンゼン、1−ブロモ−2−ヨードベンゼン、1−フルオロ−2−ヨードベンゼン、1−クロロ−2−ヨードベンゼン、1,2−ジヨードベンゼン、2−フルオロトルエン、2−クロロトルエン、2−ヨードトルエン、2−ブロモトルエン、1−ブロモ−2−エチルベンゼン、1,3−ジブロモベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,3−ジヨードベンゼン、1−クロロ−3−フルオロベンゼン、1−ブロモ−3−フルオロベンゼン、3−ブロモ−1−クロロベンゼン、1−フルオロ−3−ヨードベンゼン、1−クロロ−3−ヨードベンゼン、1−ブロモ−3−ヨードベンゼン、3−フルオロトルエン、3−ブロモトルエン、3−ヨードトルエン、1,4−ジヨードベンゼン、1,4−ジクロロベンゼン、1,4−ジブロモベンゼン、1−クロロ−4−ヨードベンゼン、1−クロロ−4−フルオロベンゼン、1−ブロモ−4−フルオロベンゼン、4−ブロモ−1−クロロベンゼン、1−フルオロ−4−ヨードベンゼン、1−クロロ−4−ヨードベンゼン、1−ブロモ−4−ヨードベンゼン、4−フルオロトルエン、4−ブロモトルエン、4−クロロトルエン、4−ヨードトルエン、1−ブロモ−4−エチルベンゼン、1−ブロモ−4−プロピルベンゼン、1−ブロモ−4−ブチルベンゼン、1,2,3−トリクロロベンゼン、1,2,3−トリブロモベンゼン、1,2,3−トリヨードベンゼン、1−ブロモ−2,6−ジクロロベンゼン、1−ブロモ−2,3−ジクロロベンゼン、2,2−ジクロロ−3−ヨードベンゼン、2−ブロモ−m−キシレン、3−ブロモ−o−キシレン、2,6−ジフルオロトルエン、2,4−ジフルオロトルエン、2,5−ジフルオロトルエン、3,4−ジフルオロトルエン、2−クロロ−4−フルオロトルエン、3−クロロ−4−フルオロトルエン、4−クロロ−2−フルオロトルエン、2,6−ジフルオロトルエン、3,4−ジフルオロトルエン、2−クロロ−4−フルオロトルエン、3−クロロ−4−フルオロトルエン、4−クロロ−2−フルオロトルエン、5−クロロ−2−フルオロトルエン、2−クロロ−6−フルオロトルエン、4−ブロモ−3−フルオロトルエン、3−ブロモ−4−フルオロトルエン、2−ブロモ−4−フルオロトルエン、1−クロロ−2,4−ジフルオロベンゼン、2−クロロ−p−キシレン、4−ヨード−o−キシレン、4−クロロ−o−キシレン、2,5−ジクロロトルエン、3,4−ジクロロトルエン、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,2,4−トリブロモベンゼン、4−ブロモ−o−キシレン、1,3,5−トリクロロベンゼン、1,3,5−トリブロモベンゼン、ペンタフルオロベンゼン、1−フルオロナフタレン、1−クロロナフタレン、1−ブロモナフタレン、1−ヨードナフタレン、2−フルオロナフタレン、2−クロロナフタレン、9−クロロアントラセン、及び、8−ブロモアントラセンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物である請求項1〜4のいずれか1項に記載のスルホニウム塩の製造方法。
- 得られたスルホニウム塩を含む酢酸エチル溶液を調製する工程、及び、前記酢酸エチル溶液に、貧溶媒であるイソプロピルアルコールを添加し、さらに混合溶液の温度を下げて式(II)で表されるスルホニウム塩を析出させる工程をさらに含む請求項1〜5のいずれか1項に記載のスルホニウム塩の製造方法。
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