JP4914827B2 - 光学活性ppar活性化化合物中間体及びその製造法 - Google Patents

光学活性ppar活性化化合物中間体及びその製造法 Download PDF

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Description

本発明は、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病等の疾患の予防及び/又は治療薬として有用なPPAR(ペルオキシゾーム増殖剤応答性受容体)活性化化合物の製造中間体及びその製造法に関する。
PPARは核内受容体ファミリーの一つとして知られており、現在までに3つのサブタイプ(α、γ、δ)の存在が知られている(非特許文献1〜5)。このうち、PPARαは主に肝臓に発現しており、可塑剤及びフィブレート系薬剤、例えばWy14643や既に医薬品として市販されているクロフィブレート、フェノフィブレート、ベザフィブレート、ゲムフィブロジル等の薬剤により活性化されることが知られている(非特許文献6〜7)。
PPARαの活性化は、哺乳動物においては、脂肪酸のβ酸化を亢進し、血中トリグリセリドを低下し、ヒトでは低密度リポ蛋白(LDL)コレステロール、超低密度リポ蛋白(VLDL)コレステロール等の血中脂質の低下が起こることが知られており、PPARα活性化剤は高脂血症等の予防及び/又は治療剤として有用であると考えられている。また、PPARα活性化剤は高密度リポ蛋白(HDL)コレステロールの上昇、血管内においては細胞接着因子であるVCAM−1の発現を抑制するので、動脈硬化等の予防及び/又は治療剤、糖尿病や炎症性疾患、さらには心疾患等の予防及び/又は治療に有用であるとも考えられている(非特許文献8〜14)。
一方、PPARγの活性化は、ヒトにおいて脂肪を増加し、体重の増加や肥満を起こすという好ましくない作用を有する事が報告されており(非特許文献15)、最近ではPPARγの拮抗剤によってもインスリン抵抗性改善の可能性を示す報告もされている(非特許文献16〜18)。また、PPARδの活性化は、脂質蓄積作用に繋がることが示唆されている(非特許文献19)。従って、PPARγ及びδ活性の低いPPARα選択的な活性化剤が、体重増加、肥満を伴わずに、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病、糖尿病合併症、炎症、心疾患等の予防及び/又は治療剤として有用であると考えられている。
斯かる状況の下、本発明者らは、下記式(A):
〔式中、R及びRは同一又は異なって水素原子、メチル基又はエチル基を示し;R3a、R3b、R4a及びR4bは同一又は異なって水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、C1−4アルキル基、トリフルオロメチル基、C1−4アルコキシ基、C1−4アルキルカルボニルオキシ基、ジ−C1−4アルキルアミノ基、C1−4アルキルスルフォニルオキシ基、C1−4アルキルスルフォニル基、C1−4アルキルスルフィニル基又はC1−4アルキルチオ基を示すか、R3aとR3b或いはR4aとR4bが結合してアルキレンジオキシ基を示し;Xは酸素原子、硫黄原子又はN−R(Rは水素原子、C1−4アルキル基、C1−4アルキルスルフォニル基又はC1−4アルキルオキシカルボニル基を示す)を示し;Yは酸素原子、S(O)基(lは0〜2の数を示し)、カルボニル基、カルボニルアミノ基、アミノカルボニル基、スルホニルアミノ基、アミノスルホニル基又はNH基を示し;ZはCH又はNを示し;nは1〜6の数を示し;mは2〜6の数を示す〕
で表わされる化合物又はその塩が、PPARαを選択的に活性化し、医薬として有用であることを見出し、特許出願した(特許文献1)。
国際公開第05/023777号パンフレット Nature,347,645−650,1990 Cell,68,pp879−887,1992 Cell,97,pp161−163,1999 Biochim.Biophys.Acta.,1302,pp93−109,1996 Journal of Medicinal Chemistry, 43,pp527−550,2000 Journal of the National Cancer Institute,90,1702−1709,1998 Current Opinion in Lipidology,10,pp245−257,1999 Journal of Atherosclerosis and Thrombosis,3,pp81−89,1996 Current Pharmaceutical Design,3,pp1−14,1997 Current Opinion in Lipidology,10,pp151−159,1999 Current Opinion in Lipidology,10,pp245−257,1999 The Lancet,354,pp141−148,1999 Journal of Medicinal Chemistry,43,pp527−550,2000 Journal of Cardiovascular Risk,8,pp195−201,2001 The Lancet,349,pp952,1997 Proc.Natl.Acad.Sci.,96,pp6102−6106,1999 The Journal of Biological Chemistry,275,pp1873−1877,2000 J.Clin.Invest.,108,1001−1013,2001 Proc.Natl.Acad.Sci.,99,pp303−308,2002
本発明は、上記式(A)で示される化合物の一つである(R)−2−[3−[[N−(ベンズオキサゾール−2−イル)−N−3−(4−メトキシフェノキシ)プロピル]アミノメチル]フェノキシ]酪酸(化合物(A−1))の製造中間体及びこれを高収率且つ高光学収率で得る方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記化合物(A−1)の有用な製造法について鋭意研究を行った結果、下記反応式(I)に示すように、光学活性2−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸エステル(化合物(2))を用い、これと3−ヒドロキシベンズアルデヒド(化合物(1))とを塩基の存在下に反応させることにより、光学活性ベンズアルデヒド誘導体(化合物(3))を高収率且つ高光学純度で得ることができることを見出した。そして、当該化合物(3)を経由する方法(下記反応式(II)及び後記参考例参照)によれば、収率及び光学純度を損なうことなく化合物(A−1)が製造でき、化合物(3)が化合物(A−1)の有用な合成中間体となることを見出した。
〔式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数7〜8のアラルキル基を示す。〕
〔式中、Rは前記と同じものを示す。〕
すなわち本発明は、3−ヒドロキシベンズアルデヒド(化合物(1))と光学活性2−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸エステル(化合物(2))を塩基の存在下に反応させることを特徴とする光学活性ベンズアルデヒド誘導体(化合物(3))の製造法に係るものである。
また本発明は、光学活性ベンズアルデヒド誘導体(化合物(3))に係るものである。
本発明の方法によれば、PPARα選択的な活性化剤であり、体重増加、肥満を伴わずに、高脂血症、動脈硬化症、糖尿病、糖尿病合併症、炎症、心疾患等の予防及び/又は治療が可能な(R)−2−[3−[[N−(ベンズオキサゾール−2−イル)−N−3−(4−メトキシフェノキシ)プロピル]アミノメチル]フェノキシ]酪酸(化合物(A−1))の有用な製造中間体を高収率で且つ高光学純度で製造できる。
本発明の製造法は、化合物(1)と光学活性な化合物(2)を、塩基の存在下に反応させて化合物(3)を得るものである。
ここで、化合物(2)及び(3)中のRは、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数7〜8のアラルキル基を示すが、アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基等が好ましく、アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基等が好ましい。
塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸アルカリ金属類;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属類等の無機塩基、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩基を使用することができるが、化学収率の点から炭酸カリウムを用いることが好ましい。
本反応は、溶媒中で行うことが好ましい。溶煤は、特に制限はないが、例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル等が挙げられ、このうちアセトニトリルが好ましい。
反応温度は、0〜100℃、好ましくは20〜90℃で、0.5〜48時間反応させればよく、1〜24時間反応させるのが好ましい。
前記特許文献1には、2−ヒドロキシカルボン酸エステルのフェニルエーテル化反応に関し、2−ヒドロキシカルボン酸エステルの水酸基をメシル化若しくはトシル化等して水酸基をメタンスルホニルオキシ基やパラトルエンスルホニルオキシ基等の脱離基に変換し、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基やトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基の存在下、フェノール体と反応させる方法が記載されている(反応工程式F−4)。更に2−ハロゲン化カルボン酸エステルのフェニルエーテル化反応に関しても、2−ハロゲン化カルボン酸エステルを炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基やトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基の存在下、フェノール体と反応させる方法が記載されている(反応工程式A−1)。これらに対し、脱離基としてトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を有する光学活性2−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸エステル(化合物(2))を用いる本発明の方法によれば、極めて高収率で且つ高光学純度で化合物(3)を得ることができる(後記実施例参照)。そして、当該化合物(3)は化合物(A−1)の製造中間体として有用である。
ここで、化合物(2)は、例えば以下に示すように、(S)−2−ヒドロキシ酪酸エステル(a)とトリフルオロメタンスルホン酸無水物(b)を塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、トルエン、ヘキサン等の溶媒中で、−80〜30℃、10分間〜3時間反応することにより合成することができる。
〔式中、Rは前記と同じものを示す。〕
斯くして得られた化合物(3)を用いて、化合物(A−1)を製造する方法について、以下の反応式(II)を例に挙げて説明する。
〔式中、Rは前記と同じものを示す。〕
[工程−1]
本工程は、化合物(3)と化合物(4)を縮合して得られるイミノ体又はイミニウム塩を還元してアミン化合物(5)を製造する工程である。
縮合反応は、化合物(3)と化合物(4)を、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中、酢酸、塩酸等の酸の存在下又は非存在下で行われる。反応は通常20〜100℃で1〜12時間反応することにより行うことができる。
還元は、水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム等の水素化還元剤を用い、例えば、水、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等)、ハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン、クロロホルム等)、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等の溶媒中で行うのが好ましい。反応は、通常0〜30℃で1〜12時間程度行うのが好ましい。
[工程−2]
本工程は、化合物(5)と2−クロロベンズオキサゾール(6)を塩基の存在下に反応させて化合物(7)を製造する工程である。
本反応は、化合物(5)と2−クロロベンズオキサゾール(6)を、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホルム、酢酸エチル等の溶媒中、20〜100℃で1〜12時間反応することにより行うことができる。
塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基やトリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基を用いることができる。
[工程−3]
本工程は、化合物(7)のエステルを脱エステル化して化合物(A−1)を製造する工程である。
脱エステル化反応は、加水分解、加水素分解(還元)等の常法に従って実施することができる。加水分解は、エステルの加水分解反応に用いられる反応条件のいずれもが適用でき、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基;塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸;或いはp−トルエンスルホン酸等の有機酸等の存在下、水、メタノール、エタノール、プロパノール等のようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のようなケトン類、酢酸等の溶媒又はこれらの混合溶媒中で行われる。
反応は、通常0〜100℃、好ましくは10〜50℃で行われ、反応時間は通常0.5〜24時間、好ましくは1〜12時間である。
加水素分解は、例えば不活性溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル類;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類;N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド類等)中、水素化触媒(例えば、パラジウム−炭素、パラジウム黒、パラジウム、水酸化パラジウム、白金−炭素、二酸化白金、ラネーニッケル等)の存在下、無機酸(例えば、塩酸、硫酸、次亜塩素酸等)又は有機酸(例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸等)の存在下又は非存在下、常圧又は加圧下の水素雰囲気下で行われる。
反応は、通常0〜30℃、好ましくは10〜25℃で行われ、反応時間は通常5分〜24時間、好ましくは1〜12時間である。
また、化合物(4)は、例えば以下に示す方法により合成することができる。
すなわち、4−メトキシフェノール(c)にアクリロニトリル(d)をトリトンB、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下で反応させ、3−(4−メトキシフェノキシ)プロピオニトリル(e)を得、これをテトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中、ボラン・テトラヒドロフラン錯体、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、水素化アルミニウムリチウム等を用いて還元するか、水素雰囲気下もしくはアンモニア中、ラネーニッケル等の金属触媒を用いて還元することにより、3−(4−メトキシフェノキシ)プロピルアミン(化合物(4))を得ることができる。
尚、本発明の各反応における目的物の単離は、必要に応じて、有機合成化学で常用される精製法、例えば濾過、洗浄、乾燥、再結晶、各種クロマトグラフィー等により行えばよい。
以下に実施例を用いて本発明を更に詳細に説明する。
製造例1
(S)−2−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸n−ブチルの合成
(S)−2−ヒドロキシ酪酸n−ブチル(1.0g,99%ee)を塩化メチレン(8mL)に溶解し、0℃にてピリジン(518mg)を加えた。次に0℃にてトリフルオロメタンスルホン酸無水物(1.8g)を滴下し、10分間攪拌した。反応液を直接的にシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、塩化メチレンで流通後、減圧濃縮し、無色油状物を得た。(1.8g,98.2%)
H−NMR(400MHz,CDCl)δppm:0.93(t,J=7Hz,3H),1.05(t,J=7Hz,3H),1.34−1.43(m,2H),1.65(quintet,J=7Hz,3H),1.97−2.08(m,2H),4.23(td,J=7,3Hz,2H),5.06(dd,J=7,5Hz,1H).
実施例1
(R)−2−(3−ホルミルフェノキシ)酪酸n−ブチルの合成
3−ヒドロキシベンズアルデヒド(418mg)のアセトニトリル(10mL)溶液に、炭酸カリウム(473mg)を加え、続いて(S)−2−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸n−ブチル(1.0g)を加え室温にて12時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。反応液を濾過し、減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、無色油状物を得た。(904mg,99.9%)
H−NMR(400MHz,CDCl)δppm:0.89(t,J=7Hz,3H),1.10(t,J=7Hz,3H),1.31(sextet,J=7Hz,2H),1.60(quintet,J=7Hz,2H),2.02(quintet,J=7Hz,2H),4.17(t,J=7Hz,2H),4.65(t,J=6Hz,1H),7.18−7.20(m,1H),7.34−7.35(m,1H),7.42−7.50(m,2H),9.96(s,1H).
製造例2
3−(4−メトキシフェノキシ)プロピオニトリルの合成
4−メトキシフェノール(263.0g)をアクリロニトリル(224.8g)に溶解後、室温にてトリトンB(18mL)を滴下し、80℃にて48時間撹拌した。反応液をゆっくりと撹拌しつつ室温に戻し12時間撹拌した。さらに6℃にて放置し、白色プリズム結晶を析出させた。母液をデカンテーションし、冷トルエン(300mL)を加え結晶をろ取し、得られた粗結晶を室温・減圧乾燥(3時間)した(粗結晶232.6g)。粗結晶を酢酸エチル(250mL)に50℃で溶解し、ゆっくりとn−ヘプタン(250mL)を撹拌しながら加え、12時間ゆっくりと撹拌しつつ再結晶した。母液をデカンテーションし、n−ヘプタン(300mL)を加え結晶をろ取した。n−ヘプタン(400mL)で結晶を洗浄し、室温にて減圧乾燥した(1番晶:白色プリズム晶154.5g)。母液に結晶が生じた為、2番晶として淡黄色プリズム晶を得た(2番晶:淡黄色プリズム晶56.1g)。全てのろ液と洗浄n−ヘプタンを回収し減圧濃縮した後、残渣にトルエン(500mL)を加え、1N−水酸化ナトリウム水溶液(100mL×3回)、水(500mL)、1N−塩酸水溶液(100mL×3)、水(500mL)、飽和食塩水(300mL)で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで30分間乾燥し、ろ過後、ろ液を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチル(150mL)に50℃で溶解し、ゆっくりとn−ヘプタン(150mL)を撹拌しながら加え、12時間ゆっくりと撹拌しつつ再結晶した。母液をデカンテーションし、n−ヘプタン(200mL)を加え結晶をろ取した。n−ヘプタン(300mL)で結晶を洗浄し、室温にて減圧乾燥した(3番晶:白色プリズム晶59.0g)。更に4番晶として淡黄色プリズム晶を得た(4番晶:19.0g)。収量合計288.6g、収率76.9%+粗結晶(黄色プリズム晶、21.8g,5.8%)
H−NMR(400MHz,CDCl)δppm:2.79(t,J=7Hz,2H),3.77(s,3H),4.15(t,J=7Hz,2H),6.85(d,J=7Hz,4H).
融点;64.4℃
製造例3
3−(4−メトキシフェノキシ)プロピルアミンの合成
アルゴン雰囲気下、3−(4−メトキシフェノキシ)プロピオニトリル(5.0g)をテトラヒドロフラン(20mL)に溶解し、80℃にてボラン・テトラヒドロフラン錯体(1.02mol/L,30.0mL)を10分間で滴下した。同温にて3時間撹拌後、反応液を室温まで戻した。氷冷下、4N−水酸化ナトリウム水溶液(30mL)を10分間で加えた。10分後室温にて5分間撹拌後、80℃にて12時間撹拌した。室温に戻し、トルエン(100mL)を加え1時間撹拌後、不溶物をセライトろ去した。有機層を分取し、水(100mL×2回)、飽和食塩水(100mL)で洗浄後、無水硫酸ナトリウム(80g)で乾燥し、ろ過後、ろ液を減圧濃縮し、白色固体を得た。(4.0g,79.0%)
H−NMR(400MHz,CDOD)δppm:2.05(quintet,J=7Hz,2H),3.07(t,J=7Hz,2H),3.71(s,3H),4.01(t,J=6Hz,2H),6.79−6.85(m,4H).
参考例1
(R)−2−[3−[N−[3−(4−メトキシフェノキシ)プロピル]アミノメチル]フェノキシ]酪酸n−ブチルの合成
3−(4−メトキシフェノキシ)プロピルアミン(34mg)をメタノール3mLに溶解させ、室温にて攪拌しながら(R)−2−(3−ホルミルフェノキシ)酪酸n−ブチル(50mg)のメタノール溶液2mLを加え80℃にて12時間攪拌した。室温にて水素化ホウ素ナトリウム(7mg)の水溶液0.5mLを加え、30分攪拌した。反応溶液を減圧濃縮後、クロロホルムを加え有機層を水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した後、淡黄色油状物81mgを得た。このまま全量を次の反応に用いた。
H−NMR(400MHz,CDCl)δppm:0.87(t,J=7Hz,3H),1.07(t,J=7Hz,3H),1.29(sextet,J=7Hz,2H),1.60(quintet,J=7Hz,2H),1.91−2.01(m,5H),2.79(t,J=7Hz,2H),3.75(s,3H),3.76(s,2H),3.98(t,J=6Hz,2H),4.00−4.19(m,2H),4.56(t,J=6Hz,1H),6.75(dd,J=8、2Hz,1H),6.79−6.85(m,4H),6.88−6.95(m,2H),7.20(t,J=8Hz,1H).
参考例2
(R)−2−[3−[[N−(ベンズオキサゾール−2−イル)−N−3−(4−メトキシフェノキシ)プロピル]アミノメチル]フェノキシ]酪酸n−ブチルの合成
(R)−2−[3−[N−[3−(4−メトキシフェノキシ)プロピル]アミノメチル]フェノキシ]酪酸n−ブチル(81mg)をアセトニトリル(5mL)に溶解させ、室温にてトリエチルアミン(29mg)を滴下した。さらに2−クロロベンズオキサゾール(35mg)を加え80℃で12時間攪拌した。水を加えた後、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/2)で精製し無色油状物を得た。(83mg,81%)
H−NMR(400MHz,CDCl)δppm:0.83(t,J=7.3Hz, 3H),1.03(t,J=7.3Hz,3H),1.18−1.29(m,2H),1.44−1.55(m,2H),1.93(quintet,J=7.3Hz,2H),2.12(quintet,J=6.5Hz,2H),3.67(t,J=7.1Hz,2H),3.74(s,3H),3.94(t,J=6.0Hz,2H),3.98−4.13(m,2H),4.51(t,J=6.2Hz,1H),4.72(d,J=3.2Hz,2H),6.74(dd,J=8.3,2.0Hz,1H),6.78(s, 4H),6.84(t,J=2.0Hz,1H),6.88(d,J=7.6Hz,1H),6.99(td,J=7.8,1.2Hz,1H),7.14(td,J=7.8,1.2Hz,2H),7.19−7.24(m,3H),7.34(dd,J=7.8,0.6Hz,1H).
参考例3
(R)−2−[3−[[N−(ベンズオキサゾール−2−イル)−N−3−(4−メトキシフェノキシ)プロピル]アミノメチル]フェノキシ]酪酸の合成
(R)−2−[3−[[N−(ベンズオキサゾール−2−イル)−N−3−(4−メトキシフェノキシ)プロピル]アミノメチル]フェノキシ]酪酸n−ブチル(83mg)をエタノール3mLに溶解させ、4N−水酸化ナトリウム水溶液(0.1mL)を滴下した。室温にて1時間攪拌した後減圧濃縮し、1N−水酸化ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで洗浄した。水層に1N−塩酸を加えてpH1に調整し、クロロホルムを用いて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した後、残渣をプレパラティブクロマトグラフィー(クロロホルム/メタノール=10/1)で精製し無色固体を得た。(72mg,96.1%)
H−NMR(400MHz,CDOD)δppm:0.94(t,J=7.4Hz,3H),1.81(m,2H),1.99(quintet,J=6.1Hz,2H),3.60(t,J=6.8Hz,2H),3.61(s,3H),3.85(t,J=5.9Hz,2H),4.40(t,J=5.9Hz,1H),4.65(s,2H),6.69−6.80(m,7H),6.91(dt,J=7.2,1.0Hz,1H),7.05(dt,J=7.2,1.2Hz,1H),7.12−7.18(m,4H).
光学純度;99%ee
測定条件:HPLC
カラム:CHIRALCEL OD
溶媒:ヘキサン/イソプロピルアルコール/トリフルオロ酢酸=60/40/0.1
流速:1 mL/min.
保持時間:R−体;13.3min.(S−体;7.9min.)
以上より、出発原料の(S)−2−ヒドロキシ酪酸n−ブチル(99%ee)からPPAR活性化化合物である化合物(A−1)(参考例3化合物)が高光学純度(99%ee)で得られた。すなわち、上記反応工程において、(S)−2−ヒドロキシ酪酸n−ブチルの光学純度は高く維持されており、本発明の方法においては、化合物(A−1)の製造中間体である実施例1化合物が、高収率で且つ高光学純度で製造できることは明らかである。

Claims (2)

  1. 下記式(1):
    で表される3−ヒドロキシベンズアルデヒドと、下記式(2);
    〔式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数7〜8のアラルキル基を示す。〕
    で表される光学活性2−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸エステルを塩基の存在下に反応させることを特徴とする下記式(3):
    〔式中、Rは前記と同じものを示す。〕
    で表される光学活性ベンズアルデヒド誘導体の製造法。
  2. 下記式(1):
    で表される3−ヒドロキシベンズアルデヒドと、下記式(2);
    〔式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数7〜8のアラルキル基を示す。〕
    で表される光学活性2−トリフルオロメタンスルホニルオキシ酪酸エステルを塩基の存在下に反応させて下記式(3):
    〔式中、Rは前記と同じものを示す。〕
    で表される光学活性ベンズアルデヒド誘導体とし、これに下記式(4):
    で表される化合物を縮合させ、次いで還元して、下記式(5):
    〔式中、Rは前記と同じものを示す。〕
    で表されるアミン化合物とし、次いで下記式(6):
    で表される2−クロロベンズオキサゾールを塩基の存在下に反応させて下記式(7):
    〔式中、Rは前記と同じものを示す。〕
    で表される化合物とし、次いで脱エステル化することを特徴とする下記式(A−1):
    で表される(R)−2−[3−[[N−(ベンズオキサゾール−2−イル)−N−3−(4−メトキシフェノキシ)プロピル]アミノメチル]フェノキシ]酪酸の製造法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK1852426T3 (da) * 2005-02-23 2013-11-25 Kowa Co Fremgangsmåde til fremstilling af en optisk aktiv ppar-aktiverende forbindelse og mellemprodukt af samme
CN105102415B (zh) 2013-03-29 2017-03-15 兴和株式会社 2‑羟基羧酸或其衍生物的光学纯度提高法
KR102233327B1 (ko) * 2013-12-26 2021-03-26 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 할로겐 치환 프탈리드의 제조 방법
WO2020034114A1 (zh) * 2018-08-15 2020-02-20 深圳晶泰科技有限公司 PPARα激动剂的晶型及其制备方法和应用

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5371071A (en) * 1976-12-08 1978-06-24 Teijin Ltd Alpha-phenoxyacetic acid derivs.
WO2004020409A1 (en) * 2002-08-29 2004-03-11 Merck & Co., Inc. Indoles having anti-diabetic activity
JP4226005B2 (ja) * 2003-09-03 2009-02-18 興和株式会社 Ppar活性化化合物及びこれを含有する医薬組成物

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7183195B2 (en) * 2002-02-22 2007-02-27 Samsung Electronics, Co., Ltd. Method of fabricating dual damascene interconnections of microelectronic device using hybrid low k-dielectric and carbon-free inorganic filler

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5371071A (en) * 1976-12-08 1978-06-24 Teijin Ltd Alpha-phenoxyacetic acid derivs.
WO2004020409A1 (en) * 2002-08-29 2004-03-11 Merck & Co., Inc. Indoles having anti-diabetic activity
WO2004020408A1 (en) * 2002-08-29 2004-03-11 Merck & Co., Inc. Indoles having anti-diabetic activity
JP4226005B2 (ja) * 2003-09-03 2009-02-18 興和株式会社 Ppar活性化化合物及びこれを含有する医薬組成物
JP2009114185A (ja) * 2003-09-03 2009-05-28 Kowa Co Ppar活性化化合物及びこれを含有する医薬組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI750413B (zh) 2017-10-17 2021-12-21 日商Tmt機械股份有限公司 加熱輥及紡絲延伸裝置

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