JP4914269B2 - 真空下水管システム - Google Patents
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Description
2 放出弁
3 下水配管
4 真空発生手段
5 制御機構
6 作動手段
7 ウォーターサプライ
8 ウォーターバルブ
9 洗浄水ノズル
10 通気手段
11 第4の管路
12 通気ノズル
13 第1の開口部
14 第5の管路
15 第2の開口部
16 第3の開口部
21 第2の管路
22 弁座
31 第1の管路
32 逆止弁
51 通気弁
52 センサ装置
53 電磁バルブ
81 第3の管路
101 膨張可能なチャンバ
102 弁板
103 弁ステム
104 内部ばね手段
Claims (18)
- 汚水受け部(1)と、通気手段(10)を備えた放出弁(2)によって前記汚水受け部に接続された下水配管(3)と、前記下水配管内に真空を発生させるための真空発生手段(4)と、前記放出弁(2)および前記通気手段(10)を制御するための制御機構(5)とを有する真空下水管システムにおいて、
前記通気手段(10)が、前記放出弁(2)内の弁座(22)に対して開閉するように配置された弁板(102)を有すること、
前記弁板(102)が前記弁座(22)から引っ込められるように配置され、それによって、開放された前記弁座(22)を通して空気が前記放出弁(2)に直接供給されて、放出または洗浄手順(B)の後に前記放出弁(2)が迅速に閉鎖されること、および
前記放出または洗浄手順(B)のために前記弁座(22)を開放するように前記放出弁(2)に真空が提供されているとき、前記弁板(102)は前記弁座(22)に対して閉鎖されるように配置されていること
を特徴とする真空下水管システム。 - 前記通気手段(10)の機能が空気圧によって管理されることを特徴とする請求項1に記載の真空下水管システム。
- 前記通気手段(10)の機能が電気によって管理されることを特徴とする請求項1に記載の真空下水管システム。
- 前記通気手段(10)が逃がし弁を有し、該逃がし弁は前記放出弁(2)に取り付けられ、また第4の管路(11)によって前記制御機構(5)に接続されており、また
前記通気手段(10)が通気ノズル(12)を備えていることを特徴とする請求項1に記載の真空下水管システム。 - 前記放出または洗浄手順(B)の後に前記放出弁(2)に空気を供給して該放出弁(2)を迅速に閉鎖するために、前記通気手段(10)は、前記放出弁(2)から提供される真空であって、第2の管路(21)を経由して前記制御機構(5)を通り、そしてさらに前記第4の管路(11)を通って該通気手段(10)へ提供される真空によって開放されるように配置されており、また
前記通気手段(10)は、前記通気ノズル(12)を通して供給される空気により、前記放出または洗浄手順(B)の後に所与の遅れで閉鎖されるように配置されていることを特徴とする請求項4に記載の真空下水管システム。 - 前記通気手段(10)が逃がし弁を有し、該逃がし弁は前記放出弁(2)に関連して配置され、また第4の管路(11)によって前記制御機構(5)に接続されており、また
前記通気手段(10)と前記放出弁(2)との間に第5の管路(14)が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の真空下水管システム。 - 前記放出または洗浄手順(B)の後に前記放出弁(2)に空気を供給して該放出弁(2)を迅速に閉鎖するために、前記通気手段(10)は、前記第4の管路(11)を経由して前記制御機構(5)内の通気弁(51)を通して供給される空気によって開放されるように配置されており、また
前記通気手段(10)は、前記制御機構(5)で利用可能な真空であって、前記第4の管路(11)を経由して提供される真空によって閉鎖されるように配置されていることを特徴とする請求項6に記載の真空下水管システム。 - 前記通気手段(10)が前記放出弁(2)に取り付けられた逃がし弁を有し、前記制御機構(5)が、センサ装置(52)、および前記通気手段(10)に接続された電磁バルブ(53)によって前記通気手段(10)を制御するように配置されていることを特徴とする請求項3に記載の真空下水管システム。
- 前記放出または洗浄手順(B)の後に前記放出弁(2)に空気を供給して該放出弁(2)を迅速に閉鎖するために、前記通気手段(10)は、前記制御機構(5)を通る前記放出弁(2)への真空接続が切断されていることを前記センサ装置(52)が読み取った時、前記電磁バルブ(53)によって開放されるように配置されており、また
前記通気手段(10)は、前記制御機構(5)を通る前記放出弁(2)への真空接続が通じていることを前記センサ装置(52)が読み取った時、閉鎖されるように配置されていることを特徴とする請求項8に記載の真空下水管システム。 - 汚水受け部(1)と、下水配管(3)と、前記下水配管内に真空を発生させるための真空発生手段(4)とを有する真空下水管システム用の放出弁(2)であって、該放出弁(2)は通気手段(10)を備え、且つ前記汚水受け部(1)と前記下水配管(3)との間に配置されており、また該放出弁(2)および前記通気手段(10)は制御機構(5)によって制御される放出弁(2)において、
前記通気手段(10)が、前記放出弁(2)内の弁座(22)に対して開閉するように配置された弁板(102)を有すること、
前記弁板(102)が前記弁座(22)から引っ込められるように配置され、それによって、開放された前記弁座(22)を通して空気が前記放出弁(2)に直接供給されて、放出または洗浄手順(B)の後に前記放出弁(2)が迅速に閉鎖されること、および
前記放出または洗浄手順(B)のために前記弁座(22)を開放するように前記放出弁(2)に真空が提供されているとき、前記弁板(102)は前記弁座(22)に対して閉鎖されるように配置されていること
を特徴とする放出弁。 - 前記通気手段(10)の機能が空気圧によって管理されることを特徴とする請求項10に記載の放出弁。
- 前記通気手段(10)の機能が電気によって管理されることを特徴とする請求項10に記載の放出弁。
- 前記通気手段(10)が逃がし弁を有し、該逃がし弁は前記放出弁(2)に取り付けられ、また第4の管路(11)によって前記制御機構(5)に接続されており、また
前記通気手段(10)が通気ノズル(12)を備えていることを特徴とする請求項10に記載の放出弁。 - 前記放出または洗浄手順(B)の後に前記放出弁(2)に空気を供給して該放出弁(2)を迅速に閉鎖するために、前記通気手段(10)は、前記放出弁(2)から提供される真空であって、第2の管路(21)を経由して前記制御機構(5)を通り、そしてさらに前記第4の管路(11)を通って該通気手段(10)へ提供される真空によって開放されるように配置されており、また
前記通気手段(10)は、前記通気ノズル(12)を通して供給される空気により、前記放出または洗浄手順(B)の後に所与の遅れで閉鎖されるように配置されていることを特徴とする請求項13に記載の放出弁。 - 前記通気手段(10)が逃がし弁を有し、該逃がし弁は前記放出弁(2)に関連して配置され、また第4の管路(11)によって前記制御機構(5)に接続されており、また
前記通気手段(10)と該放出弁(2)との間に第5の管路(14)が設けられていることを特徴とする請求項10に記載の放出弁。 - 前記放出または洗浄手順(B)の後に前記放出弁(2)に空気を供給して該放出弁(2)を迅速に閉鎖するために、前記通気手段(10)は、前記第4の管路(11)を経由して前記制御機構(5)内の通気弁(51)を通して供給される空気によって開放されるように配置されており、また
前記通気手段(10)は、前記制御機構(5)で利用可能な真空であって、前記第4の管路(11)を経由して提供される真空によって閉鎖されるように配置されていることを特徴とする請求項15に記載の放出弁。 - 前記通気手段(10)が前記放出弁(2)に取り付けられた逃がし弁を有し、前記制御機構(5)が、センサ装置(52)、および前記通気手段(10)に接続された電磁バルブ(53)によって前記通気手段(10)を制御するように配置されていることを特徴とする請求項12に記載の放出弁。
- 前記放出または洗浄手順(B)の後に前記放出弁(2)に空気を供給して該放出弁(2)を迅速に閉鎖するために、前記通気手段(10)は、前記制御機構(5)を通る前記放出弁(2)への真空接続が切断されていることを前記センサ装置(52)が読み取った時、前記電磁バルブ(53)によって開放されるように配置されており、また
前記通気手段(10)は、前記制御機構(5)を通る前記放出弁(2)への真空接続が通じていることを前記センサ装置(52)が読み取った時、閉鎖されるように配置されていることを特徴とする請求項17に記載の放出弁。
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