JP4912710B2 - 減圧アークにより配管内面の酸化皮膜を除去するための装置および方法ならびにそのためのプログラム - Google Patents
減圧アークにより配管内面の酸化皮膜を除去するための装置および方法ならびにそのためのプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP4912710B2 JP4912710B2 JP2006082677A JP2006082677A JP4912710B2 JP 4912710 B2 JP4912710 B2 JP 4912710B2 JP 2006082677 A JP2006082677 A JP 2006082677A JP 2006082677 A JP2006082677 A JP 2006082677A JP 4912710 B2 JP4912710 B2 JP 4912710B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- anode
- oxide film
- voltage
- arc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
ルギーの無駄を省くことができる、減圧アークによる酸化皮膜の除去装置および除去方法ならびにそのためのプログラムを提供することを目的としている。
処理対象である、内面に酸化皮膜が付着した配管の内面と向き合う位置に配置される陽極と、
配管を管路と略平行な方向を軸として回転させる配管回転手段または、配管内部において陽極を管路と略平行な方向を軸として回転させる陽極回転手段と、
配管と陽極のうちいずれか一方を、配管の管路と略平行な方向へ移動させる手段と、
陽極と配管との間に直流電圧を印加する電源と、
陽極と配管との間の電圧を計測する手段と、
配管内に陽極を位置させ、前記配管回転手段によって配管を回転させるか、あるいは前記陽極回転手段によって陽極を回転させると共に、陽極と配管との間に直流電圧を印加することによりアークを発生させた状態で計測された、陽極と配管との間の電圧波形のデータから、高速フーリエ変換によって電圧の周波数スペクトルを算出する演算手段と、
前記算出された周波数スペクトルにおける、配管または陽極の回転速度に対応する周波数成分に基づいて酸化皮膜の除去が終了したか否かを判定する手段と、
を備えることを特徴としている。
内面に酸化皮膜が付着した配管を処理対象物として、配管内に陽極を位置させると共に、配管の管路と略平行な方向を軸として配管または陽極を回転させ、
陽極と配管との間に直流電圧を印加することによりアークを発生させた状態で、陽極と配管との間の電圧を計測し、
前記計測された電圧波形のデータから、高速フーリエ変換によって電圧の周波数スペクトルを算出し、
前記算出された周波数スペクトルにおける、配管または陽極の回転速度に対応する周波数成分に基づいて酸化皮膜の除去が終了したか否かを判定し、
当該判定の結果に基づいて、配管と陽極のうちいずれか一方を、配管の管路と略平行な方向へ移動させた後、上記操作を繰り返すことを特徴としている。
前記電圧波形のデータから、高速フーリエ変換によって電圧の周波数スペクトルを算出するステップと、
前記算出された周波数スペクトルにおける、配管または陽極の回転速度に対応する周波数成分に基づいて酸化皮膜の除去が終了したか否かを判定するステップと、
当該判定の結果に基づいて、配管と陽極のうちいずれか一方を、配管の管路と略平行な方向へ移動させるステップと、を含む処理をコンピュータに実行させる。
回転と同じ周期で、陽極を回転させる場合にはその回転と同じ周期で伸び縮みする。一方、酸化皮膜が完全に除去されると、陰極点は配管内面の一箇所に固着することはなく、すると、放電の長さは伸び縮みしなくなる。
また、処理対象物である配管を収納した真空容器を開放せずに外部から処理の状況が判定することができる。
図示したように、この酸化皮膜の除去装置1には、真空容器を構成する水冷チャンバ2の内部に、回転機構を備えた試料台3が設置されている。試料台3の上には、管路方向を回転軸として、処理対象物である配管10が載置されている(説明の便宜のために上部側の一部を切り欠いて管内部の一部を示している)。
10を載置し、水冷チャンバ2の内部を減圧する。陽極4を配管10の内面と向き合うアーク処理開始位置に配置した状態で、試料台3の回転機構によって配管10を所定の速度Vθで回転させる。
膜のダストを水冷チャンバ2内から吸引除去する吸引口を配置し、水冷チャンバ2の外部にあるダスト捕捉フィルタを介して吸引口をロータリーポンプに接続した。
以上の酸化皮膜除去処理は、コンピュータ7の記憶部に格納されたプログラムによって実行することができる。図4は、当該プログラムによる酸化皮膜除去処理の実行手順の一例を示したフローチャートである。
次に、周波数スペクトルにおける、配管10の回転速度に対応する周波数成分の有無を判別する(S3)。
。
以上、実施例に基づき本発明を説明したが、本発明は上記の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内において各種の変形、変更が可能である。
本発明において、高速フーリエ変換とは、離散フーリエ変換(Discrete Fourier Transform:DFT)を計算機上で高速に計算するアルゴリズムのことであり、従来より知られている各種のアルゴリズムを適用できる。
2 水冷チャンバ
3 試料台
4 陽極
4a 導電体
4b 絶縁体
5 直流電源
6 電圧計
7 コンピュータ
10 配管
Claims (4)
- 酸化皮膜が表面に付着した処理対象物を陰極として減圧下で放電することにより当該酸化皮膜を除去する減圧アークによる酸化皮膜の除去装置であって、
処理対象である、内面に酸化皮膜が付着した配管の内面と向き合う位置に配置される陽極と、
配管を管路と略平行な方向を軸として回転させる配管回転手段または、配管内部において陽極を管路と略平行な方向を軸として回転させる陽極回転手段と、
配管と陽極のうちいずれか一方を、配管の管路と略平行な方向へ移動させる手段と、
陽極と配管との間に直流電圧を印加する電源と、
陽極と配管との間の電圧を計測する手段と、
配管内に陽極を位置させ、前記配管回転手段によって配管を回転させるか、あるいは前記陽極回転手段によって陽極を回転させると共に、陽極と配管との間に直流電圧を印加することによりアークを発生させた状態で計測された、陽極と配管との間の電圧波形のデータから、高速フーリエ変換によって電圧の周波数スペクトルを算出する演算手段と、
前記算出された周波数スペクトルにおける、配管または陽極の回転速度に対応し、酸化皮膜の状態に依存する陰極点の動きが反映されている放電の電圧の周波数成分に基づいて酸化皮膜の除去が終了したか否かを判定する手段と、
を備えることを特徴とする減圧アークによる酸化皮膜の除去装置。 - 前記処理対象物である配管が内部に配置される水冷チャンバと、
前記水冷チャンバに取り付けられ、水冷チャンバ内から減圧アーク処理によって蒸発した酸化皮膜のダストを吸引除去する吸引口と、
前記吸引口に、ダスト捕捉フィルタを介して接続されたロータリーポンプと、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の減圧アークによる酸化皮膜の除去装置。 - 酸化皮膜が表面に付着した処理対象物を陰極として減圧下で放電することにより当該酸化皮膜を除去する減圧アークによる酸化皮膜の除去方法であって、
内面に酸化皮膜が付着した配管を処理対象物として、配管内に陽極を位置させると共に、配管の管路と略平行な方向を軸として配管または陽極を回転させ、
陽極と配管との間に直流電圧を印加することによりアークを発生させた状態で、陽極と配管との間の電圧を計測し、
前記計測された電圧波形のデータから、高速フーリエ変換によって電圧の周波数スペクトルを算出し、
前記算出された周波数スペクトルにおける、配管または陽極の回転速度に対応し、酸化皮膜の状態に依存する陰極点の動きが反映されている放電の電圧の周波数成分に基づいて酸化皮膜の除去が終了したか否かを判定し、
当該判定の結果に基づいて、配管と陽極のうちいずれか一方を、配管の管路と略平行な方向へ移動させた後、上記操作を繰り返すことを特徴とする減圧アークによる酸化皮膜の除去方法。 - 内面に酸化皮膜が付着した配管を処理対象物として、配管内に陽極を位置させると共に、配管の管路と略平行な方向を軸として配管または陽極を回転させ、陽極と配管との間に直流電圧を印加することによりアークを発生させた状態で計測された陽極と配管との間の電圧波形のデータを得るステップと、
前記電圧波形のデータから、高速フーリエ変換によって電圧の周波数スペクトルを算出するステップと、
前記算出された周波数スペクトルにおける、配管または陽極の回転速度に対応し、酸化皮膜の状態に依存する陰極点の動きが反映されている放電の電圧の周波数成分に基づいて酸化皮膜の除去が終了したか否かを判定するステップと、
当該判定の結果に基づいて、配管と陽極のうちいずれか一方を、配管の管路と略平行な方向へ移動させるステップと、を含む処理をコンピュータに実行させるためのプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006082677A JP4912710B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-03-24 | 減圧アークにより配管内面の酸化皮膜を除去するための装置および方法ならびにそのためのプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006082677A JP4912710B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-03-24 | 減圧アークにより配管内面の酸化皮膜を除去するための装置および方法ならびにそのためのプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007253293A JP2007253293A (ja) | 2007-10-04 |
JP4912710B2 true JP4912710B2 (ja) | 2012-04-11 |
Family
ID=38628029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006082677A Expired - Fee Related JP4912710B2 (ja) | 2006-03-24 | 2006-03-24 | 減圧アークにより配管内面の酸化皮膜を除去するための装置および方法ならびにそのためのプログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4912710B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1745702B2 (en) † | 2005-07-18 | 2018-11-07 | Koninklijke Douwe Egberts B.V. | Enzyme-assisted soluble coffee production |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EA031345B1 (ru) * | 2013-09-30 | 2018-12-28 | Минтек | Измерение электрических параметров дуговой печи постоянного тока |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03178727A (ja) * | 1989-12-01 | 1991-08-02 | Hitachi Seiko Ltd | 放電加工装置用加工状態検出装置 |
JPH0751947A (ja) * | 1993-08-20 | 1995-02-28 | Hitachi Ltd | 縦型管体の作業装置 |
JPH07290140A (ja) * | 1994-04-25 | 1995-11-07 | Nippon Steel Corp | 真空アークによるデスケールの終了判定方法 |
JPH08262183A (ja) * | 1995-03-24 | 1996-10-11 | Hitachi Ltd | 原子炉浄化系 |
JPH08304584A (ja) * | 1995-05-11 | 1996-11-22 | Toshiba Corp | 原子炉一次系の炉水放射能濃度低減方法 |
-
2006
- 2006-03-24 JP JP2006082677A patent/JP4912710B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1745702B2 (en) † | 2005-07-18 | 2018-11-07 | Koninklijke Douwe Egberts B.V. | Enzyme-assisted soluble coffee production |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007253293A (ja) | 2007-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101697285B1 (ko) | 챔버 내 클리닝 방법 | |
KR101720670B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 그 클리닝 방법 및 프로그램을 기록한 기록매체 | |
TW200952054A (en) | Method and apparatus for detecting plasma unconfinement | |
JP6496210B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2009135253A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP4912710B2 (ja) | 減圧アークにより配管内面の酸化皮膜を除去するための装置および方法ならびにそのためのプログラム | |
JP2018066736A (ja) | 荷電粒子顕微鏡内での低温試料処理 | |
US20200312636A1 (en) | Substrate processing apparatus and charge neutralization method for mounting table | |
JP2008226879A (ja) | プラズマ処理装置のクリーニング方法、プラズマ処理装置、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2016115738A (ja) | エッチング処理方法及びベベルエッチング装置 | |
US9142392B2 (en) | Self-cleaning radio frequency plasma source | |
WO2009157475A1 (ja) | ガスチャージ容器、アトムプローブ装置、及び材料中の水素位置分析方法 | |
JP2015117156A (ja) | 基板処理装置及びオゾンガス濃度の異常検出方法 | |
JPH10335399A (ja) | 試料処理装置および方法 | |
JP2004241499A (ja) | 真空処理装置の異物管理装置及び異物管理方法 | |
JP2007190593A (ja) | 基板保持装置及び基板加工装置 | |
JP2021166238A (ja) | クリーニング方法及び熱処理装置 | |
JP2004079929A (ja) | プラズマリーク監視方法,プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP4767046B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
JP5294816B2 (ja) | 顕微鏡付吸引型局所マイクロプラズマエッチング装置及び局所マイクロプラズマエッチング方法 | |
JP2007184285A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2003135952A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2005228797A (ja) | 脱ガス装置及び脱ガス処理方法 | |
JP4824091B2 (ja) | マグネトロンスパッタリングによる金属帯の真空エッチングの方法および装置 | |
Srivastava et al. | Using a remote plasma source for n-type plasma doping chamber cleans |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110421 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110426 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110624 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120110 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120118 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150127 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |