JP4906278B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4906278B2 JP4906278B2 JP2005166262A JP2005166262A JP4906278B2 JP 4906278 B2 JP4906278 B2 JP 4906278B2 JP 2005166262 A JP2005166262 A JP 2005166262A JP 2005166262 A JP2005166262 A JP 2005166262A JP 4906278 B2 JP4906278 B2 JP 4906278B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating film
- trench
- interlayer insulating
- capacitor
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 74
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 33
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 238000009271 trench method Methods 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 34
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 32
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 17
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 14
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 13
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 12
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 11
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 5
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- -1 tungsten nitride Chemical class 0.000 description 4
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- GGMAUXPWPYFQRB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorocyclopentane Chemical compound FC1(F)CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F GGMAUXPWPYFQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007264 Si2H6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000009469 supplementation Effects 0.000 description 1
- HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N tantalum(v) ethoxide Chemical compound [Ta+5].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N tungsten disilicide Chemical compound [Si]#[W]#[Si] WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021342 tungsten silicide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L28/00—Passive two-terminal components without a potential-jump or surface barrier for integrated circuits; Details thereof; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L28/40—Capacitors
- H01L28/60—Electrodes
- H01L28/82—Electrodes with an enlarged surface, e.g. formed by texturisation
- H01L28/90—Electrodes with an enlarged surface, e.g. formed by texturisation having vertical extensions
- H01L28/91—Electrodes with an enlarged surface, e.g. formed by texturisation having vertical extensions made by depositing layers, e.g. by depositing alternating conductive and insulating layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B12/00—Dynamic random access memory [DRAM] devices
- H10B12/01—Manufacture or treatment
- H10B12/02—Manufacture or treatment for one transistor one-capacitor [1T-1C] memory cells
- H10B12/03—Making the capacitor or connections thereto
- H10B12/033—Making the capacitor or connections thereto the capacitor extending over the transistor
Description
p型シリコン基板101にnウエル102が、さらにその内部に第一のpウエル103が設けられている。また、nウエル102以外の領域に第二のpウエル104および素子分離領域105が設けられている。第一のpウエルは複数のメモリセルが配置されるメモリアレイ領域を、第二のpウエルは周辺回路領域を各々示している。
第一のpウエルには個々のメモリセルの構成要素でワード線となるスイッチングトランジスタ106及び107が設けられている。トランジスタ106は、ドレイン108、ソース109とゲート絶縁膜110を介してゲート電極111で構成されている。ゲート電極111は、多結晶シリコン上にタングステンシリサイドを積層したポリサイド構造もしくはタングステンを積層したポリメタル構造からなっている。トランジスタ107は、ソース109を共通としドレイン112、ゲート絶縁膜110を介してゲート電極111で各々構成されている。トランジスタの上には層間絶縁膜113が設けられている。
トランジスタのドレイン108及び112に接続するように層間絶縁膜113及び第一の層間絶縁膜121の所定の領域にコンタクト孔が設けられ、シリコンプラグ122を構成している。
このような情況にあって、従来、スタックトレンチ型キャパシタでは、表面に凹凸(HSG:Hemispherical Silicon Grain)を有するシリコンを下部電極として用い、面積増大効果による容量確保を図ってきた。しかし、微細化が進んでトレンチの幅が狭くなるとHSGを形成する空間を確保するのが困難となってきた。
最初に(a)図に示したように、酸化シリコンからなる第一の層間絶縁膜201の所定の位置に多結晶シリコンからなるシリコンプラグ202を形成し、その後、第一の層間絶縁膜201上に窒化シリコン膜203、および厚さ2500nmの酸化シリコンからなる第二の層間絶縁膜204を形成し、次いで、厚さ500nmのハードマスク205を形成した後、ホトレジスト206を形成している。
上記特許文献1には、層間絶縁膜のコンタクトホールをボーイング形状となし、そのホールのうち径の小さい上部を化学的機械研磨(CMP:Chemical Mechanical Polishing)またはエッチングによって除去することにより、ホールの上側の開口を広くなるようにしたので、膜厚の厚い層間絶縁膜でも配線のカバレージを改善できるホールの形成方法が開示されている。
また、前記トレンチ内を保護する材料は、CVD(Chemical Vapor Deposition)法もしくは回転塗布法で形成する酸化シリコンもしくは不純物含有酸化シリコンであることを特徴とする。
さらに、前記第三の層間絶縁膜の位置は、前記ボーイング形状が最大幅となる位置より下方に位置することを特徴とする。
酸化タンタルを形成した後のN2O雰囲気での熱処理により、窒化シリコンは酸化され酸窒化シリコンとなっている。この状態で、塩化チタン(TiCl4)とNH3を原料ガスとするCVD法により誘電体を覆うように窒化チタンからなる上部電極304を形成した。
また、誘電体の堆積にはCVD法を用いたが、これに限らず、原子層蒸着法を用いても良い。原子層蒸着法では成膜段階で良質な膜を形成できるので、酸化タンタルを成膜した後の酸化熱処理を省略、もしくは酸化熱処理温度を低減できる効果がある。
さらに原子層蒸着法により、酸化アルミニウムや酸化ハフニウムなどの材料を単層もしくは多層膜誘電体として用いることができる。これらの材料を誘電体とする場合には、上記金属に加えて窒化チタンを下部電極とできる利点がある。
また、上部電極はCVD法で形成する窒化チタン単層としたが、スパッタ法で形成するタングステンなどとの積層膜であっても良い。
まず、図4(a)に示したように、トレンチを含む全面に下部電極材料401を堆積した後、トレンチ内部をホトレジスト402で充填した。一旦、トレンチを完全に埋めるように、回転塗布法によりホトレジスト402を形成し、その後、ホトレジストの表面が、最大幅のボーイング部より下に位置するように露光、現像処理を施して、表面の位置を調整した。
次に、図4(c)に示すように、実施例1と同様の手順でスラリーを含む研磨残渣403およびホトレジスト402を除去し、誘電体404、上部電極405を形成してキャパシタを構成した。
本第2の実施例によれば、ホトレジスト402がトレンチ内を充填しているので研磨残渣403はホトレジスト表面に残存する。したがって、HF溶液によるエッチング、酸素プラズマアッシングなどにより、さらに効果的に除去することができる。
最初に、図5(a)に示したように、第二の層間絶縁膜501にボーイングを有するトレンチを形成し、下部電極502を形成した後、酸化シリコンからなる絶縁膜503を形成した。絶縁膜503は、CVD法で形成しているので、トレンチの開口部分が塞がれるまではトレンチ内壁に絶縁膜の堆積が進行する。しかし、開口部分が塞がれてしまうとトレンチ内には原料ガスが供給されないので絶縁膜の堆積は行なわれず、結果的に空隙504が生じる。絶縁膜503の堆積には、SiH4と酸素を原料ガスとし温度400℃で成膜するCVD条件や、SiH4とN2Oを原料ガスとし温度750℃で成膜するCVD条件などを用いることができる。また、CVD法に代えて、回転塗布法で形成するSOG(Spin On Glass)を用いても良い。
次に、図5(c)に示したように、HF溶液により絶縁膜503を除去した。上記楔状の空間に残存していたスラリーおよび研磨残渣は、絶縁膜503のエッチング除去と同時にリフトオフされ、除去される。トレンチ内の絶縁膜503をHF溶液により除去している間に、表面に露出している第二の層間絶縁膜501もエッチングされ、下部電極502からなる突起505が形成される。
本第3の実施例では、研磨残渣が残存するトレンチ内の絶縁膜自体をHF溶液でエッチングできるので、それと同時に研磨残渣を除去することができ、後続する酸素プラズマアッシングおよび有機溶液による洗浄を省略することができる。また、下部電極の突起が形成された分だけキャパシタの面積が増大し、容量増大の効果もある。
最初に、図6(a)に示したように、所定の領域にシリコンプラグ602が形成された第一の層間絶縁膜601上に窒化シリコン膜603を堆積し、さらにその上に厚さ2000nmの酸化シリコンからなる第二の層間絶縁膜604、厚さ200nmの窒化シリコン膜からなる第三の層間絶縁膜605、厚さ300nmの酸化シリコンからなる第四層間絶縁膜を積層堆積した。ボーイングの発生は、絶縁膜表面から300nm下に位置するので、それを考慮して第四層間絶縁膜の厚さを300nmとし、トレンチ全体の深さが2500nmとなるようにした。第三の層間絶縁膜には、窒化シリコンに代えて酸化タンタルなどを用いても良い。
次に、図6(c)に示したように、CMP法によりボーイング部より上方の絶縁膜609、下部電極608、第四層間絶縁膜606を除去した。
さらに、図6(d)に示したように、トレンチ内に残存する絶縁膜609とスラリーおよび研磨残渣をHF溶液により除去した。
その後、図6(e)に示したように、誘電体610、上部電極611を堆積してキャパシタを形成した。
102 nウエル
103 第一のpウエル
104 第二のpウエル
105 素子分離領域
106、107 トランジスタ
108、112 ドレイン
109 ソース
110 ゲート絶縁膜
111 ゲート電極
113、129 層間絶縁膜
114、130 コンタクト孔
115 多結晶シリコン
116 チタンシリサイド
117、132、134、136、138、140、142 窒化チタン
118、120、133、139 タングステン
119 窒化タングステン
121、201、601 第一の層間絶縁膜
122、202、602 シリコンプラグ
123、203、603 窒化シリコン膜
124、204、501、604 第二の層間絶縁膜
125、207、607 トレンチ
126、209、301、401、502、608 下部電極
127、211、303、404、506、610 誘電体
128、212、304、405、507、611 上部電極
131 スルーホール
135、141 アルミニウム
137 引出し配線
205 ハードマスク
206、210、402 ホトレジスト
208 ボーイング
213、504 空隙
302、403 研磨残渣
503、609 絶縁膜
505 突起
605 第三の層間絶縁膜
606 第四の層間絶縁膜
Claims (6)
- 半導体基板の一主面上に形成されるスタックトレンチ型構造のDRAM用キャパシタを含む半導体装置の製造方法において、
(1)前記半導体基板表面の不純物拡散層に接続するプラグが形成された第一の層間絶縁膜上に、第二の層間絶縁膜を堆積する工程、
(2)前記第二の層間絶縁膜の所定の領域に、ボーイング形状を有するトレンチを形成し、前記プラグ表面を露出させる工程、
(3)前記トレンチの内面を含む全面にキャパシタの下部電極材料を形成する工程、
(4)前記トレンチの、前記ボーイング形状が最大幅となる位置より上方に位置する、少なくとも前記下部電極材料および前記第二の層間絶縁膜の一部を化学的機械研磨法により除去する工程、
(5)前記キャパシタの誘電体を形成する工程、
(6)前記キャパシタの上部電極を形成する工程、
を少なくとも有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記工程(4)は、前記化学的機械研磨を実施する前に、前記トレンチ内を保護する材料を形成する工程と、前記化学的機械研磨完了後に、前記トレンチ内を保護する材料を除去する工程と、含むことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記トレンチ内を保護する材料は、有機感光性膜であり、前記化学的機械研磨の終点位置よりも低い位置に前記有機感光性膜の表面が位置するように形成することを特徴とする請求項2記載の半導体装置の製造方法。
- 前記トレンチ内を保護する材料は、CVD法もしくは回転塗布法で形成する酸化シリコンもしくは不純物含有酸化シリコンであることを特徴とする請求項2記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第二の層間絶縁膜は第三の層間絶縁膜を含む積層膜であって、前記第三の層間絶縁膜を前記化学的機械研磨の終点として用いることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第三の層間絶縁膜の位置は、前記ボーイング形状が最大幅となる位置より下方に位置することを特徴とする請求項5記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005166262A JP4906278B2 (ja) | 2005-06-06 | 2005-06-06 | 半導体装置の製造方法 |
US11/447,147 US7338878B2 (en) | 2005-06-06 | 2006-06-06 | Method for forming capacitor in semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005166262A JP4906278B2 (ja) | 2005-06-06 | 2005-06-06 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006339616A JP2006339616A (ja) | 2006-12-14 |
JP4906278B2 true JP4906278B2 (ja) | 2012-03-28 |
Family
ID=37494688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005166262A Active JP4906278B2 (ja) | 2005-06-06 | 2005-06-06 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7338878B2 (ja) |
JP (1) | JP4906278B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003021652A1 (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-13 | Tokyo Electron Limited | Method for etching object to be processed |
JP4552835B2 (ja) * | 2005-11-14 | 2010-09-29 | エルピーダメモリ株式会社 | キャパシタの製造方法 |
JP2008251763A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Elpida Memory Inc | 半導体装置及びその製造方法 |
US8189292B2 (en) * | 2008-12-24 | 2012-05-29 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for manufacturing a magnetic write head having a write pole with a trailing edge taper using a Rieable hard mask |
KR102423254B1 (ko) | 2015-06-22 | 2022-07-20 | 인텔 코포레이션 | 커패시터를 포함하는 집적 회로 |
KR20210052094A (ko) * | 2019-10-31 | 2021-05-10 | 삼성전자주식회사 | 집적 회로 반도체 소자 |
TWI710110B (zh) * | 2019-11-19 | 2020-11-11 | 華邦電子股份有限公司 | 電容器及其製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4167727B2 (ja) * | 1995-11-20 | 2008-10-22 | 株式会社日立製作所 | 半導体記憶装置 |
US5943581A (en) * | 1997-11-05 | 1999-08-24 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Method of fabricating a buried reservoir capacitor structure for high-density dynamic random access memory (DRAM) circuits |
JPH11204751A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US6008103A (en) * | 1998-02-27 | 1999-12-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for forming trench capacitors in an integrated circuit |
US6215187B1 (en) * | 1999-06-11 | 2001-04-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
JP3676958B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2005-07-27 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路装置の製造方法 |
US6284593B1 (en) * | 2000-11-03 | 2001-09-04 | International Business Machines Corporation | Method for shallow trench isolated, contacted well, vertical MOSFET DRAM |
JP2002208634A (ja) * | 2001-01-11 | 2002-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
KR100434496B1 (ko) * | 2001-12-11 | 2004-06-05 | 삼성전자주식회사 | 단일 실린더 스택형 커패시터 및 이중 몰드를 이용한 제조방법 |
GB2386471B (en) * | 2001-12-11 | 2004-04-07 | Samsung Electronics Co Ltd | A method for fabricating a one-cylinder stack capacitor |
JP2004119937A (ja) | 2002-09-30 | 2004-04-15 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
KR100448719B1 (ko) * | 2002-10-18 | 2004-09-13 | 삼성전자주식회사 | 다마신공정을 이용한 반도체 장치 및 그의 제조방법 |
US6967137B2 (en) * | 2003-07-07 | 2005-11-22 | International Business Machines Corporation | Forming collar structures in deep trench capacitors with thermally stable filler material |
US20050067630A1 (en) * | 2003-09-25 | 2005-03-31 | Zhao Jian H. | Vertical junction field effect power transistor |
JP2006120832A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | Elpida Memory Inc | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-06-06 JP JP2005166262A patent/JP4906278B2/ja active Active
-
2006
- 2006-06-06 US US11/447,147 patent/US7338878B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7338878B2 (en) | 2008-03-04 |
US20060275997A1 (en) | 2006-12-07 |
JP2006339616A (ja) | 2006-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4552835B2 (ja) | キャパシタの製造方法 | |
JP4543392B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4538272B2 (ja) | 湿式洗浄によるアタックを防止できる半導体装置の製造方法 | |
KR100401503B1 (ko) | 반도체소자의 캐패시터 및 그 제조방법 | |
KR100876976B1 (ko) | 반도체 소자의 배선 및 이의 형성 방법 | |
JP4906278B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20110294276A1 (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
US20070272963A1 (en) | Semiconductor device and method for fabricating the same | |
JP2008306067A (ja) | コンタクトプラグの形成方法および半導体装置の製造方法 | |
JP2007141904A (ja) | キャパシタおよびその製造方法 | |
US7592249B2 (en) | Method for manufacturing a semiconductor device | |
US20080102623A1 (en) | Semiconductor device manufacturing method | |
JP2005229001A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP4916168B2 (ja) | シリンダ構造のキャパシタを有する半導体メモリ装置の製造方法 | |
US7842593B2 (en) | Semiconductor device and method for fabricating the same | |
JP2006120832A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2015154028A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US7736972B2 (en) | Method for forming storage electrode of semiconductor memory device | |
US6680254B2 (en) | Method of fabricating bit line and bit line contact plug of a memory cell | |
US20070161200A1 (en) | Method for fabricating capacitor in semiconductor device | |
US7332391B2 (en) | Method for forming storage node contacts in semiconductor device | |
US20070269979A1 (en) | Method of forming a pattern and method of manufacturing a semiconductor device using the same | |
JP2008135670A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4299852B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2006148052A (ja) | 半導体素子の格納電極形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20070202 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070411 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070618 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20080331 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110525 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111220 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120110 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4906278 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |