JP4901254B2 - パターンマッチング方法、及びパターンマッチングを行うためのコンピュータプログラム - Google Patents
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Description
Ion Microscope)像や、レーザー光を照射することによって得られる光学顕微鏡像に表示されるパターンと、設計データ上のパターンとのマッチングに適用するようにしても良い。
803を、低倍の設計データ804(少なくともパターンの端部等、パターン部,非パターン部を特定できる領域を含む像)上で、他の領域と識別して表示する。このように表示することによって、切り出す設計データのパターン形成状態を確認しつつ、マッチングパターンの形成が可能となる。
602…パターン垂直方向、603…パターン水平方向、604…穴(ホール)の配列パターン、605…パターン垂直方向、606…パターン水平方向。
Claims (8)
- 半導体設計データ上のパターンと、
画像形成装置によって得られた画像上のパターンとの間でマッチングを行うパターンマ
ッチング方法において、
前記半導体設計データ上のパターンの輪郭線分に、
前記パターンの凹部及び/または凸部に関する識別情報を付加し、
前記識別情報を付加した半導体設計データ上のパターンと、前記画像上のパターンの、凹部及び/または凸部の中心位置を求め、
前記求めた中心位置の一致度に基づいて、
パターンマッチングを行うことを特徴とするパターンマッチング方法。 - 請求項1において、
前記半導体設計データ上のパターンの輪郭線分に付加したパターンの凹部及び/または凸部に関する識別情報は、ベクトルで表現されることを特徴とするパターンマッチング方法。 - 請求項1において、
前記求めた中心位置の一致度をスコアとして表現し、
前記表現したスコアのピークを求め、
当該求めたピークが複数検出された場合には、
前記識別情報を付加した半導体設計データ上のパターンと、前記画像上のパターンの、
凹部または凸部の中心位置が最も近いピークに基づいてパターンマッチングを行うこと
を特徴とするパターンマッチング方法。 - 請求項1において、
前記半導体設計データ上のパターンの輪郭線分のうち、少なくとも2つの線分に付加した前記パターンの凹部及び/または凸部に関する識別情報に基づいて、
前記半導体設計データ上のパターンから切り出した当該2つの線分によって定義される領域が、
凹部であるか凸部であるかを判断することを特徴とするパターンマッチング方法。 - 半導体設計データ上のパターンと、
画像形成装置によって得られた画像上のパターンとの間でマッチングを行うようにコン
ピュータを機能させるコンピュータプログラムにおいて、
前記半導体設計データ上のパターンの輪郭線分に、
前記パターンの凹部及び/または凸部に関する識別情報を付加し、
前記識別情報を付加した半導体設計データ上のパターンと、前記画像上のパターンの、凹部及び/または凸部の中心位置を求め、
前記求めた中心位置の一致度に基づいて、
パターンマッチングを行うことを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項5において、
前記半導体設計データ上のパターンの輪郭線分に付加したパターンの凹部及び/または凸部に関する識別情報は、ベクトルで表現されることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項5において、
前記求めた中心位置の一致度をスコアとして表現し、
前記表現したスコアのピークを求め、
当該求めたピークが複数検出された場合には、
前記識別情報を付加した半導体設計データ上のパターンと、前記画像上のパターンの、
凹部または凸部の中心位置が最も近いピークに基づいてパターンマッチングを行うこと
を特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項5において、
前記半導体設計データ上のパターンの輪郭線分のうち、少なくとも2つの線分に付加した前記パターンの凹部及び/または凸部に関する識別情報に基づいて、
前記半導体設計データ上のパターンから切り出した当該2つの線分によって定義される領域が、
凹部あるいは凸部であるかを判断することを特徴とするコンピュータプログラム。
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