JP4899095B2 - 半導体装置の製造方法及び該方法に用いられる接着剤 - Google Patents
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Description
本発明の半導体装置の製造方法は、半導体チップの電極と回路配線基板の電極とがバンプを介して電気的に接続され、前記半導体チップと前記回路配線基板との間に接着剤を有する半導体装置の製造方法において、前記回路配線基板(前記半導体チップ)の電極形成面に、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物を塗布する第1の塗布工程と、前記半導体チップ(前記回路配線基板)の電極形成面に、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物を塗布する第2の塗布工程と、前記半導体チップの電極形成面と前記回路配線基板の電極形成面とを対向させ、前記塗布された第1の組成物と前記塗布された第2の組成物とを接触させる接触工程と、前記エポキシ系樹脂を硬化させるエポキシ系樹脂硬化工程とを含むことを特徴とする。
該半導体装置の製造方法では、前記第1の塗布工程において、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物が回路配線基板(半導体チップ)の電極形成面に塗布され、前記第2の塗布工程において、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物が半導体チップ(回路配線基板)の電極形成面に塗布され、前記接触工程において、前記半導体チップの電極形成面と前記回路配線基板の電極形成面とが対向され、前記塗布された第1の組成物と前記塗布された第2の組成物とが接触される。その結果、ラジカル重合反応を開始させ、該ラジカル重合反応において発生する反応熱により残存するマイクロカプセルのカプセル膜を溶解させ、加熱することなくエポキシ系樹脂の硬化反応を促進することができる。また、該ラジカル重合反応の反応熱によりエポキシポリマー分子等を活性化させ、加熱することなくエポキシ系樹脂の硬化反応を促進することができる。
本発明の接着剤は、半導体チップと回路配線基板とを接着する接着剤において、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物と、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物との二液型の接着剤からなり、前記ラジカル重合が可能なモノマーのラジカル重合反応において発生する反応熱によって前記カプセル膜が溶解可能であることを特徴とする。
該接着剤においては、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物と、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物との二液型の接着剤からなるので、ラジカル重合が可能なモノマーとラジカル重合開始剤との接触によってラジカル重合反応を開始させ、該ラジカル重合反応において発生する反応熱により残存するマイクロカプセルのカプセル膜を溶解させ、加熱することなくエポキシ系樹脂の硬化反応を促進することができる。また、該ラジカル重合反応の反応熱によりエポキシポリマー分子等を活性化させ、加熱することなくエポキシ系樹脂の硬化反応を促進することができる。
なお、本発明の前記半導体装置の製造方法により製造された半導体装置は、前記半導体チップと前記回路配線基板との接着強度に優れ、高品質かつ高性能である。
本発明の接着剤は、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤(マイクロカプセル化されたエポキシ系樹脂硬化剤)、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物と、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物との二液型の接着剤からなり、更に必要に応じて適宜選択した、その他の成分とを含んでなる。
前記第1の組成物は、図1に示すように、エポキシ系樹脂(エポキシ主剤)1と、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤2と、ラジカル重合が可能なモノマー3とを少なくとも含んでなる。
前記エポキシ系樹脂1としては、エポキシ系接着剤に使用されるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ナフタレン型等のエポキシ系樹脂が好適に挙げられる。ここで、エポキシ系樹脂とは、比較的低分子量のエポキシ系樹脂を意味し、硬化させることにより架橋して高分子量になるものをいう。
前記カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤2としては、コア材としてのエポキシ系樹脂硬化剤と、エポキシ系樹脂硬化剤を覆うカプセル膜とを含むものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。エポキシ系樹脂硬化剤としては、エポキシ系接着剤に使用されるものをいずれも使用することができ、例えば、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルナジック酸、マレイン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等の酸、イミダゾール、ジシアンジアミド等が挙げられる。なお、上記の酸としては、一又は二無水物を使用することが好ましい。これらのエポキシ系樹脂硬化剤は、単独で又は二以上のものを組み合わせて使用してもよい。カプセル膜は、コア材としてのエポキシ系樹脂硬化剤を分散媒中に乳化分散させることにより形成されるものであり、例えば、メタクリル樹脂等の熱可塑性樹脂からなる。
カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤2のエポキシ系樹脂1に対する使用割合としては、エポキシ系樹脂1及びエポキシ系樹脂硬化剤の種類に応じて適宜決められる。エポキシ系樹脂1としてビスフェノールF型エポキシ樹脂を用い、エポキシ系樹脂硬化剤としてイミダゾールを用いた場合、エポキシ系樹脂1の100重量部に対して、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤(マイクロカプセル化されたエポキシ系樹脂硬化剤)2が50〜80重量部程度含まれていることが好ましい。
前記ラジカル重合が可能なモノマー3としては、ラジカル重合が可能であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸フェノキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、エチレングリコールのジ(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのアルキレンオキシド付加物の(メタ)アクリレート、シアネート化合物等が挙げられる。上記の例示において、アルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられ、シクロアルキルとしては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。これらの(メタ)アクリルモノマーは、単独で又は二以上のものを組み合わせて使用してもよい。なお、本明細書では、(メタ)アクリルは、アクリル及びメタクリルの両方を示し、(メタ)アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートの両方を示す用語として使用している。前記ラジカル重合が可能なモノマー3としては、特に、常温で(加熱されることなく)ラジカル重合が可能であり、該ラジカル重合反応の反応熱が大きいもの(例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート)が好ましい。
ラジカル重合が可能なモノマー3のエポキシ系樹脂1に対する使用割合は、エポキシ系樹脂1及びラジカル重合が可能なモノマー3の種類に応じて適宜決められる。エポキシ系樹脂1としてビスフェノールF型エポキシ樹脂を用い、ラジカル重合が可能なモノマー3としてウレタンアクリレートを用いた場合、エポキシ系樹脂1の100重量部に対して、ラジカル重合が可能なモノマー3が100重量部程度含まれていることが好ましい。
前記第2の組成物は、ラジカル重合開始剤を少なくとも含んでなる。
−−ラジカル重合開始剤−−
前記ラジカル重合開始剤としては、ラジカル重合を開始するものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、低温分解型のt−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート(t−Hexyl peroxy−2−ethylhexanoate)及びt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート(t−Butyl peroxy−2−ethylhexanoate)や、中温分解型の2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン(2,3−Dimethyl−2,3−diphenylbutane)等が挙げられる。
前記その他の成分としては、充填剤としての無機フィラ4(例えば、アルミナ、窒化アルミニウム)、剥離強度や耐衝撃性を高めるためのエラストマーや(メタ)アクリル樹脂、接着剤の表面硬化性を高めるためのパラフィンワックス、安定性を高めるための酸化防止剤、可塑剤、接着強度の向上のためのカップリング剤5(例えば、シランカップリング剤)、着色剤等の添加剤等が挙げられる。更に、必要に応じて、塩化メチレン、四塩化炭素、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の有機溶剤を加えてもよい。また、前記その他の成分は第1の組成物及び第2の組成物のいずれに含まれていてもよく、第1の組成物及び第2の組成物の両方に含まれていてもよい。
本発明の半導体装置の製造方法は、第1の塗布工程と、第2の塗布工程と、接触工程と、エポキシ系樹脂硬化工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて適宜選択した、その他の工程を含む。
なお、接着剤の詳細については、本発明の接着剤において上述した通りである。
前記第1の塗布工程は、図2Aに示すように、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物10を回路配線基板11における電極12周辺(回路配線基板11の電極形成面)に塗布する工程である。
該塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の塗布方法の中から適宜選択することができる。前記塗布の際の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記第2の塗布工程は、図2Aに示すように、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物13を半導体チップ14におけるバンプ15周辺(半導体チップ14の電極形成面)に塗布する工程である。
該塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の塗布方法の中から適宜選択することができる。前記塗布の際の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記接触工程は、半導体チップ14の電極形成面と回路配線基板11の電極形成面とを対向させ、前記第1の組成物10と前記第2の組成物13とを接触させる工程である。具体的には、図2Aに示すようにボンディング装置(不図示)により半導体チップ14を吸着して回路配線基板11方向(図2Aの矢印方向)に移動させて半導体チップ14におけるバンプ15と回路配線基板11における電極12とが接するように(半導体チップ14の電極と回路配線基板11の電極12とがバンプ15を介して電気的に接続されるように)フェイスダウンの状態で位置合わせを行い、回路配線基板11と半導体チップ14とを接合する工程であり、この工程により図2Bのような半導体装置が作製される。
該接触の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<エポキシ系樹脂硬化工程>
前記エポキシ系樹脂硬化工程は、前記エポキシ系樹脂を硬化させる工程である。
第1の塗布工程、第2の塗布工程、接触工程、及びエポキシ系樹脂硬化工程以外のその他の工程が、必要に応じて実施されてもよい。
なお、本実施の形態では、第1の組成物10を回路配線基板11における電極12周辺(回路配線基板11の電極形成面)に塗布し、第2の組成物13を半導体チップ14におけるバンプ15周辺(半導体チップ14の電極形成面)に塗布することとしたが、これに限定されるものではなく、第1の組成物10を半導体チップ14におけるバンプ15周辺(半導体チップ14の電極形成面)に塗布し、第2の組成物13を回路配線基板11における電極12周辺(回路配線基板11の電極形成面)に塗布してもよい。
本発明の半導体装置の製造方法によると、例えば、フラッシュメモリ、DRAM、FRAM、等を初めとする各種半導体装置を効率的に製造することができる。
−第1の組成物の調製−
下記組成を有する第1の組成物を調製した。
エポキシ系樹脂(エポキシ主剤):室温で液状タイプのビスフェノールF型エポキシ樹脂(商品名:EXA830LVP、大日本インキ化学工業株式会社製)・・・100重量部
マイクロカプセル型のエポキシ系樹脂硬化剤:コア材としての液状のイミダゾールをカプセル膜としてのメタクリル樹脂(熱可塑性樹脂)で被覆してなるマイクロカプセル型の硬化剤・・・50重量部
ラジカル重合が可能なモノマー:ウレタンアクリレート(商品名:ロックタイト326、ヘンケルジャパン株式会社製)・・・100重量部
カップリング剤:シランカップリング剤(商品名:KBM403、信越化学工業株式会社製)・・・2重量部
無機フィラー:アルミナ粉末(商品名:AO802、株式会社アドマテックス製)
なお、カプセル膜としてのメタクリル樹脂は、分散媒中にエポキシ系樹脂硬化剤を乳化分散させることにより形成させた。
下記組成を有する第2の組成物を調製した。
ラジカル重合開始剤:低温分解型のt−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート
半導体チップとして、電極径70μm、電極ピッチ120μmの電極(金バンプ)を120個備える、縦8.5mm、横8.5mm、厚さ0.06mmのLSIチップを準備した。
回路配線基板として、電極径70μm、電極ピッチ120μmの電極を2,700個備える、縦40mm、横40mm、厚さ0.35mmのトリアジン系樹脂(商品名:BTレジン、三菱瓦斯化学株式会社製)からなる回路配線基板を準備した。
上述したように調製した第1の組成物を、準備した回路配線基板における電極周辺(回路配線基板の電極形成面)に塗布し、第2の組成物(ラジカル重合開始剤)を、準備した半導体チップにおける電極(金バンプ)周辺(半導体チップの電極形成面)に塗布し、ボンディング装置(不図示)により半導体チップを吸着して回路配線基板方向に移動させて半導体チップにおける電極(金バンプ)と回路配線基板における電極とが接するようにフェイスダウンの状態で位置合わせを行い、荷重6kg、接合時間6秒間、ボンディング装置におけるボンディングヘッドの温度30℃の条件で半導体チップと回路配線基板とを接合して、図2Bのような半導体装置を作製した。
得られた半導体装置について、接合直後に電気的接合を確認するために、半導体チップにおける電極(金バンプ)と回路配線基板における電極との間にDC5ボルトの電圧を、85℃、湿度85%の環境下で、500時間印加した後、導通部の抵抗を測定することにより行った。測定の結果、導通部の抵抗の上昇が10%以下であれば良品とし、10%を超えていれば不良であるとした。その結果を表1に示す。なお、初期導通試験結果を表す分数は、分子が不良サンプル数を示し、分母が全サンプル数(試験数)を示す。
得られた半導体装置について、−55℃〜125℃の範囲で温度サイクル試験を行った後に、上記初期導通試験と同じ条件で電圧を印加した後、導通部の抵抗を測定することにより行った。測定の結果、導通部の抵抗の上昇が10%以下であれば良品とし、10%を超えていれば不良であるとした。その結果を表1に示す。なお、温度サイクル試験は、−55℃の30分間冷却、室温での10分間放置、及び125℃での30分間加熱を1サイクルとし、このサイクルを100回、300回、500回繰り返して行った。なお、熱サイクル試験結果を表す分数は、分子が不良サンプル数を示し、分母が全サンプル数(試験数)を示す。
ラジカル重合開始剤として、低温分解型のt−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノアートの代わりに低温分解型のt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアートを用いたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
ラジカル重合開始剤として、低温分解型のt−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノアートの代わりに中温分解型の2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタンを用いたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
マイクロカプセル型のエポキシ系樹脂硬化剤の添加量を、エポキシ主剤100重量部に対して50重量部とする代わりにエポキシ主剤100重量部に対して40重量部としたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
マイクロカプセル型のエポキシ系樹脂硬化剤の添加量を、エポキシ主剤100重量部に対して50重量部とする代わりにエポキシ主剤100重量部に対して80重量部としたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
マイクロカプセル型のエポキシ系樹脂硬化剤の添加量を、エポキシ主剤100重量部に対して50重量部とする代わりにエポキシ主剤100重量部に対して100重量部としたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
ラジカル重合が可能なモノマーとして、ウレタンアクリレートの代わりにエポキシアクリレートを用いたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
ラジカル重合が可能なモノマーとして、ウレタンアクリレートの代わりに脂肪族アクリレートを用いたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
ラジカル重合が可能なモノマーとしてのウレタンアクリレートの添加量を、エポキシ主剤100重量部に対して100重量部とする代わりにエポキシ主剤100重量部に対して50重量部としたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
ラジカル重合が可能なモノマーとしてのウレタンアクリレートの添加量を、エポキシ主剤100重量部に対して100重量部とする代わりにエポキシ主剤100重量部に対して70重量部としたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
ラジカル重合が可能なモノマーとしてのウレタンアクリレートの添加量を、エポキシ主剤100重量部に対して100重量部とする代わりにエポキシ主剤100重量部に対して150重量部としたこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
第1の組成物がラジカル重合が可能なモノマーを含んでいないと共に、第2の組成物がラジカル重合開始剤を含んでいないこと以外は、実施例1と同様にして半導体装置を作製した。
(付記1) 半導体チップの電極と回路配線基板の電極とがバンプを介して電気的に接続され、前記半導体チップと前記回路配線基板との間に接着剤を有する半導体装置の製造方法において、
前記回路配線基板の電極形成面に、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物を塗布する第1の塗布工程と、
前記半導体チップの電極形成面に、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物を塗布する第2の塗布工程と、
前記半導体チップの電極形成面と前記回路配線基板の電極形成面とを対向させ、前記塗布された第1の組成物と前記塗布された第2の組成物とを接触させる接触工程と、
前記エポキシ系樹脂を硬化させるエポキシ系樹脂硬化工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
(付記2) 半導体チップの電極と回路配線基板の電極とがバンプを介して電気的に接続され、前記半導体チップと前記回路配線基板との間に接着剤を有する半導体装置の製造方法において、
前記半導体チップの電極形成面に、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物を塗布する第1の塗布工程と、
前記回路配線基板の電極形成面に、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物を塗布する第2の塗布工程と、
前記半導体チップの電極形成面と前記回路配線基板の電極形成面とを対向させ、前記塗布された第1の組成物と前記塗布された第2の組成物とを接触させる接触工程と、
前記エポキシ系樹脂を硬化させるエポキシ系樹脂硬化工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
(付記3) エポキシ系樹脂硬化工程において、ラジカル重合が可能なモノマーのラジカル重合反応において発生する反応熱によりカプセル膜が溶解してエポキシ系樹脂が硬化される付記1から2のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
(付記4) ラジカル重合が可能なモノマーが、ウレタンアクリレート及びエポキシアクリレートのいずれかを少なくとも含む付記1から3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
(付記5) ラジカル重合が可能なモノマーの添加量が、エポキシ系樹脂に対して略等量の重量部である付記1から4のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
(付記6) ラジカル重合開始剤が、t−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート及びt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアートのいずれかを少なくとも含む付記1から5のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
(付記7) エポキシ系樹脂硬化剤が、イミダゾールである付記1から6のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
(付記8) カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤の添加量が、エポキシ系樹脂100重量部に対して、50〜80重量部である付記1から7のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
(付記9) 半導体チップと回路配線基板とを接着する接着剤において、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物と、ラジカル重合開始剤を含む第2の組成物との二液型の接着剤からなり、前記ラジカル重合が可能なモノマーのラジカル重合反応において発生する反応熱によって前記カプセル膜が溶解可能であることを特徴とする接着剤。
本発明の接着剤は、フラッシュメモリ、DRAM、FRAM、等を初めとする各種半導体装置の製造に好適に用いることができる。
2 カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤(マイクロカプセル化されたエポキシ系樹脂硬化剤)
3 ラジカル重合が可能なモノマー
4 無機フィラ
5 カップリング剤
10 第1の組成物
11 回路配線基板
12 電極
13 第2の組成物
14 半導体チップ
15 バンプ
Claims (5)
- 半導体チップの電極と回路配線基板の電極とがバンプを介して電気的に接続され、前記半導体チップと前記回路配線基板との間に接着剤を有する半導体装置の製造方法において、
前記回路配線基板の電極形成面に、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物を塗布する第1の塗布工程と、
前記半導体チップの電極形成面に、ラジカル重合開始剤としての、t−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート及びt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアートの少なくともいずれかを含む第2の組成物を塗布する第2の塗布工程と、
前記半導体チップの電極形成面と前記回路配線基板の電極形成面とを対向させ、前記塗布された第1の組成物と前記塗布された第2の組成物とを接触させる接触工程と、
前記ラジカル重合が可能なモノマーのラジカル重合反応において発生する反応熱によりカプセル膜を溶解させて前記エポキシ系樹脂を硬化させるエポキシ系樹脂硬化工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体チップの電極と回路配線基板の電極とがバンプを介して電気的に接続され、前記半導体チップと前記回路配線基板との間に接着剤を有する半導体装置の製造方法において、
前記半導体チップの電極形成面に、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物を塗布する第1の塗布工程と、
前記回路配線基板の電極形成面に、ラジカル重合開始剤としての、t−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート及びt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアートの少なくともいずれかを含む第2の組成物を塗布する第2の塗布工程と、
前記半導体チップの電極形成面と前記回路配線基板の電極形成面とを対向させ、前記塗布された第1の組成物と前記塗布された第2の組成物とを接触させる接触工程と、
前記ラジカル重合が可能なモノマーのラジカル重合反応において発生する反応熱によりカプセル膜を溶解させて前記エポキシ系樹脂を硬化させるエポキシ系樹脂硬化工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - ラジカル重合が可能なモノマーが、ウレタンアクリレート及びエポキシアクリレートのいずれかを少なくとも含む請求項1から2のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- エポキシ系樹脂硬化剤が、イミダゾールである請求項1から3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体チップと回路配線基板とを接着する接着剤において、エポキシ系樹脂、カプセル膜で覆われたエポキシ系樹脂硬化剤、及びラジカル重合が可能なモノマーを含む第1の組成物と、ラジカル重合開始剤としての、t−ヘキシルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート及びt−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアートの少なくともいずれかを含む第2の組成物との二液型の接着剤からなり、前記ラジカル重合が可能なモノマーのラジカル重合反応において発生する反応熱によって前記カプセル膜が溶解可能であることを特徴とする接着剤。
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