JP4893009B2 - 画像形成装置、感光体、及び、位置ずれ検出方法 - Google Patents

Description

本発明は、感光体に対する画像書込み位置のずれを検出する画像形成装置に関する。

例えば、特許文献１は、光検出幅が副走査方向に漸次変化する光センサを設け、この光センサの出力に応じてレーザ光源のレーザパワーを変化させることにより、レーザビームの副走査方向のずれを補償するレーザビーム走査装置を開示する。
また、特許文献２は、複数の反射面で反射する各レーザビームの副走査方向の位置の変化量を検出し、検出された変化量に基づいて、各レーザビームの走査位置の変動で生じる濃度むらを補正する画像形成装置を開示する。
また、特許文献３は、感光体ドラム上に設けられたマーキングを読み取ることにより、感光体ドラムの回転むらを検出する方法を開示する。
特許２５７４４１９号公報 特開２０００−２３８３３０号公報 特開２００４−０１２６６５号公報

本発明は、上述した背景からなされたものであり、画像の書込み位置の変動をより正確に検知できる画像形成装置を提供することを目的とする。

［画像形成装置］
上記目的を達成するために、本発明にかかる画像形成装置は、光の反射特性が既定のパターンで変化する光反射領域が設けられた感光体と、前記感光体に対して光を照射して、画像を書き込む光書込み手段と、前記光書込み手段により照射された光の前記光反射領域からの反射光に基づいて、前記光書込み手段による画像の書込みを制御する書込み制御手段とを有する。

好適には、前記感光体は、前記光書込み手段により光が照射される範囲内に、前記光反射領域を有する。

好適には、前記パターンは、光の走査方向に周期性を有し、前記光反射領域は、位相の異なる複数のパターンを有する。

好適には、前記光反射領域は、前記光書込み手段による書込み位置のずれを検出するためのずれ検出パターンと、このずれ検出パターンを特定するための基準となる基準パターンとを有する。

好適には、前記光書込み手段は、レーザ光を走査して、前記感光体に画像を書きこみ、前記光反射領域は、前記光書込み手段により走査されるレーザ光の幅に対応した間隔のパターンを有する。

好適には、前記光書込み手段は、レーザ光を走査して、前記感光体に画像を書き込み、前記書込み制御手段は、前記光反射領域から反射されたレーザ光に基づいて、レーザ光の走査方向の書込みタイミング、及び、レーザ光の走査方向と略直交する方向の書込みを制御する。

好適には、前記光書込み手段は、レーザ光を走査して、前記感光体に画像を書き込み、前記光反射領域は、前記レーザ光の走査方向と略直交する方向に対して周期的に変化する光反射特性を有し、前記光書込み手段により走査されたレーザ光のうち、前記光反射領域で反射された光量を検出する検出手段をさらに有し、前記書込み制御手段は、前記検出手段により検出された光量の変化に基づいて、前記光書込み手段による走査位置のずれを検出する。

［感光体］
また、本発明にかかる感光体は、感光層と、この感光層に対する光照射位置のずれを検出するためのパターンが形成された光反射領域とを有する。

好適には、前記光反射領域は、前記感光体に画像を書き込む光書込み装置の光照射範囲内に設けられている。

好適には、前記パターンは、画像の書込みに用いられる光に対して周期的に反射光量が変化する反射特性を有する。

［位置ずれ検出方法］
また、本発明にかかる位置ずれ検出方法は、画像の書込みに用いられる光照射装置を用いて、既定のパターンが設けられた感光体に光を照射し、前記パターンからの反射光を検出し、検出された反射光に基づいて、画像の書込み位置のずれを検出する。

本発明の画像形成装置によれば、画像の書込み位置の変動をより正確に検知して、出力画像を高画質にすることができる。

［背景］
まず、本発明がなされた背景を説明する。
レーザ光を光源として感光体上に現像を行うデジタルコピー及びプリンタシステムにおいては、光源から出力されたレーザ光をポリゴンミラーなどによって感光体上に感光体長手方向にスキャンさせ、印刷情報の１ライン相当のデータを感光体上に露光し、感光体を一定速度で回転させることで、感光体上に順次現像を行い印刷画像を感光体上に形成する。
しかし、実際の書き込みを行う際には、装置内の種々の駆動系部分からの振動による影響で光源が振動し、レーザ光のスキャンピッチ（副走査方向）が一様ではなくなる。その結果、実際の印刷画像では、副走査方向に濃度むらが現れる。この現象をバンディングといい、印刷画像の品質低下を招く原因となっていた。
そこで、例えば、特許文献１及び特許文献２は、ＲＯＳの走査位置を検出し、該検出結果をレーザ光の出力に変換（強度補正）することで、上記問題点を改善することを提案する。
また、バンディング原因の一つである感光ドラムの回転むらに着目した技術として、例えば、特許文献３に開示されたものがある。この技術は、感光体の面上に光ビームの走査間隔に対応して施されているマーキングを読み取るためのマーキング位置読み取りセンサを有し、このマーキング位置読み取りセンサからの信号に同期して書込み手段により感光体に潜像を形成するものである。

しかしながら、特許文献１及び特許文献２に開示された技術では、感光体近傍に設けた受光手段でレーザの走査位置を検知する構成となっているため、振動等により感光ドラム表面と受光素子の位置ずれが発生すると、正確な副走査ずれ量を検知することができない。
また、特許文献２に開示された技術では、感光ドラムの回転むら以外の原因（例えばポリゴンミラーの面ぶれ等）で発生するバンディングに対応できない。また、マーキング位置読み取りセンサに専用の光源が必要である。

そこで、以下に説明する本実施形態のプリンタ装置１０は、感光体ドラム表面に副走査方向ずれ量を検知するためのパターンを形成し、レーザビームがこのパターンを走査した場合の反射光量に基づいて、副走査方向ずれ量を検知する。
これにより、感光体ドラム表面に対するレーザビームの走査位置をダイレクトに検知することができるため、振動等による感光体ドラム表面と受光素子の位置ずれによる影響を低減することができる。また、感光体ドラム表面に、受光素子の白補正及び／又は黒補正パターンが形成される場合には、感光ドラム表面と受光素子の位置ずれによる受光量の変動を補正することにより、さらに高精度な位置ずれの検知が可能となる。
また、レーザビームの反射光量を検知しているため、別途光源を用意する必要がない。
さらに、副走査方向のずれが発生する原因に関係なく検知できるので、感光体ドラムの回転むら、ポリゴンミラーの面ぶれ、光学系の振動等あらゆる原因で発生するずれを、１セットの検知手段及び補正手段で補正することが可能となる。

［実施形態］
次に、図１を参照して、本実施形態におけるプリンタ装置１０の構成を説明する。
図１は、本発明が適用されるプリンタ装置１０の構成を例示する図である。
図１に例示するように、プリンタ装置１０（画像形成装置）は、３個の搬送ローラ１２２Ａ〜１２２Ｃと、搬送ローラ１２２Ａ〜１２２Ｃに巻き掛けられた無端の転写ベルト１２４と、転写ベルト１２４を挟んで搬送ローラ１２２Ｃと対向配置された転写ローラ１２６とを有する。

転写ベルト１２４の上方には、転写ベルト１２４が回転駆動されたときの転写ベルト１２４の移動方向（図１矢印Ａ方向）に沿って、ブラック（Ｋ）の画像を形成するための第１の感光体ドラム１４０Ｋ、シアン（Ｃ）の画像を形成するための第２の感光体ドラム１４０Ｃ、マゼンダ（Ｍ）画像を形成するための第３の感光体ドラム１４０Ｍ、イエロー（Ｙ）の画像を形成するための第４の感光体ドラム１４０Ｙが略等間隔で配置されている。各感光体ドラム１４０は、軸線が転写ベルト１２４の移動方向と直交するようにそれぞれ配置されている。
なお、以下ではＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙの色毎に設けられた部分に対し、上記と同様に、各部分の符号にＫ／Ｃ／Ｍ／Ｙの記号を付して区別する。

各感光体ドラム１４０の周囲には、感光体ドラム１４０を帯電させるための帯電器１４２がそれぞれ配置されており、各感光体ドラム１４０の上方には、帯電された各感光体ドラム１４０にレーザビームをそれぞれ照射して各感光体ドラム１４０に静電潜像を形成する光走査装置１６が配置されている。

また、各感光体ドラム１４０の周囲には、感光体ドラム１４０の回転方向に沿ってレーザビーム照射位置よりも下流側に、感光体ドラム１４０上に形成された静電潜像を所定色（Ｋ、Ｃ、Ｍ又はＹ）のトナーによって現像しトナー像を形成させる現像器１４４、感光体ドラム１４０上に形成されたトナー像を転写ベルト１２４に転写する転写器１４８、感光体ドラム１４０に残されたトナーを除去するクリーナ１４６が順に配置されている。

各感光体ドラム１４０に形成された互いに異なる色のトナー像は、転写ベルト１２４のベルト面上で互いに重なり合うように転写ベルト１２４にそれぞれ転写される。これにより、転写ベルト１２４上にカラーのトナー像が形成され、形成されたカラーのトナー像は、搬送ローラ１２２Ｃと転写ローラ１２６との間に送り込まれたシート１２８に転写される。そして、シート１２８は、定着装置（不図示）に送りこまれ、転写されたトナー像が定着される。これにより、シート１２８上にカラー画像（フルカラー画像）が形成される。

光走査装置１６について説明する。光走査装置１６は、底面形状が略矩形状のケーシング１６０を備え、ケーシング１６０の略中央部には、モータ（不図示）によって高速で回転されるポリゴンミラー１６４が配置されている。ポリゴンミラー１６４は、複数の反射面（本例では１２面）を備えている。ポリゴンミラー１６４の軸線に直交する方向に沿ってケーシング１６０には、感光体ドラム１４０Ｋへの照射用のレーザビーム（以下「Ｋ色のレーザビーム」という）を射出する半導体レーザ（以下、「ＬＤ」という）１６２Ｋ（光書込み手段）と、感光体ドラム１４０Ｃへの照射用のレーザビーム（以下「Ｃ色のレーザビーム」という）を射出するＬＤ１６２Ｃとがそれぞれ配置されている。

第１のＬＤ１６２Ｋ及び第２のＬＤ１６２Ｃのレーザビーム射出側には、コリメータレンズ（不図示）及び平面ミラーなどが順に配置され、第１のＬＤ１６２Ｋ及び第２のＬＤ１６２Ｃから射出されたレーザビームは、平行光束とされて第１の平面ミラー１６６Ａに入射される。
第１の平面ミラー１６６Ａとポリゴンミラー１６４との間には第１のｆθレンズ１６８Ａが配置されており、第１の平面ミラー１６６Ａで反射されたＫ色及びＣ色のレーザビームは、第１のｆθレンズ１６８Ａを透過してポリゴンミラー１６４に入射され、ポリゴンミラー１６４で反射・偏向された後に、再び第１のｆθレンズ１６８Ａを透過するように構成されている。

第１のＬＤ１６２Ｋ及び第２のＬＤ１６２Ｃは、ポリゴンミラー１６４の軸線方向（副走査方向に対応）に沿った位置が相違されており、Ｋ色及びＣ色のレーザビームは、副走査方向に沿って異なる入射角でポリゴンミラー１６４にそれぞれ入射されるので、第１のｆθレンズ１６８Ａを２回透過したＫ色及びＣ色のレーザビームは別々の平面ミラー１７０Ｋ、１７０Ｃに入射される。
そしてＫ色のレーザビームは、平面ミラー１７０Ｋにより、第１の感光体ドラム１４０Ｋの上方に相当する位置に配置された第１のシリンドリカルミラー１７２Ｋに入射され、このシリンドリカルミラー１７２Ｋから第１の感光体ドラム１４０Ｋへ向けて射出され、感光体ドラム１４０Ｋの周面上を走査される。また、Ｃ色のレーザビームは、平面ミラー１７０Ｃにより、第２の感光体ドラム１４０Ｃの上方に相当する位置に配置された第２のシリンドリカルミラー１７２Ｃに入射され、このシリンドリカルミラー１７２Ｃから第２の感光体ドラム１４０Ｃへ向けて射出され、この感光体ドラム１４０Ｃの周面上を走査される。

また、ケーシング１６０内部の、ポリゴンミラー１６４を挟んで第１のＬＤ１６２Ｋ及び第２のＬＤ１６２Ｃの配設位置の反対側には、第３の感光体ドラム１４０Ｍへの照射用のレーザビーム（以下「Ｍ色のレーザビーム」という）を射出する第３のＬＤ１６２Ｍと、第４の感光体ドラム１４０Ｙへの照射用のレーザビーム（以下「Ｙ色のレーザビーム」という）を射出する第４のＬＤ１６２Ｙがそれぞれ配置されている。第３のＬＤ１６２Ｃ及び第４のＬＤ１６２Ｙから射出されたレーザビームは、上記と同様に、平行光束とされて第２の平面ミラー１６６Ｂに入射される。
第２の平面ミラー１６６Ｂとポリゴンミラー１６４との間には第２のｆθレンズ１６８Ｂが配置されており、第２の平面ミラー１６６Ｂで反射されたＭ色及びＹ色のレーザビームは、第２のｆθレンズ１６８Ｂを透過してポリゴンミラー１６４に入射され、このポリゴンミラー１６４で反射・偏向された後に、再び第２のｆθレンズ１６８Ｂを透過するように構成されている。

第３のＬＤ１６２Ｍ及び第４のＬＤ１６２Ｙは、ポリゴンミラー１６４の軸線方向（副走査方向に対応）に沿った位置が相違されており、Ｍ色及びＹ色のレーザビームは、副走査方向に沿って異なる入射角でポリゴンミラー１６４にそれぞれ入射されるので、第２のｆθレンズ１６８Ｂを２回透過したＭ色及びＹ色のレーザビームは、別々の平面ミラー１７０Ｍ、１７０Ｙに入射される。
そしてＭ色のレーザビームは、平面ミラー１７０Ｍにより、感光体ドラム１４０Ｍの上方に相当する位置に配置された第３のシリンドリカルミラー１７２Ｍに入射され、このシリンドリカルミラー１７２Ｍから第３の感光体ドラム１４０Ｍへ向けて射出され、この感光体ドラム１４０Ｍの周面上を走査される。また、Ｙ色のレーザビームは、平面ミラー１７０Ｙにより、第４の感光体ドラム１４０Ｙの上方に相当する位置に配置された第４のシリンドリカルミラー１７２Ｙに入射され、このシリンドリカルミラー１７２Ｙから第４の感光体ドラム１４０Ｙへ向けて射出され、この感光体ドラム１４０Ｙの周面上を走査される。

ケーシング１６０の底部近傍には、感光体ドラム１４０Ｋ、１４０Ｃ、１４０Ｍ、１４０Ｙによってそれぞれ反射されたＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙ色の各レーザビームの反射光量を測定する光量センサ１７４Ｋ、１７４Ｃ、１７４Ｍ、１７４Ｙが配置されている。

次に、各色のレーザビームと、各種センサ（光量センサ１７４、ＳＯＳセンサ１７８、ＥＯＳセンサ１７９）との関係を説明する。
図２は、本実施形態の概要を説明する図である。なお、本図では、Ｙ色のレーザビームを具体例として説明する。
図２（Ａ）に例示するように、レーザ１６２Ｙから照射されたレーザビームは、ポリンゴンミラー１６４の面で偏向されて、感光体ドラム１４０Ｙの表面を主走査方向に走査される。
感光体ドラム１４０には、レーザビームの反射特性が既定のパターンで変化するパターン領域３０（光反射領域）が設けられており、光量センサ１７４Ｙは、このパターン領域３０で反射されたレーザビームの光量を測定する。このパターン領域３０の反射特性は、感光体ドラム１４０Ｙの回転方向（すなわち、画像の副走査方向）に周期的に変化する。したがって、光量センサ１７４Ｙにより測定される反射光量は、感光体ドラム１４０上の副走査速度が一定である場合には、一定のパターンで変化し、副走査速度が変動すると、反射光量のパターンも変化する。
本実施形態におけるプリンタ装置１０は、この反射光量のパターンに基づいて、副走査速度の変動（すなわち、副走査方向の位置ずれ）を検知する。

一方、図２（Ｂ）に例示するように、レーザビームの走査範囲内に、走査位置のずれを検知するずれ検知センサを設けることも考えられる。このずれ検知センサは、レーザビームそのものを受光して、その受光位置のずれを検知する。そのため、ずれ検知センサには、高い位置分解能が要求される。
また、副走査位置の位置ずれの原因は、振動などに起因するレーザ１６２及び各レンズの位置ずれに加えて、ポリゴンミラー１６４の反射面の倒れ、及び、感光体ドラム１４０の回転むらもある。この感光体ドラム１４０の回転むらに起因する位置ずれは、ずれ検知センサでは検知できない。
また、ずれ検知センサそのものの位置が、振動などによってずれることもありうる。

そこで、本実施形態におけるプリンタ装置１０は、感光体ドラム１４０からの反射光に基づいて、感光体ドラム１４０上の走査位置を直接読み取ることにより、走査位置のずれを検出する。

なお、レーザビームの走査範囲には、感光体ドラム１４０の他に、ＳＯＳセンサ１７８Ｙ及びＥＯＳセンサ１７９Ｙ（実際には、これらのセンサにレーザビームを誘導するピックアップミラー）が設けられており、ＳＯＳセンサ１７８及びＥＯＳセンサ１７９によりレーザビームが検知されるタイミングに基づいて、画像の書込みタイミング（すなわち、主走査方向の書込み位置）が制御されている。

図３は、感光体ドラム１４０表面の反射特性を模式的に示す図である。なお、本図の上下方向は副走査方向（すなわち、感光体ドラム１４０の回転方向）に相当し、本図の左右方向は主走査方向（すなわち、ポリゴンミラー１６４による走査方向）に相当する。
図３に例示するように、感光体ドラム１４０には、レーザビームによって画像が形成される画像形成領域と、既定のパターンで反射特性が変化するパターン領域３０とが設けられている。
パターン領域３０は、画像形成領域外に設けられる。本例のパターン領域３０は、画像形成領域の主走査方向上流に設けられているが、主走査方向下流に設けられてもよい。
パターン領域３０には、主走査方向に、スタートパターン３０２、第１検知パターン３０４、第２検知パターン３０６、及びストップパターン３０８が配置されている。
スタートパターン３０２は、パターン領域３０の始点を検出するためのパターンであり、本例では、感光体ドラム１４０上の走査範囲で最も高い反射率を有する。
また、ストップパターン３０８は、パターン領域３０の終点を検出するためのパターンであり、本例では、感光体ドラム１４０上の走査範囲で最も低い反射率を有する。

第１検知パターン３０４及び第２検知パターン３０６は、副走査方向に周期的に反射率が変化するパターンを有し、副走査方向ずれ量を検知するために設けられている。
本例の第１検知パターン３０４及び第２検知パターン３０６には、レーザビームの１走査ラインの幅で、レーザビームの反射率が感光体ドラム上で最低となる最低反射領域、及び、レーザビームの反射率が感光体ドラム上で最高となる最高反射領域が副走査方向に交互に設けられている。
また、第１検知パターン３０４は、第２検知パターン３０６と比較すると、周期は同一であるが、位相の異なる周期パターンを有する。本例の第１検知パターン３０４は、第２検知パターン３０６と９０度位相が異なる周期性を有する。

図４は、パターン領域３０におけるレーザビームの位置と、反射光量との関係性を説明する図である。
図４に示すように、レーザビームが画像形成領域に照射されている場合には、照射光量に応じて画像形成領域に潜像が形成される。この画像形成領域の反射率は、最低反射領域の反射率と最高反射領域の反射率との間の値となる。
レーザビームが走査されて、スタートパターン３０２にレーザビームが照射されると、光量センサ１７４により検知される反射光量が増加する。このときの反射光量は、最高反射光量である。したがって、最大反射光量の検出が、パターン領域３０の開始位置を示す。

さらにレーザビームが走査されて、第１検知パターン３０４にレーザビームが照射されると、レーザビームの照射範囲と最高反射領域（図中の斜線ハッチング領域）及び／又は最低反射領域（図中の白色領域）との重なり度合いに応じて、反射光量が変化する。本例では、最高反射領域と最低反射領域との両方が照射されるため、反射光量は、最高反射光量（スタートパターンにおける反射光量）と、最低反射光量（ストップパターンにおける反射光量）との間の値となる。本例では、副走査方向の走査ピッチの間隔で、最高反射領域及び最低反射領域が設けられているため、走査ピッチが略一定であれば、第１検知パターン３０４で検出される反射光量は変化しないはずである。そこで、本例のプリンタ装置１０は、反射光量の変化量が既定量を超える場合には、補正すべき位置ずれが副走査方向に生じたものと判定する。

さらにレーザビームが走査されて、第２検知パターン３０６にレーザビームが照射されると、レーザビームの照射範囲と最高反射領域（図中の斜線ハッチング領域）及び／又は最低反射領域（図中の白色領域）との重なり度合いに応じて、反射光量が変化する。第２検知パターン３０６は、第１検知パターン３０４と位相が異なるため、副走査方向の位置ずれが生じた場合には、本例のプリンタ装置１０は、第１検知パターン３０４の反射光量の変化傾向（増加又は減少）と、第２検知パターン３０６の反射光量の変化傾向（増加又は減少）とに基づいて、いずれの方向にずれたのかを判定することができる。

さらにレーザビームが走査されて、ストップパターン３０８にレーザビームが照射されると、光量センサ１７４により検知される反射光量が最低の値となる。プリンタ装置１０は、このストップパターン３０８における反射光量に基づいて、パターン領域３０の終点を検出する。

図５は、画像処理装置２０及び光走査装置１６の機能ブロックを例示する図である。
図５に例示するように、画像処理装置２０は、画像処理部２１０、出力制御部２２０及びずれ量判定部２３０を有する。また、光走査装置１６は、複数のレーザ１６２（レーザ１６２Ｙ〜１６２Ｋ）及び光量センサ１７４を有する。
画像処理部２１０は、入力された画像データ（Ｙ画像、Ｍ画像、Ｃ画像及びＫ画像）に対して所定の画像処理を施し、画像処理が施された画像データ（Ｙ画像、Ｍ画像、Ｃ画像及びＫ画像）を出力制御部２２０に出力する。

出力制御部２２０は、画像処理部２１０から入力された画像データと、ずれ量判定部２３０から入力されたずれ量とに基づいて、各レーザ１６２の出力強度を変化させる。
本例の出力制御部２２０は、走査位置が規定値よりも早い（すなわち、走査ピッチが短い）場合に、レーザ光の強度を減少させ、走査位置が規定値よりも遅い（すなわち、走査ピッチが広い）場合に、レーザ光の強度を増加させる。
これによって、副走査方向の走査ピッチが短くなった場合には、各走査ラインに対応する潜像領域を細くし、副走査方向の走査ピッチが広くなった場合には、各走査ラインに対応する潜像領域を広くすることにより、バンディングを解消して画質を向上させる。

ずれ量判定部２３０は、光量センサ１７４により検出された反射光量に基づいて、副走査方向のずれ量を判定し、判定されたずれ量を出力制御部２２０に出力する。
本例では、スタートパターン３０２（図３、図４）の受光出力電圧をVw、ストップパターン３０８（図３、図４）の受光出力電圧をVｄ、第１検知パターン３０４の受光出力電圧をVａ、第２検知パターン３０６の受光出力電圧をVｂとした場合に、レーザビームで第１検知パターン３０４及び第２検知パターン３０６を副走査方向にスキャンした場合の受光出力電圧は、近似的に正弦波状に変化するので、走査位相角θは、以下の式により算出される。
θ＝ｔａｎ^-1[{(Ｖa−Vd)÷（Ｖw−Vd）}÷{(Ｖb−Vd)÷（Ｖw−Vd）}］・・・（式１）
ただし0度＜θ≦180度

ずれ量判定部２３０は、この走査位相角θを走査毎に算出し、算出結果を走査毎に比較することにより、副走査方向ずれ量を求めることができる。
ずれ量判定部２３０は、算出された副走査方向ずれ量が既定値を超える場合には、算出された副走査方向ずれ量を出力制御部２２０に出力して、位置ずれの補正を指示する。

図６は、位置ずれの補正量算出処理（Ｓ１０）のフローチャートである。
図６に例示するように、ステップ１００（Ｓ１００）において、光量センサ１７４は、パターン領域３０における反射光量を測定し、測定された反射光量（例えば、受光出力電圧）をずれ量判定部２３０に出力する。
ずれ量判定部２３０は、光量センサ１７４から入力される反射光量に基づいて、スタートパターン３０２にレーザビームが照射されたことを検知する。
プリンタ装置１０は、スタートパターン３０２にレーザビームが照射された旨を検知すると、Ｓ１１０の処理に移行する。

ステップ１１０（Ｓ１１０）において、光量センサ１７４は、引き続き、パターン領域３０の各領域からの反射光量を測定し、測定された反射光量をずれ量判定部２３０に出力する。
ステップ１２０（Ｓ１２０）において、ずれ量判定部２３０は、光量センサ１７４から入力される反射光量（受光出力電圧）のなかから、スタートパターン３０２にレーザビームが照射されたタイミング及びストップパターン３０８にレーザビームが照射されたタイミングを基準として、第１検知パターン３０４の反射光量（受光出力電圧Vａ）、及び、第２検知パターン３０６の反射光量（受光出力電圧Vｂ）を特定する。

ステップ１３０（Ｓ１３０）において、ずれ量判定部２３０は、特定された第１検知パターン３０４の反射光量（受光出力電圧Vａ）、及び、第２検知パターン３０６の反射光量（受光出力電圧Vｂ）に基づいて、上記式（１）により、走査位相角θを算出する。

ステップ１４０（Ｓ１４０）において、ずれ量判定部２３０は、算出された走査位相角θの変動量が既定値以上であるか否かを判断する。
プリンタ装置１０は、算出された走査位相角θの変動量が既定値以上である場合に、Ｓ１５０の処理に移行し、算出された走査位相角θの変動量が既定値未満である場合に、ずれ量の補正を行わない旨を決定して、補正量算出処理（Ｓ１０）を終了する。

ステップ１５０（Ｓ１５０）において、ずれ量判定部２３０は、走査位相角θの変動量を出力制御部２２０に出力する。
出力制御部２２０は、ずれ量判定部２３０から入力された走査位相角θの変動量に基づいて、レーザ強度の補正量を決定する。

以上説明したように、本実施形態におけるプリンタ装置１０は、感光体ドラム１４０に設けられたパターンを、画像形成に用いる光走査装置１６から照射される光で読み取ることにより、副走査方向の位置ずれをより正確に検出することができる。
すなわち、感光体ドラム１４０の表面と光量センサ１７４との位置ずれによる影響を排除することが可能となる。
また、パターン検知用光源を別途用意する必要がない。
また、本例のプリンタ装置１０は、あらゆる原因（感光体ドラムの回転むら、及び、光学系の位置ずれ）で発生する副走査方向のずれを１つの光量センサで検出することができる。

［変形例］
図７は、パターン領域３０からの反射光をＳＯＳ信号として用いる形態を説明する図である。
図７に例示するように、光量センサ１７４は、検出される反射光量をＳＯＳ信号としてタイミング制御部２４０に出力し、タイミング制御部２４０は、入力されたパターン領域３０における反射光量に基づいて、画像書出しのタイミングを制御してもよい。
パターン領域３０は、感光体ドラム１４０の既定の主走査位置に設けられているから、このパターン領域３０からのレーザビームの反射光を検知することにより、レーザビームの照射位置を特定することができる。
本変形例におけるタイミング制御部２４０は、これを利用して、画像書出しのタイミング制御を行う。
なお、プリンタ装置１０は、パターン領域３０からの反射光量をＥＯＳ信号として用いてもよい。
これにより、図２に例示したＳＯＳセンサ１７８及び／又はＥＯＳセンサ１７９が不要になる。

本発明が適用されるプリンタ装置１０の構成を例示する図である。 本実施形態の概要を説明する図である。 感光体ドラム１４０表面の反射特性を模式的に示す図である。 パターン領域３０におけるレーザビームの位置と、反射光量との関係性を説明する図である。 画像処理装置２０及び光走査装置１６の機能ブロックを例示する図である。 位置ずれの補正量算出処理（Ｓ１０）のフローチャートである。 パターン領域３０からの反射光をＳＯＳ信号として用いる形態を説明する図である。

符号の説明

１０・・・プリンタ装置
１６・・・光走査装置
１６２・・・半導体レーザ
１６４・・・ポリゴンミラー
１７４・・・光量センサ
２０・・・画像処理装置
２２０・・・出力制御部
２３０・・・ずれ量判定部
１４０・・・感光体ドラム
３０・・・パターン領域
３０２・・・スタートパターン
３０４・・・第１検知パターン
３０６・・・第２検知パターン
３０８・・・ストップパターン

Claims (6)

1. 位相の異なる複数のパターンで光の反射特性が変化する光反射領域が設けられた感光体と、
   前記感光体に対してレーザ光を走査して、画像を書き込む光書込み手段と、
   前記光書込み手段により走査されたレーザ光のうち、前記光反射領域で反射された光量を検出する検出手段と、
   前記検出手段により検出された光量の変化に基づいて、前記光書込み手段によるレーザ光の走査方向と略直交する方向の書込み位置のずれを検出して画像の書込みを制御する書込み制御手段とを有し、
   前記感光体は、前記光書込み手段によりレーザ光が走査される範囲内に、前記光反射領域を有し、
   前記光反射領域は、前記レーザ光の走査方向と略直交する方向に対して周期的に変化する光の反射特性を有する
   画像形成装置。
2. 前記光反射領域は、前記光書込み手段によるレーザ光の走査方向と略直交する方向の書込み位置のずれを検出するためのずれ検出パターンと、このずれ検出パターンを特定するための基準となる基準パターンとを有する
   請求項１に記載の画像形成装置。
3. 前記光反射領域は、前記光書込み手段により走査されるレーザ光の幅に対応した間隔のパターンを有する
   請求項１に記載の画像形成装置。
4. 前記書込み制御手段は、前記光反射領域から反射されたレーザ光に基づいて、レーザ光の走査方向の書込みタイミング、及び、レーザ光の走査方向と略直交する方向の書込みを制御する
   請求項１に記載の画像形成装置。
5. 感光層と、
   光照射装置のレーザ光の走査方向と略直交する方向に対して、位相の異なる複数のパターンで光の反射特性が周期的に変化し、該光照射装置のレーザ光が走査される範囲内に形成されている光反射領域と、
   を有する感光体。
6. 画像の書込みに用いられる光照射装置を用いて、前記光照射装置のレーザ光の走査方向と略直交する方向に対して、位相の異なる複数のパターンで光の反射特性が周期的に変化する光反射領域が、前記光照射装置のレーザ光が走査される範囲内に設けられた感光体にレーザ光を走査し、
   前記光照射装置により走査されたレーザ光のうち、前記光反射領域で反射された光量を検出し、
   検出された光量の変化に基づいて、レーザ光の走査方向と略直交する方向の書込み位置のずれを検出する
   位置ずれ検出方法。
   

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