JP4893009B2 - 画像形成装置、感光体、及び、位置ずれ検出方法 - Google Patents

画像形成装置、感光体、及び、位置ずれ検出方法 Download PDF

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Description

本発明は、感光体に対する画像書込み位置のずれを検出する画像形成装置に関する。
例えば、特許文献1は、光検出幅が副走査方向に漸次変化する光センサを設け、この光センサの出力に応じてレーザ光源のレーザパワーを変化させることにより、レーザビームの副走査方向のずれを補償するレーザビーム走査装置を開示する。
また、特許文献2は、複数の反射面で反射する各レーザビームの副走査方向の位置の変化量を検出し、検出された変化量に基づいて、各レーザビームの走査位置の変動で生じる濃度むらを補正する画像形成装置を開示する。
また、特許文献3は、感光体ドラム上に設けられたマーキングを読み取ることにより、感光体ドラムの回転むらを検出する方法を開示する。
特許2574419号公報 特開2000−238330号公報 特開2004−012665号公報
本発明は、上述した背景からなされたものであり、画像の書込み位置の変動をより正確に検知できる画像形成装置を提供することを目的とする。
[画像形成装置]
上記目的を達成するために、本発明にかかる画像形成装置は、光の反射特性が既定のパターンで変化する光反射領域が設けられた感光体と、前記感光体に対して光を照射して、画像を書き込む光書込み手段と、前記光書込み手段により照射された光の前記光反射領域からの反射光に基づいて、前記光書込み手段による画像の書込みを制御する書込み制御手段とを有する。
好適には、前記感光体は、前記光書込み手段により光が照射される範囲内に、前記光反射領域を有する。
好適には、前記パターンは、光の走査方向に周期性を有し、前記光反射領域は、位相の異なる複数のパターンを有する。
好適には、前記光反射領域は、前記光書込み手段による書込み位置のずれを検出するためのずれ検出パターンと、このずれ検出パターンを特定するための基準となる基準パターンとを有する。
好適には、前記光書込み手段は、レーザ光を走査して、前記感光体に画像を書きこみ、前記光反射領域は、前記光書込み手段により走査されるレーザ光の幅に対応した間隔のパターンを有する。
好適には、前記光書込み手段は、レーザ光を走査して、前記感光体に画像を書き込み、前記書込み制御手段は、前記光反射領域から反射されたレーザ光に基づいて、レーザ光の走査方向の書込みタイミング、及び、レーザ光の走査方向と略直交する方向の書込みを制御する。
好適には、前記光書込み手段は、レーザ光を走査して、前記感光体に画像を書き込み、前記光反射領域は、前記レーザ光の走査方向と略直交する方向に対して周期的に変化する光反射特性を有し、前記光書込み手段により走査されたレーザ光のうち、前記光反射領域で反射された光量を検出する検出手段をさらに有し、前記書込み制御手段は、前記検出手段により検出された光量の変化に基づいて、前記光書込み手段による走査位置のずれを検出する。
[感光体]
また、本発明にかかる感光体は、感光層と、この感光層に対する光照射位置のずれを検出するためのパターンが形成された光反射領域とを有する。
好適には、前記光反射領域は、前記感光体に画像を書き込む光書込み装置の光照射範囲内に設けられている。
好適には、前記パターンは、画像の書込みに用いられる光に対して周期的に反射光量が変化する反射特性を有する。
[位置ずれ検出方法]
また、本発明にかかる位置ずれ検出方法は、画像の書込みに用いられる光照射装置を用いて、既定のパターンが設けられた感光体に光を照射し、前記パターンからの反射光を検出し、検出された反射光に基づいて、画像の書込み位置のずれを検出する。
本発明の画像形成装置によれば、画像の書込み位置の変動をより正確に検知して、出力画像を高画質にすることができる。
[背景]
まず、本発明がなされた背景を説明する。
レーザ光を光源として感光体上に現像を行うデジタルコピー及びプリンタシステムにおいては、光源から出力されたレーザ光をポリゴンミラーなどによって感光体上に感光体長手方向にスキャンさせ、印刷情報の1ライン相当のデータを感光体上に露光し、感光体を一定速度で回転させることで、感光体上に順次現像を行い印刷画像を感光体上に形成する。
しかし、実際の書き込みを行う際には、装置内の種々の駆動系部分からの振動による影響で光源が振動し、レーザ光のスキャンピッチ(副走査方向)が一様ではなくなる。その結果、実際の印刷画像では、副走査方向に濃度むらが現れる。この現象をバンディングといい、印刷画像の品質低下を招く原因となっていた。
そこで、例えば、特許文献1及び特許文献2は、ROSの走査位置を検出し、該検出結果をレーザ光の出力に変換(強度補正)することで、上記問題点を改善することを提案する。
また、バンディング原因の一つである感光ドラムの回転むらに着目した技術として、例えば、特許文献3に開示されたものがある。この技術は、感光体の面上に光ビームの走査間隔に対応して施されているマーキングを読み取るためのマーキング位置読み取りセンサを有し、このマーキング位置読み取りセンサからの信号に同期して書込み手段により感光体に潜像を形成するものである。
しかしながら、特許文献1及び特許文献2に開示された技術では、感光体近傍に設けた受光手段でレーザの走査位置を検知する構成となっているため、振動等により感光ドラム表面と受光素子の位置ずれが発生すると、正確な副走査ずれ量を検知することができない。
また、特許文献2に開示された技術では、感光ドラムの回転むら以外の原因(例えばポリゴンミラーの面ぶれ等)で発生するバンディングに対応できない。また、マーキング位置読み取りセンサに専用の光源が必要である。
そこで、以下に説明する本実施形態のプリンタ装置10は、感光体ドラム表面に副走査方向ずれ量を検知するためのパターンを形成し、レーザビームがこのパターンを走査した場合の反射光量に基づいて、副走査方向ずれ量を検知する。
これにより、感光体ドラム表面に対するレーザビームの走査位置をダイレクトに検知することができるため、振動等による感光体ドラム表面と受光素子の位置ずれによる影響を低減することができる。また、感光体ドラム表面に、受光素子の白補正及び/又は黒補正パターンが形成される場合には、感光ドラム表面と受光素子の位置ずれによる受光量の変動を補正することにより、さらに高精度な位置ずれの検知が可能となる。
また、レーザビームの反射光量を検知しているため、別途光源を用意する必要がない。
さらに、副走査方向のずれが発生する原因に関係なく検知できるので、感光体ドラムの回転むら、ポリゴンミラーの面ぶれ、光学系の振動等あらゆる原因で発生するずれを、1セットの検知手段及び補正手段で補正することが可能となる。
[実施形態]
次に、図1を参照して、本実施形態におけるプリンタ装置10の構成を説明する。
図1は、本発明が適用されるプリンタ装置10の構成を例示する図である。
図1に例示するように、プリンタ装置10(画像形成装置)は、3個の搬送ローラ122A〜122Cと、搬送ローラ122A〜122Cに巻き掛けられた無端の転写ベルト124と、転写ベルト124を挟んで搬送ローラ122Cと対向配置された転写ローラ126とを有する。
転写ベルト124の上方には、転写ベルト124が回転駆動されたときの転写ベルト124の移動方向(図1矢印A方向)に沿って、ブラック(K)の画像を形成するための第1の感光体ドラム140K、シアン(C)の画像を形成するための第2の感光体ドラム140C、マゼンダ(M)画像を形成するための第3の感光体ドラム140M、イエロー(Y)の画像を形成するための第4の感光体ドラム140Yが略等間隔で配置されている。各感光体ドラム140は、軸線が転写ベルト124の移動方向と直交するようにそれぞれ配置されている。
なお、以下ではK、C、M、Yの色毎に設けられた部分に対し、上記と同様に、各部分の符号にK/C/M/Yの記号を付して区別する。
各感光体ドラム140の周囲には、感光体ドラム140を帯電させるための帯電器142がそれぞれ配置されており、各感光体ドラム140の上方には、帯電された各感光体ドラム140にレーザビームをそれぞれ照射して各感光体ドラム140に静電潜像を形成する光走査装置16が配置されている。
また、各感光体ドラム140の周囲には、感光体ドラム140の回転方向に沿ってレーザビーム照射位置よりも下流側に、感光体ドラム140上に形成された静電潜像を所定色(K、C、M又はY)のトナーによって現像しトナー像を形成させる現像器144、感光体ドラム140上に形成されたトナー像を転写ベルト124に転写する転写器148、感光体ドラム140に残されたトナーを除去するクリーナ146が順に配置されている。
各感光体ドラム140に形成された互いに異なる色のトナー像は、転写ベルト124のベルト面上で互いに重なり合うように転写ベルト124にそれぞれ転写される。これにより、転写ベルト124上にカラーのトナー像が形成され、形成されたカラーのトナー像は、搬送ローラ122Cと転写ローラ126との間に送り込まれたシート128に転写される。そして、シート128は、定着装置(不図示)に送りこまれ、転写されたトナー像が定着される。これにより、シート128上にカラー画像(フルカラー画像)が形成される。
光走査装置16について説明する。光走査装置16は、底面形状が略矩形状のケーシング160を備え、ケーシング160の略中央部には、モータ(不図示)によって高速で回転されるポリゴンミラー164が配置されている。ポリゴンミラー164は、複数の反射面(本例では12面)を備えている。ポリゴンミラー164の軸線に直交する方向に沿ってケーシング160には、感光体ドラム140Kへの照射用のレーザビーム(以下「K色のレーザビーム」という)を射出する半導体レーザ(以下、「LD」という)162K(光書込み手段)と、感光体ドラム140Cへの照射用のレーザビーム(以下「C色のレーザビーム」という)を射出するLD162Cとがそれぞれ配置されている。
第1のLD162K及び第2のLD162Cのレーザビーム射出側には、コリメータレンズ(不図示)及び平面ミラーなどが順に配置され、第1のLD162K及び第2のLD162Cから射出されたレーザビームは、平行光束とされて第1の平面ミラー166Aに入射される。
第1の平面ミラー166Aとポリゴンミラー164との間には第1のfθレンズ168Aが配置されており、第1の平面ミラー166Aで反射されたK色及びC色のレーザビームは、第1のfθレンズ168Aを透過してポリゴンミラー164に入射され、ポリゴンミラー164で反射・偏向された後に、再び第1のfθレンズ168Aを透過するように構成されている。
第1のLD162K及び第2のLD162Cは、ポリゴンミラー164の軸線方向(副走査方向に対応)に沿った位置が相違されており、K色及びC色のレーザビームは、副走査方向に沿って異なる入射角でポリゴンミラー164にそれぞれ入射されるので、第1のfθレンズ168Aを2回透過したK色及びC色のレーザビームは別々の平面ミラー170K、170Cに入射される。
そしてK色のレーザビームは、平面ミラー170Kにより、第1の感光体ドラム140Kの上方に相当する位置に配置された第1のシリンドリカルミラー172Kに入射され、このシリンドリカルミラー172Kから第1の感光体ドラム140Kへ向けて射出され、感光体ドラム140Kの周面上を走査される。また、C色のレーザビームは、平面ミラー170Cにより、第2の感光体ドラム140Cの上方に相当する位置に配置された第2のシリンドリカルミラー172Cに入射され、このシリンドリカルミラー172Cから第2の感光体ドラム140Cへ向けて射出され、この感光体ドラム140Cの周面上を走査される。
また、ケーシング160内部の、ポリゴンミラー164を挟んで第1のLD162K及び第2のLD162Cの配設位置の反対側には、第3の感光体ドラム140Mへの照射用のレーザビーム(以下「M色のレーザビーム」という)を射出する第3のLD162Mと、第4の感光体ドラム140Yへの照射用のレーザビーム(以下「Y色のレーザビーム」という)を射出する第4のLD162Yがそれぞれ配置されている。第3のLD162C及び第4のLD162Yから射出されたレーザビームは、上記と同様に、平行光束とされて第2の平面ミラー166Bに入射される。
第2の平面ミラー166Bとポリゴンミラー164との間には第2のfθレンズ168Bが配置されており、第2の平面ミラー166Bで反射されたM色及びY色のレーザビームは、第2のfθレンズ168Bを透過してポリゴンミラー164に入射され、このポリゴンミラー164で反射・偏向された後に、再び第2のfθレンズ168Bを透過するように構成されている。
第3のLD162M及び第4のLD162Yは、ポリゴンミラー164の軸線方向(副走査方向に対応)に沿った位置が相違されており、M色及びY色のレーザビームは、副走査方向に沿って異なる入射角でポリゴンミラー164にそれぞれ入射されるので、第2のfθレンズ168Bを2回透過したM色及びY色のレーザビームは、別々の平面ミラー170M、170Yに入射される。
そしてM色のレーザビームは、平面ミラー170Mにより、感光体ドラム140Mの上方に相当する位置に配置された第3のシリンドリカルミラー172Mに入射され、このシリンドリカルミラー172Mから第3の感光体ドラム140Mへ向けて射出され、この感光体ドラム140Mの周面上を走査される。また、Y色のレーザビームは、平面ミラー170Yにより、第4の感光体ドラム140Yの上方に相当する位置に配置された第4のシリンドリカルミラー172Yに入射され、このシリンドリカルミラー172Yから第4の感光体ドラム140Yへ向けて射出され、この感光体ドラム140Yの周面上を走査される。
ケーシング160の底部近傍には、感光体ドラム140K、140C、140M、140Yによってそれぞれ反射されたK、C、M、Y色の各レーザビームの反射光量を測定する光量センサ174K、174C、174M、174Yが配置されている。
次に、各色のレーザビームと、各種センサ(光量センサ174、SOSセンサ178、EOSセンサ179)との関係を説明する。
図2は、本実施形態の概要を説明する図である。なお、本図では、Y色のレーザビームを具体例として説明する。
図2(A)に例示するように、レーザ162Yから照射されたレーザビームは、ポリンゴンミラー164の面で偏向されて、感光体ドラム140Yの表面を主走査方向に走査される。
感光体ドラム140には、レーザビームの反射特性が既定のパターンで変化するパターン領域30(光反射領域)が設けられており、光量センサ174Yは、このパターン領域30で反射されたレーザビームの光量を測定する。このパターン領域30の反射特性は、感光体ドラム140Yの回転方向(すなわち、画像の副走査方向)に周期的に変化する。したがって、光量センサ174Yにより測定される反射光量は、感光体ドラム140上の副走査速度が一定である場合には、一定のパターンで変化し、副走査速度が変動すると、反射光量のパターンも変化する。
本実施形態におけるプリンタ装置10は、この反射光量のパターンに基づいて、副走査速度の変動(すなわち、副走査方向の位置ずれ)を検知する。
一方、図2(B)に例示するように、レーザビームの走査範囲内に、走査位置のずれを検知するずれ検知センサを設けることも考えられる。このずれ検知センサは、レーザビームそのものを受光して、その受光位置のずれを検知する。そのため、ずれ検知センサには、高い位置分解能が要求される。
また、副走査位置の位置ずれの原因は、振動などに起因するレーザ162及び各レンズの位置ずれに加えて、ポリゴンミラー164の反射面の倒れ、及び、感光体ドラム140の回転むらもある。この感光体ドラム140の回転むらに起因する位置ずれは、ずれ検知センサでは検知できない。
また、ずれ検知センサそのものの位置が、振動などによってずれることもありうる。
そこで、本実施形態におけるプリンタ装置10は、感光体ドラム140からの反射光に基づいて、感光体ドラム140上の走査位置を直接読み取ることにより、走査位置のずれを検出する。
なお、レーザビームの走査範囲には、感光体ドラム140の他に、SOSセンサ178Y及びEOSセンサ179Y(実際には、これらのセンサにレーザビームを誘導するピックアップミラー)が設けられており、SOSセンサ178及びEOSセンサ179によりレーザビームが検知されるタイミングに基づいて、画像の書込みタイミング(すなわち、主走査方向の書込み位置)が制御されている。
図3は、感光体ドラム140表面の反射特性を模式的に示す図である。なお、本図の上下方向は副走査方向(すなわち、感光体ドラム140の回転方向)に相当し、本図の左右方向は主走査方向(すなわち、ポリゴンミラー164による走査方向)に相当する。
図3に例示するように、感光体ドラム140には、レーザビームによって画像が形成される画像形成領域と、既定のパターンで反射特性が変化するパターン領域30とが設けられている。
パターン領域30は、画像形成領域外に設けられる。本例のパターン領域30は、画像形成領域の主走査方向上流に設けられているが、主走査方向下流に設けられてもよい。
パターン領域30には、主走査方向に、スタートパターン302、第1検知パターン304、第2検知パターン306、及びストップパターン308が配置されている。
スタートパターン302は、パターン領域30の始点を検出するためのパターンであり、本例では、感光体ドラム140上の走査範囲で最も高い反射率を有する。
また、ストップパターン308は、パターン領域30の終点を検出するためのパターンであり、本例では、感光体ドラム140上の走査範囲で最も低い反射率を有する。
第1検知パターン304及び第2検知パターン306は、副走査方向に周期的に反射率が変化するパターンを有し、副走査方向ずれ量を検知するために設けられている。
本例の第1検知パターン304及び第2検知パターン306には、レーザビームの1走査ラインの幅で、レーザビームの反射率が感光体ドラム上で最低となる最低反射領域、及び、レーザビームの反射率が感光体ドラム上で最高となる最高反射領域が副走査方向に交互に設けられている。
また、第1検知パターン304は、第2検知パターン306と比較すると、周期は同一であるが、位相の異なる周期パターンを有する。本例の第1検知パターン304は、第2検知パターン306と90度位相が異なる周期性を有する。
図4は、パターン領域30におけるレーザビームの位置と、反射光量との関係性を説明する図である。
図4に示すように、レーザビームが画像形成領域に照射されている場合には、照射光量に応じて画像形成領域に潜像が形成される。この画像形成領域の反射率は、最低反射領域の反射率と最高反射領域の反射率との間の値となる。
レーザビームが走査されて、スタートパターン302にレーザビームが照射されると、光量センサ174により検知される反射光量が増加する。このときの反射光量は、最高反射光量である。したがって、最大反射光量の検出が、パターン領域30の開始位置を示す。
さらにレーザビームが走査されて、第1検知パターン304にレーザビームが照射されると、レーザビームの照射範囲と最高反射領域(図中の斜線ハッチング領域)及び/又は最低反射領域(図中の白色領域)との重なり度合いに応じて、反射光量が変化する。本例では、最高反射領域と最低反射領域との両方が照射されるため、反射光量は、最高反射光量(スタートパターンにおける反射光量)と、最低反射光量(ストップパターンにおける反射光量)との間の値となる。本例では、副走査方向の走査ピッチの間隔で、最高反射領域及び最低反射領域が設けられているため、走査ピッチが略一定であれば、第1検知パターン304で検出される反射光量は変化しないはずである。そこで、本例のプリンタ装置10は、反射光量の変化量が既定量を超える場合には、補正すべき位置ずれが副走査方向に生じたものと判定する。
さらにレーザビームが走査されて、第2検知パターン306にレーザビームが照射されると、レーザビームの照射範囲と最高反射領域(図中の斜線ハッチング領域)及び/又は最低反射領域(図中の白色領域)との重なり度合いに応じて、反射光量が変化する。第2検知パターン306は、第1検知パターン304と位相が異なるため、副走査方向の位置ずれが生じた場合には、本例のプリンタ装置10は、第1検知パターン304の反射光量の変化傾向(増加又は減少)と、第2検知パターン306の反射光量の変化傾向(増加又は減少)とに基づいて、いずれの方向にずれたのかを判定することができる。
さらにレーザビームが走査されて、ストップパターン308にレーザビームが照射されると、光量センサ174により検知される反射光量が最低の値となる。プリンタ装置10は、このストップパターン308における反射光量に基づいて、パターン領域30の終点を検出する。
図5は、画像処理装置20及び光走査装置16の機能ブロックを例示する図である。
図5に例示するように、画像処理装置20は、画像処理部210、出力制御部220及びずれ量判定部230を有する。また、光走査装置16は、複数のレーザ162(レーザ162Y〜162K)及び光量センサ174を有する。
画像処理部210は、入力された画像データ(Y画像、M画像、C画像及びK画像)に対して所定の画像処理を施し、画像処理が施された画像データ(Y画像、M画像、C画像及びK画像)を出力制御部220に出力する。
出力制御部220は、画像処理部210から入力された画像データと、ずれ量判定部230から入力されたずれ量とに基づいて、各レーザ162の出力強度を変化させる。
本例の出力制御部220は、走査位置が規定値よりも早い(すなわち、走査ピッチが短い)場合に、レーザ光の強度を減少させ、走査位置が規定値よりも遅い(すなわち、走査ピッチが広い)場合に、レーザ光の強度を増加させる。
これによって、副走査方向の走査ピッチが短くなった場合には、各走査ラインに対応する潜像領域を細くし、副走査方向の走査ピッチが広くなった場合には、各走査ラインに対応する潜像領域を広くすることにより、バンディングを解消して画質を向上させる。
ずれ量判定部230は、光量センサ174により検出された反射光量に基づいて、副走査方向のずれ量を判定し、判定されたずれ量を出力制御部220に出力する。
本例では、スタートパターン302(図3、図4)の受光出力電圧をVw、ストップパターン308(図3、図4)の受光出力電圧をVd、第1検知パターン304の受光出力電圧をVa、第2検知パターン306の受光出力電圧をVbとした場合に、レーザビームで第1検知パターン304及び第2検知パターン306を副走査方向にスキャンした場合の受光出力電圧は、近似的に正弦波状に変化するので、走査位相角θは、以下の式により算出される。
θ=tan-1[{(Va−Vd)÷(Vw−Vd)}÷{(Vb−Vd)÷(Vw−Vd)}]・・・(式1)
ただし0度<θ≦180度
ずれ量判定部230は、この走査位相角θを走査毎に算出し、算出結果を走査毎に比較することにより、副走査方向ずれ量を求めることができる。
ずれ量判定部230は、算出された副走査方向ずれ量が既定値を超える場合には、算出された副走査方向ずれ量を出力制御部220に出力して、位置ずれの補正を指示する。
図6は、位置ずれの補正量算出処理(S10)のフローチャートである。
図6に例示するように、ステップ100(S100)において、光量センサ174は、パターン領域30における反射光量を測定し、測定された反射光量(例えば、受光出力電圧)をずれ量判定部230に出力する。
ずれ量判定部230は、光量センサ174から入力される反射光量に基づいて、スタートパターン302にレーザビームが照射されたことを検知する。
プリンタ装置10は、スタートパターン302にレーザビームが照射された旨を検知すると、S110の処理に移行する。
ステップ110(S110)において、光量センサ174は、引き続き、パターン領域30の各領域からの反射光量を測定し、測定された反射光量をずれ量判定部230に出力する。
ステップ120(S120)において、ずれ量判定部230は、光量センサ174から入力される反射光量(受光出力電圧)のなかから、スタートパターン302にレーザビームが照射されたタイミング及びストップパターン308にレーザビームが照射されたタイミングを基準として、第1検知パターン304の反射光量(受光出力電圧Va)、及び、第2検知パターン306の反射光量(受光出力電圧Vb)を特定する。
ステップ130(S130)において、ずれ量判定部230は、特定された第1検知パターン304の反射光量(受光出力電圧Va)、及び、第2検知パターン306の反射光量(受光出力電圧Vb)に基づいて、上記式(1)により、走査位相角θを算出する。
ステップ140(S140)において、ずれ量判定部230は、算出された走査位相角θの変動量が既定値以上であるか否かを判断する。
プリンタ装置10は、算出された走査位相角θの変動量が既定値以上である場合に、S150の処理に移行し、算出された走査位相角θの変動量が既定値未満である場合に、ずれ量の補正を行わない旨を決定して、補正量算出処理(S10)を終了する。
ステップ150(S150)において、ずれ量判定部230は、走査位相角θの変動量を出力制御部220に出力する。
出力制御部220は、ずれ量判定部230から入力された走査位相角θの変動量に基づいて、レーザ強度の補正量を決定する。
以上説明したように、本実施形態におけるプリンタ装置10は、感光体ドラム140に設けられたパターンを、画像形成に用いる光走査装置16から照射される光で読み取ることにより、副走査方向の位置ずれをより正確に検出することができる。
すなわち、感光体ドラム140の表面と光量センサ174との位置ずれによる影響を排除することが可能となる。
また、パターン検知用光源を別途用意する必要がない。
また、本例のプリンタ装置10は、あらゆる原因(感光体ドラムの回転むら、及び、光学系の位置ずれ)で発生する副走査方向のずれを1つの光量センサで検出することができる。
[変形例]
図7は、パターン領域30からの反射光をSOS信号として用いる形態を説明する図である。
図7に例示するように、光量センサ174は、検出される反射光量をSOS信号としてタイミング制御部240に出力し、タイミング制御部240は、入力されたパターン領域30における反射光量に基づいて、画像書出しのタイミングを制御してもよい。
パターン領域30は、感光体ドラム140の既定の主走査位置に設けられているから、このパターン領域30からのレーザビームの反射光を検知することにより、レーザビームの照射位置を特定することができる。
本変形例におけるタイミング制御部240は、これを利用して、画像書出しのタイミング制御を行う。
なお、プリンタ装置10は、パターン領域30からの反射光量をEOS信号として用いてもよい。
これにより、図2に例示したSOSセンサ178及び/又はEOSセンサ179が不要になる。
本発明が適用されるプリンタ装置10の構成を例示する図である。 本実施形態の概要を説明する図である。 感光体ドラム140表面の反射特性を模式的に示す図である。 パターン領域30におけるレーザビームの位置と、反射光量との関係性を説明する図である。 画像処理装置20及び光走査装置16の機能ブロックを例示する図である。 位置ずれの補正量算出処理(S10)のフローチャートである。 パターン領域30からの反射光をSOS信号として用いる形態を説明する図である。
符号の説明
10・・・プリンタ装置
16・・・光走査装置
162・・・半導体レーザ
164・・・ポリゴンミラー
174・・・光量センサ
20・・・画像処理装置
220・・・出力制御部
230・・・ずれ量判定部
140・・・感光体ドラム
30・・・パターン領域
302・・・スタートパターン
304・・・第1検知パターン
306・・・第2検知パターン
308・・・ストップパターン

Claims (6)

  1. 位相の異なる複数のパターンで光の反射特性変化する光反射領域が設けられた感光体と、
    前記感光体に対してレーザ光を走査して、画像を書き込む光書込み手段と、
    前記光書込み手段により走査されたレーザ光のうち、前記光反射領域で反射された光量を検出する検出手段と、
    前記検出手段により検出された光量の変化に基づいて、前記光書込み手段によるレーザ光の走査方向と略直交する方向の書込み位置のずれを検出して画像の書込みを制御する書込み制御手段とを有し、
    前記感光体は、前記光書込み手段によりレーザ光が走査される範囲内に、前記光反射領域を有し、
    前記光反射領域は、前記レーザ光の走査方向と略直交する方向に対して周期的に変化する光の反射特性を有する
    画像形成装置。
  2. 前記光反射領域は、前記光書込み手段によるレーザ光の走査方向と略直交する方向の書込み位置のずれを検出するためのずれ検出パターンと、このずれ検出パターンを特定するための基準となる基準パターンとを有する
    請求項1に記載の画像形成装置。
  3. 前記光反射領域は、前記光書込み手段により走査されるレーザ光の幅に対応した間隔のパターンを有する
    請求項1に記載の画像形成装置。
  4. 前記書込み制御手段は、前記光反射領域から反射されたレーザ光に基づいて、レーザ光の走査方向の書込みタイミング、及び、レーザ光の走査方向と略直交する方向の書込みを制御する
    請求項1に記載の画像形成装置。
  5. 感光層と、
    光照射装置のレーザ光の走査方向と略直交する方向に対して、位相の異なる複数のパターンで光の反射特性が周期的に変化し、該光照射装置のレーザ光が走査される範囲内に形成されている光反射領域と、
    を有する感光体。
  6. 画像の書込みに用いられる光照射装置を用いて、前記光照射装置のレーザ光の走査方向と略直交する方向に対して、位相の異なる複数のパターンで光の反射特性が周期的に変化する光反射領域が、前記光照射装置のレーザ光が走査される範囲内に設けられた感光体にレーザ光を走査し、
    前記光照射装置により走査されたレーザ光のうち、前記光反射領域で反射された光量を検出し、
    検出された光量の変化に基づいて、レーザ光の走査方向と略直交する方向の書込み位置のずれを検出する
    位置ずれ検出方法。
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