JP4892352B2 - プリントされたはんだペーストの欠陥を検出するためのシステムおよび方法 - Google Patents
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Description
この発明の実施例は一般に、機械視覚システムで用いられる装置、システム、および方法に関する。より特定的に、この発明は、はんだペーストのプリントプロセスにおける欠陥を検出するためのシステムおよび方法に関する。
一般的な面実装回路基板の製造動作では、回路基板上にはんだペーストをプリントするためにステンシルプリンタが用いられる。一般に、はんだペーストが上に堆積されるパッドのパターンまたは通常は導電性である他の何らかの表面を有する回路基板が、ステンシルプリンタ内に自動的に供給され、回路基板上にはんだペーストをプリントする前に、回路基板上における、基準と呼ばれる1つ以上の小さな孔部または印を用いて、回路基板と、ステンシルプリンタのステンシルまたはスクリーンとが適切にアライメントされる。先行技術のシステムの中には、回路基板とステンシルとをアライメントするために、光学アライメントシステムを用いるものもある。ステンシルプリンタ用の光学アライメントシステムの例は、その各々がこの明細書において引用により援用される、1991年10月21日にフリーマン(Freeman)に発行された米国特許第5,060,063号、および1992年1月31日に同じくフリーマンに発行された米国再発行特許第34,615号に記載されている。
隣接するパッド間のギャップに跨ってはんだペーストが存在すること自体は、後に組立プロセスでブリッジに関連する欠陥が生じることを保証しない。すべてのブリッジまたはブリッジ様の(bridge-like)欠陥が、所定のプロセスに悪影響を及ぼすのに必要とされる量または形状寸法を必ずしも有するわけではない。その反対に、プロセスにとって実際に有意なギャップの欠陥が、必ずしも隣接するパッドを接続して明確なブリッジを形成するわけではないことが考えられる。ギャップ内にペーストが存在する欠陥の重要性が、そ
の形状寸法に関係なく、ブリッジまたは「ブリッジ様の」特徴を形成するペーストの総量、ペーストの特徴の形状寸法(長さ、幅、大きさ等)、およびギャップ内のペーストの総量等の要因により影響を受けることが分かっている。
後に生じ得る確度を求めるステップを含み得る。
この発明の一実施例は、一般に、はんだペーストの質感を認識するための方法を用いるステンシルプリンタに関する。この技術は、欠陥を分析した後に欠陥を防止する際に用いるための、ステンシルおよび回路基板等のプリント基板におけるペーストのみの画像を獲得するために用いられる。たとえば、プリントの欠陥は、ステンシルプリンタを用いて回路基板上にはんだペーストをプリントするプロセスでしばしば生じる。図1Aは、この発明の一実施例に従ったステンシルプリンタ100の正面図を示す。ステンシルプリンタ100は、コントローラ108と、ステンシル16と、はんだペーストが一定量供給され得る一定量供給スロット118aを有する一定量供給ヘッド118とを含む、ステンシルプリンタの構成要素を支持するフレーム12を含む。
Microsoft DOS (登録商標)または Windows(登録商標)NTのオペレーティングシステムを用いるパーソナルコンピュータを用いて実現される。
テンシル、ウェハ、または任意の平坦な表面を含み、物質102aは、はんだペーストを含む。
定められたしきい値を超えるミスアライメントを示す場合、プロセッサ116は、誤差を減らすか、またはなくすための適合的手段で応答して、コントローラ108を介してアラームを作動させるか、または基板を除去することができる。コントローラ108はステンシルプリンタ100の駆動モータ120に電気的に接続されて、ステンシルおよび基板のアライメントだけでなく、プリントプロセスに関連する他の動作を容易にする。
プリント回路基板224上のはんだペースト228を認識するためにプロセッサ116が用いる技術を次に説明する。この発明の一実施例により、プロセッサ116は4つの機能を実行する。この4つの機能は、画像の強調、質感の区分化、画像の位置の分析、およびプロセス制御である。
。
この発明の一実施例において、プロセッサ116のフィルタリング部202は、図4Bに示すラプラスフィルタ202Bを用いて画像のフィルタリングを行なう。ラプラスフィルタ202Bは、ラプラス演算子を含む。ラプラス演算子は、本質的に、輝度の線形の二次導関数に対する近似値である。この演算子は、画像の点、線、およびエッジを強調して、画像の、滑らかに変動する均一な領域を生成する。ラプラス演算子は、一実施例において、図5Aに示す3×3のマトリクスにより表わされる。カーネルと呼ばれる3×3のマ
トリクスは、マイナス4に等しい値を有する中央の画素を有し、このことは、画像105a内の中央の画素の輝度値がマイナス4で乗算されることを意味する。ラプラスカーネルでは、中央の画素の両側、上、および下に接触する4つの隣接部の値が1に等しい。したがって、画像105a内の中央の画素に対して4つの最も隣接する部分の輝度のレベルは1で乗算される。一般に、4つの隣接部は、中央の画素に対して北、東、南、および西の方向を用いて配置される。しかしながら、他の方向も可能である(図8A〜図8Hに図示)。
トを改良する。この措置が正当である理由を、2つの異なる説明に見出すことができる。第1に、画像内のぼけは、以下の部分的な微分方程式に従う拡散プロセスとしてモデル化することができる。
この発明の一実施例において、プロセッサ116は、画像105aを観察または取り込むために用いられる自動的な利得およびオフセット(AGO)を提供する獲得部206を含む。一般に、リアルタイムの画像105か、格納された画像105aか、または画像105aの一部の輝度、コントラスト、または全体の品質を調節または強調するための任意の手段が適用され得る。このような強調は、以下のものに限定されないが、照明の設定か、または光学フィルタ、空間フィルタ、偏光子、もしくはそれらの組合せを含む任意の方法の使用を含み得る。この強調はさらに、収差、ビネット焼き、および照明に対して光学補正を行なうための、画像105a内の画素のソフトウェア操作をさらに含む。
を用いると、初期の限度が表1および表2において以下に示すように設定され得ることを示す。
回路基板220の本来の画像のヒストグラムが示される。ヒストグラムのx軸は、0から255のグレーレベルを示し、y軸は、各グレーレベルにおける画像の画素の数を示す。図7Bは、ペーストのコントラストが強調された同じ画像のヒストグラムを示す。図7Bはまた、255においてクリップされた、かなりの数の非ペーストの画素を示す。この発明の一実施例では、0から255(8ビットのグレースケールを示唆)に及ぶグレースケールレベルにおいて、本来の画像の左末尾は15に等しく、右末尾は240に等しい。この発明の別の実施例において、ステップ502は、プロセッサ116が初期の獲得パラメータを自動的に計算および設定することを可能にし、または代替的に、オペレータがこれらのパラメータを設定することを可能にする。この発明の別の実施例において、AGOを設定するステップ(ステップ502)は、オペレータが獲得パラメータを手動で設定することを可能にし、または、プロセッサ116がこれらのパラメータを自動的に計算および設定することを可能にする。
プロセッサ116のロケータ分析部216は、予め定められたコンタクト領域224に対するはんだペーストの位置を決定するために用いられる。各領域の座標は、重心、ブロブ技術、相関、およびさまざまな他の探索ツールを用いて決定され得る。ブロブ技術および重心を用いるプロセスは周知であり、この明細書において引用により援用される、「画像処理ハンドブック第2版」第416〜431頁、第487〜545頁においてジョン C.ラスにより、および「画像代数学におけるコンピュータ視覚アルゴリズムのハンドブック」、第161〜172頁においてジェラルド X.リッターおよびジョゼフ N.ウィルソンにより論じられている。
プロセッサ116のプロセス制御部212は、はんだペースト領域102aの画像におけるエイリアシングを最小化するために用いられる。基板102上に堆積されたはんだペ
ースト領域102aのデジタル画像105aを得る際に、はんだペーストの質感の認識に固有ないくつかの条件が考慮される。具体的に、この発明の一実施例では、ペーストの粒径と、さまざまな倍率における画像105aの品質に対する、ペーストの粒径の影響とが考慮される。一般に、サンプリングレートがナイキスト(Nyquist)周波数を超えている限り、エイリアシングは回避され得る。しかしながら、はんだペースト領域を画像化する際に、粒径、焦点距離、倍率、およびCCD画像のスペーシング間の適切な関係なしにエイリアシングが生じることも考えられる。一実施例において、この発明の質感認識方法は、以下の表24に示される4つのタイプのはんだペーストを考慮する。
上で論じたように、この発明の一実施例は、デジタル画像に対する統計的演算および形態学的演算との組合せを用いて、プリント回路、ステンシル、ウエハ、または任意の基板上における、はんだペーストの質感の領域の領域と、特徴が豊富な他の非はんだ領域とを分離する。図9A〜図9Dは、この発明の一実施例を用いるシステムの結果を示す。
クト領域810に至る回路トレース808の輪郭を描く、明確な縁部806と、コンタクト領域が始まる明確な分離線812とを示す。
Bは、図10Aに示す生のBGA画像に対して実施された一重しきい値プロセスの結果を示す。図10Cは、図10Aに示す生のBGA画像に対して実施された拡大縮小可能なグレーレベルを用いる二重しきい値プロセスの結果を示す。縁部および不明瞭な領域は、グレーの影の中に存在する。不明瞭な領域の1つは1006に現われる。
図13は、基板上に堆積されたはんだペーストを検査するための先行技術のプロセスのフロー図である。最初の動作として、たとえばエリアスキャンカメラまたはラインスキャンカメラにより、基板の部分の画像が獲得される(ステップ1300)。図14は、図13のステップ1300で獲得された画像の例示的な一例を示す。図14は、はんだペーストのグレースケール画像である。ステップ1300で獲得された画像は処理されて、それにより、ペーストで被覆された基板の領域が、より容易に識別される(ステップ1310)。たとえば、ペースト検出(ペースト認識とも呼ぶ)プロセスが画像に対して行なわれ、はんだペーストと非はんだの特徴(伝導パッド、基板等)とを分離して、新規の「ペーストのみの」画像を作成する(ステップ1310および1330)。図15は、図14の画像に適用されたペースト検出に基づいた、重み付けされたペーストのみの画像の一例である。結果的に得られた画像は、この段階において、ペースト堆積物の品質、位置、または重要性を求めるためにペースト検出中に必ずしも分析されない。その代わりに、分離プロセス(ステップ1340)を用いてペーストのみの画像を分析することができる。
作成するために、一重しきい値(または輝度レベル)が選択される。しきい値技術は、興味の対象となる領域に画像を区分化し、しきい値外にあるすべての他の領域、すなわち、不可欠であると思われないすべての他の領域を除去する。たとえば、はんだペーストに蛍光染料を加えて、特定の種類の光の下でペーストのみが視認され得るようにすることができる。図16は、UV強化された蛍光ペーストの赤緑青(RGB)画像であり、図17は、「一重しきい値」方法を用いた、「青色」光のチャネルからのペーストのみのバイナリ画像である。二重しきい値方法は同様に作用するが、縁部の画素をより正確に明らかにするために、しきい値間における輝度のレベルの、拡大縮小可能な移行領域を含む。二重しきい値方法は、時として一重しきい値よりも好まれる。なぜなら、小さなペーストの特徴が、相対的に有意な量の縁部のデータを含み得るためである。
ことができる。欠陥が任意の特定の部位において報告されるか否かにかかわらず、SPCデータを収集および使用して、望ましくない傾向がプロセスに対して重大な意味を持つ前にそれらの傾向を監視して補正することができる。
プ内での形状または位置に関係なくペーストの総量が予め規定された限度を超えたときに、一般的なプリントの欠陥が生じる。一般的なプリントの欠陥が検出される際に、実際のペーストのブリッジを確認する必要はなく、基板が欠陥を有することを決定するために、欠陥のさらに別の特徴は必要とされない。一般的なプリントの欠陥の状態は、ブリッジに関連する欠陥(短絡等)が、後に組み立てプロセスでプリントの欠陥の位置において現れ得る高い可能性を伴った、プリントの品質不良、アライメント不良、ブリッジ形成、またはこれらのすべてを一般に示す。ギャップ内にペーストが存在する一般的な欠陥については、ギャップ内に見受けられるペーストの総面積に対して、ユーザが規定した限度が適用される。
たように、ペーストのみの画像を作成するための他の使用可能な技術は、UV染料で強化したペースト、レーザプロファイリング、地形学的なデータの2D表現(すなわち、「体積要素」または「ボクセル」の画像)を作成するためのインターフェロメトリの使用およびx線技術を含む。区分化されたペーストのみの画像を生成するための、現在公知の多くの方法および今後開発されるべき多くの方法が、この発明の少なくともいくつかの実施例において使用可能であることを当業者は認識するであろう。
助ける。
の発明で説明されるギャップ領域およびブリッジの分析とともに用いられて、プリントプロセスの制御に対してより包括的な1組のデータを提供し得るためである。そうでなければ、興味の対象となる領域内の、パッド上のペーストの面積の測定値(ステップ1830)は、ギャップ内にペーストが存在している一般的な面積の測定値(ステップ1840)およびブリッジの特徴の測定値(ステップ1850)から独立している。ギャップ内にペーストが存在する領域の測定(ステップ1840)は、ギャップ内で容認されるペーストの最大量2215の、ユーザが規定する入力に例えられる。したがって、ステップ1830および1840を用いて、興味の対象となる領域内における一般的なプリントの欠陥(上述)の検出を助ける。一般的なプリントの欠陥が検出された場合、検査されている基板は直ちに除去され得る。
プロセスである。一実施例において、平滑化のステップ2120は、投影された生データ全体にスライディング平均2310(ユーザが規定した/指定したパラメータにより決定された大きさを有する;図22参照)を渡して、そして投影部に沿った地点でより滑らかな等価のスパンを得ることによって行なわれる。スライディング平均は、効果的にも、一次元の平滑化カーネルである。平滑化の程度は、カーネルの大きさに基づき、重要なブリッジの特徴またはブリッジ様の特徴の最小幅に類似する。しかしながら、平滑化カーネルの大きさが、重要なブリッジの特徴またはブリッジ様の特徴の最小幅と同じである必要はない。図23の例は、5画素のスライディング平均または平滑化カーネルを用いる。矩形の一方の辺として投影部の任意の5つの連続するエントリの平均を取り、他方の辺として平滑化カーネルのサイズ、すなわち5を取ると、興味の対象となる領域の長さに沿った各地点において機能上等価なブリッジの特徴を示すように矩形2310が描かれ得る。平滑化された結果は、ギャップの長さに沿ったこれらの「瞬間的な」ブリッジの特徴の有効スパンを表す。そして、ユーザが規定した限度2225(図22)に照らしてステップ2140中に検査される(図21)のが、ギャップ全体の幅の割合で表示されたこれらの値である。
ペーストのみの画像である。図25Cにおいて、ブリッジまたはブリッジ様の特徴の最小幅は、10画素であり、ユーザが規定するしきい値は70%である。ユーザが規定したパラメータは図24のものと同様である。相対的に有意なはんだブリッジを図25Aおよび図25Bにおいて視認することができる。図25Cにおいて、スライディング平均は、ユーザが規定したしきい値を超えて延び、70%のしきい値の線において相対的に大きな長さのギャップ全体に延びる。このことは、しきい値を超える、多くの平滑化された値を有する強大なブリッジ様の欠陥が存在することをグラフで示すが、ブリッジ様の欠陥を示すために、1つの値のみ、すなわち最大値のみが必要とされる。
動がギャップの大きさに及ぼす影響を示す図である。図26および図27が示すように、ギャップの大きさは、パッドの大きさとパッドの配置とに依存して変動し得る。この発明の少なくともいくつかの実施例が、パラメータ、たとえばギャップを横切る有意なブリッジの特徴の最大スパン、スライディング平均ウィンドウの大きさ等に対し、ユーザにより指定された入力を可能にするため(図22参照)、この発明のシステムおよび方法は、さまざまなパッドの大きさおよび配置を備えたさまざまな大きさの基板に対し、有利にも迅速に適合され得る。
、表面張力が一方側にのみ働くためである。パッドの堆積物を備えた接触点2814が、接合点2804のものよりもわずかに大きいことに注意されたい。このことは、図28A〜図28Fに示すすべてのブリッジの例に対して同じ6%のギャップの被覆率を維持するために必要とされる。ブリッジの「感度」が同じである場合、2810の投影されたデータを平滑化する効果は、以前の例2800と同様である。なぜなら、それらがほぼ同じ均一な厚さを有するものの、有効スパン(すなわち平滑化された他の最大値)が以前の例よりも小さいためである。ここでも、平滑化されたスパンの最大値が、ユーザにより規定された限度を上回る場合、この特徴は欠陥として印が付けられる。
が、平滑化の動作の後に最大のギャップのスパンを正確に生じる。このことは、部材3140の同様の特徴にも当てはまるが、この例では、報告されたスパンの最大値がより大きくなり、したがってブリッジを形成する可能性がより大きくなる。
Claims (23)
- 基板上に堆積されたはんだペーストの画像を分析する方法であって、前記画像は複数の画素を含み、前記方法は、
前記画像内で興味の対象となる領域を規定するステップと、
第1の軸および前記第1の軸に垂直な第2の軸を、前記興味の対象となる領域において規定するステップとを含み、前記画像内の多数の画素は、前記第1の軸に沿って位置し、前記方法はさらに、
前記興味の対象となる領域内の画素を、前記第1の軸に配置されかつ前記第2の軸に沿って投影される一次元データ列に変換するステップと、
前記一次元データ列に、複数のしきい値のうちの少なくとも1つのしきい値を適用するステップとを含み、前記複数のしきい値は、予め定められた限度に基づいており、
前記一次元データ列を平滑化するステップを含み、
前記変換するステップは、
前記第1の軸に沿った各画素について、前記興味の対象となる領域内の、前記軸に沿ったそれぞれの画素に垂直に配置されるすべての画素の総和を計算するステップと、
前記軸に沿った各画素の前記総和を、前記第2の軸に垂直な一次元データ列として表現するステップとを含み、
前記第2の軸は、はんだペーストのブリッジ形成の軸である、方法。 - 前記平滑化するステップは、前記興味の対象となる領域内のはんだペーストの最大量、平滑化の程度、および前記基板上に堆積されたはんだペーストの最大量の少なくとも1つを指定するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記興味の対象となる領域の1つの縁部の実質的な付近に軸を配置するステップをさらに含み、前記画素内の多数の画素は前記軸に沿って位置する、請求項1に記載の方法。
- 特徴が前記興味の対象となる領域内に存在するかどうかを判定するために、前記一次元データ列を評価するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記特徴は、欠陥、短絡、ブリッジ様の特徴、ブリッジ、過剰な量の前記はんだペースト、前記はんだペーストのはみ出した領域、および前記はんだペーストの不明確な領域を含む、請求項4に記載の方法。
- 少なくとも1つの検出パラメータを受取るステップをさらに含み、前記検出パラメータは、前記画像内の少なくとも1つの特徴が機能上の欠陥を後に生じ得る確度を求めるステップに関連する、請求項4に記載の方法。
- 前記評価するステップは、前記少なくとも1つの検出パラメータに従って達成される、請求項6に記載の方法。
- 前記興味の対象となる領域内の各特徴に対し、前記特徴の面積および形状寸法を計算するステップをさらに含み、前記計算は、前記検出パラメータおよび前記一次元データ列を用いて少なくとも部分的に達成される、請求項7に記載の方法。
- 前記面積および形状寸法に基づいて、前記画像内の前記少なくとも1つの特徴が機能上の欠陥を後に生じ得る確度を求めるステップをさらに含む、請求項8に記載の方法。
- 前記画像内の前記少なくとも1つの特徴が機能上の欠陥を生じ得る、前記求められた確度に基づき、前記基板上に前記はんだペーストが堆積されるプロセスを変更するステップをさらに含む、請求項9に記載の方法。
- はんだペーストが上に堆積された基板を検査する方法であって、
前記基板上に前記はんだペーストを堆積するステップと、
前記はんだペーストの画像を取込むステップと、
前記基板上の前記はんだペーストの位置を特定するために、前記画像における輝度の変動を検出するステップと、
前記画像内で興味の対象となる領域を規定するステップとを含み、前記規定された、興味の対象となる領域は、はんだペーストのブリッジ形成の軸に垂直な第1の軸を有し、前記画像内の多数の画素は前記軸に沿って位置し、前記方法はさらに、
前記軸に沿った各画素について、前記興味の対象となる領域内の、前記軸に沿ったそれぞれの画素と垂直に配置されるすべての画素の総和を計算するステップと、
前記軸に沿った各画素の前記総和を、前記軸に沿った、平滑化された一次元データ列として表現するステップと、
前記興味の対象となる領域内に特徴が存在するかどうかを判定するために、複数の予め定められたしきい値のうちの少なくとも1つを、前記一次元データ列に適用するステップとを含む、方法。 - 前記特徴は、欠陥、短絡、ブリッジ様の特徴、ブリッジ、過剰な量の前記はんだペースト、前記はんだペーストのはみ出した領域、および前記はんだペーストの不明確な領域を含む、請求項11に記載の方法。
- 少なくとも1つの検出パラメータを受取るステップをさらに含み、前記検出パラメータは、前記興味の対象となる領域内の少なくとも1つの特徴が機能上の欠陥を後に生じ得る確度を求めるステップに関連する、請求項11に記載の方法。
- 前記適用するステップは、少なくとも1つの検出パラメータに従って達成される、請求項13に記載の方法。
- 前記興味の対象となる領域内の各特徴に対し、前記特徴の面積および形状寸法を計算するステップをさらに含み、前記計算は、少なくとも1つの検出パラメータおよび前記一次元データ列を用いて達成される、請求項14に記載の方法。
- 前記面積および形状寸法に基づいて、前記画像内の前記少なくとも1つの特徴が機能上の欠陥を後に生じ得る確度を求めるステップをさらに含む、請求項15に記載の方法。
- 基板上の予め定められた位置にはんだペーストを一定量供給するためのシステムであって、
前記基板上に材料を一定量供給するディスペンサと、
前記ディスペンサの動作を維持するためのコントローラと、
前記コントローラと電気的に通信するプロセッサとを含み、前記プロセッサは、
前記基板上に配置されたはんだペーストの堆積物の輝度の変動の検出を実施し、そして
はんだペーストの画像内で興味の対象となる領域を規定するようにプログラムされており、前記規定された、興味の対象となる領域は、はんだペーストのブリッジ形成の軸に垂直な第1の軸を有し、前記画像内の多数の画素は前記軸に沿って位置し、前記プロセッサはさらに、
前記軸に沿った各画素について、前記興味の対象となる領域内の、前記軸に沿ったそれぞれの画素と垂直に配置されるすべての画素の総和を計算し、
前記軸に沿った各画素の前記総和を前記軸に沿った、平滑化された一次元データ列として表現し、そして
前記興味の対象となる領域内に欠陥が存在するかどうかを判定するために、複数の予め定められたしきい値のうちの少なくとも1つを前記一次元データ列に適用するようにプログラムされている、システム。 - 前記欠陥は、前記基板上における、短絡、ブリッジ、過剰な量のはんだペースト、はんだペーストのはみ出した領域、およびはんだペーストの不明確な領域を含む、請求項17に記載のシステム。
- 前記プロセッサは、前記興味の対象となる領域内の各欠陥に対し、検出パラメータおよび前記一次元データ列を用いて前記欠陥の面積および形状寸法を計算するようにさらにプログラムされている、請求項17に記載のシステム。
- 基板上に堆積されたはんだペーストにおける欠陥を検出する方法であって、
前記基板の画像を取込むステップと、
前記基板上の前記はんだペーストの位置を特定するために、前記画像内の輝度の変動を検出するステップと、
前記画像内で興味の対象となる領域を規定するステップとを含み、前記規定された、興味の対象となる領域は、はんだペーストのブリッジ形成の軸に垂直な第1の軸を有し、前記画像内の多数の画素は前記軸に沿って位置し、前記方法はさらに、
前記軸に沿った各画素について、前記興味の対象となる領域内の、前記軸に沿った前記それぞれの画素と垂直に配置されるすべての画素の総和を計算するステップと、
前記軸に沿った各画素の前記総和を、前記軸に沿った、平滑化された一次元データ列として表現するステップと、
前記興味の対象となる領域内に欠陥が存在するかどうかを判定するために、複数の予め定められたしきい値のうちの少なくとも1つを、前記一次元データ列に適用するステップとを含む、方法。 - 前記欠陥は、はんだブリッジ、ブリッジ様の特徴、または過剰なペーストの特徴の少なくとも1つを含む、請求項20に記載の方法。
- 前記基板は、前記はんだペーストが上に堆積される第1および第2のパッドを含み、前記欠陥は、前記第1のパッドと前記第2のパッドとの間の距離の少なくとも一部に跨るはんだペーストの存在を含む、請求項21に記載の方法。
- 前記欠陥がはんだブリッジとして分類されるべきであるかどうかを判定するための規則を適用するステップをさらに含む、請求項22に記載の方法。
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