JP4875754B2 - 回転電極を備える放射源、および放射源を備えるリソグラフィ装置 - Google Patents
回転電極を備える放射源、および放射源を備えるリソグラフィ装置 Download PDFInfo
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Description
ここで、σは表面張力(スズに対して0.5N/m)、ρは特定密度(液体スズに対して7・103kg/m3)、Rは回転半径、そしてv0は回転するアノード−カソード対の線速度である。
Claims (4)
- 回転軸を中心に回転可能に取り付けられたアノードと、
前記アノードの周縁部を半径方向外側から囲むように前記アノードを内部に収容する内面を有し、前記内面に液体金属を保持可能に構成され、前記回転軸を中心に回転可能に取り付けられたカソードと、
放電のための物質を生成するために、前記液体金属上にエネルギービームを方向づけて前記液体金属の一部を蒸発させるように配置された活性化源と、
追加の液体金属を供給して前記液体金属の前記蒸発を補償するように配置された液体金属プロバイダと、を含み、
前記アノードおよび前記カソードは、前記アノードおよび前記カソードの間の放電空間において前記液体金属から蒸発した物質で放電を形成し、プラズマを形成して電磁放射を発生させるように構成および配置されており、
前記アノードは、前記周縁部に傾斜したリムを有するディスクであり、
前記液体金属プロバイダは、前記アノードの前記傾斜したリムに前記追加の液体金属を供給するように配置されていることによって前記傾斜したリムの表面が前記追加の液体金属で覆われるようになっており、
前記追加の液体金属の一部が前記アノードに生ずる遠心力によって前記アノードの前記周縁部から前記カソードの前記内面に移動することによって前記カソードの内面に保持された前記液体金属の前記蒸発を補償するようになっている、
放射源。 - 前記液体金属プロバイダは、前記追加の液体金属を小滴の形で供給するように配置される、請求項1に記載の放射源。
- 放射源と、
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するように構成されたパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、を含み、
前記放射源は、
回転軸を中心に回転可能に取り付けられたアノードと、
前記アノードの周縁部を半径方向外側から囲むように前記アノードを内部に収容する内面を有し、前記内面に液体金属を保持可能に構成され、前記回転軸を中心に回転可能に取り付けられたカソードと、
放電のための物質を生成するために、前記液体金属上にエネルギービームを方向づけて前記液体金属の一部を蒸発させるように配置された活性化源と、
追加の液体金属を供給して前記液体金属の前記蒸発を補償するように配置された液体金属プロバイダと、を含み、
前記アノードおよび前記カソードは、前記アノードおよび前記カソードの間の放電空間において前記液体金属から蒸発した物質で放電を形成し、プラズマを形成して電磁放射を発生させるように構成および配置されており、
前記アノードは、前記周縁部に傾斜したリムを有するディスクであり、
前記液体金属プロバイダは、前記アノードの前記傾斜したリムに前記追加の液体金属を供給するように配置されていることによって前記傾斜したリムの表面が前記追加の液体金属で覆われるようになっており、
前記追加の液体金属の一部が前記アノードに生ずる遠心力によって前記アノードの前記周縁部から前記カソードの前記内面に移動することによって前記カソードの内面に保持された前記液体金属の前記蒸発を補償するようになっている、
リソグラフィ装置。 - 前記液体金属プロバイダは、前記追加の液体金属を小滴の形で供給するように配置される、請求項3記載のリソグラフィ装置。
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