JP4874879B2 - エルビウムスパッタリングターゲット及びその製造方法 - Google Patents
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Description
エルビウムの原子番号は68、原子量167.3の灰色の金属であり、六方細密構造を備えている。融点は1530°C、沸点2860°C、密度9.07g/cm3である。空気中では表面が酸化され、水には徐々にとける。また、酸に可溶である。耐食性及び耐磨耗性に優れており、高い常磁性を示す。高温で酸化物(Er2O3)を生成する。希土類元素は、一般に酸化数3の化合物が安定であるが、エルビウム(Er)も3価である。
さらに、溶解インゴットから切り出したターゲットあるいは円板状に鋳込んだターゲットの場合、冷却時の温度勾配により、外周と中心近傍での結晶粒径に大きな差異が生じるため、スパッタリング膜のユニフォーミティが悪いという問題があった。
また、エルビウムターゲットに含有される不純物の中で、特に問題となる元素について検討され又は調査された例もない。
希土類金属の抽出という中で、その一部にエルビウムが挙げられている程度であるが、参考となる文献を次に紹介する。
これによって酸素含有量が300ppm以下であり、カルシウム、リチウム、フッ素などの不純物が少ない高純度希土類金属を得ることが開示されている(例えば、特許文献4参照)。この技術も、上記と同様に溶融塩電解浴の利用を基本とするものであり、複雑な工程が必要であり、また酸素除去の効果も十分ではないという問題がある。また、使用するリチウム、バリウム、カルシウム等が不純物として随伴する問題もある。
そして、溶解したインゴットを、さらに鍛造加工して得たターゲットが、品質に優れたターゲットとすることができるとの知見を得た。これが本願発明の基本であり、ターゲットに必要とされる条件については、優先順位があり、ターゲットの具体的用途から、その最適条件を適宜選択することができる。
3)また、前記エルビウムスパッタリングターゲットの結晶粒径のスパッタ面内の均一性が、±70%以内であることが望ましい。鍛造品であっても、ターゲットの中心部と周辺部では結晶粒径の大小に分布があり、この分布に一定の範囲に収めることが、スパッタ膜のユニフォーミティをさらに高めることが可能となる。
4)前記エルビウムスパッタリングターゲットの結晶粒径のスパッタ面内の均一性を±50%以内とすることが望ましい。これも上記3)と同様の理由によるものであり、さらに品質を向上させることができる。
ターゲット中に含有されるガスで成分としての酸素及び炭素は、スパッタリング成膜時にスプラッシュ又はパーティクルを発生させる原因となるからである。
7)さらに、好ましくはタングステン及びタンタルの含有量をそれぞれ20wtppm以下とすることである。
以上の製造方法により、すなわち、高純度のインゴットを製造し、そのインゴットの鍛造条件及び熱処理条件を目的とするターゲットの組織を得るように、任意に変えることにより、前記ターゲットの全てが製造可能である。本願発明は、これらを全て包含する。
粗酸化エルビウムを還元性の金属と混合し、真空中1500〜2500°Cに加熱し還元する。還元性の金属としては、蒸気圧が低く還元力が高いイットリウム(Y)金属が有効であるが、これ以外にランタン(La)等の還元性金属を使用することも可能である。蒸気圧が低く還元力が高い金属であれば、その使用に特に制限はない。
また、ガス成分を除いた純度が3N5以上とするのは、ガス成分は除去が難しく、これをカウントすると純度の向上の目安とならないからである。また、一般に他の不純物元素に比べ、多少の存在は無害である場合が多いからである。
この鍛造品をさらに切削・仕上げ加工(研磨)等の加工を行い、当該ターゲット組織において観察される結晶の平均結晶粒径が1〜20mmであるエルビウムスパッタリングターゲットを得る。
ターゲットの結晶粒径のスパッタ面内の均一性についても、スパッタ膜のユニフォーミティに影響を与える。ターゲットの結晶粒径のスパッタ面内の均一性については、±70%以内であること、さらにはターゲットの結晶粒径のスパッタ面内の均一性が、±50%以内であることが望ましい。
ターゲットは、その目的に応じて、酸素や炭素等ガス成分又は不純物レベルを調整することも重要である。しかし、従来の大きな欠点であったスパッタ膜のユニフォーミティを解決する観点から、これらに共通して必要とされるのはターゲットの結晶粒径の調整である。すなわち、酸素や炭素等ガス成分又は不純物レベルを犠牲にしても、大きな欠点であったスパッタ膜のユニフォーミティを優先させることが必要であったからである。したがって、ターゲットの結晶粒径の調整は、第一義的なものであることを知るべきである。
このパーティクル発生は、その量が少ない段階では品質に大きく影響を与えるものではないが、その量が多くなると、同様にスパッタ膜の品質を悪化させる原因となる。前記結晶粒径の調整とこのガス成分の制限により、さらに良好な成膜が可能となる。また、エルビウムをメタルゲート膜に利用する場合には、成膜後の性質に影響を少なからず与えるので、酸素及び炭素については、極力制御することが望ましいことは言うまでもない。
ターゲット中の酸素含有量を調整する場合には、100wtppm以下とすることが望ましい。また、炭素含有量を調整する場合には、150wtppm以下とすることが望ましい。いずれも、上記数値を超える場合には、調整の効果が現れないからである。
タングステン及びタンタルは、一般にるつぼ材料として使用されるものである。このため、希土類の材料の溶解において、無意識に混入を認めてしまうケースが多い。しかし、タングステン及びタンタルの過剰な混入は、パーティクル発生の原因となり、また場合によっては、膜の抵抗値が変わってしまうということすらある。
これを防止するためには、タングステン及びタンタルの含有量をそれぞれ100wtppm以下とするのが望ましい。
しかし、本願発明は、鍛造ターゲットとすることにより、ターゲットの径をφ300mm以上とすることが可能となったのであり、従来では存在しなかったターゲット技術である。決して軽んずべき問題ではない。また、本願発明のターゲット径の上限に制限はない。スパッタリング装置に適合するサイズの要求があれば、その製造は容易である。本願発明はこれを包含するものである。
本発明は、エルビウム原料として、2Nの粗酸化エルビウム(Er2O3)を使用した。この原料に含まれる不純物を、表1に示す。次に、これを還元性の金属であるイットリウム(Y)と混合し、真空蒸留装置を使用して、真空中1600°Cに加熱し還元した。酸化エルビウムの還元の進行と共に、エルビウムが蒸留され純度が向上し、エルビウムがコンデンサ部に貯留した。
蒸留熱還元反応は、次の通りである。
Er2O3(固体)+2Y(固体)→2Er(気体)+3Y2O3(固体)
上記コンデンサに貯留したエルビウム蒸留物から10kgを取り出し、CaO坩堝を使用し、Ar雰囲気中で溶解し、凝固させてインゴットとした。この結果、4Nの純度のインゴットを得た。
そして、このインゴットを切り出し、かつ研磨処理して、500mmφのターゲットを、平均結晶粒径は1〜20mmの範囲で、1、3、5、・・17、20mmまでの10ランクの種類のターゲットを製造した。
この場合、いずれのターゲットも粒径の面内均一性は±70%以内にあったが、この区別は特にしなかった。なお、参考のために平均結晶粒径25mmのターゲットを作製した。
また、この場合のターゲット純度は4Nであり、酸素含有量が70wtppm、炭素含有量が20wtppm、タングステン含有量が10wtppm、タンタル含有量が5wtppmであった。この結果を表1に示す。
ユニフォーミティは膜のシート抵抗の標準偏差σとして評価し、KLA-Tencor社製、OMNIMAP RS75により行った。なお、ユニフォーミティは3σを平均値に対する%で表した値で示す。また、パーティクル数の測定は、KLA-Tencor社製、Surfscan 6420により行った。以下のパーティクルの発生量及びユニフォーミティの調査は、同様に行った。
この結果から明らかなように、平均結晶粒径が本願発明の条件を外れた場合には、ユニフォーミティが悪くなるという欠陥を持つことが分かった。
次に、実施例5の条件、すなわち平均結晶粒径を10mmとし、ターゲット粒径の面内均一性を±70%の範囲で変化させたターゲットについて、同様にSi基板上にスパッタすることにより、スパッタリング時のパーティクルの発生量及びスパッタリング膜のユニフォーミティを調べた。この結果を表2に示す。なお、実施例5のターゲットの粒径の面内均一性は±20%であった。なお、参考例2として、ターゲット粒径の面内均一性が±100%であるものについて調べた。
この結果、ターゲット粒径の面内均一性を±70%の範囲にある実施例11−20のユニフォーミティは10.5〜13.8となり、いずれも良好なスパッタリング膜のユニフォーミティを示した。面内均一性が±50%の範囲、特に±30%の範囲にあるターゲットについては、特に良好な結果を示した。
参考例2については、ターゲット粒径の面内均一性が±100%と、本願発明の条件を外れているが、この場合は、スパッタリング膜のユニフォーミティが20.8となり、実施例11−20に比べてやや悪い結果となった。
次に、実施例5の条件、すなわち平均結晶粒径を10mmとし、ターゲット粒径の面内均一性が±20%の範囲にあるターゲットについて、酸素含有量が100wtppm以下、炭素含有量が150wtppm以下で展開した場合の、スパッタリング時のパーティクルの発生量及びスパッタリング膜のユニフォーミティを調べた。この結果を表3に示す。なお、参考例3として、酸素含有量が100wtppmを越えるもの、参考例4として、炭素含有量が150wtppmターゲットを超えるものについて調べた。
この結果、酸素含有量が100wtppm以下、炭素含有量が150wtppm以下である実施例21−30は、いずれもスパッタリング時のパーティクルの発生量が0.14〜0.40個/cm2と少なく、また良好なスパッタリング膜のユニフォーミティを示した。
参考例3及び4については、酸素含有量がそれぞれ110、150wtppm、炭素含有量が170、200wtppmと、本願発明の条件を外れているが、この場合は、スパッタリング時のパーティクルの発生量が0.48〜0.75個/cm2となり、実施例21−30に比べてやや多く、悪い結果となった。
次に、実施例5の条件、すなわち平均結晶粒径を10mmとし、ターゲット粒径の面内均一性が±20%の範囲にあり、酸素含有量が70wtppm、炭素含有量が20wtppm、タングステン含有量が10wtppm、タンタル含有量が5wtppmであるターゲットについて、タングステン含有量を100wtppm以下、タンタル含有量が100wtppm以下で展開した場合の、スパッタリング時のパーティクルの発生量及びスパッタリング膜のユニフォーミティを調べた。この結果を表4に示す。なお、参考例5として、タングステン含有量が100wtppmを越えるもの、参考例6として、タンタル含有量が100wtppmターゲットを超えるものについて調べた。
参考例5及び6については、タングステン含有量がそれぞれ110、150wtppm、タンタル含有量が110、150wtppmと、本願発明の条件を外れているが、この場合は、スパッタリング時のパーティクルの発生量が0.50〜0.75個/cm2と、実施例31−40に比べてやや多く、悪い結果となった。
従来の鋳造によって、φ250mmのエルビウム板を作製し、これを切削してターゲットとした。炭素含有量:50wtppm、酸素含有量:300wtppm、タングステン含有量:4000wtppm、タンタル:5wtppmであった。ターゲットの径が300φのものは、切削中に亀裂が入るという問題があった。
このターゲットの平均結晶粒径は、中心が2.1mm、R/2が1.3mm、外周が4.5mmで、微細な結晶を有していたが、内部に、大きなポアが確認された。このターゲットを用いてスパッタリングしたところ、スパッタリング時のパーティクルの発生量が1357であり、またスパッタリング膜のユニフォーミティ(3σ)は20.6と著しく悪い結果となった。
上記実施例については、いずれもパーティクルの発生量が少なく、またスパッタリング膜のユニフォーミティが良好であるという結果になった。実施例については、いずれも径が500mmであるターゲットを用いて、スパッタリング時のパーティクルの発生量及びスパッタリング膜のユニフォーミティを調べたが、径が300mmのターゲット及び径が500mmを超えるターゲットでも同様であった。また、ターゲットの製作時に亀裂が入ることはなく、また鋳造品のようなポアの発生もなく、優れたターゲットが得られた。
また、上記実施例においては、総合的な純度が4Nのターゲットを用いたが、3N5〜5Nのターゲットでも同様の傾向があった。
Claims (10)
- 鍛造及び熱処理を施して作製したエルビウムスパッタリングターゲットであって、ターゲットの純度が3N5以上であり、当該ターゲット組織において観察される結晶の平均結晶粒径が1〜20mmであることを特徴とするエルビウムスパッタリングターゲット。
- 平均結晶粒径が3〜15mmであることを特徴とする請求項1記載のエルビウムスパッタリングターゲット。
- 前記ターゲットの結晶粒径のスパッタ面内の均一性が、±70%以内であることを特徴とする請求項1又は2記載のエルビウムスパッタリングターゲット。
- 前記ターゲットの結晶粒径のスパッタ面内の均一性が、±50%以内であることを特徴とする請求項1又は2記載のエルビウムスパッタリングターゲット。
- 上記ターゲット中の酸素含有量が100wtppm以下、炭素含有量が150wtppm以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のエルビウムスパッタリングターゲット。
- 上記ターゲット中のタングステン及びタンタルの含有量が、それぞれ100wtppm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のエルビウムスパッタリングターゲット。
- 上記ターゲット中のタングステン及びタンタルの含有量が、それぞれ20wtppm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のエルビウムスパッタリングターゲット。
- 上記ターゲットの径がφ300mm以上であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のエルビウムスパッタリングターゲット。
- 真空鋳造した純度が3N5以上のインゴットを、1100〜1200°Cの範囲の温度で恒温鍛造し、次にこの鍛造したターゲット素材を800〜1200°Cの温度で熱処理して、ターゲットの純度が3N5以上であり、当該ターゲット組織における平均結晶粒径を1〜20mmに調整し、これを切り出してターゲットとすることを特徴とするエルビウムスパッタリングターゲットの製造方法。
- 原料である純度3N以下の酸化エルビウムと還元金属を混合し加熱してエルビウムの還元及び蒸留を行う際に、1500〜2500°Cの温度に加熱することにより、純度3N5の高純度エルビウムを製造し、これを真空鋳造したインゴットを用いることを特徴とする請求項9記載のエルビウムスパッタリングターゲットの製造方法。
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