JP4867281B2 - 単結晶の製造方法 - Google Patents

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本発明は、フラックス法を用いて磁性ガーネットなどの単結晶を育成する単結晶の製造方法に関する。
ファラデー回転子は、透過する光の偏光面を回転させる機能を有する光学素子であり、光アイソレータ、光アッテネータ、光磁界センサ等の光デバイスに使用される。ファラデー回転子は、一般に板状のビスマス(Bi)置換希土類鉄ガーネット単結晶を用いて作製される。Bi置換希土類鉄ガーネット単結晶は、フラックス法の一種である液相エピタキシャル(LPE)法により育成される。フラックス法による単結晶育成は、大気圧中で行われる。
フラックス法等の溶液法によりBi置換希土類鉄ガーネット単結晶を育成する際には、過飽和状態を保ちながらガーネット単結晶を安定に成長させるために、一般にPbO、Bi及びBが溶媒として用いられる。このため磁性ガーネット単結晶の育成時には結晶中に少量の鉛(Pb)が混入する。従来、通信用光デバイスに使用されるファラデー回転子には、化学式Bi3−α−βM1αPbβFe5−γ−δM2γM3δ12においてPbの量βが0.03〜0.06程度である磁性ガーネット単結晶が用いられる。
特開2001−044026号公報 特開2001−044027号公報
ところが近年の環境保護運動の高まりと共に、全ての工業製品で環境負荷物質であるPbの含有量を削減する努力がなされている。従って、LPE法により育成する磁性ガーネット単結晶においても、少量ではあるが混入するPbが環境汚染の要因になり得るとして問題になってきた。そこでファラデー回転子を構成する材料である磁性ガーネット単結晶に含有するPbの量を削減する必要が生じている。
本発明の目的は、Pbの含有量を削減した単結晶の製造方法を提供することにある。
上記目的は、Naを含む材料をAu製のルツボ内に充填し、前記材料を融解して融液を生成し、前記融液を用いて単結晶を育成することを特徴とする単結晶の製造方法によって達成される。
上記本発明の単結晶の製造方法であって、前記単結晶は大気圧中で育成することを特徴とする。
上記本発明の単結晶の製造方法であって、前記材料はさらにBを含むことを特徴とする。
上記本発明の単結晶の製造方法であって、前記単結晶は希土類鉄ガーネット単結晶であることを特徴とする。
本発明によれば、Pbの含有量を削減した単結晶の製造方法を実現できる。
本発明の一実施の形態による単結晶の製造方法について図1乃至図3を用いて説明する。本実施の形態では、従来の溶媒に含まれるPbをナトリウム(Na)で代替し、Na、Bi及びホウ素(B)を含む溶媒からBi置換希土類鉄ガーネットなどの単結晶を育成する。これにより、従来単結晶に微量含まれていたPbをほぼ完全に除去できる。
ところで、ガーネット単結晶を育成する際には一般に白金(Pt)製のルツボが用いられる。Ptは、ガーネット単結晶の育成温度より融点が高く、溶媒として用いられるPbOの融液に対する耐食性も比較的高いという特徴を有している。
しかしながら、Pt製ルツボを用い、Naを含む溶媒からガーネット単結晶を繰り返し育成すると、ルツボの壁に微少な穴などが形成されてルツボ内の融液が外側に漏れてしまう場合がある。ルツボ内の融液が漏れるとガーネット単結晶の育成が中断してしまう上、単結晶育成炉のヒータ等が融液により破損してしまうという問題が発生し得る。
図1は、Naを含む溶媒からガーネット単結晶を繰り返し育成した際に用いられ、融液の漏れが生じたPt製ルツボの壁面を拡大して示している。図1に示すように、Pt製ルツボの壁面を目視で観察したところ、単結晶育成を繰り返したことによりPtの結晶粒が成長していた。ルツボの壁面をさらに顕微鏡で観察したところ、図1中央部のPtの結晶粒界においてルツボ内壁面側から外側に貫通する穴が空いていることが分かった。単結晶を育成する際に溶媒として用いられるBiやB等の各種酸化物は、ルツボの材質であるPtに拡散し、Ptの結晶粒の成長と共にその粒界に集まる。Ptの結晶粒界に集まった各種酸化物がNaを含む溶媒により溶解されることによって、ルツボ壁に穴が空いたものと考えられる。
そこで、Au製のルツボを用いたガーネット単結晶の育成を試みた。すなわち、Na、Bi及びBを含む材料をAu製ルツボ内に充填し、充填した材料を融解する。これにより、Na、Bi及びBを溶媒として含む融液が生成される。当該融液を用いて、例えばLPE法によりBi置換希土類鉄ガーネット単結晶を育成する。ここで、融液がBを溶媒として含むことにより、過飽和状態を保ちながらガーネット単結晶を安定に育成できる。Au製ルツボを用いた場合、Naを含む溶媒からガーネット単結晶を繰り返し育成してもルツボ内の融液が漏れることはなかった。Au製ルツボの壁面を目視と顕微鏡で観察した。図2は、Au製ルツボの壁面を拡大して示している。図2に示すように、Pt製ルツボと同様にAuの結晶粒が成長しているのを確認できたが穴などは確認できなかった。
PbO、Bi及びBを溶媒としてガーネット単結晶を育成した場合でも、Pb等がPtの結晶粒界に集まる現象は生じていた。しかし、それを原因としてPt製ルツボ内の融液が漏れてしまうことはなかった。これに対し、Naを含む溶媒を用いたときに上記のようにPt製ルツボ内の融液に漏れが生じたのは、Naを含む溶媒がPbを含む従来の溶媒に比べて材料を溶かす力が強いので、各種酸化物の集まったPtの結晶粒界を侵食したためと考えられる。
一方、Auは非常に酸化され難い金属であるため、各種酸化物がAuにほとんど拡散せず、結晶粒界に集まることもない。そのため、Naを含む溶媒から単結晶の育成を繰り返してAuの粒成長が進行した場合でも、結晶粒界が侵食されることはない。したがって、Au製ルツボ内の融液が漏れてしまうことはない。
以上の効果は、Au製ルツボを用い、Naを含む溶媒から単結晶を育成する全ての方法に有効である。従って、Naを含む溶媒からガーネット以外の単結晶をLPE法以外のフラックス法により育成する場合であっても、Au製ルツボを用いればルツボ内の融液が漏れてしまうのを防止できる。
以下、本実施の形態による単結晶の製造方法について、実施例及び比較例を用いてより具体的に説明する。
(実施例1)
図3は、単結晶を育成する工程の一部を示している。まず、内径75mm、高さ120mmの円筒形の形状を持つAu製のルツボ4を作製した。このルツボ4に、合計で2.3kgの重量になるGd、Yb、Fe、B、Bi、NaOHを充填した。これらの材料は、ルツボ4の底面から高さ約75mmの位置まで充填された。材料が充填されたルツボ4を電気炉に配置し、950℃まで炉温を上げてルツボ4内の材料を融解して攪拌し、均一な融液8を生成した。直径2インチのCaMgZr置換GGG基板10を固定治具2に取り付けて炉内に投入し、830℃まで炉温を下げてから基板10の片面を融液8に接触させてエピタキシャル成長を40時間行った。これにより、膜厚500μmで組成が(BiGdYb)Fe12の磁性ガーネット単結晶膜(希土類鉄ガーネット単結晶膜)12を基板10上に育成した。単結晶育成は大気圧中で行った。単結晶を室温まで冷却して取り出し、研磨工程等を経て磁性ガーネット単結晶膜12を作製した。その後、Gd、Yb、Feをルツボ4内に追加して、同様の手順で単結晶の育成を20回繰り返した。その間にルツボ4に穴が空いて融液が漏れてしまうことはなかった。
(比較例1)
内径75mm、高さ120mmの円筒形の形状を持つPt製のルツボ4を作製した。このルツボ4に、合計で2.3kgの重量になるGd、Yb、Fe、B、Bi、NaOHを充填した。これらの材料は、ルツボ4の底面から高さ約75mmの位置まで充填された。材料が充填されたルツボ4を電気炉に配置し、950℃まで炉温を上げてルツボ4内の材料を融解して攪拌し、均一な融液8を生成した。直径2インチのCaMgZr置換GGG基板10を固定治具2に取り付けて炉内に投入し、830℃まで炉温を下げてから基板10の片面を融液8に接触させてエピタキシャル成長を40時間行った。これにより、膜厚500μmで組成が(BiGdYb)Fe12の磁性ガーネット単結晶膜12を基板10上に育成した。単結晶育成は大気圧中で行った。単結晶を室温まで冷却して取り出し、研磨工程等を経て磁性ガーネット単結晶膜12を作製した。その後、Gd、Yb、Feをルツボ4内に追加して、同様の手順で単結晶の育成を繰り返した。10回目でルツボ4に穴が空き、ルツボ4内の融液が漏れてしまった。
以上のように本実施の形態によれば、Pbの含有量を削減した単結晶の製造方法を実現できる。また本実施の形態によれば、フラックス法を用いてNaを含む溶媒から単結晶を繰り返し育成する際、ルツボ内の融液が漏れるのを防止できる。
Pt製ルツボの壁面を拡大して示す図である。 Au製ルツボの壁面を拡大して示す図である。 単結晶を育成する工程の一部を示す図である。
符号の説明
2 固定治具
4 ルツボ
8 融液
10 基板
12 単結晶膜

Claims (3)

  1. NaOHを含む材料をAu製のルツボ内に充填し、
    前記材料を融解して融液を生成し、
    前記融液を用いて希土類鉄ガーネット単結晶を育成すること
    を特徴とする単結晶の製造方法。
  2. 請求項1記載の単結晶の製造方法であって、
    前記希土類鉄ガーネット単結晶は大気圧中で育成すること
    を特徴とする単結晶の製造方法。
  3. 請求項1又は2に記載の単結晶の製造方法であって、
    前記材料はさらにBを含むこと
    を特徴とする単結晶の製造方法。
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GB1520138A (en) * 1975-10-07 1978-08-02 Philips Electronic Associated Growing single crystal garnets
JPS61215296A (ja) * 1985-03-18 1986-09-25 Shinichi Hirano BaPb↓1−xBixO↓3単結晶の製造方法
JP4225472B2 (ja) * 2002-07-05 2009-02-18 Tdk株式会社 磁性ガーネット材料、ファラデー回転子、光デバイス、ビスマス置換型希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法および単結晶膜
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