JP4862495B2 - 金型及び金型の離型方法 - Google Patents

金型及び金型の離型方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4862495B2
JP4862495B2 JP2006149174A JP2006149174A JP4862495B2 JP 4862495 B2 JP4862495 B2 JP 4862495B2 JP 2006149174 A JP2006149174 A JP 2006149174A JP 2006149174 A JP2006149174 A JP 2006149174A JP 4862495 B2 JP4862495 B2 JP 4862495B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
shape
piezoelectric element
frequency
release
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006149174A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007320037A (ja
Inventor
英博 吉田
久雄 永井
智洋 奥村
寛 嘉戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2006149174A priority Critical patent/JP4862495B2/ja
Publication of JP2007320037A publication Critical patent/JP2007320037A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4862495B2 publication Critical patent/JP4862495B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)

Description

本発明は、インプリント金型を用いて樹脂などに金型形状を形成させるホットエンボッシング加工において、金型から樹脂を離型させる方法に関するものである。
近年、血液中のグルコースなどを含む様々な成分を分離や検出する目的や、或いは、DNA(Deoxyribonucleic acid,デオキシリボ核酸)の成分を分離することを目的としたDNAチップや免疫分析チップなどのバイオセンサーデバイスの作製には、高アスペクト比を有する3次元形状(ナノピラー)形成技術が必要不可欠となっている。
現在、高いアスペクト比のナノピラーを形成する技術としては、ポリマー樹脂や光硬化性樹脂を用いて、マイクロサイズ,ナノサイズの形状を転写するホットエンボッシング法(ナノインプリント技術)等の方法が知られている(例えば特許文献1)。そして、これらの金型の一部である高アスペクトのピラー形成を微細形状の金型の形成し、この金型を樹脂に転写することにより所定の形状を得ることができるとされている。
しかしながら、これらの高アスペクト比を有する形状は、アスペクト比が高くなればなるほど、金型から転写された樹脂を離型することが難しくなることから、例えば特許文献2に記載の発明のように、超音波ホーンを用いて大面積の剥離を瞬時に高精度に行う技術で対応しようとしている。
具体的には、特許文献2に記載の図1では、超音波ホーン15と受け治具18とで材料1を一定圧にて挟持した状態で超音波を与え、粉体3を剥離する開示がされている。この工法により、ホーン形状と同一の剥離型状を安定して形成でき、また超音波ホーン15における凹凸面形状15aと、受け治具18における凹凸面形状18aとにより、剥離された粉体3を排出することができているとされている。
ところが、高アスペクト比を有する形状を離型するために、単に超音波を発生させただけでは現実的には離型することが難しく、逆に、離型しにくいことを利用して高アスペクト比形状を形成しているものもある。
以下にその内容を詳細に示す。特許文献1に記載の図4において、スタンパ6のパターンは500nm,角深さ1μmの穴である。これを減圧下で250 ℃ に加熱した上で、図4(b)のように12MPaで10分間保持して加圧する。100 ℃ 以下になるまで放冷後、大気解放を行い、室温にてスタンパ裏面に剥離治具を接着固定し、0.1mm/sで鉛直方向に引き上げたところ、図4(c)のようにスタンプ穴に充填された樹脂が穴壁面と密着したまま引き上げられ、図4(d)のような柱状構造体が形成されている。
この柱状構造体の高さは、スタンパの深さの3倍以上あり、スタンパ穴の形状がそのまま転写されたものとは明らかに異なる。剥離材をスタンパ凹部にまで形成すると剥離時の樹脂の抜けが良くなって、スタンパの凹凸そのままが転写されることが多いことから、再現性よく所望の形状の柱状構造体を得るために、剥離剤を部分的に塗付し、高アスペクト比形状を実現している。
特開2004−288783号公報 特開平10−180182号公報
しかしながら、従来のバイオチップなどに用いられる金型は、高アスペクト比の形状を有しており、従来からの温度,圧力,位置のみのプロセスだけでは、金型通りの形状を正確に離型することが非常に難しいという課題を有している。また、単純な超音波だけでも離型することが極めて難しいという課題を有していた。これは、成型する転写物のアスペクト比が高くなればなるほど、金型との接触面積が増大するために離型力が増大し、複雑な形状を形成している根幹部に過大な力が作用するためである。根幹部に過大な力が作用するために形状がそのまま金型側に持っていかれたり、途中で形状が折れたりして、高精度に形状を転写できないという課題を有していた。
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、電磁歪素子を金型と一体に構成することにより、金型転写、金型離型プロセスに応じた信号を電磁歪素子に作用させることにより、任意形状の高アスペクト比形状を有する部品を形成すると共に、金型の離型を容易にすることが可能な金型及び金型の離型方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明の金型の離型方法は、金型或いは前記金型を含み一体となった金型部材に設けられた電磁歪素子に電圧を加えることで前記金型或いは前記金型を含み一体となった金型部材に振動を発生させ、離型状態或いは接触状態に応じて、電磁歪素子を駆動させる周波数,駆動波形,駆動電圧の少なくとも1つを可変にし、前記駆動波形を矩形波状の波形とすることで、前記金型から成型物を離型させることを特徴とするものである。
また、本発明の金型は、金型或いは前記金型を含み一体となった金型部材と、前記金型部材に設けられた電磁歪素子と、前記金型部材と、前記電磁歪素子との間に設けた断熱材と、により構成したことを特徴とするものである。
また、前記金型部材に複数個の前記電磁歪素子が設けられていると更に良い。
また、前記複数個の電磁歪素子の夫々に異なる駆動させる周波数,駆動波形,駆動電圧の少なくとも1つの駆動源が設けられていると更に好適である。
更に、前記金型部材は、カーボンを含む材料で構成されていると好適である。
以上のように、本発明の離型方法を用いれば、高アスペクト比を有する金型の離型も容易になり、金型形状を容易に転写することができる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における圧電素子を用いた金型形成プロセスの実施の形態について示す図である。
図1(1)において、1は圧電素子、2はインプリント用金型、3は転写部材であって、圧電素子1とインプリント用金型2は、圧電素子1をスパッタ等を用いてインプリント用金型2の表面に成膜させる。或いは、圧電素子1をインプリント用金型2の上に接着剤等を用いて接着させても良い。また、このときのインプリント用金型2の寸法は、直径10nm〜10μm、アスペクト比は0.1〜100の範囲の金型とする。
図1(1)において、インプリント用金型2と圧電素子1が一体となった部材を、例えばガラスの転写部材3に接近させる。一例としては、接触させる際はできるだけゆっくりと(1〜10cm/sec)で接触させる。接触させた後は、電磁歪素子を高周波(1kHz以上)にして転写部材3の流動性を向上させても良い。
また、転写部材に関してはガラス転移温度に達するまでヒータ(図示せず)等で加熱を行う。例えば、PET材料を転写部材に用いたガラス転移点は70℃程度なので80℃程度の加熱を行う。
次に、図1(2)に示すように、インプリント用金型2の形状の奥まで(図1(2)の場合、インプリント用金型2の底面まで)完全に転写部材3の樹脂が回り込むまでインプリント用金型2が転写部材3を成形して、一定時間(例えば3分程度,実際にはガラス転移点より10〜20℃程度高い状態でインプリント用金型2の温度を保持すると、10sec〜20sec程度でほぼ形状が決まる。)保持し、50℃まで冷却させた後(本実施の形態では、50℃まで冷却させる例を示すが、ガラス転移点以下まで冷却させればよい。なお、最終的には室温(20〜25℃程度)でインプリント用金型2を取り出すことから、本実施の形態の場合、25〜80℃の範囲に設定する必要がある。現状では、25〜80℃の間の50℃に温度を設定している。)、図1(3)に示したように圧電素子1を上下に振動させ、図1(4)に示すように、インプリント金型2と転写部材3を離型する。
なお、本実施の形態の場合、インプリント金型2は、シリコン(Si)、石英(SiO2)、カーボンの何れか1つ以上の材料で形成すれば良いが、シリコン(Si)、石英(SiO2)、カーボンの全てを含む材料であると更に好適である。
また、図1(3)に示す工程にて、圧電素子1を振動させる際、周波数を初めは低周波数(例えば1〜20Hz)で高い振幅(10μm〜10cm)で予め衝撃力を加え、離型し始めた段階で高周波数(例えば、1kHz以上)の共振周波数付近で振動させると良い。すなわち、低衝撃力(低周波)と高衝撃(高周波)を組合わせることで離型させると良い。
形成されたインプリント用金型2の裏面、或いは、インプリント用金型2とプレス機が一体となった構造物において、圧電素子等の電磁歪材料を振動(振動の振幅については、形状が壊れない程度の最大の振幅量とする。)させることにより、金型の離型を行うことができる。例えば、直径が数nmから数十μmでアスペクト比が1以上の場合、加える振動周波数は、数十〜数千kHzの振動数となる。
ここで、「形状が壊れない程度の最大の振幅量」という内容について、以下に具体事例で説明する。例えば、シリコン材料を用いて直径50μmでアスペクト比2〜5で5mm×2mmの間に800本程度ある場合、最初は数10μm〜数100μmで低周波(1〜20Hz)、離型し始めた段階で、数μm〜数10μmで高周波(数100Hz〜数10kHz)の振動を加えて離型する。なお、低周波で一定の振幅とする場合、エアーシリンダー等を用いて大振幅を発生させ、その後、圧電素子により微小振動させてもよい。
より具体的には、図2に示したような、高アスペクト比を有する材料を転写したい場合は、その高アスペクト比固有の振動数を圧電素子に加えることにより、容易に金型から離型することができる(図2は、バイオセンサ等で用いる流体抵抗或いはフィルター機能を有するバイオチップの一部の構造であり、4は高アスペクト比を有する立体形状の構造物(「ピラー」と称す)である)。
成形直後の状態において、微少構造物は、金型に接触しているために、微少構造物の両端は、固定されていると言える。そのために、微少構造物の横方向の振動は、そのために微少構造物の振動数は、(数式1)、(数式2)により計算することができる。
Figure 0004862495
Figure 0004862495
ここで、ωは角速度、fは円柱構造物の基本固有振動数(Hz、λiはモードに応じた定数(λ1=4.730,λ2=7.853,・・・λi=(i+1/2)π)、Lは高アスペクト比ピラーの長さ(m)、Eは高アスペクト比形状の縦弾性係数(Pa)、I(= d4π/64)は高アスペクト比形状の断面二次モーメント(m4)、ρは単位面積当たりの質量(kg/m2)、Aは断面積(m2)、πは円周率を表す。
この場合、PET材料を用いて、ピラー形状のものを離型する場合、ピラー形状として、直径d=50μm、長さL=200μm、縦弾性係数E=2000MPa、定数λ1=4.730、密度ρ=1270kg/m3の固有振動数fは、1396kHzと計算できる。
ここで、本実施の形態における「微少」とは、構造物の場合、数100μm以下を示し、アスペクト比に関しては、0.1〜100程度の範囲を示す。例えば、バイオチップでは、直径50μm,高さ200μm(アスペクト比4)の構造物となっている。
離型を促進させるために、初期の状態においては、上記のような振動数を与えるように圧電素子により、横方向の振動数を発生させる。金型から先端が外れた状態では、微少構造物は、図3に示すように、一端が固定、他端が自由端の片持ちばりになっているために、そのときに固有振動数は、(数式3)、(数式4)により計算することができる。
Figure 0004862495
Figure 0004862495
図3は、図2のピラー4を2次元的に見た断面図であり、dはピラーの直径、Lはピラーの高さである。また、図3のピラー4は、横方向に共振して離型させるために振動方向13が扇形形状にしている。
ここで、ωは角速度、fは円柱構造物の基本固有振動数(Hz)、λiはモードに応じた定数(λ1=1.875、λ2=4.794、λ3=7.855、・・・λi=(i−1/2)π)、Lは高アスペクト比ピラーの長さ(m)、Eは高アスペクト比形状の縦弾性係数(Pa)、I(= d4π/64)は高アスペクト比形状の断面二次モーメント(m4)、ρは単位面積当たりの質量(kg/m2)、Aは断面積(m2)、πは円周率を表す。
例えば、PET材料を用いて、ピラー形状のものを離型する場合、ピラー形状として、直径d=50μm、長さL=200μm、縦弾性係数E=2000MPa、定数λ1=1.875、密度ρ=1270kg/m3の固有振動数fは、219kHzと計算できる。
(数式4)により、計算された固有振動数が発生するように圧電素子に適切な駆動波形を入力させて、高アスペクト比の構造物が共振運動を起こすようにする。このように転写されたものが共振運動を行うことにより、転写物を金型から容易に離型することができる。また、(数式4)で計算された固有振動数の高調波(具体的には、2倍、3倍、…n倍)を入力してもよい。
次に、図3に示したようにピラー先端が1次モードで触れるようにした場合、離型性は改善されるので、離型途中、常に先端形状がふれるように固有振動数を変化させながら離型してもよい。ピラー形状の高さが200μmから100μmまで離型した場合、固有振動数は878kHzとなり、219kHzが順次上げていってもよい。
つまり、離型途中において、その離型状態に応じて、圧電素子の振動数を変化させてもよい。
本実施例では、横方向の振動において、1次モードの両端が固定端、片側のみが固定端の場合の振動数を分けて圧電素子に入力信号を加えたが、どちらか一方の振動数でもその組み合わせ、または、振動数を段階的に変化させたものでも良い。また、2次、3次、n次モードの振動数を加えて離型させてもよい。
高アスペクト形状のピラー等を離型するためには、ピラー等の形状が両端で固定梁になっているために、離型して入る部材の様々な腹の部分が共振するような信号を加えるのも効果的である。圧電素子を駆動させる方法は、上下方向、左右方向、ある一定の角度を持った方向等のいずれでもよい。
なお、本実施の形態において、「高アスペクト形状のピラー」という表現があるが、本願発明における高アスペクトとは、0.1以上を示している。
また、本実施の形態では、金型の上面に圧電素子等の電磁歪素子を形成したが、スペースの関係上、金型に形成できない場合は、図6に示したように、プレス材料の一部に電磁歪素子を装着し、金型の形状に応じた駆動波形を加えることにより、離型を促進させる。図6において、1は圧電素子、2はインプリント用金型、3は転写部材、5は金型固定材料、6はインプリント用金型2の上板、7はインプリント用金型2の下板、11はインプリント用金型2の熱コントロールを行うヒータである。
図6では、インプリント用金型2を上板6並びに圧電素子1、転写部材3を下板7に固定させる。また、上板6及び下板7には、金型の温度をコントロールするヒータ11、温調器(図示せず)が取り付けられている。図6(1)で示した圧電素子1を振動させることにより、図6(2)のようにインプリント用金型2と転写部材3を離型することができる。なお、圧電素子1を振動させる際、上板6を含むインプリント用金型2全体を振動させていることから、圧電素子1は従来以上の力を加えなければならないことは言うまでもない。
また、加える波形は、矩形波形が望ましい。矩形波形を与えることにより、最大の加速度を発生させることができるからである。また、成型されたものにダメージが入らないように適切な形状の波形を入力してもよい。
なお、図1及び図6の形式は共に、金型側に圧電素子等の電磁歪素子を装着した内容であるが、転写側に電磁歪素子を装着してもよい。また、金型側、転写側の両方に電磁歪素子を装着してもよい。このとき、図1において、L2に応じた固有振動数を金型側から発生させ、L1に応じた固有振動数を転写側から発生させても良いし、その逆或いは、融合でもよい。
本実施形態では、形状に固有の振動数、或いは、その高調波を電磁歪素子に作用させることにより、インプリント用金型の離型を行ったが、金型部材、インプリント用金型および金型保持部材、或いは、金型および金型保持部材および転写物を含む材料、或いは、インプリント用金型および金型保持部材および電磁歪素子および転写物を含む材料固有振動数或いは、その高調波を電磁歪素子に入力させることにより、離型を促進させてもよい。
また、図1に示した圧電素子1は、熱に弱いために断熱材10を介して、図7のように図6で示した上板6の金型と圧電素子1との間に装着してもよい。ガラス転移点が高いガラス等の成形、離型を行うためには、圧電素子1にダメージを与えないようにするために断熱材が有効である。
また、金型を樹脂に近づける際に、樹脂の回りこみを改善するために微少振動を加えながら近づけてもよい。このように微少振動を加えて、金型に近づけることにより、樹脂の回りこみを改善し、金型の形状通りに転写することが可能になる。
このとき、金型に対して、樹脂の流動性を改善するために正弦波状の波形を入力してもよい。また、流れにくいものに対しては矩形波状の波形を入力してもよい。
また、図8(1)では、圧電素子1を左右に振動させて、離型するときのプロセスを示す。断熱材10を介して、圧電素子1を振動させることにより、インプリント金型2を振動させることにより、形状に特有の固有振動数を発生させ、図8(2)に示すように転写部材3を容易に離型することができる。
本実施例のインプリント用金型は、シリコン、カーボン材料等の材料が有効である。特に離型性を改善するためには、カーボン材料が有効である。また、シリコンの離型性を向上させるためにシリコン表面にシランカップリング剤等を塗付してもよい。

また、本実施例では、金型、成型物、及び金型、成型物を含む部材に電磁歪素子の振動を直接伝達させることにより、成型、離型を促進させたが、間接的に金型、成型物、及び金型、成型物を含む部材に音波等の振動を伝達させることにより、成型、離型を促進させてもよい。
このように電磁歪素子と微細形状を金型及びそれを構成する部材と組み合わせることにより、高アスペクト(具体的には、0.1以上)の形状を離型することができる。
本実施例では、熱インプリントの離型方法について述べたが、光硬化性樹脂を金型に流し込み、形状を形成する際の離型方法にも用いてもよい。
今回の実施例では、主にピラー形状として、円柱を用いたが、離型性を改善するために円錐形状のものも用いてもよいし、角柱、角錐形状のものも用いてもよい。
(実施の形態2)
(数式1)では、図3に示した横方法の固有振動数を計算したが、図4に示したように縦方向の振動数を計算し、その振動数を加えることにより、離型性を改善してもよい。成形した直後の状態では、ピラー等の微少構造物は、両端が固定された状態になっているので、(数式4−1)で表される縦方向の振動数を圧電素子を用いて、振動させてもよい。
Figure 0004862495
ここで、fは円柱構造物の縦方向の基本固有振動数(Hz)、λiはモードに応じた定数(λ1=π、λ2=2π、・・・λi=nπ)、Lは高アスペクト比ピラーの長さ(m)、Eは高アスペクト比形状の縦弾性係数(Pa)、I(= d4π/64)は高アスペクト比形状の断面二次モーメント(m4)、ρは単位面積当たりの質量(kg/m2)、πは円周率を表す。
PET材料を用いて、ピラー形状のものを離型する場合、ピラー形状として、直径d=50μm、長さL=200μm、縦弾性係数E=2000MPa、定数λ1=4.730、密度ρ=1270kg/m3として両端固定梁の固有振動数fは、3137kHzと計算できる。
また、微少構造物が外れてきた場合には、片側のみが固定端になるので、そのときの基本固有振動数fは、(数式5)のように計算される。
Figure 0004862495
ここで、λiはモードに応じた定数(λ1=1/2π、λ2=3/2π、・・・λi=(2n−1)/2π)と計算される。
PET材料を用いて、ピラー形状のものを離型する場合、ピラー形状として、直径d=50μm、長さL=200μm、縦弾性係数E=2000MPa、定数λ1=4.730、密度ρ=1270kg/m3として片側固定梁の固有振動数fは、1569kHzと計算できる。
本実施形態では、縦方向の振動において、1次モードの両端が固定端、片側のみが固定端の場合の振動数を分けて圧電素子に入力信号を加えたが、どちらか一方の振動数でもその組み合わせ、または、振動数を段階的に変化させたものでも良い。また、2次、3次、n次モードの振動数を加えて成形、離型させてもよい。
(実施の形態3)
図5の振動方向13で示したように、ねじり振動を用いて離型してもよい。一般的に、両端が固定端のねじり振動の周波数fは、(数式6)により、計算することができる。
Figure 0004862495
ここで、Gは横弾性係数(N/m2)、円柱の場合、J(=π(d/2)4/2)、Ip(=π(d/2)4/2)となる。また、λiはモードに応じた定数(λ1=π、λ2=2π、・・・λi=nπ)、Lは高アスペクト比ピラーの長さ(m)、ρは単位面積当たりの質量(kg/m2)、πは円周率を表す。
PET材料を用いて、ピラー形状のものを離型する場合、ピラー形状として、直径d=50μm、長さL=200μm、横弾性係数G=1800MPa、定数λ1=4.730、密度ρ=1270kg/m3として両端固定梁の固有振動数fは、2976kHzと計算できる。
また、ねじり振動において、微少構造物が外れてきた場合、つまり一方が固定端、他方が固定端になった場合の基本振動数は、(数式7)により、計算することができる。
Figure 0004862495
ここで、λiはモードに応じた定数(λ1=1/2π、λ2=3/2π、・・・λi=(2n−1)/2π)と計算される。
PET材料を用いて、ピラー形状のものを離型する場合、ピラー形状として、直径d=50μm、長さL=200μm、横弾性係数G=1800MPa、定数λ1=4.730、密度ρ=1270kg/m3として片側固定梁の固有振動数fは、1488kHzと計算できる。
本実施形態では、ねじり方向の振動において、1次モードの両端が固定端、片側のみが固定端の場合の振動数を分けて圧電素子に入力信号を加えたが、どちらか一方の振動数でもその組み合わせ、または、振動数を段階的に変化させたものでも良い。また、2次、3次、n次モードの振動数を加えて成形、離型させてもよい。
(実施の形態4)
図9は、本発明の実施の形態2における圧電素子を用いた金型の実施の形態について示す図である。図9(1)において、2はインライン用金型、3は転写部材、8及び9は圧電素子である。
複数の形状を有するインライン用金型2の離型を行う場合、形状に応じた複数の圧電素子8,9をインライン用金型2に配置して、インライン用金型2の離型を行う。転写される形状の大きさに合わせて、高アスペクト比形状に合わせた固有振動数或いは、固有振動数の高調波を加えることにより、インライン用金型2の離型を行う。
例えば、図9に示した形状では、圧電素子1では、その下面に配置された高アスペクト比形状の固有振動数f1、また第2の圧電素子9では、その下面に配置された固有振動数f2を与えることにより、金型の離型を促進させることができる。
また、図9(3)に示したように離型された形状d1に応じた固有振動数を圧電素子等の電磁歪素子に印加しても良いし、金型内に残されている形状d2に応じた固有振動数を圧電素子に印加させてもよい。
また、転写側に電磁歪素子を装着してもよい。また、金型側、転写側の両方に電磁歪素子を装着してもよい。このとき、図9において、d2に応じた固有振動数を金型側から発生させ、d1に応じた固有振動数を転写側から発生させても良いし、その逆或いは、融合でもよい。
また、複数の圧電素子を配置して、金型を形成する場合、図10に示したように金型と一体となった上型の端面に圧電素子1,16を配置して、異なる振動数を加えてもよい。また、圧電素子同士の干渉を防ぐために複数の圧電素子部材の間に振動吸収材料を設けてもよい。
また、図11では、金型と圧電素子がダイレクトに接触しているが、圧電素子の周りに断熱材料(熱が伝わりにくい材料)を配置し、圧電素子にダメージが入りにくい構造にしてもよい。
この実施例に関しても、形状に固有の振動数或いは、その高調波を電磁歪素子に作用させることにより、金型の離型を行ったが、金型部材、金型および金型保持部材、或いは、金型および金型保持部材および転写物を含む材料、或いは、金型および金型保持部材および電磁歪素子および転写物を含む材料固有振動数或いは、その高調波を電磁歪素子に入力させることにより、成形、離型を促進させてもよい。
(実施の形態5)
図12は、圧電薄膜素子を金型の内側に形成したときの金型の図である。図11において、2は金型、3は転写部材、12は圧電素子である。金型2を転写部材3の樹脂材料等に接近させる場合は、圧電素子12に駆動電圧をかけないか、或いは、あらかじめ膨張させておく。ホットエンボシング法等により、形状形成後、圧電薄膜素子に駆動波形を入力させることにより、圧電薄膜素子12を収縮させ、離型しやすくしたものである。
金型2の転写側に圧電素子1を形成した場合は、図12に示したように圧電素子1を静的に収縮させても良いし、圧電薄膜素子自体を動的に振動させ、形状に応じた固有振動数或いは、その高調波を発生させることにより、離型しやすくさせてもよい。
図11では、金型の転写側の前面に圧電薄膜素子を配置させたが、一部の形状部分のみに圧電薄膜素子を配置させてもよい。
また、この実施形態に関しても、形状に固有の振動数或いは、その高調波を電磁歪素子に作用させることにより、金型の離型を行ったが、金型部材、金型および金型保持部材、或いは、金型および金型保持部材および転写物を含む材料、或いは、金型および金型保持部材および電磁歪素子および転写物を含む材料固有振動数或いは、その高調波を電磁歪素子に入力させることにより、成形、離型を促進させてもよい。
(実施の形態6)
図2に示したような、薄板(a[m]×b[m])高さ、h[m]上に、微少構造物のピラーを形成して、金型から離型する際に、薄板の基本固有振動数を圧電素子により加えてもよい。このとき、薄板の固有振動数は、(数式8)により、計算することができる。
Figure 0004862495
ここで、a[m]は辺の長さ、h[m]は板厚、Dは板の曲げ剛性で、D=Eh3/12(1−ν2)と表される。νはポアッソン比、また、4辺が単純支持の場合、n,mを整数として
Figure 0004862495
と表すことができる。板自身の基本固有振動数を圧電素子が加えることにより、微少構造物を有する薄板を離型してもよい。
PET材料を用いて、m=n=1(正方形基本振動)の場合、a=b=0.01[m]、h=0.001[m]とすると、f=11.93[kHz]となる。薄板の支持方法は、場合に応じて、適切な支持条件として計算することは言うまでもない。
従って、板の基本振動数或いは、高次モードの振動数を発生させながら、薄板に形成した微細構造物を成形、離型させてもよい。
(実施の形態7)
図13(1)において、1は圧電素子、2は金型、3は転写部材、14は固定プレートを示す。微細形状を転写した後、金型の離型を行う場合、金型と成形物が一体となった状態から図12のように圧電素子をある一定間隔あけ、圧電素子に矩形波を加えて、金型或いは、成形物が一体となった状態に衝撃パルスを加えて離型させてもよい。一旦、圧電素子から衝撃波を与えた後は、圧電素子を金型側、或いは成形物側に圧電素子を接触させ、微小振動を加えて離型させる。そのときの金型、成形物と一体となった部材に衝撃パルスと時間の関係は、図14のようになる。
この実施形態では、圧電素子により、衝撃力を加えたが、図14に示したように、つまり、初期段階において大振動エアーにより衝撃力を加え、暫く時間が経過してから微少振動を加えるというものである。シリンダー、電磁モータの力を上下変更したカム等によって、金型或いは、成形物と一体となった部材に衝撃パルスを加えてもよい。
図15において、1は圧電素子、2は金型部材、3は転写部材、14は金型を保持する固定プレートである。図15のようにシリンダーの先端に圧電素子を配置させ、大振動と微振動を加えても良いし、大振動と微少振動を夫々、別々のところから金型に振動を加えても良い。
血液成分、DNA分離や免疫分析チップ等のバイオセンサーデバイス,マイクロレンズ・変更素子等の光デバイスやフォトニクス結晶などに使用されるナノ・マイクロピラー等の高アスペクト比を有する3次元形状形成の用途にも適用できる。
本発明の実施の形態1におけるインプリントの金型を示す図 本発明の実施の形態6における高アスペクト比形状のピラーを示す図 本発明の実施の形態1における高アスペクト比形状のピラー断面図と横振動を示す図 本発明の実施の形態2における高アスペクト比形状のピラー断面図と縦振動を示す図 本発明の実施の形態3における高アスペクト比形状のピラー断面図とねじり振動を示す図 本発明の実施の形態1におけるインプリントの金型とその上下固定板を示す図 本発明の実施の形態1における断熱板を含むインプリントの金型(その1)を示す図 本発明の実施の形態1における断熱板を含むインプリントの金型(その2)を示す図 本発明の実施の形態4におけるインプリントの金型を示す図 本発明の実施の形態4における断熱板を含むインプリントの金型(その1)を示す図 本発明の実施の形態4におけるインプリントの金型を示す図 本発明の実施の形態5における圧電素子による離型方法を示す図 本発明の実施の形態7における金型或いは成形物に加える力と時間の関係を示す図 本発明の実施の形態7におけるシリンダーと圧電素子による離型方法を示す図 本発明の実施の形態7におけるシリンダーと圧電素子による離型方法を示す図
符号の説明
1,8,9,16 圧電素子
2 インプリント用金型
3 転写部材
4 高アスペクト比ピラー
5 金型固定材料
6 上板
7 下板
10 断熱材料
11 ヒータ
12 圧電薄膜素子
13 振動方向
14 固定プレート
15 エアーシリンダー

Claims (5)

  1. 金型或いは前記金型を含み一体となった金型部材に設けられた電磁歪素子に電圧を加えることで前記金型或いは前記金型を含み一体となった金型部材に振動を発生させ、離型状態或いは接触状態に応じて、電磁歪素子を駆動させる周波数,駆動波形,駆動電圧の少なくとも1つを可変にし、前記駆動波形を矩形波状の波形とすることで、前記金型から成型物を離型させることを特徴とする金型の離型方法。
  2. 金型或いは前記金型を含み一体となった金型部材と、前記金型部材に設けられた電磁歪素子と、前記金型部材と、前記電磁歪素子との間に設けた断熱材と、により構成したことを特徴とする金型。
  3. 記金型部材に複数個の前記電磁歪素子が設けられたことを特徴とする請求項に記載の金型。
  4. 前記複数個の電磁歪素子の夫々に異なる駆動させる周波数,駆動波形,駆動電圧の少なくとも1つの駆動源が設けられたことを特徴とする請求項記載の金型。
  5. 前記金型部材は、カーボンを含む材料で構成されたことを特徴とする請求項の何れか一項に記載の金型。
JP2006149174A 2006-05-30 2006-05-30 金型及び金型の離型方法 Expired - Fee Related JP4862495B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006149174A JP4862495B2 (ja) 2006-05-30 2006-05-30 金型及び金型の離型方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006149174A JP4862495B2 (ja) 2006-05-30 2006-05-30 金型及び金型の離型方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007320037A JP2007320037A (ja) 2007-12-13
JP4862495B2 true JP4862495B2 (ja) 2012-01-25

Family

ID=38853247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006149174A Expired - Fee Related JP4862495B2 (ja) 2006-05-30 2006-05-30 金型及び金型の離型方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4862495B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101770470B1 (ko) 2015-08-26 2017-08-22 이상영 형틀로부터의 열가소성 폴리우레탄의 탈형 방법

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010102820A (ja) * 2008-09-29 2010-05-06 Fujifilm Corp モールド構造体、並びにそれを用いたインプリント方法及び磁気転写方法
JP2010182758A (ja) * 2009-02-03 2010-08-19 Toyo Gosei Kogyo Kk 樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2011103362A (ja) * 2009-11-10 2011-05-26 Toshiba Corp パターン形成方法
JP5154674B2 (ja) * 2011-06-08 2013-02-27 シャープ株式会社 樹脂成形装置および樹脂成形方法
KR102505223B1 (ko) * 2021-04-23 2023-03-02 한국광기술원 렌즈 이형성이 향상된 웨이퍼 렌즈 제조 장치 및 그 방법

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62117154A (ja) * 1985-11-15 1987-05-28 Ricoh Co Ltd レプリカの転写・剥離装置
JPH04361010A (ja) * 1991-06-06 1992-12-14 Olympus Optical Co Ltd 複合レンズの成形方法とその装置
JP2003276032A (ja) * 2002-03-25 2003-09-30 Sainekkusu:Kk 樹脂成形装置
JP2006205207A (ja) * 2005-01-27 2006-08-10 Engineering System Kk 磁歪素子を用いた型可動装置、加工対象物可動装置および加工装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101770470B1 (ko) 2015-08-26 2017-08-22 이상영 형틀로부터의 열가소성 폴리우레탄의 탈형 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007320037A (ja) 2007-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4862495B2 (ja) 金型及び金型の離型方法
US9100752B2 (en) Acoustic transducers with bend limiting member
Mahalik Micromanufacturing and nanotechnology
JP5154674B2 (ja) 樹脂成形装置および樹脂成形方法
Yi et al. Simple and reliable fabrication of bioinspired mushroom-shaped micropillars with precisely controlled tip geometries
US20230076265A1 (en) Piezoelectric device with pillar structure and method of manufacturing
CA2579603A1 (en) A flexible nano-imprint stamp
Hamdana et al. Nanoindentation of crystalline silicon pillars fabricated by soft UV nanoimprint lithography and cryogenic deep reactive ion etching
Accoto et al. Two-photon polymerization lithography and laser doppler vibrometry of a SU-8-based suspended microchannel resonator
Urwyler et al. Surface patterned polymer micro-cantilever arrays for sensing
Zhang et al. Micro/nanostructure engineering of epitaxial piezoelectric α-quartz thin films on silicon
Liu et al. Hot embossing of polymer nanochannels using PMMA moulds
Peng et al. Piezoelectric micromachined ultrasonic transducer based on dome-shaped piezoelectric single layer
JP2008265001A (ja) 成形体の製造方法
KR101151220B1 (ko) 초음파를 이용한 선택적 미세 패턴 성형 장치 및 방법
JP4458958B2 (ja) 微細パターン形成方法および微細パターン形成装置
Lin et al. Ultrasonics for nanoimprint lithography
Qian et al. Reconfigurable acoustofluidic manipulation of particles in ring-like rich patterns enabled on a bulk micromachined silicon chip
KR102416346B1 (ko) 신축성 폴리이미드 기판 및 그 제조방법
JP2004074445A (ja) 樹脂成形品の離型方法
Liu et al. Fluid–structure coupling analysis and simulation of a micromachined piezo microjet
KR20110090786A (ko) 초음파 직접 성형에 의한 플라스틱 미세패턴 성형 장치
Backer et al. Actuation of Liquid Flow by Guided Acoustic Waves on Punched Steel Tapes with Protruding Loops
XIAOFENG Study on Fabrication and Applications of Ultrasound Transducers Using Carbon Nano Materials with Optoacoustic Effect
JP2005008442A5 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090304

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20090414

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110804

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110830

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110922

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111011

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111024

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4862495

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees