JP4855507B2 - Method for manufacturing printed wiring board having reflector function - Google Patents

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Description

本発明は、光反射板としての機能を有するプリント配線板の製造方法であり、特に、プリント配線板の永久マスクとしての使用に適したソルダーレジストであって高反射率の白色ソルダーレジスト膜を、2回塗工することにより形成されるプリント配線板が、発光ダイオード素子(LED)を光源としたバックライトの光反射板としての機能を有するプリント配線板の製造方法に関するものである。   The present invention is a method for producing a printed wiring board having a function as a light reflecting plate, in particular, a solder resist suitable for use as a permanent mask of a printed wiring board and a white solder resist film having a high reflectance, The printed wiring board formed by applying twice is related with the manufacturing method of the printed wiring board which has a function as a light reflection board of the backlight which used the light emitting diode element (LED) as the light source.

近年、ノートパソコンやデスクトップパソコンのモニター、テレビ、携帯電話などのディスプレイ装置として、薄型化が可能な液晶等の表示装置が数多く用いられている。例えば液晶表示装置は、それ自体は発光体でないために、バックライトと呼ばれる面状光源を設置する。面状光源には、高い利用効率が求められており、これに使用される光反射材についても、より一層の高性能化が要望されている。   2. Description of the Related Art In recent years, many display devices such as liquid crystals that can be made thin have been used as display devices for notebook personal computers and desktop personal computers, televisions, mobile phones, and the like. For example, since a liquid crystal display device itself is not a light emitter, a planar light source called a backlight is installed. The planar light source is required to have high utilization efficiency, and the light reflecting material used therefor is required to have higher performance.

このように、液晶表示装置の画面全体を均一に照射するために反射板の果たす役割は大きい。この役割を満足させる反射板には、高度な反射特性が要求され、従来、内部に微細な気泡を含有させたフィルムや白色顔料を添加したフィルム等が、単独で、またはこれらのフィルムと金属板、プラスチック板などを張り合わせて使用されてきた。   Thus, the reflector plays a large role in uniformly irradiating the entire screen of the liquid crystal display device. Reflective plates that satisfy this role are required to have a high degree of reflection characteristics. Conventionally, a film containing fine bubbles inside, a film added with a white pigment, etc., alone or with these films and a metal plate It has been used by attaching plastic plates.

上記フィルムとして、例えば、熱可塑性ポリエステル樹脂シートとセパレータとを重ねて巻くことにより形成したロールを加圧不活性ガス雰囲気中に保持して熱可塑性ポリエステル樹脂シートに不活性ガスを含有させた後、前記不活性ガスを含有させた熱可塑性ポリエステル樹脂シートを常圧下で加熱して発泡させた熱可塑性ポリエステル樹脂発泡シートが知られており(特許文献1)、MCPET(登録商標):エムシーペット(古河電気工業株式会社製)の名称で上市されている。しかし、こうした白色フィルムでは、反射板としての成形加工が必要となり、複雑な形状を付与する際の成形加工には不向きである。   As the film, for example, after holding a roll formed by overlapping a thermoplastic polyester resin sheet and a separator in a pressurized inert gas atmosphere and containing the inert gas in the thermoplastic polyester resin sheet, A thermoplastic polyester resin foam sheet obtained by heating and foaming a thermoplastic polyester resin sheet containing the inert gas under normal pressure is known (Patent Document 1), MCPET (registered trademark): MC Pet (Furukawa) It is marketed under the name of “Electric Industry Co., Ltd.”. However, such a white film requires a molding process as a reflector and is not suitable for a molding process when a complicated shape is imparted.

一方で、近年、携帯端末、パソコン、テレビ等の液晶ディスプレイのバックライトなどに、低電力で発光する発光ダイオード(LED)が使用されるようになってきていることから、ソルダーレジスト膜が被覆形成されたプリント配線板に発光ダイオードを直接実装することも増えてきている。   On the other hand, in recent years, light-emitting diodes (LEDs) that emit light at low power have come to be used in backlights for liquid crystal displays such as mobile terminals, personal computers, and televisions. Increasingly, light emitting diodes are directly mounted on printed wiring boards.

そこで、発光ダイオードの光を効率よく利用するために、例えば、特許文献2、特許文献3に記載の白色のソルダーレジスト膜を備えたプリント配線板が開発されている。   Therefore, in order to efficiently use the light of the light emitting diode, for example, a printed wiring board having a white solder resist film described in Patent Document 2 and Patent Document 3 has been developed.

しかし、上記白色のソルダーレジストを塗工するだけでは、膜厚を薄くした場合には、反射板としての十分な反射率を奏することができず、一方で、高反射率を得るために膜厚を厚くした場合には、微細化が求められる高解像性の要求に応えられなくなるので、高反射率・高密度実装した発光ダイオード用プリント配線板を実現するのは困難であった。   However, by simply applying the white solder resist, when the film thickness is reduced, sufficient reflectivity as a reflector cannot be achieved, while the film thickness is required to obtain a high reflectivity. When the thickness is increased, it becomes impossible to meet the demand for high resolution that requires miniaturization, and it is difficult to realize a printed wiring board for a light emitting diode mounted with high reflectivity and high density.

また、上記白色ソルダーレジストを感光性樹脂組成物のみで厚膜形成すれば、高解像性の要求には対応できるが、感光性樹脂組成物の必須成分である光重合開始剤は、そのもの自体が薄黄色から褐色を帯びているとともに経時的に酸化分解が進んでしまうので、感光性樹脂組成物膜の表面が黄色に変化して反射率が低下してしまうという問題がある。   Moreover, if the white solder resist is formed with a thick film only from the photosensitive resin composition, it can meet the demand for high resolution, but the photopolymerization initiator that is an essential component of the photosensitive resin composition itself Has a problem that the surface of the photosensitive resin composition film is changed to yellow and the reflectance is lowered.

特開平8−72084JP-A-8-72084 特開2007−322546JP2007-322546A 特開2008−211036JP2008-211036

上記事情に鑑み、本発明の目的は、発光ダイオード素子(LED)の光を効率よく利用することができる、高反射率のソルダーレジスト膜を有するプリント配線板の製造方法であって、耐熱性、解像性に優れ、経時による反射率の劣化による着色を抑えることができる高反射率機能を有するソルダーレジスト膜を形成したプリント配線板の製造方法を提供することにある。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is a method for manufacturing a printed wiring board having a high-reflectance solder resist film, which can efficiently use light from a light-emitting diode element (LED), and has heat resistance, An object of the present invention is to provide a method for producing a printed wiring board on which a solder resist film having a high reflectance function, which has excellent resolution and can suppress coloring due to deterioration of reflectance over time, is formed.

本発明の第1の態様は、電子回路配線が形成された基板表面白色ソルダーレジストAを塗布し、硬化させる工程と、前記白色ソルダーレジストA上に、さらに白色ソルダーレジストBを塗布し、硬化させる工程と、を含むバックライトの反射板機能を有するプリント配線板の製造方法であって、前記白色ソルダーレジストAは、感光性樹脂組成物であり、写真現像法により画像形成し、前記白色ソルダーレジストBは、熱硬化性樹脂組成物であり、現像した前記感光性樹脂組成物のパターンに対応した印刷用マスクを、現像した前記感光性樹脂組成物上に被せた後、前記熱硬化性樹脂組成物をスクリーン印刷法により被膜形成することを特徴とするプリント配線板の製造方法である。すなわち、白色ソルダーレジストAを塗布後、乾燥させてから、前記白色ソルダーレジストA上に、さらに白色ソルダーレジストBを塗布することで、2層の白色ソルダーレジスト膜を形成する。白色ソルダーレジスト膜は2層構造なので、各白色ソルダーレジスト膜の膜厚は、従来の単層白色ソルダーレジスト膜の膜厚と比較して、薄くすることができる。また、本発明の態様は、前記白色ソルダーレジストAのDRY膜厚が、前記電子回路配線の厚さよりも厚いことを特徴とするプリント配線板の製造方法である。 In the first aspect of the present invention , a white solder resist A is applied to the substrate surface on which the electronic circuit wiring is formed and cured, and a white solder resist B is further applied on the white solder resist A. and curing, the method for manufacturing a printed wiring board having a reflector function of containing Muba backlight, the white solder resist a is a photosensitive resin composition, and the image formed by the photographic development process, the The white solder resist B is a thermosetting resin composition, and after the printing mask corresponding to the developed pattern of the photosensitive resin composition is placed on the developed photosensitive resin composition, the thermosetting is performed. It is a manufacturing method of a printed wiring board characterized by forming a coat of a property resin composition by a screen printing method . That is, after the white solder resist A is applied and dried, the white solder resist B is further applied onto the white solder resist A to form a two-layer white solder resist film. Since the white solder resist film has a two-layer structure, the film thickness of each white solder resist film can be made thinner than the film thickness of the conventional single-layer white solder resist film. Moreover, the aspect of this invention is a manufacturing method of the printed wiring board characterized by the DRY film thickness of the said white solder resist A being thicker than the thickness of the said electronic circuit wiring.

本発明の第2の態様は、前記白色ソルダーレジストAは、感光性樹脂組成物であり、写真現像法により画像形成されることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。   A second aspect of the present invention is a method for producing a printed wiring board, wherein the white solder resist A is a photosensitive resin composition, and an image is formed by a photographic development method.

本発明の第3の態様は、前記白色ソルダーレジストBは、熱硬化性樹脂組成物であり、スクリーン印刷法により被膜形成されることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。   A third aspect of the present invention is a method for producing a printed wiring board, wherein the white solder resist B is a thermosetting resin composition and a film is formed by a screen printing method.

本発明の第4の態様は、前記白色ソルダーレジストBの塗膜の反射率が、前記白色ソルダーレジストAの塗膜の反射率以上であることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。すなわち、2層構造となっている白色ソルダーレジスト膜のうち、外側の白色ソルダーレジスト膜の反射率は基板側の白色ソルダーレジスト膜の反射率と同じかまたはそれ以上の値である。   A fourth aspect of the present invention is a method for manufacturing a printed wiring board, wherein the reflectance of the coating film of the white solder resist B is equal to or higher than the reflectance of the coating film of the white solder resist A. That is, among the white solder resist films having a two-layer structure, the reflectance of the outer white solder resist film is equal to or higher than the reflectance of the white solder resist film on the substrate side.

本発明の第5の態様は、さらに、前記白色ソルダーレジストB上に、白色ソルダーレジストCを塗布し、硬化させる工程を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法である。すなわち、この態様では、白色ソルダーレジスト膜は3層構造となっている。   The fifth aspect of the present invention is a method for manufacturing a printed wiring board, further comprising a step of applying a white solder resist C on the white solder resist B and curing it. That is, in this aspect, the white solder resist film has a three-layer structure.

本発明の第6の態様は、前記白色ソルダーレジストCは、熱硬化性樹脂組成物であり、スクリーン印刷法により被膜形成されることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。   A sixth aspect of the present invention is a method for producing a printed wiring board, wherein the white solder resist C is a thermosetting resin composition, and a film is formed by a screen printing method.

本発明の第7の態様は、前記白色ソルダーレジストCの塗膜の反射率が、前記白色ソルダーレジストAの塗膜の反射率以上、かつ前記白色ソルダーレジストBの塗膜の反射率以上であることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。すなわち、最も外側の白色ソルダーレジスト膜の反射率は、基板側及び中層の白色ソルダーレジスト膜の反射率と同等以上の値となる。   In a seventh aspect of the present invention, the reflectance of the coating film of the white solder resist C is not less than the reflectance of the coating film of the white solder resist A and not less than the reflectance of the coating film of the white solder resist B. This is a method for manufacturing a printed wiring board. That is, the reflectance of the outermost white solder resist film is equal to or greater than the reflectance of the white solder resist film on the substrate side and in the middle layer.

本発明の第1の態様によれば、白色ソルダーレジストを2回に分けて塗布するので、十分な白色ソルダーレジストの膜厚を形成でき、反射板として十分な反射率が得られる。さらに、白色ソルダーレジストを2回に分けて塗布するので、1回の塗膜工程における膜厚を従来よりも薄くでき、被膜の高解像性も得ることができる。従って、高反射率・高密度実装を実現した発光ダイオード用プリント配線板を容易に製造できる。   According to the first aspect of the present invention, since the white solder resist is applied in two steps, a sufficient film thickness of the white solder resist can be formed, and a sufficient reflectance as a reflector can be obtained. Furthermore, since the white solder resist is applied in two steps, the film thickness in one coating step can be made thinner than before, and high resolution of the coating can also be obtained. Therefore, it is possible to easily manufacture a printed wiring board for a light emitting diode that realizes high reflectance and high-density mounting.

本発明の第2の態様によれば、2層の白色ソルダーレジスト膜のうち基板側の白色ソルダーレジストAが感光性樹脂組成物なので、インクにじみ、印刷ダレを防止して、白色ソルダーレジスト膜の解像性をより高めることができる。   According to the second aspect of the present invention, since the white solder resist A on the substrate side of the two layers of the white solder resist film is a photosensitive resin composition, ink bleeding and printing sagging can be prevented, and the white solder resist film of the white solder resist film can be prevented. The resolution can be further improved.

本発明の第3の態様によれば、2層の白色ソルダーレジスト膜のうち外側の白色ソルダーレジストBが光重合開始剤を含有しない熱硬化性樹脂組成物なので、時間の経過と共にプリント配線板表面が黄色に変化して反射率が低下していくのを防止できる。   According to the third aspect of the present invention, the outer white solder resist B of the two layers of the white solder resist film is a thermosetting resin composition containing no photopolymerization initiator. Can be prevented from changing to yellow and the reflectance decreasing.

本発明の第4の態様によれば、白色ソルダーレジストB膜の反射率が、前記白色ソルダーレジストA膜の反射率以上なので、時間が経過してもプリント配線板表面の白色が変色するのを抑えることができ、発光ダイオード素子等、光源の光を効率よく利用し続けることができる。   According to the fourth aspect of the present invention, since the reflectance of the white solder resist B film is equal to or higher than the reflectance of the white solder resist A film, the white color on the surface of the printed wiring board changes over time. The light from the light source such as the light emitting diode element can be efficiently used.

本発明の第5の態様によれば、白色ソルダーレジストB膜の上に、さらに白色ソルダーレジストC膜を形成するので、十分な白色ソルダーレジストの膜厚を形成でき、従って、反射板として十分な反射率を得ることができる。また、プリント配線板の白色ソルダーレジスト膜を厚膜にできるので、隠ぺい力に優れている。   According to the fifth aspect of the present invention, since the white solder resist C film is further formed on the white solder resist B film, it is possible to form a sufficient thickness of the white solder resist, and thus sufficient as a reflector. Reflectance can be obtained. Further, since the white solder resist film of the printed wiring board can be made thick, it has excellent hiding power.

本発明の第6の態様によれば、最外層の膜を構成する白色ソルダーレジストCが熱硬化性樹脂組成物なので、厚膜化のための3層構造でも、プリント配線板表面が黄色に変化して反射率が低下するのを防止できる。   According to the sixth aspect of the present invention, since the white solder resist C constituting the outermost layer film is a thermosetting resin composition, the printed wiring board surface changes to yellow even in a three-layer structure for thickening the film. Thus, it is possible to prevent the reflectance from decreasing.

本発明の第7の態様によれば、最外層である白色ソルダーレジストC膜の反射率が、白色ソルダーレジストA、B膜の反射率以上なので、厚膜化のための3層構造でも、時間経過によるプリント配線板表面の変色を抑えることができ、発光ダイオード素子等、光源の光を効率よく利用し続けることができる。   According to the seventh aspect of the present invention, since the reflectance of the white solder resist C film which is the outermost layer is equal to or higher than the reflectance of the white solder resist A and B films, even in the three-layer structure for thickening, the time Discoloration of the surface of the printed wiring board due to progress can be suppressed, and light from a light source such as a light emitting diode element can be used efficiently.

本発明の実施形態例に係る製造方法で製造したプリント配線板の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the printed wiring board manufactured with the manufacturing method concerning the example of an embodiment of the present invention. 実施例1のプリント配線板の説明図である。2 is an explanatory diagram of a printed wiring board according to Embodiment 1. FIG. 実施例2のプリント配線板の説明図である。It is explanatory drawing of the printed wiring board of Example 2. FIG. 実施例3のプリント配線板の説明図である。6 is an explanatory diagram of a printed wiring board according to Embodiment 3. FIG. 実施例4のプリント配線板の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a printed wiring board of Example 4. 実施例5のプリント配線板の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a printed wiring board of Example 5. (a)図は、比較例1、3のプリント配線板の説明図、同(b)図は、比較例2、4のプリント配線板の説明図である。(A) The figure is explanatory drawing of the printed wiring board of the comparative examples 1 and 3, The same (b) figure is explanatory drawing of the printed wiring board of the comparative examples 2 and 4. FIG. 最小開口径を用いた解像性評価の説明図である。It is explanatory drawing of resolution evaluation using the minimum opening diameter.

次に、本発明の実施形態例に係るプリント配線板の製造方法を説明する。図1に示すように、ここでは、プリント配線板1として、基板4上に張り合わせた銅箔をエッティングして形成した電子回路配線5を設けたものを使用する。基板4を被覆する白色ソルダーレジストは2層構造とし、基板4側の白色ソルダーレジストAに感光性樹脂組成物を、外側の白色ソルダーレジストBに熱硬化性樹脂組成物を用いたプリント配線板1の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 1, here, a printed wiring board 1 provided with an electronic circuit wiring 5 formed by etching a copper foil laminated on a substrate 4 is used. A printed wiring board 1 in which the white solder resist covering the substrate 4 has a two-layer structure, the photosensitive resin composition is used for the white solder resist A on the substrate 4 side, and the thermosetting resin composition is used for the outer white solder resist B. The manufacturing method will be described.

図1に示すように、本発明の実施形態例に係る製造方法で製造した2層の白色ソルダーレジストを塗布したプリント配線板1は、電子回路配線5が形成された基板4の表面を研磨(例えば、バフ研磨)した後に、白色ソルダーレジストAである感光性樹脂組成物を塗布後硬化させて感光性樹脂組成物膜2を形成し、次に、白色ソルダーレジストBである熱硬化性樹脂組成物を上記感光性樹脂組成物膜2上に塗布した後、硬化させて熱硬化性樹脂組成物膜3を形成することで製造する。   As shown in FIG. 1, the printed wiring board 1 coated with the two-layer white solder resist manufactured by the manufacturing method according to the embodiment of the present invention polishes the surface of the substrate 4 on which the electronic circuit wiring 5 is formed ( For example, after buffing), the photosensitive resin composition that is the white solder resist A is applied and cured to form the photosensitive resin composition film 2, and then the thermosetting resin composition that is the white solder resist B The product is applied on the photosensitive resin composition film 2 and then cured to form the thermosetting resin composition film 3.

具体的には、感光性樹脂組成物膜2は、研磨した基板4表面に、DRY膜厚が所定の厚さとなるように白色ソルダーレジストAである感光性樹脂組成物をスクリーン印刷法にて塗布する工程と、感光性樹脂組成物を塗布した基板4を予備乾燥する工程と、予備乾燥を行なって形成した感光性樹脂組成物膜2上に所定のパターンを有する露光用マスクを被せてから、露光する工程と、露光後、被せたマスクをはずしてから現像する工程と、を経ることで形成される。   Specifically, the photosensitive resin composition film 2 is applied by applying a photosensitive resin composition, which is a white solder resist A, to the polished substrate 4 surface by a screen printing method so that the DRY film thickness becomes a predetermined thickness. A step of preliminarily drying the substrate 4 coated with the photosensitive resin composition; and a step of covering the photosensitive resin composition film 2 formed by the preliminary drying with an exposure mask having a predetermined pattern; It forms by passing through the process of exposing, and the process of developing, after removing the mask covered after exposure.

また、熱硬化性樹脂組成物膜3は、感光性樹脂組成物膜2上に、所定のパターンと厚さを有する印刷用マスクを被せる工程と、印刷用マスク上からDRY膜厚が所定の厚さとなるように熱硬化性樹脂組成物をスクリーン印刷法にて塗布する工程と、熱硬化性樹脂組成物を塗布した基板4を予備乾燥する工程と、を経ることで熱硬化性樹脂組成物膜3を形成する。そして、熱硬化性樹脂組成物膜3を形成させた基板4を所定の温度で加熱処理することで感光性樹脂組成物膜2と熱硬化性樹脂組成物膜3をさらに硬化させて、2層の白色ソルダーレジストを塗布したプリント配線板1を製造する。   The thermosetting resin composition film 3 has a step of covering the photosensitive resin composition film 2 with a printing mask having a predetermined pattern and thickness, and a DRY film thickness from the printing mask to a predetermined thickness. The thermosetting resin composition film is subjected to a step of applying a thermosetting resin composition by a screen printing method and a step of predrying the substrate 4 on which the thermosetting resin composition is applied. 3 is formed. Then, the photosensitive resin composition film 2 and the thermosetting resin composition film 3 are further cured by heat-treating the substrate 4 on which the thermosetting resin composition film 3 is formed at a predetermined temperature, so that two layers are formed. A printed wiring board 1 coated with a white solder resist is manufactured.

まず、感光性樹脂組成物膜2の形成工程について、詳細を説明する。使用する感光性樹脂組成物は、白色塗膜となるものであれば特に限定されないが、例えば、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂、(B)光重合開始剤、(C)希釈剤、(D)酸化チタンおよび(E)エポキシ化合物を含有する白色感光性樹脂組成物がある。   First, the formation process of the photosensitive resin composition film 2 will be described in detail. Although the photosensitive resin composition to be used will not be specifically limited if it becomes a white coating film, For example, (A) carboxyl group containing photosensitive resin, (B) photoinitiator, (C) diluent, ( There is a white photosensitive resin composition containing D) titanium oxide and (E) an epoxy compound.

(A)成分は、特に芳香環を持たないカルボキシル基を有する樹脂であることが望ましいが、特に限定されず、感光性の不飽和二重結合を1個以上有する感光性のカルボキシル基含有樹脂、感光性の不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能である。(A)成分の例として、分子中にエポキシ基を2個以上有する脂環骨格エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部にアクリル酸又はメタクリル酸等のラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させた後、生成した水酸基に多塩基酸無水物を反応させたものを挙げることができる。   The component (A) is preferably a resin having a carboxyl group that does not have an aromatic ring, but is not particularly limited, and is a photosensitive carboxyl group-containing resin having one or more photosensitive unsaturated double bonds, Any of the carboxyl group-containing resins having no photosensitive unsaturated double bond can be used. As an example of the component (A), a radical polymerizable unsaturated monocarboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid was reacted with at least a part of the epoxy group of the alicyclic skeleton epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule. Thereafter, the resulting hydroxyl group can be reacted with a polybasic acid anhydride.

(B)成分は、一般的に使用される光重合開始剤であれば特に限定されず、例えば、オキシム系開始剤、ベンゾイン、アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン等がある。光重合開始剤の使用量は、(A)成分の感光性樹脂100質量部に対して、例えば、5〜20質量部である。   (B) component will not be specifically limited if it is a photoinitiator generally used, For example, an oxime system initiator, a benzoin, an acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1- ON, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone and the like. The usage-amount of a photoinitiator is 5-20 mass parts with respect to 100 mass parts of photosensitive resin of (A) component, for example.

(C)成分の希釈剤は、例えば、光重合性モノマーであり、(A)成分の感光性樹脂の光硬化を十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性などを有する塗膜を得るために使用する。光重合性モノマーとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。希釈剤の添加量は、(A)成分の感光性樹脂100質量部に対して、例えば、2.0〜40質量部である。   The diluent of component (C) is, for example, a photopolymerizable monomer, in order to obtain a coating film having acid resistance, heat resistance, alkali resistance, etc. by sufficiently photocuring the photosensitive resin of component (A). Used for. Examples of the photopolymerizable monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and the like. Can be mentioned. The addition amount of a diluent is 2.0-40 mass parts with respect to 100 mass parts of photosensitive resin of (A) component, for example.

(D)成分の酸化チタンは、アナタース及びルチル結晶構造を有する酸化チタン粒子であり、塗膜を白色化するために使用する。白色度の観点からルチル型酸化チタンが好ましい。酸化チタンの使用量は、塗膜の白色度を上げるために、(A)成分である感光性樹脂100質量部に対して、例えば、10〜120質量部である。   (D) Titanium oxide of a component is a titanium oxide particle which has an anatase and a rutile crystal structure, and is used in order to whiten a coating film. From the viewpoint of whiteness, rutile type titanium oxide is preferable. In order to raise the whiteness of a coating film, the usage-amount of a titanium oxide is 10-120 mass parts with respect to 100 mass parts of photosensitive resin which is (A) component, for example.

(E)成分のエポキシ化合物は、白色の感光性樹脂組成物において、硬化塗膜の架橋密度を上げるとともに、UV照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少ない樹脂硬化膜を得るためのものであり、例えば、エポキシ樹脂を添加する。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、p−tert−ブチルフェノールノボラック型など)、ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒドリンを反応させて得られたビスフェノールF型やビスフェノールS型エポキシ樹脂、さらにシクロヘキセンオキシド基、トリシクロデカンオキシド基、シクロペンテンオキシド基などを有する脂環式エポキシ樹脂、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂を挙げることができる。エポキシ樹脂の使用量は、(A)成分である感光性樹脂100質量部に対して、例えば、10〜50質量部である。   The epoxy compound of component (E) is a white photosensitive resin composition that increases the cross-linking density of the cured coating film, and is a resin cured film that is less susceptible to discoloration and reflectance reduction of the white coating film due to UV irradiation and thermal history. For example, an epoxy resin is added. Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, novolak type epoxy resin (phenol novolak type epoxy resin, o-cresol novolak type epoxy resin, p-tert-butylphenol novolak type, etc.), bisphenol F and bisphenol S with epichlorohydrin. Bisphenol F-type and bisphenol S-type epoxy resins obtained by reaction, alicyclic epoxy resins having cyclohexene oxide groups, tricyclodecane oxide groups, cyclopentene oxide groups, and the like, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate , Triglycidyl isocyanurate having a triazine ring such as triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, dicyclopentadiene type epoxy resin, Adama It can be exemplified Tan type epoxy resin. The usage-amount of an epoxy resin is 10-50 mass parts with respect to 100 mass parts of photosensitive resin which is (A) component, for example.

次に、上記した感光性樹脂組成物を塗布する工程について説明する。感光性樹脂組成物を基板4に塗布するには、例えばスクリーン印刷法を用いる。このとき、感光性樹脂組成物のスクリーン印刷は全面印刷であり、DRY膜厚の下限が、作業工程の中での外部衝撃に伴う剥がれの保護の点から10μm、好ましくは下地の導体酸化の防止の点から20μmとなるように、また、DRY膜厚の上限が、塗膜中の溶剤抜けならびにその硬度の点から30μm、好ましくは塗工時における気泡の巻き込み防止の点から25μmとなるように、スクリーン印刷時の感光性樹脂組成物の厚さを調整する。   Next, the process of apply | coating the above-mentioned photosensitive resin composition is demonstrated. In order to apply the photosensitive resin composition to the substrate 4, for example, a screen printing method is used. At this time, the screen printing of the photosensitive resin composition is full-surface printing, and the lower limit of the DRY film thickness is 10 μm from the viewpoint of protection against peeling due to external impact in the work process, preferably prevention of the underlying conductor oxidation The upper limit of the DRY film thickness is 30 μm from the viewpoint of solvent removal from the coating film and its hardness, preferably 25 μm from the viewpoint of preventing entrainment of bubbles during coating. The thickness of the photosensitive resin composition during screen printing is adjusted.

感光性樹脂組成物の予備乾燥工程は、感光性樹脂組成物から溶剤を揮発させて被膜の表面をタックフリーの状態にすることで感光性樹脂組成物膜2を形成するためのものであり、予備乾燥温度は50〜100℃、乾燥時間は20〜25分が好ましい。予備乾燥工程の加熱装置は特に限定されないが、例えば、熱風炉または電気炉等を用いることができる。   The preliminary drying step of the photosensitive resin composition is for forming the photosensitive resin composition film 2 by volatilizing the solvent from the photosensitive resin composition to make the surface of the coating tack-free. The preliminary drying temperature is preferably 50 to 100 ° C., and the drying time is preferably 20 to 25 minutes. The heating device in the preliminary drying step is not particularly limited, and for example, a hot air furnace or an electric furnace can be used.

感光性樹脂組成物膜2の露光工程では、レーザー直描による露光、または、活性エネルギー線を通さないようにしたネガマスクを用いた活性エネルギー線による露光が行われる。活性エネルギー線による露光では、被せるネガマスクとして、活性エネルギー線が紫外線の場合にはネガフィルム、電子線の場合には金属性マスク、X線の場合には鉛性マスクが使用される。本発明の実施形態例では、簡単なネガフィルムを使用できる点で、活性エネルギー線に紫外線を用いるのが好ましい。活性エネルギー線の照射量は、10〜1000mJ/cmである。ネガフィルムを用いた露光は、例えば、電子回路配線5パターンのはんだ付けランド以外を透光性にしたパターンのネガフィルムを感光性樹脂組成物膜2上に密着させ、その上から紫外線を照射させることにより行われる。 In the exposure process of the photosensitive resin composition film 2, exposure by direct laser writing or exposure by active energy rays using a negative mask that prevents passage of active energy rays is performed. In the exposure with active energy rays, as a negative mask to be covered, a negative film is used when the active energy rays are ultraviolet rays, a metallic mask when electron rays are used, and a lead mask when X-rays are used. In the embodiment of the present invention, it is preferable to use ultraviolet rays for the active energy rays in that a simple negative film can be used. The irradiation amount of the active energy ray is 10 to 1000 mJ / cm 2 . In the exposure using the negative film, for example, a negative film having a pattern other than the soldering land of the electronic circuit wiring 5 pattern is made to adhere to the photosensitive resin composition film 2 and then irradiated with ultraviolet rays. Is done.

現像工程では、上記はんだ付けランドに対応する非露光領域を希アルカリ水溶液で除去することにより感光性樹脂組成物膜2が現像される。具体例として、感光性樹脂組成物膜2に希アルカリ水溶液をスプレー噴射して非露光領域を除去する現像方法がある。使用される希アルカリ水溶液は特に限定されないが、例えば、0.5〜5質量%の炭酸ナトリウム水溶液が使用可能である。   In the developing step, the photosensitive resin composition film 2 is developed by removing the non-exposed areas corresponding to the soldering lands with a dilute alkaline aqueous solution. As a specific example, there is a developing method in which a non-exposed area is removed by spraying a diluted alkaline aqueous solution onto the photosensitive resin composition film 2. Although the dilute alkali aqueous solution used is not specifically limited, For example, 0.5-5 mass% sodium carbonate aqueous solution can be used.

次に、現像した感光性樹脂組成物膜2の上に形成される熱硬化性樹脂組成物膜3の形成工程について、詳細を説明する。使用する熱硬化性樹脂組成物は、白色塗膜となるものであれば特に限定されないが、例えば、(A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ硬化剤としてカルボキシル基を有する化合物、(C)硬化性促進化合物、(D)有機溶剤、(E)酸化チタンを含有する白色熱硬化性樹脂組成物がある。   Next, details of the step of forming the thermosetting resin composition film 3 formed on the developed photosensitive resin composition film 2 will be described. The thermosetting resin composition to be used is not particularly limited as long as it becomes a white coating film. For example, (A) an epoxy resin, (B) a compound having a carboxyl group as an epoxy curing agent, (C) curability. There is a white thermosetting resin composition containing an accelerating compound, (D) an organic solvent, and (E) titanium oxide.

(A)成分のエポキシ樹脂は、一般に使用されるものであれば特に限定されず、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂である「エピクロン840」、「エピクロン1050」、「エピクロン3050」、(大日本インキ化学工業製)等が挙げられる。   The epoxy resin of component (A) is not particularly limited as long as it is generally used. For example, “Epicron 840”, “Epicron 1050”, “Epicron 3050”, (Dainippon Ink), which are bisphenol A type epoxy resins, are used. Chemical industry).

(B)成分のエポキシ硬化剤としてカルボキシル基を有する化合物については、特に限定されないが、芳香環を有さないものが望ましく、例えば、ダイセル化学工業社製「サイクロマーP(ACA)Z-251」、「サイクロマーP(ACA)Z-250」、「サイクロマーP(ACA)Z-300」、「サイクロマーP(ACA)Z-320」等が挙げられる。その使用量は、(A)成分のエポキシ樹脂100質量部に対して、例えば、50〜150質量部である。   (B) Although it does not specifically limit about the compound which has a carboxyl group as an epoxy hardening | curing agent of a component, What does not have an aromatic ring is desirable, for example, Daicel Chemical Industries "Cyclomer P (ACA) Z-251" , “Cyclomer P (ACA) Z-250”, “Cyclomer P (ACA) Z-300”, “Cyclomer P (ACA) Z-320” and the like. The usage-amount is 50-150 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins of (A) component, for example.

(C)成分の硬化性促進化合物は、エポキシ樹脂を架橋させるものであって、一般的に使用されるものであれば特に限定されず、例えば、メラミン、イミダゾール、ジシアンジアミド等が挙げられる。その使用量は、(A)成分のエポキシ樹脂100質量部に対して、例えば、0.01〜10質量部である。   (C) The sclerosing | hardenable acceleration | stimulation compound of a component is not specifically limited if it crosslinks an epoxy resin, and is generally used, For example, a melamine, imidazole, a dicyandiamide etc. are mentioned. The usage-amount is 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resin of (A) component, for example.

(D)成分の有機溶剤は、前記(A)成分、(B)成分と相溶性が良ければよく、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類等が挙げられる。その使用量は、(A)成分のエポキシ樹脂100質量部に対して、例えば、1〜500質量部である。   The organic solvent of component (D) is only required to be compatible with the components (A) and (B). For example, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene And the like. The usage-amount is 1-500 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins of (A) component, for example.

なお、(E)成分の酸化チタンは、上記感光性樹脂組成物に記載した酸化チタンの説明と同様であり、また、その使用量は、(A)成分のエポキシ樹脂100質量部に対して、例えば、10〜120質量部である。   In addition, the titanium oxide of (E) component is the same as the description of the titanium oxide described in the said photosensitive resin composition, Moreover, the usage-amount is with respect to 100 mass parts of epoxy resins of (A) component, For example, 10 to 120 parts by mass.

次に、上記した熱硬化性樹脂組成物を塗布する工程について説明する。現像した感光性樹脂組成物膜2のパターンに対応した印刷用マスクを感光性樹脂組成物膜2の上に被せた後、上記した熱硬化性樹脂組成物をスクリーン印刷法にて塗布する。このとき、熱硬化性樹脂組成物のDRY膜厚の下限が、反射率の点から10μm、好ましくはより高い反射率の点から20μmとなるように、また、DRY膜厚の上限が、塗膜中の溶剤抜けならびにその硬度の点から30μm、好ましくは塗工時における気泡の巻き込み防止の点から25μmとなるように、スクリーン印刷時の熱硬化性樹脂組成物の厚さを調整する。   Next, the process of apply | coating the above-mentioned thermosetting resin composition is demonstrated. After a printing mask corresponding to the pattern of the developed photosensitive resin composition film 2 is placed on the photosensitive resin composition film 2, the above-described thermosetting resin composition is applied by a screen printing method. At this time, the lower limit of the DRY film thickness of the thermosetting resin composition is 10 μm from the point of reflectance, preferably 20 μm from the point of higher reflectance, and the upper limit of the DRY film thickness is The thickness of the thermosetting resin composition at the time of screen printing is adjusted so as to be 30 μm from the point of solvent removal in the medium and its hardness, and preferably 25 μm from the point of prevention of bubble entrainment during coating.

熱硬化性樹脂組成物の予備乾燥工程は、熱硬化性樹脂組成物から溶剤を揮発させて被膜の表面をタックフリーの状態にすることで熱硬化性樹脂組成物膜3を形成するためのものである。予備乾燥条件は、感光性樹脂組成物の予備乾燥工程と同様に、予備乾燥温度50〜100℃、乾燥時間20〜25分が好ましく、加熱装置は特に限定されないが、例えば、熱風炉または電気炉等を用いることができる。   The pre-drying step of the thermosetting resin composition is for forming the thermosetting resin composition film 3 by volatilizing the solvent from the thermosetting resin composition to bring the surface of the coating into a tack-free state. It is. The predrying conditions are preferably a predrying temperature of 50 to 100 ° C. and a drying time of 20 to 25 minutes as in the predrying step of the photosensitive resin composition, and the heating device is not particularly limited. Etc. can be used.

感光性樹脂組成物膜2と熱硬化性樹脂組成物膜3をさらに硬化させるポストキュア工程は、例えば、加熱温度は130〜170℃、加熱時間は20〜80分である。加熱装置は特に限定されず、例えば、熱風炉または電気炉等を用いることができる。   In the post-cure process for further curing the photosensitive resin composition film 2 and the thermosetting resin composition film 3, for example, the heating temperature is 130 to 170 ° C., and the heating time is 20 to 80 minutes. A heating apparatus is not specifically limited, For example, a hot stove or an electric furnace can be used.

次に、本発明の他の実施形態例について説明する。上記実施形態例では、基板4側の白色ソルダーレジストAとして感光性樹脂組成物、外側の白色ソルダーレジストBとして熱硬化性樹脂組成物を用いたが、これに代えて、白色ソルダーレジストAに熱硬化性樹脂組成物、白色ソルダーレジストBに感光性樹脂組成物を用いてもよい。また、白色ソルダーレジストA、Bともに感光性樹脂組成物を用いてもよく、白色ソルダーレジストA、Bともに熱硬化性樹脂組成物を用いてもよい。   Next, another embodiment of the present invention will be described. In the above embodiment, the photosensitive resin composition is used as the white solder resist A on the substrate 4 side, and the thermosetting resin composition is used as the outer white solder resist B. Instead, the white solder resist A is heated. A photosensitive resin composition may be used for the curable resin composition and the white solder resist B. Moreover, the photosensitive resin composition may be used for both the white solder resists A and B, and the thermosetting resin composition may be used for both the white solder resists A and B.

また、白色ソルダーレジストBの上に、さらに白色ソルダーレジストCを塗布して、ソルダーレジスト膜をより厚膜化してもよい。白色ソルダーレジストCは、感光性樹脂組成物でも熱硬化性樹脂組成物でもよく、ポストキュア工程は、白色ソルダーレジストCの塗布後に1度実施すればよい。もちろん、必要に応じて、白色ソルダーレジストCの上に、さらに白色ソルダーレジストを塗布し、硬化させて、白色ソルダーレジスト膜を4層以上の構造としてもよい。   Further, a white solder resist C may be further coated on the white solder resist B to make the solder resist film thicker. The white solder resist C may be a photosensitive resin composition or a thermosetting resin composition, and the post-cure process may be performed once after the white solder resist C is applied. Of course, if necessary, a white solder resist may be applied on the white solder resist C and cured to form a white solder resist film having four or more layers.

上記実施形態例では、スクリーン印刷法による全面印刷を用いたが、均一に塗工できる塗工手段であれば特に限定されず、スクリーン印刷法に代えて、例えば、スプレーコータ、ホンメルトコータ、バーコータ、アプリケータ、ブレードコータ、ナイフコータ、エアナイフコータ、カーテンフローコータ、ロールコータ、グラビアコータ、オフセット印刷、ディップコータ、刷毛塗り、その他通常の方法は全て使用することができる。   In the above embodiment, full-screen printing by the screen printing method is used, but it is not particularly limited as long as it is a coating means that can be applied uniformly. For example, instead of the screen printing method, a spray coater, a honmelt coater, a bar coater, etc. Applicators, blade coaters, knife coaters, air knife coaters, curtain flow coaters, roll coaters, gravure coaters, offset printing, dip coaters, brush coating, and other conventional methods can all be used.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to this.

以下に記載の工程にて、プリント配線板を作製した。実施例1〜5に係るプリント配線板1の説明を、それぞれ図2〜6に、比較例1、3に係るプリント配線板11の説明を図7(a)に、比較例2、4に係るプリント配線板11の説明を図7(b)に、それぞれ示した。なお、図1と同一の構成には同一の符号を付した。   A printed wiring board was produced by the steps described below. The description of the printed wiring board 1 according to Examples 1 to 5 is shown in FIGS. 2 to 6, the description of the printed wiring board 11 according to Comparative Examples 1 and 3 is shown in FIG. The description of the printed wiring board 11 is shown in FIG. In addition, the same code | symbol was attached | subjected to the structure same as FIG.

実施例1〜4では、基板4上にソルダーレジストA膜7とソルダーレジストB膜8を、実施例5では、さらにソルダーレジストC膜9を形成させた。また、比較例1、3では、ソルダーレジストA膜12のみを、比較例2、4では、ソルダーレジストA膜13のみを形成させた。   In Examples 1 to 4, a solder resist A film 7 and a solder resist B film 8 were formed on the substrate 4, and in Example 5, a solder resist C film 9 was further formed. In Comparative Examples 1 and 3, only the solder resist A film 12 was formed, and in Comparative Examples 2 and 4, only the solder resist A film 13 was formed.

・基板4の表面処理:バフ研磨
・感光性樹脂組成物膜の形成について
感光性樹脂組成物: DSR−330S70−11W(タムラ化研株式会社製)
塗工:スクリーン印刷
塗膜膜厚:DRY20〜23μm
予備乾燥::70℃にて20分(BOX炉内25分)
露光:レジスト上にて400mJ/cm (オーク社製HMW−680GW)
現像:1%NaCO−30℃−0.1MPa−60秒
ポストキュア:150℃にて60分(BOX炉内70分)。ただし、最外層として塗工する場合のみ実施。
・熱硬化性樹脂組成物膜の形成について
熱硬化性樹脂組成物: RPW−210(タムラ化研株式会社製)
塗工:スクリーン印刷
塗膜膜厚:DRY20〜23μm
予備乾燥::70℃にて20分(BOX炉内25分)
ポストキュア:150℃にて60分(BOX炉内70分)。ただし、最外層として塗工する場合のみ実施。
-Surface treatment of substrate 4: Buffing and formation of photosensitive resin composition film Photosensitive resin composition: DSR-330S70-11W (manufactured by Tamura Kaken Co., Ltd.)
Coating: Screen printing coating film thickness: DRY 20-23 μm
Pre-drying :: 20 minutes at 70 ° C. (25 minutes in BOX furnace)
Exposure: 400 mJ / cm 2 on resist (OMW HMW-680GW)
Development: 1% Na 2 CO 3 -30 ° C.-0.1 MPa-60 seconds Post cure: 60 minutes at 150 ° C. (70 minutes in BOX furnace). However, only when coating as the outermost layer.
-Formation of thermosetting resin composition film Thermosetting resin composition: RPW-210 (manufactured by Tamura Kaken Co., Ltd.)
Coating: Screen printing coating film thickness: DRY 20-23 μm
Pre-drying :: 20 minutes at 70 ° C. (25 minutes in BOX furnace)
Post cure: 60 minutes at 150 ° C. (70 minutes in BOX furnace). However, only when coating as the outermost layer.

実施例1〜5及び比較例1〜4のソルダーレジスト膜の樹脂組成物の種類と膜厚を表1に示す。   Table 1 shows the types and thicknesses of the resin compositions of the solder resist films of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4.

次いで、上記工程にて作製した実施例1〜5及び比較例1〜4のソルダーレジスト膜の諸性質を調べるために、以下のようにして試験し、評価を行なった。   Subsequently, in order to investigate various properties of the solder resist films of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 produced in the above process, the tests were conducted as follows.

(1)反射率の測定
反射率は、分光光度計U‐3410((株)日立製作所製:φ60mm積分球)を用いて、450nmにおける反射率を測定した。なお、表1中、初期の反射率とは、上記工程にて作製した基板4のソルダーレジスト膜の反射率である。また、加熱処理後の反射率とは、耐熱性、及び経時による反射率の劣化の有無を確認するための指標として使用したものであり、260℃で5分間加熱処理した基板4のソルダーレジスト膜の反射率である。
(2)加熱後の目視評価
耐熱性、及び経時による白色から黄色への変色の有無を確認するための指標として使用したものであり、150℃で1000時間加熱処理した基板4のソルダーレジスト膜について、目視にて変色の度合いを評価した。白色のまま全く変色が確認できないものを◎、黄色への変色が若干見られるが品質上問題のないものを○、黄色への変色が見られ、品質に問題が生じる可能性があるものを△、黄色への変色が著しく品質上明らかに問題のあるものを×と、4段階で評価した。
(3)解像性
図8に示すように、円形のパターンを開口形成できる最小開口径(φ)6を解像性の値とした。
(4)鉛筆硬度
ソルダーレジスト膜に、芯の先が平らになるように研がれたBから9Hの鉛筆を約45°の角度で押しつけて、塗膜の剥がれが生じない鉛筆の硬さを記録した。
(1) Measurement of reflectivity The reflectivity was measured at 450 nm using a spectrophotometer U-3410 (manufactured by Hitachi, Ltd .: φ60 mm integrating sphere). In Table 1, the initial reflectance is the reflectance of the solder resist film of the substrate 4 produced in the above process. The reflectance after heat treatment is used as an index for confirming the heat resistance and the presence or absence of reflectance deterioration with time. The solder resist film of the substrate 4 heat-treated at 260 ° C. for 5 minutes. Is the reflectance.
(2) Visual evaluation after heating About the solder resist film of the substrate 4 which is used as an index for confirming heat resistance and the presence or absence of a color change from white to yellow over time, and heat-treated at 150 ° C. for 1000 hours. The degree of discoloration was evaluated visually. A white color with no discoloration confirmed ◎, a slight discoloration to yellow is observed, but there is no quality problem, ○, a discoloration to yellow is observed, and there is a possibility of causing a quality problem The case where the discoloration to yellow was markedly problematic in terms of quality was evaluated as x, in four stages.
(3) Resolution As shown in FIG. 8, the minimum opening diameter (φ) 6 that can form a circular pattern as an opening is taken as the resolution value.
(4) Pencil hardness Press the B to 9H pencil sharpened so that the tip of the core is flat on the solder resist film at an angle of about 45 °, and the pencil hardness will not cause peeling of the coating film. Recorded.

Figure 0004855507
Figure 0004855507

表1から明らかなように、2層以上のソルダーレジスト膜を形成させた実施例1〜5では、初期及び加熱処理後の反射率、加熱後の目視評価、解像性、鉛筆硬度の全評価項目で優れた特性が得られた。従って、実施例1〜5は、耐熱性、解像性、反射率に優れ、さらに経時による反射率の劣化及び黄色への変色を抑えることができることが判明した。特に、ソルダーレジストAに感光性樹脂組成物、最外層を構成するソルダーレジストBまたはCに熱硬化性樹脂組成物を使用した実施例2、5は、各評価項目全てについて優れた特性が得られ、なかでも、トータル膜厚60μmの実施例5は、反射率が極めて優れていた。   As apparent from Table 1, in Examples 1 to 5 in which two or more layers of solder resist films were formed, the initial and post-heat treatment reflectivities, visual evaluation after heating, resolution, and pencil hardness were all evaluated. Excellent characteristics were obtained in the items. Accordingly, it has been found that Examples 1 to 5 are excellent in heat resistance, resolution, and reflectance, and can suppress deterioration in reflectance and discoloration to yellow over time. In particular, Examples 2 and 5 using the photosensitive resin composition for the solder resist A and the thermosetting resin composition for the solder resist B or C constituting the outermost layer provided excellent characteristics for all the evaluation items. In particular, Example 5 having a total film thickness of 60 μm was extremely excellent in reflectance.

また、実施例2、3の反射率の結果から、ソルダーレジストBに熱硬化性樹脂組成物を用いると、感光性樹脂組成物を用いた場合よりも初期及び加熱処理後ともに反射率がより高くなるので、プリント配線板のソルダーレジスト膜の変色を特に抑えることができることが判明した。これは、熱硬化性樹脂組成物には時間が経つに従って黄色に変化する光重合開始剤が含まれていないことから、ソルダーレジストBに熱硬化性樹脂組成物を用いたことで、多層構造のソルダーレジスト膜の反射率がソルダーレジストBに感光性樹脂組成物を用いた場合よりも高くなったと考えられる。   Moreover, from the results of the reflectances of Examples 2 and 3, when the thermosetting resin composition is used for the solder resist B, the reflectance is higher both at the initial stage and after the heat treatment than when the photosensitive resin composition is used. Therefore, it has been found that discoloration of the solder resist film of the printed wiring board can be particularly suppressed. This is because the thermosetting resin composition does not contain a photopolymerization initiator that changes to yellow over time, and therefore, by using the thermosetting resin composition for the solder resist B, It is considered that the reflectance of the solder resist film is higher than that when the photosensitive resin composition is used for the solder resist B.

一方で、1層のソルダーレジスト膜を形成させた従来品である比較例1〜4については、比較例1では加熱後の目視評価及び鉛筆強度、比較例2では解像性及び鉛筆強度、比較例3、4では初期と加熱処理後の反射率及び加熱後の目視評価が劣っていた。   On the other hand, for Comparative Examples 1 to 4, which are conventional products in which a single layer solder resist film is formed, in Comparative Example 1, visual evaluation and pencil strength after heating, in Comparative Example 2, resolution and pencil strength, comparison In Examples 3 and 4, the initial and post-heat treatment reflectances and the visual evaluation after heating were inferior.

耐熱性、解像性、経時による反射率の劣化による着色を抑えることができる高反射率機能を有するソルダーレジスト膜を形成したプリント配線板を得ることができるので、発光ダイオード素子を光源としたバックライトの技術分野で利用価値が高い。   A printed wiring board on which a solder resist film having a high reflectance function that can suppress coloring due to heat resistance, resolution, and deterioration of reflectance over time can be obtained. High utility value in the technical field of lights.

1 プリント配線板
2 感光性樹脂組成物膜
3 熱硬化性樹脂組成物膜
4 基板
7 ソルダーレジストA膜
8 ソルダーレジストB膜
9 ソルダーレジストC膜
12 ソルダーレジストA膜
13 ソルダーレジストA膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed wiring board 2 Photosensitive resin composition film 3 Thermosetting resin composition film 4 Board | substrate 7 Solder resist A film 8 Solder resist B film 9 Solder resist C film 12 Solder resist A film 13 Solder resist A film

Claims (6)

電子回路配線が形成された基板表面白色ソルダーレジストAを塗布し、硬化させる工程と、
前記白色ソルダーレジストA上に、さらに白色ソルダーレジストBを塗布し、硬化させる工程と、を含むバックライトの反射板機能を有するプリント配線板の製造方法であって、
前記白色ソルダーレジストAは、感光性樹脂組成物であり、写真現像法により画像形成し、前記白色ソルダーレジストBは、熱硬化性樹脂組成物であり、現像した前記感光性樹脂組成物のパターンに対応した印刷用マスクを、現像した前記感光性樹脂組成物上に被せた後、前記熱硬化性樹脂組成物をスクリーン印刷法により被膜形成することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
A step of the substrate surface which electronic circuit wiring is formed, by applying a white solder resist A, cured,
The white on the solder resist A, a further white solder resist B is applied, a method for manufacturing a printed wiring board having a step of curing, the reflector functions including Muba backlight,
The white solder resist A is a photosensitive resin composition, and an image is formed by photographic development. The white solder resist B is a thermosetting resin composition, and the developed pattern of the photosensitive resin composition is formed. A method for producing a printed wiring board, comprising: coating a corresponding printing mask on the developed photosensitive resin composition, and then forming a film on the thermosetting resin composition by a screen printing method.
前記白色ソルダーレジストAのDRY膜厚が、前記電子回路配線の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。 The printed wiring board manufacturing method according to claim 1, wherein the white solder resist A has a DRY film thickness larger than a thickness of the electronic circuit wiring . 前記白色ソルダーレジストBの塗膜の反射率が、前記白色ソルダーレジストAの塗膜の反射率以上であることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。   The method for producing a printed wiring board according to claim 1, wherein the reflectance of the coating film of the white solder resist B is equal to or higher than the reflectance of the coating film of the white solder resist A. さらに、前記白色ソルダーレジストB上に、白色ソルダーレジストCを塗布し、硬化させる工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。   Furthermore, the manufacturing method of the printed wiring board of Claim 1 including the process of apply | coating the white solder resist C on the said white solder resist B, and making it harden | cure. 前記白色ソルダーレジストCは、熱硬化性樹脂組成物であり、スクリーン印刷法により被膜形成されることを特徴とする請求項に記載のプリント配線板の製造方法。 The said white soldering resist C is a thermosetting resin composition, and a film is formed by the screen printing method, The manufacturing method of the printed wiring board of Claim 4 characterized by the above-mentioned. 前記白色ソルダーレジストCの塗膜の反射率が、前記白色ソルダーレジストAの塗膜の反射率以上、かつ前記白色ソルダーレジストBの塗膜の反射率以上であることを特徴とする請求項またはに記載のプリント配線板の製造方法。 The reflectance of the coating film of the white solder resist C is, the white solder resist A coating reflectivity over the, and claim 4, characterized in that said at white solder resist B of coating reflectance or more or 5. A method for producing a printed wiring board according to 5 .
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011216687A (en) * 2010-03-31 2011-10-27 Taiyo Holdings Co Ltd White coating layer, method of forming the same, and printed circuit board
CN102278665A (en) * 2011-06-02 2011-12-14 鞍山亚世光电显示有限公司 Thin backlight source device
WO2013024714A1 (en) * 2011-08-12 2013-02-21 シャープ株式会社 Illumination device, display device, and television reception device
JP5849140B2 (en) * 2014-10-08 2016-01-27 太陽ホールディングス株式会社 Solder resist layer for printed wiring board and method for forming the same
CN104570606B (en) * 2014-12-24 2019-05-31 欧利生东邦涂料(东莞)有限公司 Photocuring heat-curable composition and preparation method thereof and printed wiring board ink
JP6681139B2 (en) 2014-12-24 2020-04-15 日亜化学工業株式会社 Light emitting device
JP6497615B2 (en) 2015-03-04 2019-04-10 パナソニックIpマネジメント株式会社 Mounting board and LED module using the same
JP6637674B2 (en) * 2015-04-30 2020-01-29 信越化学工業株式会社 Printed wiring board, method for manufacturing printed wiring board, and semiconductor device
JP6583669B2 (en) * 2015-08-03 2019-10-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 LED module
JP6675111B2 (en) 2015-08-03 2020-04-01 パナソニックIpマネジメント株式会社 LED module
JP6704189B2 (en) 2015-08-03 2020-06-03 パナソニックIpマネジメント株式会社 LED module
JP6817599B2 (en) * 2016-03-10 2021-01-20 パナソニックIpマネジメント株式会社 LED module
JP6605103B2 (en) * 2017-09-27 2019-11-13 株式会社タムラ製作所 Solder resist film pattern forming method and electronic substrate manufacturing method
CN108882548A (en) * 2018-08-21 2018-11-23 浙江罗奇泰克电子有限公司 A kind of LED light source board solder mask surface cure technique
CN112654142B (en) * 2020-11-10 2022-07-01 广东高仕电研科技有限公司 Circuit board solder mask, printed circuit board and printed circuit board preparation method
CN113395835A (en) * 2021-05-17 2021-09-14 广德三生科技有限公司 Processing technology of OLED ultrahigh-definition backlight display circuit board
CN116685071A (en) * 2023-06-07 2023-09-01 江苏博敏电子有限公司 Solder resist manufacturing method for improving backlight reflectivity

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07162134A (en) * 1993-12-10 1995-06-23 Toppan Printing Co Ltd Solder resist film coated printed wiring board
JP4108149B2 (en) * 1996-06-07 2008-06-25 北陸電気工業株式会社 Printed circuit board
JP4711208B2 (en) * 2006-03-17 2011-06-29 山栄化学株式会社 Photosensitive thermosetting resin composition, resist film-coated smoothed printed wiring board, and method for producing the same.
JP4340272B2 (en) * 2006-05-30 2009-10-07 太陽インキ製造株式会社 Photocurable / thermosetting solder resist composition and printed wiring board using the same
JP2007324205A (en) * 2006-05-30 2007-12-13 Toyoda Gosei Co Ltd Light emitting device
JP4538484B2 (en) * 2006-10-24 2010-09-08 太陽インキ製造株式会社 Photocurable thermosetting resin composition and printed wiring board using the same
KR100904348B1 (en) * 2006-10-24 2009-06-23 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 Photocurable thermosetting resin composition and printed wiring board using same
JP5066376B2 (en) * 2007-02-27 2012-11-07 株式会社タムラ製作所 Solder resist composition for printed wiring board and printed wiring board
JP2009130234A (en) * 2007-11-27 2009-06-11 Denki Kagaku Kogyo Kk Circuit board, and led module having the circuit board
JP2009004718A (en) * 2007-05-18 2009-01-08 Denki Kagaku Kogyo Kk Metal base circuit board
US20090141505A1 (en) * 2007-11-30 2009-06-04 Taiyo Ink Mfg., Co,. Ltd. White heat-hardening resin composition, hardened material, printed-wiring board and reflection board for light emitting device

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