JP5971977B2 - White curable resin composition - Google Patents

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Description

本発明は、永久マスクとして使用可能なソルダーレジストや各種レジスト等の絶縁膜に適した白色の硬化性樹脂組成物及びこれを塗布したプリント配線板、並びに反射皮膜として使用可能な白色の硬化性樹脂組成物及びこれを塗布した反射シートに関するものである。   The present invention relates to a white curable resin composition suitable for an insulating film such as a solder resist and various resists that can be used as a permanent mask, a printed wiring board coated with the same, and a white curable resin that can be used as a reflective film. The present invention relates to a composition and a reflective sheet coated with the composition.

基板、例えば、プリント配線板は、基板の上に導体回路のパターンを形成し、そのパターンのはんだ付けランドに電子部品をはんだ付けにより搭載するために使用され、そのはんだ付けランドを除く回路部分は永久保護皮膜としてのソルダーレジスト膜で被覆される。これにより、プリント配線板に電子部品をはんだ付けする際に、はんだが不必要な部分に付着するのを防止すると共に、回路導体が空気に直接曝されて酸化や湿度により腐食されるのを防止する。   A circuit board, for example, a printed wiring board, is used to form a pattern of a conductor circuit on a circuit board, and to mount an electronic component on a soldering land of the pattern by soldering. It is covered with a solder resist film as a permanent protective film. This prevents solder from adhering to unnecessary parts when soldering electronic components to a printed wiring board, and prevents circuit conductors from being directly exposed to air and being corroded by oxidation or humidity. To do.

プリント配線板にソルダーレジスト膜を塗工するには、硬化性樹脂組成物をプリント配線板に塗布後、硬化性樹脂組成物の塗膜をタックフリーの状態とするために予備乾燥をするが、この予備乾燥を、該プリント配線板を立て掛けた状態にて行なう場合がある。この予備乾燥時に、塗布した硬化性樹脂組成物のダレを防止するために、硬化性樹脂組成物は高いチクソトロピー性を有することが求められている。   In order to apply the solder resist film to the printed wiring board, after applying the curable resin composition to the printed wiring board, pre-drying to make the coating film of the curable resin composition tack-free, This preliminary drying may be performed in a state where the printed wiring board is leaned. In order to prevent sagging of the applied curable resin composition during the preliminary drying, the curable resin composition is required to have high thixotropic properties.

さらに、プリント配線板を発光ダイオード素子(LED)等の実装用基板として使用する場合、光源からの光の反射率を向上させるために、硬化性樹脂組成物を白色に着色する。この場合、硬化性樹脂組成物に白色顔料である酸化チタンを配合する(特許文献1)。しかし、酸化チタンを硬化性樹脂組成物に配合すると、その比重から硬化性樹脂組成物のチクソトロピー性が低下して、塗布した硬化性樹脂組成物にダレが発生しやすくなってしまうという問題があった。   Further, when the printed wiring board is used as a mounting substrate such as a light emitting diode element (LED), the curable resin composition is colored white in order to improve the reflectance of light from the light source. In this case, titanium oxide which is a white pigment is mix | blended with curable resin composition (patent document 1). However, when titanium oxide is added to the curable resin composition, there is a problem that the thixotropic property of the curable resin composition is lowered due to its specific gravity and the applied curable resin composition is likely to sag. It was.

また、近年、地球温暖化防止の対策として、二酸化炭素の排出量の規制が施行された。それに伴い、再生可能エネルギー技術が着目されるようになった。特に、太陽電池は、無尽蔵である太陽光をもとに発電をしているため、半永久的に発電が可能であり、かつ燃料代が皆無である。また、太陽光が当たる所であれば発電が可能であるため、電気を必要とする施設の近くに設置が可能であり、送電費用を抑えられる。さらに、太陽電池は、拡散光でも発電することが可能である。   In recent years, regulations on carbon dioxide emissions have been implemented as a measure to prevent global warming. Along with that, renewable energy technology has been attracting attention. In particular, since solar cells generate power based on inexhaustible sunlight, they can generate power semipermanently and have no fuel costs. In addition, since it is possible to generate electricity where it is exposed to sunlight, it can be installed near facilities that require electricity, and transmission costs can be reduced. Furthermore, the solar cell can generate power even with diffused light.

しかしながら、太陽電池には、未だ技術的課題が多く残されている。その1つとして発電効率が挙げられる。発電効率を上げる手段として、太陽電池バックシート(反射シート)を用いた反射光の利用が考えられる。太陽光は、300nm付近から3000nm付近までの波長、つまり、紫外光、可視光及び赤外光を有するので、この範囲の光を十分に太陽電池に吸収させることで、発電効率を向上させることが可能である。しかし、従来、反射材は、400nm付近から800nm付近の可視光に対する反射能を有してはいるが、赤外光を3割程度しか反射することができないという問題があった。反射できない理由は、光の波長が長くなるにつれて透過性が増すためである。そこで、太陽電池の発電効率を向上させるために、赤外光(例えば、波長2000nm付近の光)を効率よく反射できる反射材が求められていた。   However, many technical problems still remain in solar cells. One example is power generation efficiency. As a means for increasing the power generation efficiency, use of reflected light using a solar battery back sheet (reflective sheet) can be considered. Sunlight has a wavelength from about 300 nm to about 3000 nm, that is, ultraviolet light, visible light, and infrared light. Therefore, it is possible to improve power generation efficiency by sufficiently absorbing light in this range in the solar cell. Is possible. Conventionally, however, the reflective material has a reflectivity for visible light in the vicinity of 400 nm to 800 nm, but has a problem that it can reflect only about 30% of infrared light. The reason why the light cannot be reflected is that the transmittance increases as the wavelength of light increases. Therefore, in order to improve the power generation efficiency of the solar cell, a reflector capable of efficiently reflecting infrared light (for example, light having a wavelength of about 2000 nm) has been demanded.

特開2011−138037号公報JP 2011-138037 A

本発明は、上記事情に鑑み、塗布した硬化性樹脂組成物のダレの発生を防止でき、さらに、赤外光に対しても高い反射能を有する白色の硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, the present invention provides a white curable resin composition that can prevent sagging of the applied curable resin composition and that has high reflectivity for infrared light. Objective.

本発明の態様は、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂と、(B)光重合開始剤と、(C)希釈剤と、(D)エポキシ化合物と、(E)針状酸化チタンとを含有する白色硬化性樹脂組成物であって、前記針状酸化チタンの長軸が1.0μm〜10μm、アスペクト比が10〜30であり、前記針状酸化チタンが、前記カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して40質量部〜90質量部含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。「針状酸化チタン」とは、酸化チタンの径に対する長さの比率(アスペクト比)が1.0超の形状を有する酸化チタンを意味し、特に、高アスペクト比、例えば、前記アスペクト比が5.0以上である酸化チタンが挙げられる。 Aspects of the present invention include (A) a carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent, (D) an epoxy compound, and (E) acicular titanium oxide. a white color curable resin composition you, the needle-like long axis of the titanium oxide 1.0Myuemu~10myuemu, aspect ratio of 10 to 30, wherein the needle-like titanium oxide, said carboxyl group-containing photosensitive 40 mass parts-90 mass parts is contained with respect to 100 mass parts of resin, It is a white curable resin composition characterized by the above-mentioned. “Acicular titanium oxide” means titanium oxide having a shape in which the ratio of the length to the diameter of titanium oxide (aspect ratio) exceeds 1.0, in particular, a high aspect ratio, for example, the aspect ratio is 5 And titanium oxide that is 0.0 or more.

白色顔料である酸化チタンとして、針状の酸化チタンを用いると、硬化性樹脂組成物を白色に着色しつつ、白色の硬化性樹脂組成物のチクソトロピー性が向上またはチクソトロピー性の低下を抑制して、ダレの発生を防止できる。さらに、赤外光に対しても高い反射能を有する白色硬化性樹脂組成物を得ることができる。なお、本発明の硬化性樹脂組成物では、感光性樹脂を用いるので、主に、紫外線硬化性樹脂組成物として使用される。   When needle-like titanium oxide is used as the white pigment titanium oxide, the thixotropic property of the white curable resin composition is improved or the decrease in thixotropic property is suppressed while coloring the curable resin composition white. The occurrence of sagging can be prevented. Furthermore, a white curable resin composition having high reflectivity with respect to infrared light can be obtained. In addition, in the curable resin composition of this invention, since photosensitive resin is used, it is mainly used as an ultraviolet curable resin composition.

本発明の態様は、前記針状酸化チタンが、前記カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、40質量部〜90質量部含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   An aspect of the present invention is the white curable resin composition, wherein the acicular titanium oxide is contained in an amount of 40 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing photosensitive resin.

本発明の態様は、前記針状酸化チタンのアスペクト比が、10〜30であることを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   An aspect of the present invention is the white curable resin composition, wherein the acicular titanium oxide has an aspect ratio of 10 to 30.

本発明の態様は、前記針状酸化チタンの長軸が、1.0μm〜10μmであることを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。本発明の態様は、プリント配線板の絶縁膜用であることを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。 An aspect of the present invention is the white curable resin composition , wherein a major axis of the acicular titanium oxide is 1.0 μm to 10 μm. An aspect of the present invention is a white curable resin composition that is used for an insulating film of a printed wiring board.

本発明の態様は、上記白色硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を有するプリント配線板である。また、本発明の態様は、上記白色硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を有する反射シートである。   The aspect of this invention is a printed wiring board which has the cured film of the said white curable resin composition. Moreover, the aspect of this invention is a reflective sheet which has the cured film of the said white curable resin composition.

本発明の態様によれば、白色顔料として、針状の形状を有する酸化チタンを用いることにより、白色に着色するために酸化チタンを配合しても硬化性樹脂組成物のチクソトロピー性が向上またはチクソトロピー性が損なわれないので、塗工した白色硬化性樹脂組成物のダレ発生を防止できる。また、針状の形状を有する酸化チタンを用いることにより、はんだ耐熱性が損なわれることなくダレの発生を防止できるので、例えば、プリント配線板の絶縁膜として使用できる。   According to the aspect of the present invention, the use of titanium oxide having a needle-like shape as the white pigment improves the thixotropy of the curable resin composition even when titanium oxide is blended for coloring in white or thixotropy. Therefore, the sagging of the coated white curable resin composition can be prevented. Further, by using titanium oxide having a needle shape, it is possible to prevent the occurrence of sagging without impairing the solder heat resistance, so that it can be used, for example, as an insulating film of a printed wiring board.

本発明の態様によれば、針状酸化チタンを用いることにより、赤外光に対しても高い反射能を有する白色の硬化性樹脂組成物を得ることができるので、太陽電池の反射シートの反射皮膜に使用すると、太陽電池モジュールの電力変換効率をさらに向上させることができる。   According to the aspect of the present invention, by using acicular titanium oxide, a white curable resin composition having high reflectivity with respect to infrared light can be obtained. When used for the coating, the power conversion efficiency of the solar cell module can be further improved.

次に、本発明の白色硬化性樹脂組成物の各成分について説明する。本発明の白色硬化性樹脂組成物は、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂と、(B)光重合開始剤と、(C)希釈剤と、(D)エポキシ化合物と、(E)針状酸化チタンとを含有するものであって、上記各成分は、以下の通りである。   Next, each component of the white curable resin composition of this invention is demonstrated. The white curable resin composition of the present invention includes (A) a carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent, (D) an epoxy compound, and (E) an acicular shape. It contains titanium oxide, and each of the above components is as follows.

(A)カルボキシル基含有感光性樹脂
カルボキシル基を含有した感光性樹脂であれば特に限定されず、例えば、感光性の不飽和二重結合を1個以上有するカルボキシル基含有感光性樹脂を挙げることができる。(A)成分として、例えば、分子中にエポキシ基を2個以上有する多官能エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部に、アクリル酸、メタクリル酸等のラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させて不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂を得て、生成した水酸基に多塩基酸又はその無水物を反応させて得られる樹脂を挙げることができる。
(A) Carboxyl group-containing photosensitive resin
It will not specifically limit if it is a photosensitive resin containing a carboxyl group, For example, the carboxyl group-containing photosensitive resin which has 1 or more of photosensitive unsaturated double bonds can be mentioned. As the component (A), for example, at least a part of the epoxy group of a polyfunctional epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule is reacted with a radical polymerizable unsaturated monocarboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid. A resin obtained by obtaining an unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin and reacting the produced hydroxyl group with a polybasic acid or an anhydride thereof can be mentioned.

前記多官能性エポキシ樹脂は、2官能以上のエポキシ樹脂であればいずれでも使用可能である。また、エポキシ当量は特に制限されないが、例えば、100〜1000が好ましく、100〜500が特に好ましい。多官能性エポキシ樹脂には、例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂等のゴム変性エポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、о−クレゾールノボラック型等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族多官能エポキシ樹脂、グリシジルエステル型多官能エポキシ樹脂、グリシジルアミン型多官能エポキシ樹脂、複素環式多官能エポキシ樹脂、ビスフェノール変性ノボラック型エポキシ樹脂、多官能変性ノボラック型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物型エポキシ樹脂等を挙げることができる。また、これらの樹脂にBr、Cl等のハロゲン原子を導入したものを使用してもよい。これらのエポキシ樹脂は単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   Any polyfunctional epoxy resin can be used as long as it is a bifunctional or higher functional epoxy resin. Moreover, especially an epoxy equivalent is although it does not restrict | limit, For example, 100-1000 are preferable and 100-500 are especially preferable. Examples of the polyfunctional epoxy resin include biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, rubber modified epoxy resin such as silicone modified epoxy resin, ε-caprolactone modified epoxy resin, bisphenol A type, bisphenol. Phenol type novolak type epoxy resin such as F type, bisphenol AD type, cresol novolak type epoxy resin such as о-cresol novolak type, bisphenol A novolak type epoxy resin, cyclic aliphatic polyfunctional epoxy resin, glycidyl ester type polyfunctional epoxy resin, Glycidylamine type polyfunctional epoxy resin, heterocyclic polyfunctional epoxy resin, bisphenol modified novolac type epoxy resin, polyfunctional modified novolak type epoxy resin, phenols and phenolic hydroxyl group Examples thereof include condensate type epoxy resins with aromatic aldehydes. Moreover, you may use what introduce | transduced halogen atoms, such as Br and Cl, into these resin. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

使用するラジカル重合性不飽和モノカルボン酸は、特に限定されず、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸などを挙げることができ、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方(以下、(メタ)アクリル酸ということがある。)が好ましく、アクリル酸が特に好ましい。(メタ)アクリル酸を反応させて得られた不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂がエポキシ(メタ)アクリレートである。エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応方法に特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を適当な希釈剤中で加熱することにより反応させることができる。   The radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to be used is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, and the like. At least one of acrylic acid and methacrylic acid (hereinafter referred to as (meta) ) May be referred to as acrylic acid.) Is preferred, and acrylic acid is particularly preferred. The unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin obtained by reacting (meth) acrylic acid is epoxy (meth) acrylate. It is not specifically limited to the reaction method of an epoxy resin and radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, For example, it can be made to react by heating an epoxy resin and radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid in a suitable diluent. .

多塩基酸又は多塩基酸無水物は、前記エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応で生成した水酸基に反応し、樹脂に遊離のカルボキシル基を持たせるものである。使用する多塩基酸又はその無水物としては、特に限定されず、飽和、不飽和のいずれも使用可能である。多塩基酸には、例えば、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、クエン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、3−エチルテトラヒドロフタル酸、4−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3−メチルヘキサヒドロフタル酸、4−メチルヘキサヒドロフタル酸、3−エチルヘキサヒドロフタル酸、4−エチルヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸及びジグリコール酸等が挙げられ、多塩基酸無水物としてはこれらの無水物が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。   The polybasic acid or polybasic acid anhydride reacts with a hydroxyl group generated by the reaction between the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to give the resin a free carboxyl group. The polybasic acid to be used or its anhydride is not particularly limited, and either saturated or unsaturated can be used. Polybasic acids include, for example, succinic acid, maleic acid, adipic acid, citric acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4- Ethyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, methylhexahydro Examples include phthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, and diglycolic acid. Examples of polybasic acid anhydrides include these anhydrides. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂も感光性樹脂として使用できるが、上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の有するカルボキシル基に、1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基とを有するグリシジル化合物を反応させることにより、ラジカル重合性不飽和基を更に導入して、さらに感光性を向上させた多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂としてもよい。   The polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin can also be used as a photosensitive resin, but the carboxyl group of the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin has one or more radical polymerizable unsaturated groups and A polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin having further improved photosensitivity by further introducing a radical polymerizable unsaturated group by reacting with a glycidyl compound having an epoxy group may be used.

上記した感光性を向上させた多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂は、グリシジル化合物の反応によって、多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の側鎖にラジカル重合性不飽和基が結合しているので、光重合反応性がより高く、より優れた感光特性を有している。1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基とを有する化合物としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリアクリレートモノグリシジルエーテル等が挙げられる。なお、グリシジル基は1分子中に複数有していてもよい。上記した1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基とを有する化合物は、単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   The above-mentioned polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin with improved photosensitivity has a radically polymerizable unsaturated group bonded to the side chain of the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin by the reaction of the glycidyl compound. Therefore, the photopolymerization reactivity is higher and the photosensitive property is more excellent. Examples of the compound having one or more radically polymerizable unsaturated groups and an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, pentaerythritol triacrylate monoglycidyl ether, and the like. In addition, you may have multiple glycidyl groups in 1 molecule. The above-mentioned compound having one or more radically polymerizable unsaturated groups and an epoxy group may be used alone or in combination of two or more.

また、(A)成分として、上記以外に、例えば、(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸エステルとを反応させて得られる共重合体のカルボキシル基の一部に、エチレン性不飽和結合を有する脂環骨格エポキシを反応させた、カルボキシル基含有感光性樹脂を挙げることもできる。   In addition to the above, as the component (A), for example, an ethylenically unsaturated bond is formed on a part of the carboxyl group of the copolymer obtained by reacting (meth) acrylic acid and (meth) acrylic ester. A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting an alicyclic skeleton epoxy having the same can also be exemplified.

(メタ)アクリル酸エステルは特に限定されないが、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   The (meth) acrylic acid ester is not particularly limited. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, propyl (meth) Examples thereof include acrylate and hydroxypropyl (meth) acrylate.

脂環骨格エポキシとは、脂環骨格とエポキシ基を有する化合物または樹脂であり、骨格が脂肪族環式化合物またはその連鎖によって形成されている。エポキシ当量は特に限定されないが、100〜1000が好ましく、100〜500が特に好ましい。脂肪族環式化合物には、例えば、シクロヘキサン、シクロペンタン等が挙げられる。脂環骨格エポキシとしては、例えば、3,4‐エポキシシクロヘキセニルメチル‐3′,4′‐エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ヴィニルシクロヘキセンモノオキサイド1,2‐エポキシ‐4‐ビニルシクロヘキサン、2,2‐ビス(ヒドロキシメチル)‐1‐ブタノールの1,2‐エポキシ‐4‐(2‐オキシラニル)シクロヘキサン付加物などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合は、例えば、アクリル基、メタクリル基等の不飽和結合が挙げられる。   The alicyclic skeleton epoxy is a compound or resin having an alicyclic skeleton and an epoxy group, and the skeleton is formed by an aliphatic cyclic compound or a chain thereof. Although an epoxy equivalent is not specifically limited, 100-1000 are preferable and 100-500 are especially preferable. Examples of the aliphatic cyclic compound include cyclohexane and cyclopentane. Examples of the alicyclic skeleton epoxy include 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate, vinylcyclohexene monooxide 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, and 2,2-bis. Examples include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of (hydroxymethyl) -1-butanol. Examples of the ethylenically unsaturated bond include unsaturated bonds such as an acryl group and a methacryl group.

(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸エステルとを反応させて得られる共重合体のカルボキシル基の一部に、エチレン性不飽和結合を有する脂環骨格エポキシのエポキシ基を反応させると、エポキシ基とカルボキシル基との反応により、エポキシ基が開裂して水酸基とエステル結合が生成する。従って、得られたカルボキシル基含有感光性樹脂は、エポキシ基に由来するエチレン性不飽和結合を有している。   When an epoxy group of an alicyclic skeleton epoxy having an ethylenically unsaturated bond is reacted with a part of the carboxyl group of a copolymer obtained by reacting (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, an epoxy is obtained. By the reaction between the group and the carboxyl group, the epoxy group is cleaved to form a hydroxyl group and an ester bond. Therefore, the obtained carboxyl group-containing photosensitive resin has an ethylenically unsaturated bond derived from an epoxy group.

(A)成分であるカルボキシル基含有感光性樹脂の酸価は特に限定されないが、例えば、その下限値は、確実なアルカリ現像性の点から30mgKOH/gが好ましく、40mgKOH/gが特に好ましい。一方、例えば、酸価の上限値は、アルカリ現像液による露光部の溶解防止の点から200mgKOH/gが好ましく、硬化物の耐湿性と電気特性の劣化防止の点から150mgKOH/gが特に好ましい。   The acid value of the carboxyl group-containing photosensitive resin as component (A) is not particularly limited. For example, the lower limit is preferably 30 mg KOH / g, particularly preferably 40 mg KOH / g, from the viewpoint of reliable alkali developability. On the other hand, for example, the upper limit of the acid value is preferably 200 mgKOH / g from the viewpoint of preventing dissolution of the exposed portion with an alkali developer, and particularly preferably 150 mgKOH / g from the viewpoint of preventing moisture from being cured and preventing deterioration of electrical characteristics.

また、カルボキシル基含有感光性樹脂の重量平均分子量は特に限定されないが、例えば、その下限値は、硬化物の強靭性及び指触乾燥性の点から3000が好ましく、特に好ましくは5000である。一方、例えば、重量平均分子量の上限値は、(C)成分である希釈剤等との相溶性及び円滑なアルカリ現像性の点から200000が好ましく、特に好ましくは50000である。   Further, the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing photosensitive resin is not particularly limited, but for example, the lower limit is preferably 3000, particularly preferably 5000, from the viewpoint of toughness of the cured product and dryness to touch. On the other hand, for example, the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 200000, particularly preferably 50000, from the viewpoint of compatibility with the diluent (C) and the like and smooth alkali developability.

カルボキシル基含有感光性樹脂として市販されているものには、例えば、ZFR−1124、FLX−2089(以上、日本化薬(株)製)、サイクロマーP(ACA)Z−250、サイクロマーP(ACA)Z−300(以上、ダイセル・サイテック(株)製)、リポキシ SP−4621(昭和高分子(株)製)等を挙げることができる。これらの樹脂は、単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   Examples of commercially available carboxyl group-containing photosensitive resins include ZFR-1124, FLX-2089 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Cyclomer P (ACA) Z-250, Cyclomer P ( ACA) Z-300 (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), lipoxy SP-4621 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), and the like. These resins may be used alone or in combination of two or more.

(B)光重合開始剤
光重合開始剤は、一般的に使用されるものであれば特に限定されず、例えば、オキシム系開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン‐n‐ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2‐ジメトキシ‐2‐フェニルアセトフェノン、2,2‐ジエトキシ‐2‐フェニルアセトフェノン、2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐フェニルプロパン‐1‐オン、1‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2‐メチル‐1‐〔4‐(メチルチオ)フェニル〕‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン、4‐(2‐ヒドロキシエトキシ)フェニル‐2‐(ヒドロキシ‐2‐プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p‐フェニルベンゾフェノン、4,4′‐ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロルベンゾフェノン、2‐メチルアントラキノン、2‐エチルアントラキノン、2‐ターシャリーブチルアントラキノン、2‐アミノアントラキノン、2‐メチルチオキサントン、2‐エチルチオキサントン、2‐クロルチオキサントン、2,4‐ジメチルチオキサントン、2,4‐ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、P‐ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、フェニルビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
(B) Photopolymerization initiator The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is generally used. For example, oxime initiators, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin -N-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- 1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2- (hydroxy -2-propyl Ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2- Ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, P-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide And phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide. These may be used alone or in combination of two or more.

波長300〜400nmの紫外光が本発明の白色硬化性樹脂組成物に照射されると、上記光重合開始剤がカルボキシル基含有感光性樹脂の光硬化を促進する。光重合開始剤の配合量は特に限定されないが、例えば、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、5〜20質量部が好ましく、8〜15質量部が特に好ましい。   When the white curable resin composition of the present invention is irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 300 to 400 nm, the photopolymerization initiator promotes photocuring of the carboxyl group-containing photosensitive resin. Although the compounding quantity of a photoinitiator is not specifically limited, For example, 5-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin, and 8-15 mass parts is especially preferable.

(C)希釈剤
希釈剤には、例えば、反応性希釈剤、非反応性希釈剤を挙げることができる。希釈剤として、反応性希釈剤と非反応性希釈剤のいずれか一方を使用してもよく、必要に応じて、反応性希釈剤と非反応性希釈剤の両方を使用してもよい。
(C) Diluent Examples of the diluent include a reactive diluent and a non-reactive diluent. As the diluent, either a reactive diluent or a non-reactive diluent may be used, and both a reactive diluent and a non-reactive diluent may be used as necessary.

反応性希釈剤とは、例えば、光重合性モノマーであり、1分子当たり少なくとも2つの重合性二重結合を有する化合物である。反応性希釈剤は、カルボキシル基含有感光性樹脂の光硬化を十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性などを有する硬化物を得るために使用する。反応性希釈剤は、上記化合物であれば特に限定されないが、例えば、1,4‐ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6‐ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性燐酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   The reactive diluent is, for example, a photopolymerizable monomer and a compound having at least two polymerizable double bonds per molecule. The reactive diluent is used to sufficiently cure the carboxyl group-containing photosensitive resin and obtain a cured product having acid resistance, heat resistance, alkali resistance, and the like. The reactive diluent is not particularly limited as long as it is the above compound. For example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate , Diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate , Ethylene oxide modified phosphoric acid di (meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylo Rupropanetetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxy) And ethyl) isocyanurate, propionic acid-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

反応性希釈剤の配合量は特に限定されないが、例えば、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、2.0〜60質量部が好ましく、10〜50質量部が特に好ましい。   Although the compounding quantity of a reactive diluent is not specifically limited, For example, 2.0-60 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin, and 10-50 mass parts is especially preferable.

非反応性希釈剤は、白色硬化性樹脂組成物の粘度や乾燥性を調節するために配合する。非反応性希釈剤には、例えば、有機溶剤が挙げられる。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール、などのアルコール類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤類、セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   A non-reactive diluent is mix | blended in order to adjust the viscosity and drying property of a white curable resin composition. Non-reactive diluents include, for example, organic solvents. Examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as methanol, isopropanol and cyclohexanol, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane. Petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha, cellosolves such as cellosolve and butylcellosolve, carbitols such as carbitol and butylcarbitol, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl Examples thereof include esters such as carbitol acetate and diethylene glycol monoethyl ether acetate. These may be used alone or in combination of two or more.

非反応性希釈剤の配合量は特に限定されないが、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、10〜500質量部が好ましい。   Although the compounding quantity of a non-reactive diluent is not specifically limited, 10-500 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin.

(D)エポキシ化合物
エポキシ化合物は、硬化物の架橋密度を上げて、十分な機械的強度を有する硬化塗膜を得るためのものである。エポキシ化合物には、例えば、エポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂は特に限定されないが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添型ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、p−tert−ブチルフェノールノボラック型など)、ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒドリンを反応させて得られたビスフェノールF型やビスフェノールS型エポキシ樹脂、さらにシクロヘキセンオキシド基、トリシクロデカンオキシド基、シクロペンテンオキシド基などを有する脂環式エポキシ樹脂、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。
(D) Epoxy compound The epoxy compound is for increasing the crosslinking density of the cured product to obtain a cured coating film having sufficient mechanical strength. Examples of the epoxy compound include an epoxy resin. The epoxy resin is not particularly limited. For example, bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, novolak type epoxy resin (phenol novolak type epoxy resin, o-cresol novolak type epoxy resin, p-tert-butylphenol novolak) Type), bisphenol F type or bisphenol S type epoxy resin obtained by reacting bisphenol F or bisphenol S with epichlorohydrin, and cycloaliphatic epoxy resin having cyclohexene oxide group, tricyclodecane oxide group, cyclopentene oxide group, etc. , Triglycidyl isocyanurate having a triazine ring such as tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, triglycidyltris (2-hydroxyethyl) isocyanurate Over DOO, dicyclopentadiene type epoxy resins, adamantane type epoxy resin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ化合物の配合量は特に限定されないが、硬化後に十分な機械的強度の塗膜を得る点から、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、1.0〜50質量部が好ましく、2.0〜30質量部が特に好ましい。   Although the compounding quantity of an epoxy compound is not specifically limited, 1.0-50 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin from the point which obtains the coating film of sufficient mechanical strength after hardening. 0.0 to 30 parts by mass is particularly preferable.

(E)針状酸化チタン
針状酸化チタンは、アスペクト比が1.0超、特に5.0以上の長針形状または繊維形状の酸化チタンである。針状の酸化チタンを用いると、白色硬化性樹脂組成物のチクソトロピー性が向上またはチクソトロピー性の低下を抑制してダレの発生を防止しつつ、赤外光(例えば、波長2000nm付近の赤外光)に対しても高い反射能を有する塗膜を得ることができる。
(E) Acicular titanium oxide Acicular titanium oxide is a long needle-shaped or fiber-shaped titanium oxide having an aspect ratio of more than 1.0, particularly 5.0 or more. Using acicular titanium oxide improves the thixotropy of the white curable resin composition or suppresses the reduction of thixotropy to prevent the occurrence of sag, while preventing infrared light (for example, infrared light having a wavelength of about 2000 nm). ) Can also be obtained.

針状酸化チタンには、例えば、アナタース型の針状酸化チタン、ルチル結晶構造を有する針状酸化チタン(ルチル型の針状酸化チタン)を挙げることができる。このうち、ルチル型の針状酸化チタンには、例えば、石原産業(株)製の「FTL‐100」、「FTL‐110」、「FTL‐200」、「FTL‐300」等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。   Examples of the acicular titanium oxide include anatase acicular titanium oxide and acicular titanium oxide having a rutile crystal structure (rutile acicular titanium oxide). Among these, examples of the rutile needle-like titanium oxide include “FTL-100”, “FTL-110”, “FTL-200”, “FTL-300” and the like manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. it can. These may be used alone or in combination of two or more.

針状酸化チタンのアスペクト比は、1.0超であれば特に限定されないが、例えば、その下限値は、塗膜にダレが発生するのを確実に防止する点から10が好ましく、赤外光に対する反射能をより向上させる点から15が特に好ましい。一方、アスペクト比の上限値は、白色硬化性樹脂組成物の生産性の点から30が好ましく、塗工性の低下を防止する点から25が特に好ましい。   The aspect ratio of the acicular titanium oxide is not particularly limited as long as it exceeds 1.0. For example, the lower limit is preferably 10 from the viewpoint of surely preventing the sagging from occurring in the coating film. 15 is particularly preferable from the viewpoint of further improving the reflectivity of the light. On the other hand, the upper limit of the aspect ratio is preferably 30 from the viewpoint of productivity of the white curable resin composition, and particularly preferably 25 from the viewpoint of preventing the coating property from being lowered.

針状酸化チタンの長軸の寸法は特に限定されないが、例えば、その下限値は、ダレの防止と赤外光に対する反射能を確実に向上させる点から1.0μmが好ましく、ダレの防止と赤外光に対する反射能とをバランスよく向上させる点から2.0μmが特に好ましい。一方、その上限値は、平滑な塗膜表面を得る点から10μmが好ましく、塗工性の低下を防止しつつ塗膜の解像性を得る点から7.0μmが特に好ましい。   The major axis dimension of the acicular titanium oxide is not particularly limited. For example, the lower limit is preferably 1.0 μm from the viewpoint of preventing sagging and reliably improving the reflectivity to infrared light. From the viewpoint of improving the reflectivity with respect to outside light in a well-balanced manner, 2.0 μm is particularly preferable. On the other hand, the upper limit is preferably 10 [mu] m from the viewpoint of obtaining a smooth coating film surface, and particularly preferably 7.0 [mu] m from the viewpoint of obtaining the resolution of the coating film while preventing a decrease in coating properties.

針状酸化チタンの配合量は特に限定されないが、例えば、その下限値は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、赤外光に対する反射能を確実に向上させる点から40質量部が好ましく、赤外光の反射率をより向上させる点から50質量部がより好ましく、チクソ比を向上させてダレの発生を確実に防止する点から55質量部が特に好ましい。一方、その上限値は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、赤外光に対する反射能の低下を確実に防止する点から90質量部が好ましく、白色硬化性樹脂組成物の感光性の低下を防止する点から80質量部がより好ましく、赤外光に対する反射能の低下をより確実に防止する点から70質量部が特に好ましい。   Although the compounding quantity of acicular titanium oxide is not specifically limited, For example, the lower limit is 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing photosensitive resin from the viewpoint of surely improving the reflectivity for infrared light. Preferably, 50 parts by mass is more preferable from the viewpoint of further improving the reflectance of infrared light, and 55 parts by mass is particularly preferable from the viewpoint of improving the thixotropy and reliably preventing the occurrence of sagging. On the other hand, the upper limit is preferably 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing photosensitive resin from the viewpoint of surely preventing a decrease in reflectivity with respect to infrared light, and the sensitivity of the white curable resin composition. 80 parts by mass is more preferable from the viewpoint of preventing a decrease in light intensity, and 70 parts by mass is particularly preferable from the viewpoint of more reliably preventing a decrease in reflectivity with respect to infrared light.

本発明の硬化性樹脂組成物には、上記した(A)〜(E)成分の他に、必要に応じて、種々の添加成分、例えば、体質顔料、各種添加剤などを適宜含有させることができる。   In addition to the components (A) to (E) described above, the curable resin composition of the present invention may appropriately contain various additive components such as extender pigments and various additives as necessary. it can.

体質顔料は、塗膜の強度と剛性を上げるためのものであり、例えば、チタン酸カリウムウィスカー、硫酸マグネシウムウィスカー、炭化ケイ素ウィスカー、炭酸カルシウムウィスカー、硫酸バリウム、結晶質シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、タルク、マイカ等を挙げることができる。   The extender pigment is for increasing the strength and rigidity of the coating film. For example, potassium titanate whisker, magnesium sulfate whisker, silicon carbide whisker, calcium carbonate whisker, barium sulfate, crystalline silica, alumina, aluminum hydroxide, Examples include talc and mica.

各種添加剤には、シリコーン系、炭化水素系、アクリル系等の消泡剤、ジシアンジアミド(DICY)及びその誘導体、メラミン及びその誘導体等の潜在性硬化剤、非晶質二酸化ケイ素等のレオロジーコントロール剤、フェノール系、リン系等の酸化防止剤、シラン系、チタネート系、アルミナ系等のカップリング剤、トリフェニルホスフィン、イミダゾール、イミダゾリウム塩、トリエタノールアミンボレート等の硬化促進剤などが挙げられる。   Various additives include silicone, hydrocarbon, acrylic and other antifoaming agents, dicyandiamide (DICY) and its derivatives, latent curing agents such as melamine and its derivatives, and rheology control agents such as amorphous silicon dioxide And phenol-based and phosphorus-based antioxidants, silane-based, titanate-based, and alumina-based coupling agents, and triphenylphosphine, imidazole, imidazolium salts, and curing accelerators such as triethanolamine borate.

上記した本発明の白色硬化性樹脂組成物の製造方法は、特定の方法に限定されないが、例えば、上記成分(A)〜(E)および必要に応じてその他の成分を所定割合で配合後、室温にて、三本ロール、ボールミル、サンドミル等の混練手段、またはスーパーミキサー、プラネタリーミキサー等の攪拌手段により混練または混合して製造することができる。また、前記混練または混合の前に、必要に応じて、予備混練または予備混合してもよい。   Although the manufacturing method of the above-mentioned white curable resin composition of the present invention is not limited to a specific method, for example, after blending the above components (A) to (E) and other components at a predetermined ratio as necessary, It can be produced by kneading or mixing at room temperature by a kneading means such as a three-roll, ball mill or sand mill, or a stirring means such as a super mixer or a planetary mixer. Further, prior to the kneading or mixing, if necessary, preliminary kneading or premixing may be performed.

次に、上記した本発明の白色硬化性樹脂組成物の使用方法について説明する。まず、本発明の硬化性樹脂組成物をソルダーレジストとしてプリント配線板に塗工する場合を例にとって説明する。   Next, a method for using the above-described white curable resin composition of the present invention will be described. First, the case where the curable resin composition of the present invention is applied to a printed wiring board as a solder resist will be described as an example.

上記のようにして製造した本発明の白色硬化性樹脂組成物を、例えば銅箔をエッチングして形成した回路パターンを有するプリント配線板上に、スクリーン印刷法、ロールコータ法、バーコータ法、スプレーコータ法、カーテンフローコータ法、グラビアコータ法等を用いて所望の厚さに塗布する。次に、白色硬化性樹脂組成物中の希釈剤(有機溶剤)を揮散させるために、白色硬化性樹脂組成物が塗布されたプリント配線板を垂直に立て掛けて、60〜80℃程度の温度で15〜60分間程度加熱する予備乾燥を行い、タックフリーの塗膜を形成する。その後、予備乾燥した白色硬化性樹脂組成物上に、前記回路パターンのランド以外を透光性にしたパターンを有するネガフィルムを密着させ、その上から紫外線を照射させる。そして、前記ランドに対応する非露光領域を希アルカリ水溶液で除去することにより塗膜を現像する。現像方法は、特に限定されず、例えば、スプレー法、シャワー法等が用いられ、使用される希アルカリ水溶液としては、例えば、0.5〜5%の炭酸ナトリウム水溶液が挙げられる。次いで、130〜170℃の熱風循環式の乾燥機等で20〜80分間ポストキュアを行うことにより塗膜を熱硬化させ、プリント配線板上に目的とする白色硬化性樹脂組成物の硬化塗膜を形成させることができる。   The white curable resin composition of the present invention produced as described above, for example, on a printed wiring board having a circuit pattern formed by etching a copper foil, screen printing method, roll coater method, bar coater method, spray coater The film is applied to a desired thickness using a method, a curtain flow coater method, a gravure coater method, or the like. Next, in order to volatilize the diluent (organic solvent) in the white curable resin composition, the printed wiring board coated with the white curable resin composition is vertically leaned at a temperature of about 60 to 80 ° C. Preliminary drying is performed for about 15 to 60 minutes to form a tack-free coating film. Then, the negative film which has the pattern which made translucent except the land of the said circuit pattern was closely_contact | adhered on the white curable resin composition dried previously, and an ultraviolet-ray is irradiated from it. Then, the coating film is developed by removing a non-exposed area corresponding to the land with a dilute alkaline aqueous solution. The development method is not particularly limited, and for example, a spray method, a shower method, or the like is used, and examples of the diluted alkaline aqueous solution used include 0.5 to 5% sodium carbonate aqueous solution. Next, the coating film is thermally cured by performing post-cure for 20 to 80 minutes with a hot-air circulating dryer or the like at 130 to 170 ° C., and a cured coating film of the desired white curable resin composition on the printed wiring board. Can be formed.

次に、本発明の白色硬化性樹脂組成物を、シート状のベースフィルムに塗工して反射シートを製造する場合を例にとって説明する。本発明の白色硬化性樹脂組成物を、シート状のベースフィルム上に塗工する方法は特に限定されないが、例えば、厚さ40μmのベースフィルムの表面を3%硫酸で処理して表面を洗浄後、洗浄した表面に、上記したスクリーン印刷法等、公知の印刷方法を用いて白色硬化性樹脂組成物を所定の厚さ、例えば、硬化後の膜厚が20〜23μmとなるように塗工する。白色硬化性樹脂組成物の塗工部位は特に限定されないが、例えば、太陽電池モジュール裏面に対向したベースフィルム表面の全面または略全面について行なう。塗工後、60〜80℃程度の温度で15〜60分間程度加熱する予備乾燥を行って、塗膜をタックフリーにする。次いで、130〜170℃程度の温度で10〜80分間ポストキュアを行うことにより塗膜を熱硬化させて、シート状のベースフィルム上に目的とする白色の反射皮膜を形成させ、反射シートを製造することができる。   Next, the case where the white curable resin composition of the present invention is applied to a sheet-like base film to produce a reflective sheet will be described as an example. The method for coating the white curable resin composition of the present invention on the sheet-like base film is not particularly limited. For example, after the surface of the base film having a thickness of 40 μm is treated with 3% sulfuric acid and the surface is washed. The white curable resin composition is applied to the cleaned surface using a known printing method such as the above-described screen printing method so as to have a predetermined thickness, for example, a film thickness after curing of 20 to 23 μm. . Although the application site | part of a white curable resin composition is not specifically limited, For example, it carries out about the whole surface of the base film surface facing the solar cell module back surface, or the substantially whole surface. After coating, preliminary drying is performed by heating at a temperature of about 60 to 80 ° C. for about 15 to 60 minutes to make the coating film tack-free. Next, the coating film is thermally cured by performing post-cure at a temperature of about 130 to 170 ° C. for 10 to 80 minutes to form a target white reflective film on the sheet-like base film, thereby producing a reflective sheet. can do.

本発明の白色硬化性樹脂組成物が塗工されるベースフィルムの材料は、特に限定されないが、例えば、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリビニルフロライド(PVF)、フッ化エチレン・プロピレンコポリマー(FEP)、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)、アラミド、ポリアミド・イミド、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエチレンナフタレート(PEN)、液晶ポリマー(LCP)等を挙げることができる。   The material of the base film to which the white curable resin composition of the present invention is applied is not particularly limited. For example, polyimide, polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl fluoride (PVF), fluorinated ethylene / propylene copolymer (FEP) ), Polytetrafluoroethylene (PTFE), aramid, polyamide-imide, epoxy, polyetherimide, polysulfone, polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystal polymer (LCP), and the like.

次に、本発明の実施例を説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、これらの例に限定されるものではない。   Next, examples of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to these examples as long as the gist thereof is not exceeded.

実施例1〜4、比較例1〜3
下記表1に示す各成分を下記表1に示す配合割合にて配合し、3本ロールを用いて室温にて混合分散させて、実施例1〜4、比較例1〜3にて使用する白色硬化性樹脂組成物を調製した。下記表1に示す各成分の配合量は、質量部を示す。
Examples 1-4, Comparative Examples 1-3
The components shown in Table 1 below are blended in the proportions shown in Table 1 below, mixed and dispersed at room temperature using three rolls, and used in Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3. A curable resin composition was prepared. The compounding amount of each component shown in Table 1 below indicates parts by mass.

Figure 0005971977
Figure 0005971977

なお、表1中の各成分についての詳細は以下の通りである。
(A)カルボキシル基含有感光性樹脂
・サイクロマーP(ACA)Z−300:ダイセル・サイテック(株)製、カルボキシル基及びアクリロイル基を有するアクリル樹脂(アクリル酸とアクリル酸エステルとを反応させて得られる共重合体のカルボキシル基の一部にアクリロイル基含有脂環骨格エポキシを反応させた樹脂)。
(B)光重合開始剤
・SPEEDCURE TPO:日本シイベルヘグナー(株)製、2,4,6‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド。
・IRGACURE 819:チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、フェニルビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド。
・SPEEDCURE DETX:日本シイベルヘグナー(株)製、2,4‐ジエチルチオキサントン。
(C)希釈剤
・アロニックスM‐408:東亞合成(株)製、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート。
(D)エポキシ化合物
・EPICLON850:DIC(株)製、A型液状エポキシ樹脂。
(E)針状酸化チタン
・FTL‐300:石原産業(株)製、ルチル型酸化チタン(繊維長5.15μm、繊維径0.27μm、アスペクト比19.1)。
The details of each component in Table 1 are as follows.
(A) Carboxy group-containing photosensitive resin / Cyclomer P (ACA) Z-300: manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., acrylic resin having carboxyl group and acryloyl group (obtained by reacting acrylic acid and acrylic ester) A resin obtained by reacting an acryloyl group-containing alicyclic skeleton epoxy with a part of the carboxyl group of the copolymer.
(B) Photopolymerization initiator-SPEEDCURE TPO: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide manufactured by Nippon Siberhegner Co., Ltd.
IRGACURE 819: Phenylbis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide manufactured by Ciba Specialty Chemicals.
SPEEDCURE DETX: 2,4-diethylthioxanthone manufactured by Nippon Shibel Hegner Co., Ltd.
(C) Diluent Aronix M-408: Ditrimethylolpropane tetraacrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd.
(D) Epoxy compound / EPICLON 850: A type liquid epoxy resin manufactured by DIC Corporation.
(E) Acicular titanium oxide FTL-300: manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., rutile titanium oxide (fiber length 5.15 μm, fiber diameter 0.27 μm, aspect ratio 19.1).

その他の成分について
球状酸化チタン
・CR‐80:石原産業(株)製、球状のルチル型酸化チタン(平均一次粒子径0.25μm)。
体質顔料
・ティスモD:大塚化学(株)製、チタン酸カリウム繊維、白色針状結晶(繊維長10〜20μm、繊維径0.3〜0.6μm)。
・バリエースB−30:堺化学工業(株)製、硫酸バリウム。
・Min-u-sil 5:エア・ブラウン(株)製、主成分;結晶質シリカ。
About other ingredients
Spherical titanium oxide CR-80: Spherical rutile titanium oxide (average primary particle size 0.25 μm) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.
Extending pigment / Tismo D: manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., potassium titanate fiber, white needle crystal (fiber length 10-20 μm, fiber diameter 0.3-0.6 μm).
-Variace B-30: Sakai Chemical Industry Co., Ltd. barium sulfate.
Min-u-sil 5: manufactured by Air Brown Co., Ltd., main component: crystalline silica.

添加剤
・KS‐66:信越化学工業(株)製、シリコーン系消泡剤。
・レオロシールDM‐20S:(株)トクヤマ製、レオロジーコントロール剤、非晶質二酸化ケイ素。
・DICY‐7:ジャパンエポキシレジン(株)製、潜在性硬化剤、ジシアンジアミド。
・メラミン:日産化学工業(株)製、潜在性硬化剤。
・SUMILIZER GA‐80:住友化学(株)製、フェノール系酸化防止剤、ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸](2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン-3,9-ジイル)ビス(2,2-ジメチル-2,1-エタンジイル)。
Additive : KS-66: Silicone defoamer manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
-Leolosil DM-20S: manufactured by Tokuyama Corporation, rheology control agent, amorphous silicon dioxide.
-DICY-7: Japan Epoxy Resin Co., Ltd., latent curing agent, dicyandiamide.
Melamine: A product made by Nissan Chemical Industries, Ltd., a latent curing agent.
・ SUMILIZER GA-80: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., phenolic antioxidant, bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] (2,4,8,10) -Tetraoxaspiro [5.5] undecane-3,9-diyl) bis (2,2-dimethyl-2,1-ethanediyl).

試験片作製工程
銅張積層板(FR‐4、厚さ1.6mm、導体厚35μm)に回路パターンを形成したプリント配線板を希硫酸(3質量%)により表面処理した後、スクリーン印刷法にて、実施例1〜4及び比較例1〜3にて使用する白色硬化性樹脂組成物(調製後恒温槽中にて30℃24時間放置後のもの)を、それぞれ塗布した。次に、塗布したプリント配線板を垂直に立て掛けた状態でBOX炉にて80℃で20分の予備乾燥を行った。予備乾燥後、塗膜上に露光装置(オーク社製、HMW−680GW)にて紫外線(波長300〜450nm)を500mJ/cm2露光した後、30℃、1%の炭酸ナトリウム水溶液にて現像後、BOX炉にて150℃で60分のポストキュアを行って、プリント配線板上に白色硬化性樹脂組成物の硬化塗膜を形成し、試験片を作製した。硬化塗膜の厚みは20〜23μmであった。
Test piece preparation process After surface-treating a printed wiring board with a circuit pattern formed on a copper clad laminate (FR-4, thickness 1.6 mm, conductor thickness 35 μm) with dilute sulfuric acid (3% by mass), screen printing is applied. The white curable resin compositions used in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 (those after standing in a constant temperature bath at 30 ° C. for 24 hours) were respectively applied. Next, preliminary drying was performed at 80 ° C. for 20 minutes in a BOX furnace in a state where the applied printed wiring board was stood vertically. After preliminary drying, the coating film was exposed to ultraviolet light (wavelength 300 to 450 nm) with an exposure device (OMW, HMW-680 GW) at 500 mJ / cm 2 and then developed at 30 ° C. with a 1% sodium carbonate aqueous solution. A post-cure was performed at 150 ° C. for 60 minutes in a BOX furnace to form a cured coating film of a white curable resin composition on the printed wiring board, thereby preparing a test piece. The thickness of the cured coating film was 20 to 23 μm.

評価
(1)チクソ比
上記のように調製した直後の白色硬化性樹脂組成物(表2中の「初期」)及び調製後恒温槽中にて30℃24時間放置後の白色硬化性樹脂組成物(表2中の「24時間後」)について、それぞれ、ブルックフィールド製粘度計「HVT型」を用いて、試料温度25℃におけるスピンドル回転数5rpmのBF粘度(η5)、及び試料温度25℃におけるスピンドル回転数50rpmのBF粘度(η50)をそれぞれ測定し、該粘度の比(η5/η50)からチクソ比を算出した。
(2)ダレ性
垂直に立て掛けた状態で行った予備乾燥後のプリント配線板について、目視により観察し、以下の基準に従って評価した。
○:プリント配線板上の塗膜に、ダレがない。
△:プリント配線板上の回路パターン部の塗膜に、ダレがややある。
×:プリント配線板上の回路パターン部の塗膜に、片寄りによるダレが認められる。
(3)はんだ耐熱性
上記試験片作製工程にて作製した試験片の硬化塗膜を、JIS C−6481の試験方法に従って、260℃のはんだ槽に30秒間浸せき後、セロハンテープによるピーリング試験を1サイクルとし、これを1〜3回繰り返した後の塗膜状態を目視により観察し、以下の基準に従って評価した。なお、上記ピーリング試験は、いずれも、回路パターンが形成された部位にて行なった。
◎:3サイクル繰り返し後も塗膜に変化が認められない。
○:3サイクル繰り返し後の塗膜にほんの僅か変化が認められる。
△:2サイクル繰り返し後の塗膜に変化が認められる。
×:1サイクル後の塗膜に剥離が認められる。
(4)反射率(%)
分光光度計U‐4100((株)日立製作所製:φ60mm積分球)にて、上記試験片作製工程にて作製した試験片の2000nmおける反射率を測定した。
Evaluation
(1) Thixo ratio White curable resin composition immediately after preparation as described above ("Initial" in Table 2) and white curable resin composition after standing at 30 ° C for 24 hours in a thermostat after preparation ( With respect to “after 24 hours” in Table 2, using a Brookfield viscometer “HVT type”, a BF viscosity (η5) at a spindle rotation speed of 5 rpm at a sample temperature of 25 ° C. and a spindle at a sample temperature of 25 ° C. The BF viscosity (η50) at a rotation speed of 50 rpm was measured, and the thixo ratio was calculated from the viscosity ratio (η5 / η50).
(2) Sag property A printed wiring board after preliminary drying performed in a vertically leaning state was visually observed and evaluated according to the following criteria.
○: The coating film on the printed wiring board is not sagging.
Δ: Slight sagging in the coating film of the circuit pattern portion on the printed wiring board.
X: The sagging by the offset is recognized in the coating film of the circuit pattern part on a printed wiring board.
(3) Solder heat resistance The cured coating film of the test piece prepared in the above-mentioned test piece preparation process is immersed in a solder bath at 260 ° C. for 30 seconds in accordance with the test method of JIS C-6481, and then a peeling test using a cellophane tape is performed. The state of the coating film was visually observed after 1 to 3 cycles, and evaluated according to the following criteria. In addition, all the said peeling tests were done in the site | part in which the circuit pattern was formed.
A: No change is observed in the coating film even after 3 cycles.
○: Only a slight change is observed in the coating film after repeating 3 cycles.
(Triangle | delta): A change is recognized by the coating film after 2 cycles repetition.
X: Peeling is recognized in the coating film after 1 cycle.
(4) Reflectance (%)
Using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi, Ltd .: φ60 mm integrating sphere), the reflectance at 2000 nm of the test piece prepared in the test piece preparation step was measured.

実施例1〜4及び比較例1〜3の評価結果を表2に示す。

Figure 0005971977
Table 2 shows the evaluation results of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3.
Figure 0005971977

上記表2の実施例1〜4に示すように、針状酸化チタンを用いると、はんだ耐熱性を損なうことなく、白色硬化性樹脂組成物のチクソ比が向上してダレの発生を防止し、さらに波長2000nmの赤外光に対して優れた反射率を有する塗膜を得ることができた。実施例1〜3より、針状酸化チタンが、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して40質量部〜90質量部含有すると、より高い反射率が得られ、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して60質量部含有すると、特に高い反射率が得られた。また、実施例の白色硬化性樹脂組成物では、24時間放置してもチクソ比の低下を抑制できた。   As shown in Examples 1 to 4 of Table 2 above, when acicular titanium oxide is used, the thixo ratio of the white curable resin composition is improved without impairing solder heat resistance, and the occurrence of sagging is prevented. Furthermore, a coating film having excellent reflectance with respect to infrared light having a wavelength of 2000 nm could be obtained. From Examples 1 to 3, when the acicular titanium oxide contains 40 parts by mass to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing photosensitive resin, a higher reflectance is obtained, and the carboxyl group-containing photosensitive resin 100 is obtained. When 60 mass parts was contained with respect to mass parts, particularly high reflectance was obtained. Moreover, in the white curable resin composition of an Example, the fall of the thixo ratio could be suppressed even if it was left for 24 hours.

一方、針状酸化チタンを配合しない比較例1〜3では、波長2000nmの赤外光に対して良好な反射率は得られなかった。また、比較例1から、球状の酸化チタンを配合しなくてもダレが発生し、さらに、実施例1と比較例2から、球状の酸化チタンを使用すると、白色硬化性樹脂組成物のチクソ比が低下してダレが発生し、波長2000nmの赤外光に対して良好な反射率も得られなかった。また、比較例3から、高アスペクト比のチタン酸カリウム繊維を使用することで、チクソ比が上昇しダレの発生は防止できたが、波長2000nmの赤外光に対する良好な反射率は得られなかった。   On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3 in which no acicular titanium oxide was blended, good reflectance was not obtained for infrared light having a wavelength of 2000 nm. Further, sagging occurs even if spherical titanium oxide is not blended from Comparative Example 1, and further, when spherical titanium oxide is used from Example 1 and Comparative Example 2, the thixo ratio of the white curable resin composition Was reduced and sagging occurred, and good reflectivity was not obtained for infrared light having a wavelength of 2000 nm. Further, from Comparative Example 3, by using a high aspect ratio potassium titanate fiber, the thixo ratio increased and the occurrence of sagging could be prevented, but a good reflectance for infrared light having a wavelength of 2000 nm could not be obtained. It was.

本発明の白色硬化性樹脂組成物は、塗膜にダレが発生するのを防止しつつ、赤外光に対して優れた反射率を有する硬化塗膜を得ることができるので、例えば、プリント配線板の絶縁膜、太陽電池用の反射シート、液晶テレビのバックシートの分野等で利用価値が高い。   Since the white curable resin composition of the present invention can obtain a cured coating film having excellent reflectance with respect to infrared light while preventing the coating film from sagging, for example, printed wiring The utility value is high in the fields of insulating films for plates, reflective sheets for solar cells, and back sheets for liquid crystal televisions.

Claims (4)

(A)カルボキシル基含有感光性樹脂と、(B)光重合開始剤と、(C)希釈剤と、(D)エポキシ化合物と、(E)針状酸化チタンとを含有する白色硬化性樹脂組成物であって、
前記針状酸化チタンの長軸が1.0μm〜10μm、アスペクト比が10〜30であり、前記針状酸化チタンが、前記カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して40質量部〜90質量部含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物
(A) a carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) a and a light polymerization initiator, (C) a diluent, (D) an epoxy compound and, (E) white color curable you containing a needle-like titanium oxide a resin composition,
The acicular titanium oxide has a major axis of 1.0 μm to 10 μm and an aspect ratio of 10 to 30, and the acicular titanium oxide is 40 to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing photosensitive resin. A white curable resin composition characterized by containing a part .
プリント配線板の絶縁膜用であることを特徴とする請求項1に記載の白色硬化性樹脂組成物。 The white curable resin composition according to claim 1, wherein the white curable resin composition is used for an insulating film of a printed wiring board . 請求項1に記載の白色硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を有するプリント配線板。 A printed wiring board having a cured film of the white curable resin composition according to claim 1 . 請求項1に記載の白色硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を有する反射シート。 A reflective sheet having a cured film of the white curable resin composition according to claim 1 .
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