JP2009130234A - Circuit board, and led module having the circuit board - Google Patents

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JP2009130234A JP2007305389A JP2007305389A JP2009130234A JP 2009130234 A JP2009130234 A JP 2009130234A JP 2007305389 A JP2007305389 A JP 2007305389A JP 2007305389 A JP2007305389 A JP 2007305389A JP 2009130234 A JP2009130234 A JP 2009130234A
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建治 宮田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit board having high reflection function in the visible light range, and to provide an LED module. <P>SOLUTION: A circuit board comprises a base material, made of a metal foil; an insulation layer formed on one or both surfaces of the base material; and a circuit formed on an exposed surface of the insulation layer by using a metal foil. The circuit is formed with copper foil, and a nickel layer or an aluminum layer is laminated on a portion or the whole copper foil. In another embodiment, the circuit is formed with aluminum foil, and a nickel layer or a copper layer is laminated on a portion or the whole of the aluminum foil. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光源としてLED(Light Emitting Diode、発光ダイオード)を使用した直下型バックライト用の回路基板及びLEDモジュールに関するものであり、詳しくは光反射シート及び高反射塗膜代替の高反射率の金属箔を有する高反射率の回路基板に関するものである。 The present invention relates to a circuit board and an LED module for a direct backlight using an LED (Light Emitting Diode) as a light source, and more specifically, a high reflectivity alternative to a light reflection sheet and a high reflection coating film. The present invention relates to a highly reflective circuit board having a metal foil.

従来から、液晶表示装置は、様々の分野で使用されており、特にパーソナルコンピューターやテレビ等の電子産業分野では数多く使用されてきた。これらの液晶表示装置のなかで、特に直下型のバックライトシステムを採用しているものは、液晶パネルの背面にバックライトを配置しており、該バックライトは光源からの出射光を導光板に入射させ、その伝播した光を導光板の表面側からプリズムシート等を介して出射させることによって、液晶パネルの背面を全体的に照射するようにしている。バックライトの光源としては、CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp:冷陰極管)といわれる小型の蛍光管やLEDを使用したものが多い。しかし、近年環境面への配慮から、水銀を使用しているCCFLに替わってLEDを光源としたバックライトが広がりつつある。 Conventionally, liquid crystal display devices have been used in various fields, and in particular, have been used in many fields in the electronic industry such as personal computers and televisions. Among these liquid crystal display devices, particularly those that employ a direct type backlight system, a backlight is disposed on the back of the liquid crystal panel, and the backlight uses the light emitted from the light source as a light guide plate. Incident light is transmitted, and the propagated light is emitted from the front surface side of the light guide plate through a prism sheet or the like, so that the entire back surface of the liquid crystal panel is irradiated. As the light source of the backlight, many use a small fluorescent tube or LED called CCFL (Cold Cathode Fluorescent Lamp). However, in recent years, due to environmental considerations, backlights using LEDs as light sources are spreading instead of CCFLs using mercury.

加えて、テレビ向けの液晶表示装置のさらなる大面積化が望まれており、このためには大光量が必要である。従って、可能な限り多くの光量を液晶部分に供給する必要がある。このため、バックライトから供給する光量を最大化するためには、LEDからの出射光のみならず反射光を有効利用する必要がある。反射光を有効利用するためには、光反射シートを用いることが一般的である。 In addition, it is desired to further increase the area of a liquid crystal display device for television, and for this purpose, a large amount of light is required. Therefore, it is necessary to supply as much light as possible to the liquid crystal part. For this reason, in order to maximize the amount of light supplied from the backlight, it is necessary to effectively use not only the emitted light from the LED but also the reflected light. In order to effectively use the reflected light, it is common to use a light reflecting sheet.

また、最近では可視光域で高い反射率を有す無機フィラーの二酸化チタネート及び硫酸バリウム、酸化亜鉛等を含有する樹脂をコーティングし、光反射シートを用いずに高い反射光を得ようとする方式も提案されている。 Also, recently, a coating that is coated with a resin containing inorganic filler titanate dioxide, barium sulfate, zinc oxide, etc., which has a high reflectance in the visible light region, and attempts to obtain high reflected light without using a light reflecting sheet. Has also been proposed.

尚、回路部に高反射率の金属である銀を鍍金し、より高い反射光を得ようとする方法は従来から用いられている。
特開2006−310014号公報 特開平8−23146号
A method for obtaining higher reflected light by plating silver, which is a highly reflective metal, on the circuit portion has been conventionally used.
JP 2006-310014 A JP-A-8-23146

従来、直下型バックライト用のLEDパッケージ実装用プリント回路基板には、光反射機能がないため、バックライト用のプリント回路基板として使用する場合は、LEDパッケージ実装後に光反射シートを貼り付ける必要があった。このため、製造時の工数及び必要部材の増加により、製造プロセス上取り扱いが煩雑になり、不便であるという問題があった。 Conventionally, a printed circuit board for mounting an LED package for a direct type backlight has no light reflecting function. Therefore, when used as a printed circuit board for a backlight, it is necessary to attach a light reflecting sheet after mounting the LED package. there were. For this reason, there has been a problem that the number of man-hours and necessary members at the time of manufacture are complicated and handling is complicated in the manufacturing process, which is inconvenient.

また、高反射率の塗膜をコーティングすると言った手法も下地(絶縁層及び銅回路箔)の反射率の影響を強く受ける為、満足の行く反射率は得られていなかった。そこで、下地の影響を低減させる為、膜厚を厚くすることなどが提案されているが、当該材料は高反射率の無機フィラーを用いている為、厚くなると塗膜の硬化性が著しく低下するといったプロセス上の問題があった。 Moreover, since the method of coating a coating film having a high reflectance is also strongly influenced by the reflectance of the ground (insulating layer and copper circuit foil), a satisfactory reflectance has not been obtained. Therefore, in order to reduce the influence of the base, it has been proposed to increase the film thickness. However, since the material uses an inorganic filler having a high reflectance, the curability of the coating film significantly decreases as the thickness increases. There was a problem in the process.

高反射率の金属である銀を鍍金する手法は、高温高湿下においての使用(直流電圧印加)時にイオンマイグレーションを発生させる懸念が高く、絶縁信頼性が低くなるという問題があった。 The method of plating silver, which is a metal having a high reflectivity, has a problem that the ion reliability is low when used under high temperature and high humidity (DC voltage application), and the insulation reliability is lowered.

従来、絶縁層の接着側に接着信頼性の高い電解銅箔を用いると表面粗さに起因する導体損失が発生し、高周波帯域では使用することができなかった。また、表面粗さの少ない圧延銅箔では、十分な接着信頼性が得られず、此方も使用するには問題があった。 Conventionally, when an electrolytic copper foil with high adhesion reliability is used on the bonding side of the insulating layer, conductor loss due to surface roughness is generated and cannot be used in a high frequency band. Further, with a rolled copper foil having a small surface roughness, sufficient adhesion reliability cannot be obtained, and this also has a problem in use.

本発明は、以上の様な課題を解決するまったく新しい回路基板及びLEDモジュールの提供を目的とする。 An object of the present invention is to provide a completely new circuit board and LED module that can solve the above-described problems.

すなわち、本発明は、金属箔からなる基材と、この基材の一方又は双方の面に形成された絶縁層と、この絶縁層の露出面に金属箔にて形成された回路を有する回路基板であって、該回路が銅箔からなり、該銅箔上の一部又は全体にニッケル層又はアルミニウム層が積層されている回路基板である。 That is, the present invention provides a circuit board having a base made of a metal foil, an insulating layer formed on one or both surfaces of the base, and a circuit formed of the metal foil on the exposed surface of the insulating layer. The circuit board is made of a copper foil, and a nickel layer or an aluminum layer is laminated on a part or the whole of the copper foil.

本願にかかる他の発明は、金属箔からなる基材と、この基材の一方又は双方の面に形成された絶縁層と、この絶縁層の露出面に金属箔にて形成された回路を有する回路基板であって、該回路がアルミニウム箔からなり、該アルミニウム箔上の一部又は全体にニッケル層又は銅層が積層されている回路基板である。 Another invention according to the present application includes a base material made of a metal foil, an insulating layer formed on one or both surfaces of the base material, and a circuit formed of the metal foil on the exposed surface of the insulating layer. A circuit board, wherein the circuit is made of an aluminum foil, and a nickel layer or a copper layer is laminated on a part or the whole of the aluminum foil.

本発明にあっては、絶縁層を白色とするのが好ましく、絶縁層及び回路上に形成した白色膜を有することが好ましい。また、本発明にかかる回路基板における可視光の450nm、555nm、660nmの反射率がいずれも80%以上であることが好ましい。 In the present invention, the insulating layer is preferably white, and preferably has a white film formed on the insulating layer and the circuit. Moreover, it is preferable that the reflectances of visible light at 450 nm, 555 nm, and 660 nm are all 80% or more in the circuit board according to the present invention.

絶縁層の白色顔料には、酸化亜鉛、ルチル型の二酸化チタネートの一方又は双方を含有することが好ましく、白色顔料の表面が「水酸化アルミニウム」、又は、「水酸化アルミニウム及び二酸化珪素」のいずれかにて被覆されていることが好ましい。 The white pigment of the insulating layer preferably contains one or both of zinc oxide and rutile type titanate, and the surface of the white pigment is either “aluminum hydroxide” or “aluminum hydroxide and silicon dioxide”. It is preferable that the coating is applied.

絶縁層の熱伝導率は0.5W/mK以上4.0W/mK以下であることが好ましく、金属箔からなる基材の厚みが18μm以上4.0mm以下であることが好ましい。 The thermal conductivity of the insulating layer is preferably 0.5 W / mK or more and 4.0 W / mK or less, and the thickness of the base material made of metal foil is preferably 18 μm or more and 4.0 mm or less.

金属箔からなる基材は、アルミニウム、銅、鉄の中から選ばれる一種の素材であることが好ましく、白色膜が白色顔料としてルチル型の二酸化チタネート乃至酸化亜鉛を含有するものであることが好ましい。この白色顔料が酸化アルミニウム、又は「水酸化アルミニウム及び二酸化珪素」にて被覆されていることも好ましい。 The substrate made of metal foil is preferably a kind of material selected from aluminum, copper, and iron, and the white film preferably contains rutile-type titanate or zinc oxide as a white pigment. . It is also preferable that this white pigment is coated with aluminum oxide or “aluminum hydroxide and silicon dioxide”.

また、他の発明にあっては、これら回路基板を有するLEDモジュールである。 Moreover, in another invention, it is an LED module which has these circuit boards.

本発明の回路基板は、LED実装後に光反射シートを貼り付けなくても、回路基板のみで反射光を有効利用することができる。言い換えれば、電子部品の実装という従来のプリント回路基板の機能に加えて、光反射機能という新しい機能を持った回路基板である。光反射機能を持った本発明の回路基板を、例えば、LEDを用いた直下型バックライト用のプリント回路基板として使用するときは、回路基板上の高反射率の白色塗膜を光反射シートとして使用すればよいので、高価な光反射シートを使用せずともよく、バックライト製造時の工数及び必要部材の低減することができ、コストダウンにつながる。 The circuit board of the present invention can effectively use reflected light only with the circuit board without attaching a light reflecting sheet after LED mounting. In other words, in addition to the function of the conventional printed circuit board for mounting electronic components, the circuit board has a new function of light reflection function. For example, when the circuit board of the present invention having a light reflection function is used as a printed circuit board for a direct type backlight using an LED, a white coating film having a high reflectance on the circuit board is used as a light reflection sheet. Since it suffices to use it, it is not necessary to use an expensive light reflecting sheet, and the number of man-hours and necessary members at the time of manufacturing the backlight can be reduced, leading to cost reduction.

本発明の回路基板は、従来用いていた高反射率を有す銀の代わりに、アルミニウム若しくはニッケルを用いることにより、安価に高反射率を実現する。また、銀はイオン化傾向が強いため、イオンマイグレーションを発生し易い材料であるが、本発明においてはイオンマイグレーションの発生が抑制でき、絶縁信頼性の向上につながる。 The circuit board of the present invention realizes high reflectivity at low cost by using aluminum or nickel instead of silver having high reflectivity used conventionally. Silver is a material that easily generates ion migration because of its strong ionization tendency. However, in the present invention, the occurrence of ion migration can be suppressed, leading to improvement in insulation reliability.

本発明のLEDモジュールは、上述の回路基板を用いているので、この回路基板の特徴を示して、反射率及び熱伝導性、電気特性、生産性に優れるので、これを用いて信頼性の高いモジュールを容易に得ることができる。 Since the LED module of the present invention uses the above-described circuit board, the characteristics of the circuit board are shown, and the reflectance, thermal conductivity, electrical characteristics, and productivity are excellent. The module can be easily obtained.

以下、図を用いて本発明を説明する。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の回路基板の一例である。本発明の回路基板においては、基材1と絶縁層2及び回路箔3(銅)、回路箔4(アルミニウム又はニッケル)とからなる回路基板6上に高反射率の白色膜5を形成したものであり、複数のLED9が半田接合部7などにより接合搭載されている。本発明に於いては、回路箔4(アルミニウム又はニッケル)及び該回路箔上の白色膜5が高反射率を有することが特徴であり、400nmから800nmの可視光領域に対して80%以上の反射率、さらに好ましい実施態様においては、460nm(青色)と525nm(赤色)及び620nm(赤色)に対して80%以上の反射率を持つことが好ましい。 FIG. 1 is an example of a circuit board according to the present invention. In the circuit board of the present invention, a white film 5 having a high reflectivity is formed on a circuit board 6 composed of a substrate 1, an insulating layer 2, a circuit foil 3 (copper), and a circuit foil 4 (aluminum or nickel). A plurality of LEDs 9 are joined and mounted by solder joints 7 or the like. In the present invention, the circuit foil 4 (aluminum or nickel) and the white film 5 on the circuit foil are characterized by having a high reflectance, which is 80% or more with respect to a visible light region of 400 nm to 800 nm. In a preferred embodiment, the reflectance is preferably 80% or more for 460 nm (blue), 525 nm (red), and 620 nm (red).

本発明の回路基板は、上記構成を有しており、しかも絶縁層の熱伝導率が1.0W/mKから16.0W/mKで、導体回路と基材(金属箔製)との間の耐電圧が1.5kV以上、望ましく2kV以上という、高い放熱性と耐電圧特性を有しており、LED光源から発生する熱を、効率よく回路基板裏面側に放熱し、さらに、外部に放熱することにより、LEDパッケージ実装回路基板の蓄熱を低減し、LEDの温度上昇を小さくすることにより、LEDの発光効率低下を抑制することができる。このため、光反射機能を持つ回路箔4(アルミニウム又はニッケル)と該回路箔4との相乗効果が期待される高反射率の白色膜5の効果とあわせて、明るく且つ長寿命のバックライトを提供することができる。 The circuit board of the present invention has the above-described configuration, and the thermal conductivity of the insulating layer is 1.0 W / mK to 16.0 W / mK, and between the conductor circuit and the base material (made of metal foil). It has high heat dissipation and withstand voltage characteristics such that the withstand voltage is 1.5 kV or more, preferably 2 kV or more, and the heat generated from the LED light source is efficiently dissipated to the back side of the circuit board and further dissipated to the outside. Thus, the heat storage of the LED package mounting circuit board can be reduced, and the temperature rise of the LED can be reduced, thereby suppressing a decrease in the luminous efficiency of the LED. For this reason, a bright and long-life backlight is combined with the effect of the high-reflectance white film 5 in which a synergistic effect of the circuit foil 4 (aluminum or nickel) having a light reflecting function and the circuit foil 4 is expected. Can be provided.

本発明において、基材1としては、良好な熱伝導性を持つ銅および銅合金、アルミニウムおよびアルミニウム合金、鉄ならびにステンレスなどが使用可能である。また、基材1の厚みとしては、18μm以上4.0mm以下のものが好ましい。基材1の厚みがあまりに薄いと回路基板の剛性が低下するために実使用に適さなくなる傾向にあり、厚みがあまりに厚いと小型化や薄型化に好ましくなくなる傾向にあるためである。 In the present invention, as the substrate 1, copper and copper alloy, aluminum and aluminum alloy, iron and stainless steel having good thermal conductivity can be used. Moreover, as thickness of the base material 1, the thing of 18 micrometers or more and 4.0 mm or less is preferable. This is because if the thickness of the substrate 1 is too thin, the rigidity of the circuit board is lowered, so that it is not suitable for actual use. If the thickness is too thick, it tends to be unfavorable for downsizing and thinning.

本発明において、絶縁層の厚さは、50μm以上400μm以下が好ましく、更に好ましくは80μm以上200μm以下である。絶縁層が薄いと電気絶縁性が低下してしまい、厚すぎると放熱特性が十分に得られない。 In the present invention, the thickness of the insulating layer is preferably 50 μm or more and 400 μm or less, more preferably 80 μm or more and 200 μm or less. If the insulating layer is thin, the electrical insulating property is lowered, and if it is too thick, sufficient heat dissipation characteristics cannot be obtained.

絶縁層は通常熱硬化性樹脂を用いるが、熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂などが使用できる。中でも、無機フィラーを含みながらも、硬化状態において、基材1と回路箔(銅)3との接合力及び絶縁性に優れた後述する二官能性エポキシ樹脂と重付加型硬化剤とを主成分としたものが好ましい。重付加型硬化剤としては、機械的及び電気的性質に優れた酸無水物類やフェノール類が好ましく、熱硬化性樹脂に含まれるエポキシ樹脂のエポキシ当量に対して活性水素等量が0.8倍から1倍となるように添加することが絶縁層の機械的及び電気的性質を確保するため好ましい。 As the insulating layer, a thermosetting resin is usually used. As the thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, a silicone resin, an acrylic resin, or the like can be used. Among them, the main component is a bifunctional epoxy resin and a polyaddition type curing agent, which will be described later, which are excellent in bonding strength and insulation between the base material 1 and the circuit foil (copper) 3 in the cured state while containing an inorganic filler. These are preferred. As the polyaddition type curing agent, acid anhydrides and phenols excellent in mechanical and electrical properties are preferable, and the active hydrogen equivalent is 0.8 equivalent to the epoxy equivalent of the epoxy resin contained in the thermosetting resin. It is preferable to add so as to be 1 to 1 times in order to ensure the mechanical and electrical properties of the insulating layer.

エポキシ樹脂としては、2官能性エポキシ樹脂であるビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ヘキサヒドロビスフェノールAジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネロペンチルグリコールジグリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエステル等を使用したものが望ましい。 As epoxy resins, bifunctional epoxy resins such as bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, hexahydrobisphenol A diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, nero Those using pentyl glycol diglycidyl ether, phthalic acid diglycidyl ester, dimer acid diglycidyl ester or the like are desirable.

重付加型硬化剤としては、酸無水物類の無水フタル酸、テトラヒドロメチル無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水メチルナジック酸、フェノール類であるフェノールノボラック樹脂、オルソクレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールA型ノボラック樹脂等が望ましい。 Examples of polyaddition type curing agents include phthalic anhydrides such as acid anhydrides, tetrahydromethyl phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, methyl nadic anhydride, phenolic phenol novolac resins and orthocresol novolac resins. Bisphenol A type novolac resin is desirable.

また、上記エポキシ樹脂と重付加型硬化剤の硬化反応を促進するため硬化触媒を加えても良い。硬化触媒としてはイミダゾール系が好ましく、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−メチルー4―メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニルー4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジルー2−フェニルイミダゾール、2,3ージヒドロー1H―ピロロ〔1,2―a〕ベンズイミダゾール、2−フェニルー4,5―ジヒドロキシメチルイミダゾール、2,4―ジアミノー6−〔2’―メチルイミダゾリルー(1’)〕―エチルーs―トリアジン、2,4―ジアミノー6−〔2’―ウンデシルイミダゾリルー(1’)〕―エチルーs―トリアジン、1−シアノメチルー2―メチルイミダゾール等が好ましい。その添加量は、所望の硬化速度を得るために任意に変更してよい。 Further, a curing catalyst may be added to accelerate the curing reaction between the epoxy resin and the polyaddition type curing agent. As the curing catalyst, an imidazole type is preferable, and 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-methyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4. -Methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2 , 4-Diamino-6- [2′-methylimidazolyl (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 1-cyanomethyl-2-methylimidazole It is preferred. The amount added may be arbitrarily changed in order to obtain a desired curing rate.

絶縁層2を構成する熱硬化性樹脂中の塩化物イオン濃度は、1000ppm以下であることが好ましく、500ppm以下であることがより好ましい。硬化性樹脂組成物中の塩化物イオン濃度があまりに低いと、高温下、直流電圧下においてイオン性不純物の移動が起こり、電気絶縁性が低下する傾向を示す場合がある。 The chloride ion concentration in the thermosetting resin constituting the insulating layer 2 is preferably 1000 ppm or less, and more preferably 500 ppm or less. If the chloride ion concentration in the curable resin composition is too low, the migration of ionic impurities may occur at high temperatures and under DC voltage, and the electrical insulation property may tend to be reduced.

絶縁層2に含有される無機フィラーとしては、電気絶縁性で熱伝導性の良好なものが好ましく、例えば、シリカ、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化硼素などが用いられる。絶縁層2中の無機フィラーの含有量は、30体積%から80体積%が好ましく、更に好ましくは50体積%から75体積%である。無機フィラーの粒度は平均粒径が0.6μmから2.4μm及び5μmから20μmの2種類のものを含有していることが好ましい。平均粒径が大きい粗粒子と平均粒径が小さい微粒子を混合することにより各々を単独で用いた場合よりも高充填が可能となり、良好な熱伝導性を得ることが可能となる。また、粒子形状は破砕、球状、鱗片状のものがある。無機フィラー含有量はあまりに少ないとLEDパッケージを使用したバックライト用の回路基板として必要な熱伝導性を得ることが困難になる傾向にあり、あまりに多いと絶縁材が高粘度化し絶縁材の塗工が困難となり、機械的性質及び電気的性質の問題が生じ易くなる傾向にある。また、無機フィラー中のナトリウムイオン濃度は、500ppm以下であることが好ましく、100ppm以下であることがより好ましい。無機フィラー中のナトリウムイオン濃度が多くなると、高温下、直流電圧下においてイオン性不純物の移動が起こり、電気絶縁性が低下する傾向を示す場合がある。 The inorganic filler contained in the insulating layer 2 is preferably an electrically insulating and heat conductive material, and for example, silica, alumina, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride or the like is used. The content of the inorganic filler in the insulating layer 2 is preferably 30% by volume to 80% by volume, and more preferably 50% by volume to 75% by volume. As for the particle size of the inorganic filler, it is preferable that the average particle size contains two types having an average particle size of 0.6 μm to 2.4 μm and 5 μm to 20 μm. By mixing coarse particles having a large average particle diameter and fine particles having a small average particle diameter, it becomes possible to achieve higher filling than when each of them is used alone, and good thermal conductivity can be obtained. Moreover, there are particle shapes such as crushed, spherical and scale-like. If the inorganic filler content is too low, it tends to be difficult to obtain the necessary thermal conductivity as a circuit board for a backlight using an LED package. Tends to be difficult, and problems of mechanical properties and electrical properties tend to occur. Moreover, it is preferable that the sodium ion concentration in an inorganic filler is 500 ppm or less, and it is more preferable that it is 100 ppm or less. When the sodium ion concentration in the inorganic filler increases, the migration of ionic impurities may occur at high temperatures and under DC voltage, and the electrical insulation properties may tend to be reduced.

絶縁層2に白色顔料を使用する場合には、酸化亜鉛及び/又は二酸化チタンが好適に用いることができる。二酸化チタンではルチル型が安定性の面から好ましい。更に前記顔料の表面には水酸化アルミニウム、又は水酸化アルミニウム及び二酸化珪素にて被覆されていることがより好ましい。また、前記白色顔料が、1重量部から30重量部含まれることが好ましい。あまりに少ないと、反射率向上効果が期待できない。あまりに多いと、樹脂粘度の上昇が大きく、塗工時に欠陥を内包し易くなってしまい、電気絶縁性が低下する傾向を示す場合がある。 When a white pigment is used for the insulating layer 2, zinc oxide and / or titanium dioxide can be suitably used. In titanium dioxide, the rutile type is preferable from the viewpoint of stability. Furthermore, the surface of the pigment is more preferably coated with aluminum hydroxide, or aluminum hydroxide and silicon dioxide. The white pigment is preferably contained in an amount of 1 to 30 parts by weight. If the amount is too small, the reflectance improvement effect cannot be expected. When the amount is too large, the increase in the resin viscosity is large, and it becomes easy to enclose defects at the time of coating, and the electric insulation property tends to be lowered.

絶縁層2は多層化することも可能であり、この場合前記白色顔料は回路化面の最外層にあたる層に含有していればよい。 The insulating layer 2 can be multilayered. In this case, the white pigment may be contained in a layer corresponding to the outermost layer of the circuitized surface.

回路箔3の厚みは、5μm以上300μm以下であることが好ましく、あまりに薄いと回路としての機能が十分達成されず、厚くなると大電流用途にも対応が可能となるが、あまりに厚くなると費用対効果から好ましくない。回路箔3としては銅又はアルミニウムとこれらを含有する合金を使用することが可能である。 The thickness of the circuit foil 3 is preferably 5 μm or more and 300 μm or less, and if it is too thin, the function as a circuit cannot be sufficiently achieved, and if it is thick, it can be used for large current applications, but if it is too thick, it is cost-effective. Is not preferable. As the circuit foil 3, it is possible to use copper or aluminum and an alloy containing them.

回路箔4の厚みは、0.1μm以上400μm以下であることが好ましい。回路箔3として銅を用いた場合には回路箔4としてはアルミニウム又はニッケルが好適に用いることができ、高反射率を得る為の被覆層の機能を有し、あまりに薄いと十分な反射率の効果が得難くなる傾向にあり、あまりに厚くなると費用対効果から好ましくない。また、回路箔3としてアルミニウムを用いた場合には回路箔4としては銅又はニッケルが好適に用いることができ、回路上に部品を実装する際の半田ぬれ性の向上の効果を有し、あまりに薄いと十分は半田ぬれ性の向上が図られなくなる傾向にあり、あまりに厚いと費用対効果から好ましくない。 The thickness of the circuit foil 4 is preferably 0.1 μm or more and 400 μm or less. When copper is used as the circuit foil 3, aluminum or nickel can be suitably used as the circuit foil 4, and it has a function of a coating layer for obtaining a high reflectance. The effect tends to be difficult to obtain, and if it is too thick, it is not preferable because of cost effectiveness. Further, when aluminum is used as the circuit foil 3, copper or nickel can be preferably used as the circuit foil 4, which has the effect of improving the solder wettability when mounting components on the circuit. If it is thin, sufficient solder wettability tends not to be improved, and if it is too thick, it is not preferable from the viewpoint of cost effectiveness.

回路箔3上に回路箔4を設ける手法としては予め積層した箔を絶縁層上に設けることも可能であるし、回路箔3を絶縁層上に設けた後に、回路箔4を別途設けることも可能である。これらを積層する方法に特に制限はなく、圧延による積層、メッキ、蒸着等公知の方法を用いることができ、また回路箔3と回路箔4の間に別の金属箔層を複数層設けることも可能である。 As a method of providing the circuit foil 4 on the circuit foil 3, it is possible to provide a pre-laminated foil on the insulating layer, or to provide the circuit foil 4 separately after the circuit foil 3 is provided on the insulating layer. Is possible. There are no particular restrictions on the method of laminating these, and known methods such as laminating by rolling, plating, and vapor deposition can be used, and multiple metal foil layers can be provided between the circuit foil 3 and the circuit foil 4. Is possible.

白色膜5としては、400nmから800nmの可視光領域に対して70%以上の反射率、さらに好ましい実施態様においては、460nm(青色)と525nm(赤色)及び620nm(赤色)に対して70%以上の反射率と持つことが好ましい。このような材料として、白色のソルダーレジストが好ましく使用できる。 The white film 5 has a reflectance of 70% or more with respect to a visible light region of 400 to 800 nm, and in a more preferred embodiment, 70% or more with respect to 460 nm (blue), 525 nm (red), and 620 nm (red). It is preferable to have a reflectance of. As such a material, a white solder resist can be preferably used.

白色のソルダーレジストとしては、熱硬化型白色ソルダーレジスト、紫外線硬化型白色ソルダーレジスト、紫外線・熱併用型白色ソルダーレジスト等を用いることができる。 As the white solder resist, a thermosetting white solder resist, an ultraviolet curable white solder resist, an ultraviolet / heat combined white solder resist, or the like can be used.

上記白色ソルダーレジストに含まれる白色顔料としては、二酸化チタンが好ましく、中でもルチル型のものがより好ましい。ルチル型のものは安定性に優れるため光触媒作用が弱く、他の構造のものに比べ樹脂成分の劣化が抑制される。このような二酸化チタンよりなる白色顔料は、二酸化珪素又は水酸化アルミニウム等で被覆したものがより好ましい。このような処理を施した二酸化チタンは光触媒作用がより抑制され、樹脂成分の劣化を抑えることが出来る。また、二酸化チタンの含有量としては白色膜中30質量%から60質量%であることが好ましい。二酸化チタンは単独で用いることも可能であるし、酸化亜鉛や硫酸バリウム等に代表される他の白色顔料と併称することも可能である。 The white pigment contained in the white solder resist is preferably titanium dioxide, and more preferably a rutile type. Since the rutile type is excellent in stability, the photocatalytic action is weak, and deterioration of the resin component is suppressed as compared with those of other structures. The white pigment made of titanium dioxide is more preferably coated with silicon dioxide or aluminum hydroxide. Titanium dioxide that has been subjected to such a treatment can further suppress the photocatalytic action and suppress deterioration of the resin component. The content of titanium dioxide is preferably 30% by mass to 60% by mass in the white film. Titanium dioxide can be used alone or in combination with other white pigments typified by zinc oxide and barium sulfate.

ソルダーレジストに使用される樹脂としては熱硬化型白色ソルダーレジストの場合はエポキシ樹脂、紫外線硬化型白色ソルダーレジストの場合はアクリル樹脂、紫外線・熱併用型白色ソルダーレジストの場合はエポキシ樹脂とアクリル樹脂との併用が望ましい。 The resin used for the solder resist is an epoxy resin in the case of a thermosetting white solder resist, an acrylic resin in the case of an ultraviolet curable white solder resist, and an epoxy resin and an acrylic resin in the case of an ultraviolet / heat combined white solder resist. The combined use is desirable.

図2は、本発明の回路基板の一例である。本発明の回路基板においては、基材1と絶縁層2及び回路箔3(アルミニウム)、回路箔4(銅又はニッケル)とからなる回路基板6上に高反射率の白色膜5を形成したものであり、複数のLED9が半田接合部7などにより接合搭載されている。本発明に於いては、回路箔3(アルミニウム)及び該回路箔上の白色膜5が高反射率を有することが特徴であり、400nmから800nmの可視光領域に対して80%以上の反射率、さらに好ましい実施態様においては、460nm(青色)と525nm(赤色)及び620nm(赤色)に対して80%以上の反射率を持つことが好ましい。 FIG. 2 is an example of the circuit board of the present invention. In the circuit board of the present invention, a white film 5 having a high reflectivity is formed on a circuit board 6 composed of a substrate 1, an insulating layer 2, a circuit foil 3 (aluminum), and a circuit foil 4 (copper or nickel). A plurality of LEDs 9 are joined and mounted by solder joints 7 or the like. In the present invention, the circuit foil 3 (aluminum) and the white film 5 on the circuit foil have a high reflectance, and the reflectance is 80% or more in the visible light region of 400 nm to 800 nm. In a more preferred embodiment, it is preferable to have a reflectance of 80% or more for 460 nm (blue), 525 nm (red), and 620 nm (red).

上記回路箔3(アルミニウム)は、表面の10点平均粗さ(Rz)が1.0μm以下であることが好ましい。10点平均粗さ(Rz)の値を小さくすれば、高周波対応時に導体損失の影響が小さく、絶縁層との接着強度も十分に確保できるので好ましい。 The circuit foil 3 (aluminum) preferably has a surface 10-point average roughness (Rz) of 1.0 μm or less. It is preferable to reduce the value of the 10-point average roughness (Rz) because the influence of the conductor loss is small at the time of high frequency correspondence and sufficient adhesive strength with the insulating layer can be secured.

図3は、本発明の回路基板の一例である。本発明の回路基板においては、基材1と絶縁層2及び回路箔3(アルミニウム)、回路箔4(銅又はニッケル)とからなる回路基板6を示したものであり、複数のLED9が半田接合部7などにより接合搭載されている。本発明に於いては、回路箔3(アルミニウム)が高反射率を有することが特徴であり、400nmから800nmの可視光領域に対して80%以上の反射率、さらに好ましい実施態様においては、460nm(青色)と525nm(赤色)及び620nm(赤色)に対して80%以上の反射率を持つことが好ましい。 FIG. 3 is an example of the circuit board of the present invention. In the circuit board of the present invention, a circuit board 6 comprising a base material 1, an insulating layer 2, a circuit foil 3 (aluminum), and a circuit foil 4 (copper or nickel) is shown, and a plurality of LEDs 9 are joined by soldering. It is jointly mounted by the part 7 or the like. In the present invention, the circuit foil 3 (aluminum) is characterized by having a high reflectance, and has a reflectance of 80% or more in a visible light region of 400 nm to 800 nm, and in a more preferred embodiment, 460 nm. It is preferable to have a reflectance of 80% or more for (blue), 525 nm (red), and 620 nm (red).

図4は、本発明の回路基板の一例である。本発明の回路基板においては、基材1と絶縁層2及び回路箔3(銅)、回路箔4(アルミニウム又はニッケル)とからなる回路基板6を示したものであり、複数のLED9が半田接合部7などにより接合搭載されている。本発明に於いては、回路箔4(アルミニウム又はニッケル)が高反射率を有することが特徴であり、400〜800nmの可視光領域に対して80%以上の反射率、さらに好ましい実施態様においては、460nm(青色)と525nm(赤色)及び620nm(赤色)に対して80%以上の反射率を持つことが好ましい。 FIG. 4 is an example of a circuit board according to the present invention. In the circuit board of the present invention, a circuit board 6 comprising a base material 1, an insulating layer 2, a circuit foil 3 (copper), and a circuit foil 4 (aluminum or nickel) is shown. It is jointly mounted by the part 7 or the like. In the present invention, the circuit foil 4 (aluminum or nickel) is characterized by having a high reflectance, and a reflectance of 80% or more with respect to a visible light region of 400 to 800 nm, and in a more preferred embodiment It is preferable to have a reflectance of 80% or more for 460 nm (blue), 525 nm (red), and 620 nm (red).

(実施例1)
まず、無機フィラーの粗粉として結晶質二酸化珪素(龍森社製、A−1;最大粒径が96μm(100μm以下)で、5μmから50μmの粒子を60質量%(50質量%以上)含有し、平均粒子径が12μm)55質量部と、無機フィラーの微粉として結晶質二酸化珪素(龍森社製、5X;0.7μm以下が70質量%、2.0μm以上が70質量%で、平均粒子径が1.2μm)14質量部とを混合して、原料無機フィラーとした。
(Example 1)
First, as a coarse powder of inorganic filler, crystalline silicon dioxide (manufactured by Tatsumori Co., Ltd., A-1; maximum particle size is 96 μm (100 μm or less)) and 60 μ% (50 mass% or more) of 5 μm to 50 μm particles are contained. , 55 parts by mass of an average particle size of 12 μm, and crystalline silicon dioxide as a fine powder of an inorganic filler (manufactured by Tatsumori Co., Ltd., 5X; 0.7 μm or less is 70% by mass, 2.0 μm or more is 70% by mass, average particle 14 parts by mass of a diameter of 1.2 μm) was mixed to obtain a raw material inorganic filler.

表面を水酸化アルミ及び二酸化ケイ素にて処理されている二酸化チタネート(石原産業社製、CP−50:平均粒径300nm)を白色無機顔料として5重量部添加した。 5 parts by weight of titanate (Ishihara Sangyo Co., Ltd., CP-50: average particle size 300 nm) whose surface was treated with aluminum hydroxide and silicon dioxide was added as a white inorganic pigment.

ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、EP828)20質量部、シランカップリング剤(日本ユニカー社製、A−187)1質量部を添加して、加熱温度90℃で混練機により混練しながら、前記原料無機フィラー及び前記無機顔料、前記添加剤を混合して、回路基板用の樹脂組成物(a)を作製した。 20 parts by mass of a bisphenol A type liquid epoxy resin (Japan Epoxy Resin, EP828) and 1 part by mass of a silane coupling agent (Nihon Unicar, A-187) were added and kneaded by a kneader at a heating temperature of 90 ° C. While mixing the raw material inorganic filler, the inorganic pigment, and the additive, a resin composition (a) for a circuit board was produced.

ビスフェノールA型エポキシ樹脂20質量部に対して、硬化剤としてフェノール系硬化樹脂(大日本インキ化学工業社製、TD−2131)を6質量部加え、樹脂組成物(b)を得た。 To 20 parts by mass of the bisphenol A type epoxy resin, 6 parts by mass of a phenol-based cured resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., TD-2131) was added as a curing agent to obtain a resin composition (b).

厚み1.5mmのアルミニウム板上に、前記樹脂組成物(b)を、硬化後の厚みが100μmとなるように塗布し、100℃0.1時間加熱して半硬化状態にした後、樹脂組成物(b)上に厚さ9μmの銅と厚さ40μmのアルミニウムがクラッドされた箔を積層し、更に180℃2時間加熱して硬化を完了させ、混成集積回路用の基板を作製した。 The resin composition (b) was applied onto an aluminum plate having a thickness of 1.5 mm so that the thickness after curing was 100 μm, and the resin composition was heated to 100 ° C. for 0.1 hour to be in a semi-cured state. A foil clad with 9 μm thick copper and 40 μm thick aluminum was laminated on the product (b), and further heated at 180 ° C. for 2 hours to complete the curing, and a substrate for a hybrid integrated circuit was produced.

白色ソルダーレジストとしては、熱及び紫外線硬化型のアクリル及びエポキシ樹脂併用系(山栄化学社製、SSR−6300S)を前記混成集積回路基板に塗工し、回路基板を得た。これら配合の結果を表1に示した。 As the white solder resist, heat and ultraviolet curable acrylic and epoxy resin combined system (manufactured by Yamaei Chemical Co., SSR-6300S) was applied to the hybrid integrated circuit board to obtain a circuit board. The results of these formulations are shown in Table 1.

Figure 2009130234
Figure 2009130234

得られた回路基板について、後述する通りに、各種の特性を調べ、その結果を表2に示した。 Various characteristics of the obtained circuit board were examined as described later, and the results are shown in Table 2.

Figure 2009130234
Figure 2009130234

耐電圧:測定用試料として銅箔及びアルミニウム箔の周囲をエッチングし、直径20mmの円形部分を残し試料とした。温度85℃、湿度85%RH、DC1000V、1000時間の条件下に暴露した前後及び温度121℃、湿度100%RH、2atm、96時間の条件下に暴露した前後の耐電圧について、試験片を絶縁油中に浸漬し、室温で交流電圧を銅箔とアルミニウム板間に印加させ、JIS C 2110に基づき測定した。測定器には、菊水電子工業株式会社製TOS−8700を用いた。 Dielectric strength: The periphery of copper foil and aluminum foil was etched as a measurement sample, and a circular portion having a diameter of 20 mm was left as a sample. Insulate specimens for withstand voltage before and after exposure to conditions of temperature 85 ° C, humidity 85% RH, DC 1000V, 1000 hours, and temperature 121 ° C, humidity 100% RH, 2 atm, 96 hours. It was immersed in oil, an AC voltage was applied between the copper foil and the aluminum plate at room temperature, and the measurement was performed based on JIS C 2110. TOS-8700 manufactured by Kikusui Electronics Co., Ltd. was used as the measuring instrument.

絶縁抵抗値:測定用試料として銅箔及びアルミニウム箔の周囲をエッチングし、JIS C6481に基づく櫛型及び電極状に残し試料とした。温度85℃、湿度85%RH、DC1000V、1000時間の条件下に暴露した前後及び温度121℃、湿度100%RH、2atm、96時間の条件下に暴露した前後の絶縁抵抗値について、室温で直流電圧100Vを銅箔とアルミニウム板間に印加させ、JIS C6481に基づき測定した。測定器には、株式会社アドバンテスト製R8340Aを用いた。 Insulation resistance value: The periphery of copper foil and aluminum foil was etched as a measurement sample, and the sample was left in a comb shape and an electrode shape based on JIS C6481. Insulation resistance values before and after exposure under conditions of temperature 85 ° C, humidity 85% RH, DC 1000V, 1000 hours, and before and after exposure to temperature 121 ° C, humidity 100% RH, 2 atm, 96 hours, DC at room temperature A voltage of 100 V was applied between the copper foil and the aluminum plate, and measurement was performed based on JIS C6481. R8340A manufactured by Advantest Co., Ltd. was used as the measuring instrument.

(反射率)
測定用試料として、作製した回路基板を用いた。測定箇所として、(1)回路間(2)回路箔(+レジスト)上の二カ所を測定した。測定器は株式会社島津製作所製分光光度計UV−2550を用いた。
(Reflectance)
The produced circuit board was used as a measurement sample. As measurement locations, (1) between circuits (2) two locations on circuit foil (+ resist) were measured. The measuring instrument used was a spectrophotometer UV-2550 manufactured by Shimadzu Corporation.

(実施例2)
回路箔の構成が変わること以外は実施例1と同様にして回路基板を得た。この結果を表2に示す。
(Example 2)
A circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the configuration of the circuit foil was changed. The results are shown in Table 2.

(実施例3)
白色ソルダーレジストを塗工しなかったこと以外は実施例1と同様にして回路基板を得た。
(Example 3)
A circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the white solder resist was not applied.

(実施例4)
白色顔料の添加量を変えたこと以外は実施例1と同様にして回路基板を得た。
Example 4
A circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of the white pigment was changed.

(比較例1)
回路箔が銅のみであること以外は実施例1と同様にして回路基板を得た。
(Comparative Example 1)
A circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that the circuit foil was only copper.

(比較例2)
回路箔として銅に電解銀メッキしたこと以外は実施例1と同様にして回路基板を得た。
(Comparative Example 2)
A circuit board was obtained in the same manner as in Example 1 except that electrolytic silver plating was applied to copper as a circuit foil.

本発明の回路基板は、LEDパッケージを実装する基板表面に高反射率の白色塗膜を形成しているので、通常のプリント回路基板と類似の構成のまま光反射機能を有している。このため、高価な光反射シートを使用しなくてもLED光源の反射光を液晶部分に供給することができる。また、液晶バックライト製造時の工数を削減することもでき、効率的であり、LED用の回路基板として産業上極めて有用である。 Since the circuit board of the present invention has a white coating film having a high reflectivity formed on the surface of the board on which the LED package is mounted, it has a light reflection function with a configuration similar to that of a normal printed circuit board. For this reason, the reflected light of the LED light source can be supplied to the liquid crystal part without using an expensive light reflecting sheet. Moreover, the man-hour at the time of liquid-crystal backlight manufacture can also be reduced, it is efficient and is industrially very useful as a circuit board for LED.

図1は、本発明に係る回路基板の一例を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a circuit board according to the present invention. 図2は、本発明に係る回路基板の一例を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view showing an example of a circuit board according to the present invention. 図3は、本発明に係る回路基板の一例を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory view showing an example of a circuit board according to the present invention. 図4は、本発明に係る回路基板の一例を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing an example of a circuit board according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基材
2 絶縁層
3 回路箔
4 回路箔
5 白色膜(ソルダーレジスト)
6 回路基板
7 はんだ接合部
8 LED電極端子
9 LED
1 Base material 2 Insulating layer 3 Circuit foil 4 Circuit foil 5 White film (solder resist)
6 Circuit board 7 Solder joint 8 LED electrode terminal 9 LED

Claims (13)

金属箔からなる基材と、この基材の一方又は双方の面に形成された絶縁層と、この絶縁層の露出面に金属箔にて形成された回路を有する回路基板であって、該回路が銅箔からなり、該銅箔上の一部又は全体にニッケル層又はアルミニウム層が積層されている回路基板。 A circuit board having a base made of metal foil, an insulating layer formed on one or both surfaces of the base, and a circuit formed of metal foil on the exposed surface of the insulating layer, the circuit Is a circuit board in which a nickel layer or an aluminum layer is laminated on a part or the whole of the copper foil. 金属箔からなる基材と、この基材の一方又は双方の面に形成された絶縁層と、この絶縁層の露出面に金属箔にて形成された回路を有する回路基板であって、該回路がアルミニウム箔からなり、該アルミニウム箔上の一部又は全体にニッケル層又は銅層が積層されている回路基板。 A circuit board having a base made of metal foil, an insulating layer formed on one or both surfaces of the base, and a circuit formed of metal foil on the exposed surface of the insulating layer, the circuit Is a circuit board in which a nickel layer or a copper layer is laminated on a part or the whole of the aluminum foil. 絶縁層が白色である請求項1又は2記載の回路基板。 The circuit board according to claim 1, wherein the insulating layer is white. 絶縁層及び回路上に形成した白色膜を有する請求項1乃至3のいずれか一項に記載の回路基板。 The circuit board according to claim 1, further comprising a white film formed on the insulating layer and the circuit. 可視光の450nm、555nm、660nmの反射率がいずれも80%以上である請求項1乃至4のいずれか一項に記載の回路基板。 The circuit board according to any one of claims 1 to 4, wherein the visible light has a reflectance of 450%, 555 nm, and 660 nm, respectively, of 80% or more. 絶縁層の白色顔料が、酸化亜鉛、ルチル型の二酸化チタネートの一方又は双方を含有する請求項3乃至5のいずれか一項に記載の回路基板。 The circuit board according to any one of claims 3 to 5, wherein the white pigment of the insulating layer contains one or both of zinc oxide and rutile type titanate. 請求項6記載の白色顔料の表面が「水酸化アルミニウム」、又は、「水酸化アルミニウム及び二酸化珪素」のいずれかにて被覆されている回路基板。 The circuit board by which the surface of the white pigment of Claim 6 is coat | covered with either "aluminum hydroxide" or "aluminum hydroxide and silicon dioxide." 絶縁層の熱伝導率が0.5W/mK以上4.0W/mK以下である請求項1乃至7のいずれか一項に記載の回路基板。 The circuit board according to claim 1, wherein the insulating layer has a thermal conductivity of 0.5 W / mK or more and 4.0 W / mK or less. 基材の厚みが18μm以上4.0mm以下である請求項1乃至8のいずれか一項に記載の回路基板。 The circuit board according to any one of claims 1 to 8, wherein the thickness of the base material is 18 µm or more and 4.0 mm or less. 基材がアルミニウム、銅、鉄の中から選ばれる一種の素材である請求項1乃至9のいずれか一項記載の回路基板。 The circuit board according to claim 1, wherein the base material is a kind of material selected from aluminum, copper, and iron. 白色膜が白色顔料としてルチル型の二酸化チタネート乃至酸化亜鉛を含有する請求項4乃至9のいずれか一項に記載の回路基板。 The circuit board according to claim 4, wherein the white film contains rutile type titanate or zinc oxide as a white pigment. 請求項11記載の白色顔料が酸化アルミニウム、又は「水酸化アルミニウム及び二酸化珪素」にて被覆されている回路基板。 A circuit board, wherein the white pigment according to claim 11 is coated with aluminum oxide or “aluminum hydroxide and silicon dioxide”. 請求項1乃至12のいずれか一項に記載の回路基板を有するLEDモジュール。
The LED module which has a circuit board as described in any one of Claims 1 thru | or 12.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010275561A (en) * 2007-11-30 2010-12-09 Taiyo Holdings Co Ltd White heat-hardening resin composition, printed-wiring board with the hardened material, and reflection board for light emitting element formed of the hardened material
JP2011066267A (en) * 2009-09-18 2011-03-31 Tamura Seisakusho Co Ltd Method of manufacturing printed circuit board having reflector function
EP2492924A1 (en) * 2009-10-22 2012-08-29 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Insulating sheet, circuit board, and process for production of insulating sheet
JP2013201380A (en) * 2012-03-26 2013-10-03 Toshiba Lighting & Technology Corp Reflecting material and lighting device
US8742432B2 (en) 2009-06-02 2014-06-03 Mitsubishi Chemical Corporation Metal substrate and light source device
TWI468087B (en) * 2011-01-17 2015-01-01 Ibiden Co Ltd Led wiring board, light emitting module, method for manufacturing led wiring board and method for manufacturing light emitting module
US9681566B2 (en) 2010-05-27 2017-06-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh Electronic arrangement and method for producing an electronic arrangement
US9761766B2 (en) 2015-03-04 2017-09-12 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Chip on board type LED module

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006210490A (en) * 2005-01-26 2006-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Light emitting device and its manufacturing method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006210490A (en) * 2005-01-26 2006-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Light emitting device and its manufacturing method

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010275561A (en) * 2007-11-30 2010-12-09 Taiyo Holdings Co Ltd White heat-hardening resin composition, printed-wiring board with the hardened material, and reflection board for light emitting element formed of the hardened material
US8742432B2 (en) 2009-06-02 2014-06-03 Mitsubishi Chemical Corporation Metal substrate and light source device
JP2011066267A (en) * 2009-09-18 2011-03-31 Tamura Seisakusho Co Ltd Method of manufacturing printed circuit board having reflector function
CN102026493A (en) * 2009-09-18 2011-04-20 株式会社田村制作所 Manufacturing method of printed circuit board having reflection board function
EP2492924A1 (en) * 2009-10-22 2012-08-29 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Insulating sheet, circuit board, and process for production of insulating sheet
EP2492924A4 (en) * 2009-10-22 2013-05-22 Denki Kagaku Kogyo Kk Insulating sheet, circuit board, and process for production of insulating sheet
US9497857B2 (en) 2009-10-22 2016-11-15 Denka Company Limited Insulating sheet, circuit board, and process for production of insulating sheet
US9681566B2 (en) 2010-05-27 2017-06-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh Electronic arrangement and method for producing an electronic arrangement
US10026710B2 (en) 2010-05-27 2018-07-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Electronic arrangement
TWI468087B (en) * 2011-01-17 2015-01-01 Ibiden Co Ltd Led wiring board, light emitting module, method for manufacturing led wiring board and method for manufacturing light emitting module
JP2013201380A (en) * 2012-03-26 2013-10-03 Toshiba Lighting & Technology Corp Reflecting material and lighting device
US9761766B2 (en) 2015-03-04 2017-09-12 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Chip on board type LED module

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