JP4855065B2 - 光フィルタ及び光フィルタの製造方法 - Google Patents
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Description
M.W.MAEDA,他4名、「Electronically Tunable Liquid-Crystal-Etalon Filter for High-Density WDM Systems」IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS、1999年11月、Vol.2、No.11、P.820−822
それぞれが前記導波路を分断する2つの溝と、
前記2つの溝の間に位置する導波路上に形成された強誘電性液晶と、
前記強誘電性液晶の配向方向を制御する電極とを具備する。
前記透光膜を選択的に除去することにより、導波路と、それぞれが前記導波路を分断する2つの溝とを形成する工程と、
前記2つの溝の間に位置する導波路上に強誘電性液晶を配置するとともに、前記強誘電性液晶の配向方向を制御する電極を配置する工程とを具備する。
前記透光膜は、例えば半導体膜である。この場合、前記導波路を下部電極として使用することができる。
Φ=2mπ=(2π/λ)×2neq×L・・・(1)
ただし、mは整数であり、neqは共振器12の屈折率である。
λm=(2neqL)/m・・・(2)
Claims (6)
- 導波路と、
それぞれが前記導波路を分断する2つの溝と、
前記2つの溝の間に位置する導波路上に形成された強誘電性液晶と、
前記強誘電性液晶の配向方向を制御する電極と、
を具備する光フィルタ。 - 前記溝はエッチングにより形成されている請求項1に記載の光フィルタ。
- 前記電極と前記強誘電性液晶の間に位置する配向膜を更に具備し、
前記強誘電性液晶は前記2つの溝の間に位置する導波路と直接接している請求項1又は2に記載の光フィルタ。 - 前記導波路は導電性を有しており、前記電極とともに前記強誘電性液晶の配向方向を制御する請求項1〜3のいずれか一項に記載の光フィルタ。
- 下地膜上に光透過性を有する透光膜を形成する工程と、
前記透光膜を選択的に除去することにより、導波路と、それぞれが前記導波路を分断する2つの溝とを形成する工程と、
前記2つの溝の間に位置する導波路上に強誘電性液晶を配置するとともに、前記強誘電性液晶の配向方向を制御する電極を配置する工程と、
を具備する光フィルタの製造方法。 - 前記透光膜は半導体膜である請求項5に記載の光フィルタの製造方法。
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