JP4854569B2 - ミラートロンスパッタ装置 - Google Patents
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Description
2 磁石
3 基板
4,14 磁性部材
5 スパッタ電源
6 不活性ガス
7 反応性ガス導入口
8 スパッタ粒子
9,19 磁場空間Hの周辺部
9a,19a 周辺部の一部
10,20 磁場空間Hの中央部分
H 両ターゲット間の磁場空間
Claims (2)
- 真空容器と、
前記真空容器内に所定の間隔を介して対向配置された一対のターゲットと、
前記各ターゲットの背面側に、それぞれ、前記各ターゲットの外周部分に沿うように配置された磁石であって、前記各ターゲットのスパッタ面と略垂直な方向の磁界を発生させて、前記各ターゲット間に、前記各ターゲットの外周部分に対向する周辺空間部は磁束密度が高く且つ前記各ターゲットの前記外周部分より内側の部分に対向する内側空間部は磁束密度が低い磁場空間を形成するための磁石と、
前記各ターゲット間の磁場空間の側方に前記磁場空間と対向するように配置された基板と、
前記磁場空間の外側の前記基板側に配置され、反応性ガスを前記基板側に供給する反応性ガス供給部と、
前記各磁石毎に、前記各磁石の前記基板側の面の両極と対面するように配置され、且つ、前記各磁石の近傍の位置であって前記反応性ガス供給部と前記各磁石との間の位置に配置されており、前記各ターゲット間の磁場空間の前記周辺空間部の「前記基板と対向しており、前記各ターゲットからのスパッタ粒子が前記磁場空間から前記基板方向に向かう部分」の磁束密度を前記周辺空間部の他の部分よりも低くするための磁性部材と、
を備えたことを特徴とするミラートロンスパッタ装置。 - 請求項1において、前記磁石は、略リング状磁石、略矩形リング状磁石、又は前記各ターゲットの外周部分に沿うように配置された複数個の磁石から成るものである、ことを特徴とするミラートロンスパッタ装置。
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