JP4849374B2 - (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法 - Google Patents

(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法 Download PDF

Info

Publication number
JP4849374B2
JP4849374B2 JP2007133384A JP2007133384A JP4849374B2 JP 4849374 B2 JP4849374 B2 JP 4849374B2 JP 2007133384 A JP2007133384 A JP 2007133384A JP 2007133384 A JP2007133384 A JP 2007133384A JP 4849374 B2 JP4849374 B2 JP 4849374B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystals
methoxyphenethyl
phenoxy
dimethylamino
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007133384A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008285446A (ja
Inventor
哲也 大山
隆一 表
伸 池田
良信 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DNP Fine Chemicals Fukushima Co Ltd
Original Assignee
DNP Fine Chemicals Fukushima Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DNP Fine Chemicals Fukushima Co Ltd filed Critical DNP Fine Chemicals Fukushima Co Ltd
Priority to JP2007133384A priority Critical patent/JP4849374B2/ja
Publication of JP2008285446A publication Critical patent/JP2008285446A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4849374B2 publication Critical patent/JP4849374B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

本発明は(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法に関するものである。
(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩は、特許文献1の実施例2の記載に基づき製造することができる公知化合物である。また特許文献2に(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩はI形結晶とII形結晶の2種の結晶形態が存在し、特許文献1の実施例2記載の方法に従って得られた結晶はII形結晶とI形結晶のモル比が約3:7であることが示されている。再結晶溶媒にアセトンを使っている特許文献1の実施例2の方法では容積効率が悪く(特許文献2の実施例4にて(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩2gを溶解するのにアセトン750mLを使っていることから、アセトン再結晶は非常に多くの溶媒を必要とすることは明らかである)、工業的には使用する溶媒量の少ない、効率的な製造法が望まれる。
特開昭58−32847号公報 特開2006−160765号公報
工業的に結晶を得るための手段としては、所望の化合物を任意の溶媒と混合し、加熱と攪拌を加えて溶解せしめ、溶媒の蒸発や冷却等の操作により結晶を析出させるのが一般的である。所望の化合物を溶解する溶媒であれば結晶を得ることはできるが、工業的には、製品の歩留まりがよく、作業者の安全衛生上から扱いが容易(爆発性の低いこと、引火点が高いことなど)な溶媒の使用が求められる。
また医薬原体に使用する場合、溶媒の毒性が品質上重要となる。溶媒は原体中に必ず残存していることから結晶化に使用する溶媒は乾燥などの操作で除去が容易で、溶媒そのものの毒性が低いことが求められる。
したがって晶析による医薬原体製造法においては溶媒の選択が重要である。しかしながら画一的な溶媒のスクリーニングにより前述の要件を満たす溶媒を見出すことは困難であり、溶媒種、溶媒量、晶析温度、晶析時間、乾燥方法(減圧乾燥、送風乾燥など)の各種条件を加味し適切な結晶製造法を決定する必要がある。
本発明の目的は、医薬品として有用な(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶製造法を提供することにある。
本発明者らは(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法を鋭意検討した結果、アセトニトリルに(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩を加え、加温溶解せしめて得られた溶液を冷却することによって、(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶が得られることを見出し本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は以下の手段によって達成される。
(1)
アセトニトリルで再結晶することを特徴とする(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法。
(2)
アセトニトリルで懸濁処理することを特徴とする(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法。
本発明によれば、医薬品として有用な(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶を効率よく製造できる。
(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩は下記式で表され、特許文献1に記載の方法により製造できる化合物である。(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶製造に使用する(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の不純物は、得られる結晶の物理化学的特性に影響を与えることから99.8%以上の液体クロマトグラフィー純度であることが望ましい。
Figure 0004849374
本発明にて得られる(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶は粉末X線回折スペクトルにおいて9.3°の回折ピークを有するものであり、II形結晶は粉末X線回折スペクトルにおいて特徴的ピーク9.5°の回折ピークを有するものである。またI形結晶とII形結晶の混晶は、粉末X線回折スペクトルにおいて、I結晶に由来する特徴的ピーク9.3°、およびII結晶に由来する特徴的ピーク9.5°双方の回折ピークを有するものである。
また、それらの比率(I結晶:II結晶)は粉末X線回折スペクトルにおけるI結晶に由来する特徴的ピーク9.3°とII結晶に由来する特徴的ピーク9.5°のピーク強度で表すことができる。
溶媒はアセトニトリルである。溶媒使用量は(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩に対して1〜20倍容量である。
溶媒と(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩を混合し、攪拌しながら溶解する。溶解時の温度は40℃〜82℃である。溶解時間が長いと(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の分解により、クロマトグラフィー純度が低下するので、0.5〜3時間程度の短時間に溶解させることが望ましい。
溶液を冷却して結晶を析出させることができるが、過飽和状態から急激に結晶が析出すると結晶の成長が早すぎて、不純物が取り込まれ、不純な結晶になりやすい。純度の良い結晶を得る目的で、(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩をアセトニトリルに溶解せしめた後に種晶を添加してもよく、種晶を添加する温度は好ましくは60〜80℃、さらに好ましくは65〜75℃である。
結晶が析出したスラリーを10℃程度まで冷却し、攪拌を続けて十分に結晶を析出せしめた後、ろ過により結晶を分離する。湿結晶を送風乾燥、または減圧乾燥し溶媒を除去し、所望の(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶を得ることができる。
結晶のII形結晶比率を増やす目的で懸濁処理しても良い。懸濁は(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩に対して1〜20倍容量のアセトニトリルを使用し、50〜75℃程度で実施することが望ましい。懸濁液を前述の再結晶と同様に冷却、ろ過、乾燥処理して所望の(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶を得ることができる。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
実施例における液体クロマトグラフィー純度は、下記条件にて液体クロマトグラフィー分析を行い、各成分ピークの面積%を用いたものであり純度の指標とした。
装置:LC−2000Plus series(日本分光株式会社)
カラム:内径4.6mm、長さ15cmのステンレス管に5μmの液体クロマトグラフィー用オクタデシルシリル化シリカゲルを充てんする。
カラム温度:40℃付近の一定温度
移動層:水/アセトニトリル/トリフルオロ酢酸混液=1300/700/1の混合液
流速:1.0mL
検出波長:272nm
実施例における粉末X線回折スペクトルはMultiFlex型X線回折装置(株式会社リガク)を用いて以下の条件で測定した。
X線源:Cu
フィルター:使用しない
モノクロメーター:使用
管電圧:40kV
管電流:40mA
発散スリット:1/2°
散光スリット:1/2°
受光スリット:0.15mm
サンプリング間隔0.02°
スキャンスピード:4°/min
実施例1
攪拌装置を備えた2000mL容器に液体クロマトグラフィー純度99.8%以上の(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩110g、及びアセトニトリル1650mLを加え81℃にて30分攪拌し溶解させた。加温を止めて、放冷し75℃にて種晶0.11gを添加し、冷却を継続した。10℃まで冷却し1時間攪拌した。吸引ろ過にて結晶とろ液を分離しケーキをアセトニトリル80mLで洗浄した。結晶を減圧乾燥し(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶106gを得た。収率96.4%、液体クロマトグラフィー純度99.9%、アセトニトリルの濃度200ppm(GC測定値)、I結晶:II結晶の比率=36:64であった。
実施例2
攪拌装置を備えた100mL容器にI結晶:II結晶の比率=39:61の(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩10g、アセトニトリル100mLを加えた。70℃にて20分懸濁した後、10℃まで冷却し1時間攪拌した。吸引ろ過にて結晶とろ液を分離しケーキをアセトニトリル10mLで洗浄した。結晶を減圧乾燥し(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶9.5gを得た。収率95.0%、I結晶:II結晶の比率=20:80であった。
実施例1で得た(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の粉末X線回折スペクトル。

Claims (2)

  1. アセトニトリルを溶媒とし、種晶を添加して再結晶することを特徴とする(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の粉末X線回折スペクトルにおいて9.3°および9.5°に回折ピークを有するI形結晶とII形結晶の混晶の製造法。
  2. アセトニトリルで懸濁処理した後、冷却して結晶化することを特徴とする(±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩の粉末X線回折スペクトルにおいて9.3°および9.5°に回折ピークを有するI形結晶とII形結晶の混晶の製造法。
JP2007133384A 2007-05-18 2007-05-18 (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法 Expired - Fee Related JP4849374B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007133384A JP4849374B2 (ja) 2007-05-18 2007-05-18 (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007133384A JP4849374B2 (ja) 2007-05-18 2007-05-18 (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008285446A JP2008285446A (ja) 2008-11-27
JP4849374B2 true JP4849374B2 (ja) 2012-01-11

Family

ID=40145524

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007133384A Expired - Fee Related JP4849374B2 (ja) 2007-05-18 2007-05-18 (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4849374B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100050371A (ko) * 2008-11-10 2010-05-13 주식회사 참조아 염산((±)-2-(디메칠아미노)-1-[[o-(m-메톡시펜에틸)페녹시]메틸]에틸하이드로겐 숙시네이트의 신규 결정 및 이 신규결정을 유효성분으로 함유하는 의약조성물
KR101585189B1 (ko) * 2013-07-18 2016-01-13 주식회사 대희화학 사포그릴레이트 염산염 결정형 ⅱ의 제조방법

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007217333A (ja) * 2006-02-16 2007-08-30 Ohara Yakuhin Kogyo Kk 塩酸サルポグレラートの結晶形及びその製造方法
JP2008285445A (ja) * 2007-05-18 2008-11-27 Hidekazu Takada 塩酸サルポグレラートの工業的製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008285446A (ja) 2008-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6753396B2 (ja) エンザルタミド結晶形の製造方法
JP2010090174A (ja) 新規ナテグリニド結晶
JP6705817B2 (ja) 6−ブロモ−3−ヒドロキシ−2−ピラジンカルボキサミドの結晶およびその製造方法
CN105348262B (zh) 一种制备达比加群酯的改进方法
JP4849374B2 (ja) (±)2−(ジメチルアミノ)−1−{〔O−(m−メトキシフェネチル)フェノキシ〕メチル}エチル水素サクシナート塩酸塩のI形結晶とII形結晶の混晶の製造法
JP2005120024A (ja) 4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの製造方法
WO2017082430A1 (ja) 高純度フルオレセインナトリウム
CN104774150B (zh) 一种双醋瑞因晶体及其制备方法
JP5952748B2 (ja) フタロイルアムロジピンの新規結晶形態およびそれを用いる高純度なアムロジピンベシル酸塩の製造方法
CN105272899A (zh) 一种新化合物及其用于合成碘帕醇杂质d、杂质f、杂质g和杂质j的方法
JP5743474B2 (ja) 4−アミノ−5−クロロ−2−エトキシ−n−〔[4−(4−フルオロベンジル)−2−モルホリニル]メチル〕ベンズアミドクエン酸塩2水和物の製造方法
JP6382660B2 (ja) オルメサルタンメドキソミルの製造方法
JP6198269B2 (ja) オルメサルタンメドキソミルの製造方法
JP6210599B2 (ja) 4−メチル−6(1−メチルベンズイミダゾール−2−イル)−2−n−プロピル−1H−ベンズイミダゾールの製造方法
JP2006298832A (ja) 高純度o−(5,6,7,8−テトラヒドロ−2−ナフチル)−n−(6−メトキシ−2−ピリジル)−n−メチルチオカーバメート及びその製造方法
CN108689914A (zh) 一种采用中间体制备手性化合物的方法
CN109265407B (zh) 一种双利奈唑胺的合成方法
JP5419570B2 (ja) 2−アセチルアミノメチル−4−(4−フルオロベンジル)モルホリンの精製方法
JP5612977B2 (ja) 6−ブロモ−n−メチル−2−ナフタミドの製造方法
JP4514017B2 (ja) 塩酸エピナスチンの製造方法
JP2010229098A (ja) イソインドリン誘導体のa型の結晶形の製造方法及びイソインドリン誘導体のa型の結晶形
JPH03190847A (ja) 3,4―ジクロロニトロベンゼンの精製法
JP5448588B2 (ja) L−カルノシンの精製方法
JP6499948B2 (ja) セレコキシブii型結晶の製造方法
JP6147546B2 (ja) 酢酸が低減されたテルミサルタンa型結晶の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100622

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100817

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110927

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111008

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4849374

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141028

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees