JP4846437B2 - 有機電界発光素子 - Google Patents
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有機電界発光素子は、発光層もしくは発光層を含む複数の有機層を挟んだ対向電極から構成されており、陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔が発光層において再結合し、生成した励起子からの発光を利用するもの、又は前記励起子からエネルギー移動によって生成する他の分子の励起子からの発光を利用するものである。
しかしながら、有機電界発光素子は、特に青色、緑色発光において、更なる発光効率および耐久性の向上が求められている。
正孔輸送層と発光層の間に、正孔輸送層よりも小さいイオン化ポテンシャル(以下IPと記述する場合がある)。を有する正孔流量抑制層を設けた有機EL素子が開示されている(例えば、特許文献1。)。
すなわち、正孔流量抑制層と各有機層のIPの関係を整理すると、図1の(1)、(2)に示すように特許文献1では、「(正孔輸送層のIP)>(正孔流量抑制層のIP)<(発光層のIP)」であり、特許文献2では、「(正孔輸送層のIP)<(正孔流量抑制層のIP)>(発光層のIP)」となっている。
しかしながら、正孔の注入を抑制する層を設けることは、「正孔輸送層/正孔流量抑制層」の界面または「正孔流量抑制層/発光層」の界面で電荷が滞留し、その結果材料の劣化が促進されるという問題を抱えており、駆動耐久性に関しては十分な性能を有しない。
即ち、本発明は下記の手段により達成されるものである。
<3>前記正孔注入促進層の膜厚が0.1nm〜2nmであることを特徴とする上記<1>又は<2>に記載の有機電界発光素子。
<5>前記正孔注入促進層の正孔輸送材料のIpが、5.4eV以上であることを特徴とする上記<1>〜<4>のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
<6>前記正孔注入促進層の正孔輸送材料が下記一般式(A−1)で表されることを特徴とする上記<1>〜<5>のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロ環基を表す。Lは2価以上の連結基を表す。nは2以上の整数を表す。複数のR1およびR2は、同一または互いに異なってもよい。)
<7>前記正孔注入促進層の正孔輸送材料が下記一般式(A−2)で表されることを特徴とする上記<6>に記載の有機電界発光素子。
本発明の有機電界発光素子は、一対の電極間に、少なくとも、発光材料とホスト材料とを含有する発光層、正孔注入促進層、及び正孔輸送材料を含有する正孔輸送層をこの順に有する有機電界発光素子であって、該正孔注入促進層が正孔輸送材料を含有し、前記正孔注入促進層の厚みが0.1nm以上3nm以下であり、前記正孔輸送層の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルをIp1、前記正孔注入促進層の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルをIp2、前記ホスト材料のイオン化ポテンシャルをIp3としたときに、Ip1<Ip2<Ip3の関係を満たすことを特徴とする。
本発明の有機電界発光素子は、上記構成としたことにより、発光効率を向上させ、同時に駆動耐久性に優れた効果を奏することができる。
本発明における正孔注入促進層に含有される正孔輸送材料が発光層への正孔の注入を向上させることによって発光効率を向上させる機能を持つと考えられる。
また、本発明においては、該正孔輸送層の該正孔輸送材料のIPをIp1、該正孔注入促進層の正孔輸送材料のIPをIp2、該発光層のホスト材料のIPをIp3としたときに、Ip1<Ip2<Ip3の関係を満たす構成とすることにより、発光層への正孔注入を促進させ、更に、正孔注入障壁が低下することとなり、層界面での電荷の滞留が抑制されることから、その結果として材料の劣化が抑制され、駆動耐久性の向上に寄与していると考えられる。
ただし、正孔注入促進層を厚くすると含有する正孔輸送材料に電子が注入されて分解しやすくなる。本発明においては、正孔注入促進層の膜厚を3nm以下とすることによって、該正孔輸送材料の分解が回避され素子耐久性を向上させたと推測される。これは該正孔輸送材料に電子が注入されていないことを意味しており、その要因は正孔注入促進層が膜状態ではなく島状になっていることによるものと推測される。
尚、本発明における膜厚は、平均膜厚を指す。それぞれの材料の50〜200nm程度の膜厚の単一膜を成膜して、その膜厚を段差計あるいは光学式膜厚系等の手段で測定しておき、素子作成時にはその換算値から成膜膜厚を設定する。
本発明の発光素子は一対の陰極と陽極を有し、両電極の間に少なくとも発光層と、正孔輸送層と、該発光層と該正孔輸送層の間に正孔注入促進層が含有される。正孔注入促進層は該発光層の陽極側に隣接すること好ましい。
また、前記陰極及び陽極は基板上に形成されることが好ましい。更に該正孔輸送層と陽極との間、及び発光層と陰極との間には他の有機化合物層を有していてもよい。
発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は、透明であることが好ましい。通常の場合、陽極が透明である。
本発明における有機電界発光素子の積層の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、正孔注入促進層、発光層、の順に積層されている態様が好ましい。更に、電子輸送層と発光層との間には、電荷ブロック層(正孔ブロック層等)等を有していてもよい。
本発明において、一対の電極間に有する発光層を含む前記各層は、総称して「有機化合物層」ともいう。
次に、本発明を構成する要素について、詳細に説明する。
本発明で使用することができる基板としては、発光層から発せられる光を散乱又は減衰させない基板であることが好ましい。その具体例としては、ジルコニア安定化イットリウム(YSZ)、ガラス等の無機材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)等の有機材料が挙げられる。
例えば、基板としてガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合には、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。有機材料の場合には、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、及び加工性に優れていることが好ましい。
基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、発光素子の用途、目的等に応じて適宜選択することができる。一般的には、基板の形状としては、板状であることが好ましい。基板の構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、また、単一部材で形成されていてもよいし、2以上の部材で形成されていてもよい。
基板は、無色透明であっても、有色透明であってもよいが、発光層から発せられる光を散乱又は減衰等させることがない点で、無色透明であることが好ましい。
基板には、その表面又は裏面に透湿防止層(ガスバリア層)を設けることができる。
透湿防止層(ガスバリア層)の材料としては、窒化珪素、酸化珪素などの無機物が好適に用いられる。透湿防止層(ガスバリア層)は、例えば、高周波スパッタリング法などにより形成することができる。
熱可塑性基板を用いる場合には、更に必要に応じて、ハードコート層、アンダーコート層などを設けてもよい。
陽極は、通常、前記有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。前述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。
なお、陽極を形成する際のパターニングとしては、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、また、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。
陽極の抵抗値としては、103Ω/□以下が好ましく、102Ω/□以下がより好ましい。陽極が透明である場合は、無色透明であっても、有色透明であってもよい。透明陽極側から発光を取り出すためには、その透過率としては、60%以上が好ましく、70%以上がより好ましい。
陰極は、通常、前記有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
これらの中でも、陰極を構成する材料としては、電子注入性の点で、アルカリ金属やアルカリ土類金属が好ましく、保存安定性に優れる点で、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと0.01〜10質量%のアルカリ金属又はアルカリ土類金属との合金若しくはこれらの混合物(例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など)をいう。
なお、陰極の材料については、特開平2−15595号公報、特開平5−121172号公報に詳述されており、これらの公報に記載の材料は、本発明においても適用することができる。
陰極を形成するに際してのパターニングは、フォトリソグラフィーなどによる化学的エッチングによって行ってもよいし、レーザなどによる物理的エッチングによって行ってもよく、マスクを重ねて真空蒸着やスパッタ等をして行ってもよいし、リフトオフ法や印刷法によって行ってもよい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を1〜10nmの厚さに薄く成膜し、更にITOやIZO等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
本発明の有機電界発光素子は、前記発光層、前記正孔輸送層、該発光層と前記正孔輸送層との間に正孔注入促進層を有するが、前述の通りその他の層を含んでもよい。
該前述のその他の層としては、電子輸送層、電荷ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
発光層と陰極側で隣接する層としては、電子注入層、電子輸送層、及び正孔ブロック層等が挙げられ、電子輸送層であることが好ましい。これらの層の詳細については後述する。
本発明の有機電界発光素子における有機化合物層を構成する各層は、蒸着法やスパッタ法等の乾式製膜法、転写法、印刷法等いずれによっても好適に形成することができる。
発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。
本発明における発光層は、発光材料を含むドーパントと、ホスト材料と、を含む。該発光材料としては燐光発光材料であることが好ましい。ホスト材料としては、特に限定されるものではないが、電荷輸送材料であることが好ましい。
また、発光層は1層であっても2層以上であってもよい。
遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金である。
ランタノイド原子としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。
発光材料は、発光層中に、0.1〜20質量%含有されることが好ましく、0.5〜10質量%含有されることがより好ましい。
正孔注入促進層は、陽極側から発光層への正孔注入を促進する機能を有する層である。本発明においては、発光層と陽極側で隣接する有機化合物層として、正孔注入促進層を設けることが好ましい。
該正孔注入促進層に含有される正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルは、5.4eV以上であることが好ましいが、5.7eV以上であることがさらに好ましい。
該正孔注入促進層に含有される正孔輸送材料の電子親和力(Ea)は、発光層からの電子の漏れを防いで発光効率を向上させるために、2.3eV以上であることが好ましいが、2.5eV以上であることがさらに好ましい。
該正孔注入促進層の膜厚は3nm以下が必須であるが、0.1〜2nmであるのがより好ましく、0.1nm〜1.5nmであることが更に好ましい。
本発明における正孔注入促進層に用いる前記正孔輸送材料は、単独で用いても、複数種を併用してもよい。
本発明における正孔注入促進層の好ましい形態の一つは、前記正孔輸送材料のみから構成されることであるが、さらに別の材料を含有することも可能である。
本発明における正孔注入促進層に用いる前記正孔輸送材料の正孔移動度は、発光層への十分な正孔注入の観点から、1×10−5cm2/Vs以上であることが好ましいが、1×10−4cm2/Vs以上であればさらに好ましい。
該正孔輸送材料の正孔移動度は、TOF(Time of Flight)法から求めることができ、本発明における正孔移動度は、TOF法により求めた値を採用する。
正孔注入促進層に用いる化合物として好ましくは、下記一般式(A−1)で表される化合物である。
R1、R2で表される脂肪族炭化水素基として好ましくは、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)であり、より好ましくは、アルキル基であり、更に好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10のアルキル基である。
R1、R2で表される芳香族炭化水素基として好ましくは、炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、ナフチル、アントラニル、フェナンスリル、ピレニルなどが挙げられる。
置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基、置換基同士が連結して環を形成したものである。
nは2以上の整数を表し、好ましくは2ないし6の整数であり、より好ましくは2ないし4の整数であり、更に好ましくは2または3であり、特に好ましくは3である。
R1a、R1b、R1c、R1d、R1eおよびR1fで表される脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロ環基は一般式(A−1)で表されるR1、R2と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
L1、L2およびL3で表される2価以上の連結基は、一般式(A−1)におけるLと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
下記に正孔注入促進層に用いられる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
この他にも、特開平6−212153号、特開平11−111463号、特開平11−251067号、特開2000−196140号、特開2000−286054号、特開2000−315580号、特開2001−102175号、特開2001−160493号、特開2002−252085号、特開2002−56985号、特開2003−157981号、特開2003−217862号、特開2003−229278号、特開2004−342614号、特開2005−72012号、特開2005−166637号、特開2005−209643号等の各公報に記載の化合物を好適に用いることが出来る。
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。
正孔輸送層の厚さとしては、5〜50nmであることが好ましく、10〜40mであることが更に好ましい。また、正孔注入層の厚さとしては、0.5〜50nmであることが好ましく、1〜40nmであることが更に好ましい。
正孔注入層、正孔輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
この他にも、特開平6−212153号、特開平11−111463号、特開平11−251067号、特開2000−196140号、特開2000−286054号、特開2000−315580号、特開2001−102175号、特開2001−160493号、特開2002−252085号、特開2002−56985号、特開2003−157981号、特開2003−217862号、特開2003−229278号、特開2004−342614号、特開2005−72012号、特開2005−166637号、特開2005−209643号等の各公報に記載の化合物を好適に用いることが出来る。
電子受容性ドーパントの使用量は、材料の種類によって異なるが、正孔注入層材料あるいは正孔輸送層材料に対して0.01質量%〜50質量%であることが好ましく、0.05質量%〜20質量%であることが更に好ましく、0.1質量%〜10質量%であることが特に好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
電子輸送層の厚さとしては、5〜50nmであることが好ましく、10〜50nmであることが更に好ましい。また、電子注入層の厚さとしては、0.1〜50nmであることが好ましく、0.5〜20nmであることが更に好ましい。
電子注入層、電子輸送層は、上述した材料の1種又は2種以上を含む単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層を含む多層構造であってもよい。
この他にも、特開平6−212153号、特開2000−196140号、特開2003−68468号、特開2003−229278号、特開2004−342614号等の各公報に記載の材料を用いることが出来る。
本発明において、有機EL素子全体は、保護層によって保護されていてもよい。
保護層に含まれる材料としては、水分や酸素等の素子劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。
その具体例としては、In、Sn、Pb、Au、Cu、Ag、Al、Ti、Ni等の金属、MgO、SiO、SiO2、Al2O3、GeO、NiO、CaO、BaO、Fe2O3、Y2O3、TiO2等の金属酸化物、SiNx、SiNxOy等の金属窒化物、MgF2、LiF、AlF3、CaF2等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも1種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率1%以上の吸水性物質、吸水率0.1%以下の防湿性物質等が挙げられる。
さらに、本発明の有機電界発光素子は、封止容器を用いて素子全体を封止してもよい。
また、封止容器と発光素子の間の空間に水分吸収剤又は不活性液体を封入してもよい。水分吸収剤としては、特に限定されることはないが、例えば、酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、五酸化燐、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラーシーブ、ゼオライト、酸化マグネシウム等を挙げることができる。不活性液体としては、特に限定されることはないが、例えば、パラフィン類、流動パラフィン類、パーフルオロアルカンやパーフルオロアミン、パーフルオロエーテル等のフッ素系溶剤、塩素系溶剤、シリコーンオイル類が挙げられる。
本発明における有機電界発光素子の駆動耐久性は、特定の輝度における輝度半減時間により測定することができる。例えば、KEITHLEY製ソ−スメジャ−ユニット2400型を用いて、直流電圧を有機EL素子に印加し発光させ、初期輝度2000cd/m2の条件で連続駆動試験をおこない、輝度が1000cd/m2になった時間を輝度半減時間T(1/2)として求めることができる。本発明においてはこの数値を用いた。
また、発光特性としての発光効率は、前記駆動耐久性の測定と同時に、輝度−電流−電圧特性を測定し、本発明における発光効率(cd/A)とした。
0.5mm厚み、2.5cm角のガラス基板にIn2O3含有率が95質量%であるITOタ−ゲットを用いて、DCマグネトロンスパッタ(条件:基板温度100℃、酸素圧1×10−3Pa)により、透明陽極としてのITO薄膜(厚み0.2μm)を形成した。ITO薄膜の表面抵抗は10Ω/□であった。
その上に、α−NPD((N,N’−ジ−α−ナフチル−N,N’−ジフェニル)−ベンジジン)を真空蒸着法にて0.5nm/秒の速度で30nmの正孔輸送層を設けた。
さらにこの層上にパタ−ニングしたマスク(発光面積が2mm×2mmとなるマスク)を設置し、フッ化リチウムを真空蒸着法にて1nm蒸着した。更に、この上にアルミニウムを真空蒸着法にて蒸着し0.1μmの陰極を設けた。
CuPCの蒸着から封止までの作業は、真空または窒素雰囲気下で行い、大気に暴露することなく素子作製を行った。
上記に用いた正孔輸送層の正孔輸送材料、正孔注入促進層の正孔輸送材料、発光層中のホスト材料の各々のイオン化ポテンシャル(IP)及びは正孔移動度は、それぞれ単層膜(単独層)として下記の方法で測定した。結果を下記表1に示す。
イオン化ポテンシャル(Ip)は、紫外線光電子分析装置AC−1(理研計器製)により室温、大気下で測定した。
−駆動耐久性試験−
発光素子を初期輝度2000cd/m2の条件で連続駆動試験をおこない、輝度が半減した時間を輝度半減時間T(1/2)とした。
−発光効率−
発光素子に電圧を印加して、この素子の輝度−電流−電圧特性を測定し、発光効率(cd/A)を算出した。
比較例1において、正孔輸送層30nmを27nmに変更し、発光層と正孔輸送層との間に正孔注入抑制層として、比較例2においてはm−MTDATAを、比較例3においては化合物Cを真空蒸着法にて0.02nm/秒の速度で3nm蒸着して設けた以外は、比較例1と同様に行い発光素子を得て、同様の評価試験を行った。結果を表1に示す。
比較例1において、正孔輸送層30nmを25nmに変更し、発光層と正孔輸送層との間に正孔注入促進層として下記化合物Aを真空蒸着法にて0.02nm/秒の速度で5nm蒸着して設けた以外は、比較例1と同様に行い発光素子を得て、同様の評価試験を行った。結果を表1に示す。
比較例2の正孔注入促進層において、化合物Aの蒸着膜厚5nmを3nmとした以外は、比較例2と同様に行い発光素子を得て、同様の評価試験を行った。結果を下記表1に示す。
比較例2の正孔注入促進層において、化合物Aの蒸着膜厚5nmを1.5nmとした以外は、比較例2と同様に行い発光素子を得て、同様の評価試験を行った。結果を下記表1に示す。
実施例2の正孔注入促進層において、化合物Aの代わりに上記化合物Bを用いた以外は、実施例2と同様に行い発光素子を得て、同様の評価試験を行った。結果を下記表1に示す。
また、比較例4と実施例の比較から、正孔注入促進層の膜厚は3nm以下であることが有効であることが確認できる。
また、比較例2(図面(1)のダイアグラムに相当),比較例3(図面(2)のダイアグラムに相当)のように、正孔注入抑制層を設けることにより、発光効率および駆動耐久性が低下することが確認される。
Claims (5)
- 一対の電極間に、少なくとも、発光材料とホスト材料とを含有する発光層、正孔注入促進層、及び正孔輸送材料を含有する正孔輸送層をこの順に有する有機電界発光素子であって、前記正孔注入促進層が正孔輸送材料を含有し、前記正孔注入促進層の厚みが0.1nm以上3nm以下であり、前記正孔輸送層の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルをIp1、前記正孔注入促進層の正孔輸送材料のイオン化ポテンシャルをIp2、前記ホスト材料のイオン化ポテンシャルをIp3としたときに、Ip1<Ip2<Ip3の関係を満たすことを特徴とする有機電界発光素子。
- 前記発光材料が燐光発光材料であることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。
- 前記正孔注入促進層の膜厚が0.1nm〜2nmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機電界発光素子。
- 前記正孔注入促進層の正孔輸送材料の正孔移動度が1×10 −4 cm 2 /Vs以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
- 前記正孔注入促進層の正孔輸送材料のIpが、5.4eV以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
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