JP4840695B2 - 組織薄切片パラフィンマスキング方法、及び装置 - Google Patents
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Description
ごく稀に、このガラス標本の経時劣化を防止する方法として簡便に用いられるのは、ガラス標本ごと融解パラフィン浴に浸漬してパラフィン包埋する方法である。しかしながらこの方法では不必要なガラスの裏面、側面までパラフィンが付着し、また、付着厚さも制御できず比較的厚く付着するため、この後の脱パラフィン工程で大量の溶剤が必要となり、溶剤費用がかかるばかりか、多量の廃溶剤が排出されるので環境負荷が大きく、脱パラフィン工程時間も多くかかるという欠点を有していたため実用性に乏しく普及するには至っていない。
本発明によれば組織片の部分のみ均一なパラフィン薄膜でマスキングできるのでパラフィン使用量を少なくできるばかりか、脱パラフィンに必要な溶剤量も少なくでき、環境負荷を小さくできるとともに脱パラフィン工程所要時間をも短縮できるパラフィンマスキングを可能にするものである。
基板ホルダーには上下昇降機構としてのバネ機構を含み、通常はそのバネ機構の付勢力によりガラス標本が転写ロールに触れないような位置に基板ホルダーが保持される。
転写ロールの回転方向をガラス標本が手前に送り出されるようにすれば、最初にセットしたガラス標本位置から奥側の部分がパラフィンでマスキングされ、組織片を含む必要最小限の部分パラフィンマスキングが可能となる。ガラス標本に接触する送り出しロールの表面材質はゴム系材質や軟質プラスチックなどが望ましい。
図2は本発明の実施の形態を示す装置の正面図である。図3は同側面図である。
11は加熱ヒーター、12はヒーター温度調節装置、13はパラフィン浴槽、14は転写ロール8の駆動装置、15は基板ホルダー2の上下昇降機構である。上下昇降機構15にはガラス標本1を転写ロール8に接触させる際の接触圧力を調整するバネ機構18が組み込まれており、通常はガラス標本1が転写ロール8に接触しないような位置にバネ機構18の付勢力で保持される。19は基板ホルダー2全体を人手で上下昇降させるための把手である。
そのときの転写ロールとドクターナイフとの隙間は15μmに調整された。また、送り出しロールの外径は25mm、表面長さ25mm、表面材質は軟質ゴムを用いた。
2 基板ホルダー
3 ガイドレール
4 ガイド溝
5 組織片
6 送り出しロール
7 噛み合い歯車
8 転写ロール
9 噛み合い歯車
10 融解パラフィン浴
11 加熱ヒーター
12 ヒーター温度調節装置
13 パラフィン浴槽
14 駆動装置
15 上下昇降機構
16 ドクターナイフ
17 スクレーパー
18 バネ機構
19 把手
Claims (6)
- 組織薄切片を付着させたガラス基板を組織片付着側が下面になるよう保持し、基板上面に自由回転ロールを、基板下面に融解パラフィンを保持しながら回転する転写ロールを同時に密着せしめて基板を転写ロールの回転方向に沿って水平に移動させて基板下面の組繊薄切片をパラフィンで被覆することを特徴とするガラス基板のパラフィンマスキング方法。
- 組織薄切片を下面に付着させたガラス基板を水平に移動させる送り出しロールを含み上下動可能な基板ホルダー、融解パラフィンを保持する転写ロールとこれを回転させる駆動手段、及び基板ホルダー内の基板と転写ロールとが接触したときに前記駆動手段の駆動力を前記送り出しロールに伝えるクラッチ手段を含み、基板ホルダーに基板を挿入しこれを下降せしめたときに、基板下面が転写ロールに接触して融解パラフィンが基板に転写されると同時に、基板を送り出しロールと転写ロールとで挟持し、送り出しロールまたは送り出しロールと転写ロールの回転により水平に移動させて基板ホルダーから送り出すことを特徴とするパラフィンマスキング装置。
- 基板ホルダーが基板を受け入れてこれを保持する案内手段を有し、クラッチ手段が、送り出しロールの回転軸に設けられた第1の噛み合い歯車と転写ロールの回転軸に設けられた第2の噛み合い歯車とを有し、基板ホルダーを下降せしめたときに、転写ロールの上面が案内手段内の基板の下面に密着するとともに、前記第1の噛み合い歯車と前記第2の噛み合い歯車とが互いに噛み合うことにより駆動手段の駆動力を送り出しロールに伝えてこれを回転させ、案内手段内の基板を転写ロールの回転に合わせて水平方向に移動させる請求項2に記載のパラフィンマスキング装置。
- さらに、前記上下昇降機構が、基板ホルダーが転写ロールから離れるように上方に向けて付勢するバネ機構を含み、基板ホルダーがバネ機構の付勢力に抗して基板ホルダーを押し下げるための把手を含む請求項3に記載のパラフィンマスキング装置。
- 組織薄切片を付着させた基板を水平方向に可動に保持するための基板案内手段と基板案内手段の上方に軸支され、回転させたときに案内手段内の基板を水平方向に移動させる送り出しロールとを含む垂直方向に可動な基板ホルダー、
パラフィンを融解させるための加熱手段を備えた融解パラフィン浴、
少なくともその表面の一部が融解パラフィン浴内に位置し送り出しロールと実質的に平行に基板案内手段の下方に軸支された転写ロール、
転写ロールを回転させるための駆動手段、
基板ホルダーを、前記基板が転写ロールに接触しない第1の位置と転写ロールに接触する第2の位置との間で上下に移動させる上下昇降機構、及び
送り出しロールの回転軸に設けられた第1の噛み合い歯車と転写ロールの回転軸に設けられた第2の噛み合い歯車とを有し、
前記バネ手段により第1の位置に保持された基板ホルダーを前記把手により前記第1の位置から前記第2の位置に押し下げたときに、転写ロールの上面が案内手段内の基板の下面に密着するとともに、前記第1の噛み合い歯車と前記第2の噛み合い歯車とが互いに噛み合うことにより駆動手段の駆動力を送り出しロールに伝えてこれを回転させ、案内手段内の基板を転写ロールの回転に合わせて水平方向に移動させるように構成された請求項4に記載のパラフィンマスキング装置。 - 送り出しロールの軸心を転写ロールの軸心よりも基板挿入方向に変位させて設けた請求項5に記載のパラフィンマスキング装置。
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