JP4839102B2 - 液晶表示パネル - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示パネルに係り、特に輝点不良や黒点不良と称する表示欠陥を修正して良品とした液晶表示パネルに関する。

液晶表示パネルの製造プロセスには、ガラス基板上に画素回路などを構成するＴＦＴ素子を形成したＴＦＴ基板とカラーフィルタを形成したＣＦ基板の組立工程がある。この組立工程では、所定の液晶を一方の基板（例えば、ＣＦ基板）上に滴下した後に他方の基板（例えば、ＴＦＴ基板）とを真空中で位置決めし、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを重ね合わせ、周囲をシール剤で封止する。これにより、液晶が充填された液晶表示パネルが製作される。なお、液晶は上記のような滴下による方法の外、ＴＦＴ基板とＣＦ基板を貼り合せて液晶注入口を残して周囲をシール剤でシールした後に、当該貼り合わせ内部を減圧し、液晶注入口を液晶槽に浸して注入する方法もある。

このようにして製作された液晶表示パネルには、一部に表示不良を有したものがある。この表示不良には、輝点不良と黒点不良がある。輝点不良が発生するメカニズムは次の通りである。すなわち、重ね合わせる前のＴＦＴ基板もしくはＣＦ基板の表面には異物が付着していることがある。このような異物の付着があると、パネル組立工程で液晶中に異物が巻き込まれ、異物を持ったままで完成された液晶表示パネルとなる。異物を巻き込んだ画素部分は、その異物が排除した分、液晶の量が少ないために、液晶分子の動作による光遮断/開放効果（シャッター効果）が上手く機能しなくなり、これが輝点不良となる。また、黒点不良はＴＦＴ素子が形成される段階での配線欠陥等により、電気的に素子が駆動しないために発生する表示不良である。

特に、ＩＰＳ方式と称する横電界方の液晶表示パネルでは、動画表示対応で液晶層のギャップ（セルギャップ）がますます狭小化されている。上記の異物は、様々な要因で生じる空中浮遊の繊維屑、製造装置の搬送系などの駆動機構の磨耗で発生する金属屑などである。このような異物は、セルギャップと同等のサイズで１画素の領域に混入すると、当該画素の液晶が排除されてしまう。その結果、上記した輝点不良が生じる。

表示不良のうちの黒点不良は、ＴＦＴ素子を形成した段階で電気的特性試験を実施することにより発見できる。また、異物を原因とする輝点不良は工程中に発生するものであるため、ある確率で必ず発生する。しかしながら、従来はこのような輝点不良を救済する手法が開発されておらず、歩留り向上の阻害要因となっていた。

表示不良を対策する従来技術に関し、特許文献１は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の画素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射する光源手段とを有する液晶表示装置において、輝点欠陥が発生している画素を照射する上記照明光の照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面側に底面が該画素に近接する深さの凹陥加工部が形成され、該底面が光散乱特性を示す粗面形状に形成されている液晶表示装置を開示する。

また、特許文献２は、一対の透明基板間に液晶が封入され、表示用の画素がマトリクス状に配列された透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネルの背面方向より表示用の照明光を照射する光源手段とを有する液晶表示装置において、該透過型液晶パネルを透過する該照明光の出射側に位置する該透明基板の外側に、感光材が形成された透明基板を配設し、該感光材の輝点欠陥が発生している該画素の部位を透過する該照明光の照射経路上に位置する部分に、該感光材を露光してなる遮光膜を設けた液晶表示装置を開示する。
特許第２５８４９０５号公報 特開平５-３４６７３号公報

特許文献１に開示の従来技術に開示された凹陥加工部はバックライト光を散乱しているだけであり、照明光を完全に遮断できないため、当該画素は黒色を表示できない。例えば、液晶パネルに入力される画像情報が全面黒表示もしくは凹陥加工部に黒表示の信号が入力されると凹陥加工部は白く滲んでしまい、表示不良となる。これでは、映画、ニュース等のテロップを正確に表示できない。

特許文献２に開示の従来技術は、遮光膜を単に形成するものであるため、全面白もしくは凹陥加工部に白の表示信号が入力されると凹陥加工部は黒点となり、依然として表示不良となる。これでも又、映画、ニュース等の画像を正確に表示できない。

本発明の目的は、製造工程における異物の混入に起因する輝点欠陥を救済して歩留まりを向上した液晶表示パネルを提供することにある。

輝点不良を発生している画素の輝度と正常に動作している周囲の画素の輝度との差が大きいために視認される表示不良である。正常に動作している周囲の画素との輝度差または周囲との輝度傾斜が小さければ人間の目には視認し難くなる。そこで、本発明は、液晶表示パネルを構成しているガラス板の表面を加工し、光学機能を付加してバックライト光を制御することで、輝点不良および黒点不良良の両方を効果的に救済するようにしたものである。

上記目的を達成するため、本発明の手段１は、ＴＦＴ基板を構成するガラス板の輝点不良が発生している画素の部位に遮光膜を設置し、この遮光膜により、当該部位の画素を照明するバックライト光を遮断する。そして、ＣＦ基板を構成するガラス板の上記輝点不良が発生している画素の部位に複数の凹欠加工部を加工する構成とした。この凹欠加工部により、輝点不良が発生している画素の周囲で正常に動作している画素を照明しているバックライト光が当該輝点不良の画素側に集光される。言い替えれば、この凹欠加工部は、周囲の画素を照射しているバックライト光を輝点不良画素内に取り込んで擬似的に点灯状態とする機能を持つ。

これにより、輝点不良を発生している画素は、その周囲の正常に動作している画素と駆動と同期して点灯するので、当該輝点不良を発生している画素の部位での色表示が可能となる。同時に、当該輝点不良を発生している画素の部位における黒点不良も改善される。

また、本発明の手段２は、ＴＦＴ基板を構成するガラス板の輝点不良が発生している画素の部位に遮光膜を設置し、この遮光膜により、当該部位の画素を照射するバックライト光を遮断する。そして、ＣＦ基板を構成するガラス板の上記輝点不良が発生している画素の部位の表面に微細な凹凸形状をもつ光学フィルムを貼付する構成とした。この光学フィルムは、例えば携帯電話機の液晶表示パネルに用いられる拡散フィルムなどを利用できる。

これにより、上記の手段１と同様に、輝点不良を発生している画素は、その周囲の正常に動作している画素の駆動と同期して点灯するので、当該輝点不良を発生している画素の部位での色表示が可能となる。同時に、当該輝点不良を発生している画素の部位における黒点不良も改善される。

輝点不良が発生している部位の画素は周囲の正常に動作している画素の駆動に伴い、当該周囲の画素と同期して明滅する。全面黒の画像信号が入力されても輝点不良とならない。また、全面白の画像が入力された場合でも、黒点不良とならない。従って、仮に液晶表示パネルの組立工程で異物が混入して輝点不良の液晶表示パネルが製作されても、本発明を適用することで、良品として救済できる。すなわち、製造歩留りが向上し、低コスト化が実現される。

なお、本発明は、特に大サイズ（公称２６インチ程度以上の大型テレビ用）のＩＰＳ方式液晶表示パネルに好適であるが、これに限るものではなく、ＴＮ方式、ＶＡ方式、その他の液晶表示パネルにも適用できる。また、液晶表示パネルとは表示動作の原理が異なる表示パネル、例えば、薄膜電子源を用いた電子放出型あるいは電界放出型表示パネル、有機ＥＬ表示パネル（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイパネル等のフラット・パネル・ディスプレイ（ＦＰＤ）における同様の表示不良対策にも適用可能である。

以下、本発明の最良の実施形態を実施例を参照して詳細に説明する。

図１は、本発明の実施例１の第1例を説明する模式図である。図１の左方に参照符号１を付したものは画像表示装置で、ここではテレビ受像機を示す。この画像表示装置１の表示部には液晶表示パネル２が搭載されている。液晶表示パネル２の表示面の一部分３を拡大したものを図1の右方に示す。液晶表示パネル２の表示面には、ブラックマトリクス７で区画された複数の色フィルタ（カラーフィルタ）４、５、６が形成されている。各カラーフィルタ４、５、６はフルカラーの１画素（ピクセル）を構成する副画素（サブピクセル）であるが、説明を簡単にするため、本明細書および図面では、赤色画素（Ｒ画素）４、緑色画素（Ｇ画素）５、青色画素（Ｂ画素）６として説明する場合もある。

図１に示した実施例１では、同色の画素を構成するカラーフィルタが紙面の上下方向に配列されている。すなわち、注目画素に上下方向で隣接する画素は同色のフィルタで、紙面の左右方向で隣接する画素は互いに異なる他色のフィルタで構成される。実施例１では、輝点不良が発生した画素を青色画素（Ｂ画素）としてある。輝点不良が発生した画素である青色画素に対応するＣＦ基板のカラーフィルタ６の部位にあるガラス板（第２のガラス板）の表面に平面形状が円形の凹欠加工部８を形成する。この凹欠加工部８は、その直径が略々画素の左右方向の幅に同じとし、当該輝点不良が発生した青色画素のカラーフィルタ６と上下方向で隣接する正常に動作している同色の画素のカラーフィルタに一部が橋絡するように１又は複数（図１では３個）形成されている。この例の凹欠加工部８と画素との位置関係と作用は後述する。

図２は、本発明の実施例１の第２例を説明する模式図である。図1と同一参照符号は同一機能部分に対応する。この第２例では、同色の画素を構成するカラーフィルタが紙面の斜め方向に配列されている。すなわち、注目画素に上下方向で隣接する画素は互いに異なる他色のフィルタで構成され、紙面の左右方向で隣接する画素も互いに異なる他色のフィルタで構成されている。この例では、輝点不良が発生した画素をカラーフィルタ５を有する緑色画素（Ｇ画素）としてある。輝点不良が発生した画素である緑色画素に対応するＣＦ基板を構成するガラス板の外面に平面形状が円形の凹欠加工部８を形成する。この凹欠加工部８は、その直径が略々画素の左右方向の幅に同じとし、当該輝点不良が発生した緑色画素のカラーフィルタ５と上下方向および左右方向で隣接する正常に動作している互いに異なる色の画素に一部が橋絡するように１又は複数（図１では４個）形成されている。

実施例１の第１例、第２例共に、輝点不良が発生した画素に対応するＣＦ基板のガラス板に平面形状が円形の凹欠加工部８を形成している。上記の説明では凹欠加工部８の形状、大きさを平面形状が円形で、直径が略々画素の左右方向の幅に同じとしが、これに限定されるものではない。すなわち、凹欠加工部８の形状は楕円、あるいは非円形、等、輝点不良が発生した画素の隣接画素を照射したバックライト光の一部を当該輝点不良が発生した画素の領域に取り込むレンズ効果を有するものであればよい。また、その大きさや数も、輝点不良が発生した画素の隣接画素を照射したバックライト光の一部を当該輝点不良が発生した画素の領域に取り込む効果を有するものであれば図１、図２に示したものに限らない。

次に、実施例１の詳細構造と凹欠加工部の作用の詳細を図１で説明した第１例について説明する。なお、第２例の詳細構造と凹欠加工部の作用の詳細も、隣接画素が画面の上下方向で異なる点を除いて同様である。

図３は、図１のＡ―Ａ線に沿って切断した液晶表示パネルの断面模式図である。この液晶表示パネルは、カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）１０と薄膜トランジスタ基板（ＴＦＴ基板）２０の間に液晶３０を封入して構成される。ＴＦＴ基板２０は、第１のガラス板２１の主面に薄膜トランジスタ回路で構成した画素を有し、液晶３０とは配向膜を介して接する画素電極を有する。なお、画素電極はＩＴＯを好適とし、ＣＦ基板１０の主面に形成されたブラックマトリクス７の間に有するカラーフィルタ毎に対応して配置される。

ＴＮ方式ではＣＦ基板のカラーフィルタ６（４、５も含む）の液晶３０側に共通電極がベタ成膜され、この共通電極を覆って配向膜が成膜される。また、ＩＰＳ方式やＶＡ方式では、ＴＦＴ基板２０の主面に対向電極が配置される。これら画素電極、配向膜などは図示を省略してある。

図３において、中央に示したカラーフィルタ６で構成される画素の部位の液晶３０に異物３１が混入していると、この画素の点灯/消灯のシャッター機能として動作する液晶３０は、異物３１の大きさだけ排除される。そのため、この中央に示したカラーフィルタ６で構成される画素のシャッター機能は表示信号によって充分に制御されないことになる。すなわち、この中央に示した画素はバックライト光５０を常時ＣＦ基板１０側に通過させ、輝点不良となる。実施例１では、この輝点不良が発生した画素の部位に対応するＴＦＴ基板２０を構成する第1のガラス板の外面に遮光膜４０を設け、バックライト光５０が輝点不良を発生した画素に到達するのを阻止する。しかし、このままでは、液晶表示パネルに全面白表示をさせたような場合には、輝点不良が発生した画素は黒点不良となる。

そこで、実施例１では、ＣＦ基板１０を構成する第２のガラス板１１の当該輝点不良が発生した画素の部位に対応する外面に凹欠加工部８を形成する。実施例１では、この凹欠加工部８は図１でも説明したように、当該輝点不良が発生した画素を構成するカラーフィルタ６の上方において第２のガラス板１１に図１に示したように画素の長手方向に３個形成される。ＣＦ基板１０を構成する第２のガラス板１１の外面には、この凹欠加工部８を含めた全面に偏光板１３が粘着剤１２で積層形成される。なお、ＴＦＴ基板２０を構成する第１のガラス板２１の外面にも、上記遮光膜４０の上を含めた全面、あるいは遮光膜４０の下を含めた全面に、上記と同様に偏光板が積層される。これらの偏光板の図示は省略した。

図４は、図３に示した実施例１の構成の作用を説明する模式図である。異物３１の混入で輝点不良が発生したカラーフィルタ６で構成される画素のＴＦＴ基板２０の第１のガラス板２１の外面に遮光膜４０が設けられている。この遮光膜４０は、バックライト光のうちの当該輝点不良が発生した画素への照明光５１を遮断することで黒表示での輝点発生を阻止する。そして、白表示では、ＣＦ基板１０を構成する第２のガラス板１１の外面に形成された凹欠加工部８が、隣接する正常な画素の照明光５２を当該輝点不良が発生した画素側に取り込む（集光する）ことで、黒点不良を解消または抑制する。黒点不良が解消または抑制の程度は、凹欠加工部８の数、その配置、および形状とその直径、深さ等で調整できる。

このように、実施例１により輝点不良、黒点不良は共に解消または低減され、表示不良をもつ液晶表示パネルを救済して良品化できる。以下、ＣＦ基板を構成する第２のガラス板の外面に形成する凹欠加工部の深さや個数を異ならせた場合の効果の違いについて説明する。

図５Ａは、1個の凹欠加工部についての適正な深さをシミュレーションした結果を示す図である。このシミュレーションに用いた実証実験パネルとしての液晶表示パネル（図５Ａには液晶パネルと表記）は、公称３２インチのＷＸＧＡ（１２８０×７６８画素）、想定画素サイズを０．５ｍｍ×０．１７ｍｍ、ガラス板厚を０．７ｍｍ、液晶厚（セルギャップ）を０．００４ｍｍとした。このように条件設定した液晶表示パネルを光学解析シミュレータ上に構成してバックライトからの光線を追跡して測定面での輝度分布を求めたものが図５Ａである。

なお、図５Ａでは、凹欠加工部が図１〜図４に示したような略半球形の凹陥部としてあり、この凹欠加工部をレンズと表記している。また、輝点不良を発生した画素へのバックライト光の照射を遮光する遮光膜４０を設けた場合の輝度を概念的に光線数として示した。この光線数は相対値として理解される。図５Ａには、「上下レンズ無し」を基準とし、レンズ幅が０．４の場合のレンズ深さが０．１、０．２、０．３、０．４、０．５についてシミュレーションしたものである。

図５Ａの凹欠加工部（レンズ）の幅と深さの変化による輝度分布測定結果において、横軸の輝点不良位置１．０は凹欠加工部の中心に相当する。遮光膜４０は、その中央部を中心に幅０．５ｍｍに設定した。この幅は公称３２インチ相当の液晶表示パネルの画素１個の大きさに相当する。ここで、「上下レンズ無し」とは単に遮光膜４０のみが存在する状態を表している。

レンズ幅すなわち凹欠加工部の幅（図１の左右方向幅）を一定にしたまま、凹欠加工部の深さを増すとレンズ効果が高まって凹欠加工部の輝度が向上し、０．３ｍｍ以上の深さでほぼ飽和する。また、解析の結果、レンズ深さが０．３ｍｍより大きくなると、レンズヘのバックライト光線の入射角度が大きくなるために輝度が低下することが分った。そこで、この解析結果から、製品の液晶表示パネルに形成する凹欠加工部を幅０．４ｍｍとし、深さを０．３ｍｍとすることで、バックライト光が全透過している部分の３０％輝度を確保できた。

図５Ｂは、凹欠加工部の個数による輝度分布測定結果の説明図である。図５Ｂでは、幅（直径）が０．２６ｍｍとし、深さを０．１３ｍｍとしたレンズをカラーフィルタの長手方向（図１の上下方向）に２個直線状に凹欠加工した場合と、幅（直径）が０．１３ｍｍとし、深さを０．０６５ｍｍとしたものを上記と同じ方向に４個設けた場合での輝度差を示している。このシミュレーションに用いた実証実験パネルとしての液晶表示パネル（図５Ｂには液晶パネルと表記）は、公称３２インチのＷＸＧＡ（１２８０×７６８画素）、想定画素サイズを０．５ｍｍ×０．１７ｍｍ、ガラス板厚を０．７ｍｍ、液晶厚（セルギャップ）を０．００４とした。このように条件設定した液晶表示パネルを光学解析シミュレータ上に構成してバックライトからの光線を追跡して測定面での輝度分布を求めたものが図５Ｂである。

図５Ｂから、レンズが４個の場合よりも２個の場合の方が輝度不良画素での輝度は高いが、レンズが存在する部分とその他の部分での輝度分布差が大きい。すなわち、レンズ個数を４個とすることにより、バックライトからの光線が全透過している部分の輝度（光線数）を、正常に動作している画素の輝度の平均を１００とした場合に、５０以上とすることができることが分る。

図６は、本発明の表示欠陥修正方法を説明する修正プロセス図である。この修正（救済）プロセスは、先ず、救済対象の液晶表示パネルを二次元座標測定装置のテーブルに載せ、表示面の全画素を黒表示として輝点画素を顕在化させる。この輝点画素は輝点不良を発生した画素である。二次元座標測定装置はこの輝点不良を発生した画素のＸ,Ｙ座標を確定し、修正データとして保存しておく。

次に、上記の液晶表示パネルを遮光膜設置装置にセットし、表示面の輝点不良の画素の部位に対応するＴＦＴ基板上の座標を上記の修正データを用いて確認する（プロセス１、以下Ｐ―１のように表記）。確認したＴＦＴ基板の上記座標の画素領域を覆う大きさで遮光膜を形成する（Ｐ―２）。

遮光膜を設置した液晶表示パネルを、ＣＦ基板側を上にして凹欠加工装置に移載する。凹欠加工装置により、前記した凹欠を加工する（Ｐ―３）。その後、この液晶表示パネルをフィルム貼付装置に移載してＣＦ基板およびＴＦＴ基板の両外面に偏光板を貼り付ける（Ｐ―４）。

図７は、ＴＦＴ基板を構成するガラス板の輝点不良の画素の部位に遮光膜を形成する方法の１例を説明する流れ図である。図６の（Ｐ―１）で確認した座標に基づいてＴＦＴ基板２０を構成する第１のガラス板２１上の輝点不良位置の画素を確認する（ａ）。確定した画素の座標の部位を覆って第１のガラス板２１に金属錯体溶液４１を滴下して塗布する（ｂ）。金属錯体溶液４１は、例えばＰｄ錯体溶液を用いることができる。金属錯体溶液４１の滴下はガラスピペット等を用いるのが好ましい。

塗布した金属錯体溶液４１にレーザ７０を照射して焼成し、例えばＰｄ薄膜の遮光膜４０を形成する。このとき、レーザ７０は、その照射領域が当該画素の部位に限定するように、その幅と照射開始点と終了点をオン・オフする。なお、レーザ７０の照射スポットを当該画素の部位に限定する大きさとして走査せずに塗布した金属錯体溶液４１を焼成してもよい。さらに、画素サイズの開口を設けたマスクを通してレーザ７０を照射することもできる。このようにして、遮光膜４０が形成される。

図８は、図６の（Ｐ―３）で凹欠加工装置により凹欠を加工する方法の１例を説明する模式図である。液晶表示パネルの構成は図３に示したものと同様であるが、第２のガラス板１１には偏光板は貼付されていない状態にある。この凹欠加工装置はエンドミル加工装置である。ＴＦＴ基板のガラス板に遮光膜４０を形成した液晶表示パネルをエンドミル加工装置の加工テーブルに載置し、超硬エンドミル８０でＣＦ基板に凹欠加工を施す。このとき、凹欠加工すべき部位は、先の座標データを用いることができる。図８では、輝点不良の画素の部位に対応するＣＦ基板に、当該輝点不良の画素のブラックマトリクス７を越えて隣接する正常動作の画素に橋絡するように凹欠加工部８を形成する。これにより、任意の大きさの凹欠加工を任意の個数だけ形成できる。

図９は、図６の（Ｐ―３）で凹欠加工装置により凹欠を加工する方法の他例を説明する模式図である。液晶表示パネルの構成は図３に示したものと同様であるが、第２のガラス板１１には偏光板は貼付されていない状態にある。この凹欠加工装置はエッチング加工装置である。ＴＦＴ基板の第１のガラス板２１に遮光膜４０を形成した液晶表示パネルをエッチング加工装置の加工テーブルに載置する。凹欠加工すべき部位にエッチング液を第２のガラス板１１に滴下してＣＦ基板の当該第２のガラス板１１の外面の一部を溶解して凹欠加工を施す。エッチング液にはＨＦ系溶液を用いることができる。凹欠加工すべき部位は、先の座標データを用いることができる。エッチング液の滴下はピペットやマイクロディスペンサあるいはインクジェットノズルを用いることができる。図９でも、輝点不良の画素の部位に対応するＣＦ基板を構成する第２のガラス板１１に、当該輝点不良の画素のブラックマトリクス７を越えて隣接する正常動作の画素に架かるように凹欠加工部８を形成する。これにより、任意の大きさの凹欠加工を任意の個数だけ形成できる。

図１０は、本発明の実施例２を説明する模式図である。又、図１１は、図１０のＡ−Ａ線に沿って切断した断面模式図である。図１０の左方に参照符号１を付したものは画像表示装置で、ここでもテレビ受像機を示す。この画像表示装置１の表示部には液晶表示パネル２が搭載されている。液晶表示パネル２の表示面の一部分３を拡大したものを図１０の右方に示す。液晶表示パネル２の表示面には、ブラックマトリクス７で区画された複数の色フィルタ（カラーフィルタ）４、５、６が形成されている。実施例２においても、各カラーフィルタ４、５、６はフルカラーの１画素（ピクセル）を構成する副画素（サブピクセル）であるが、説明を簡単にするため、本明細書および図面では、赤色画素（Ｒ画素）４、緑色画素（Ｇ画素）５、青色画素（Ｂ画素）６として説明する。

図１０に示した実施例２では、同色のカラーフィルタが紙面の上下方向に配列されている。すなわち、注目画素に上下方向で隣接する画素は同色のフィルタで構成され、紙面の左右方向で隣接する画素は互いに異なる他色のフィルタで構成されている。実施例２では、輝点不良が発生した画素を青色画素（Ｂ画素）としてある。輝点不良が発生した画素である青色画素に対応するＣＦ基板のカラーフィルタ６に光学フィルムとしてプリズムシート９０を貼付したものである。なお、輝点不良に対するＴＦＴ基板側での対策は実施例１と同じに遮光膜４０の形成で行なわれる。

このプリズムシート９０は、当該輝点不良が発生した画素のカラーフィルタに対して表面に微細な多数の三角畝状の凹凸を有する。この三角畝状の凹凸の長手方向は、図１０の左右方向である。このプリズムシート９０を設置することにより、上下方向に隣接する同色のカラーフィルタを通過したバックライト光の一部５２を当該輝点不良が発生した画素側（図１１の中央に位置するカラーフィルタ６の内側）に取り込んで白表示の際に黒点不良となるのを抑制する。

なお、三角畝状のプリズムシート９０に替えて、半円形畝状の表面を持つ光学シート（カマボコレンズシート）、多数の三角錘、円錐、半円形等を表面に形成した光学シート、あるいは実施例１で説明した凹欠を有する光学シートを用いることもできる。

また、実施例２のような光学シートをＣＦ基板のガラス外面に貼付する替わりに、ＣＦ基板のガラス外面にＵＶ（紫外線）硬化性の樹脂をピペットやマイクロディスペンサあるいはインクジェットノズル等で所定の位置に滴下し、その後ＵＶを照射することにより、ガラス１１の表面から盛り上がった半円形等のマイクロレンズ形状を付与することもできる。

以上説明した実施例１では、凹欠加工部を隣接する同色の画素（カラーフィルタ）にブラックマトリクスを越えてはみ出させた構成について説明した。しかし、本発明はこれに限るものではなく、図２で説明したようなカラーフィルタの配置（画素配置）において、輝点不良が発生した画素のカラーフィルタ６に上下および左右方向で隣接する他色の画素（カラーフィルタ）４，５に凹欠加工部をはみ出せてもよい。この場合、カラーフィルタ６からは本来の色と異なる色光が表示光としてＣＦ基板から出射される。しかし、この程度の点状の色相違は、画面全体からみれば、ほとんど目に付かない程度であるので、図２に示したように構成しても、実用上問題はない。このことは、実施例２で説明した光学シートの利用、ガラス面へのマイクロレンズ形状の直接形成についても同様である。

本発明の実施例１の第1例を説明する模式図である。 本発明の実施例１の第２例を説明する模式図である。 図１のＡ―Ａ線に沿って切断した液晶表示パネルの断面模式図である。 図３に示した実施例１の構成の作用を説明する模式図である。 1個の凹欠加工部についての適正な深さをシミュレーションした結果を示す図である。 凹欠加工部の個数による輝度分布測定結果の説明図である。 本発明の表示欠陥修正方法を説明する修正プロセス図である。 ＴＦＴ基板の輝点不良の画素の部位に遮光膜を形成する方法の１例を説明する流れ図である。 図６の（Ｐ―３）で凹欠加工装置により凹欠を加工する方法の１例を説明する模式図である。 図６の（Ｐ―３）で凹欠加工装置により凹欠を加工する方法の他例を説明する模式図である。 本発明の実施例２を説明する模式図である。 図１０のＡ−Ａ線に沿って切断した断面模式図である。

符号の説明

１・・・画像表示装置、２・・・液晶表示パネル、３・・・表示面の一部、４・・・赤色フィルタ、５・・・緑色フィルタ、６・・・青色フィルタ、７・・・ブラックマトリクス、８・・・凹欠加工部、１０・・・カラーフィルタ基板、１１・・・第２のガラス板、１２・・・粘着剤、１３・・・偏光板、２０・・・薄膜トランジスタ基板、２１・・・第１のガラス板、３０・・・液晶、３１・・・異物、４０・・・遮光膜、４１・・・金属錯体溶液、５０・・・バックライト光、５１・・・輝点不良画素の照明光、５２・・・隣接画素の照明光、６０・・・ガラスピペット、７０・・・レーザ光、８０・・・超硬エンドミル、８５・・・エッチング液、９０・・・プリズムシート。

Claims (14)

1. 第１のガラス板の主面に薄膜トランジスタで構成した複数の画素をマトリクス配置した薄膜トランジスタ基板と、第２のガラス板の主面に前記複数の画素のそれぞれに対応して配置した複数のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板と、前記薄膜トランジスタ基板と前記カラーフィルタ基板の対向間隙に封止された液晶と、前記第１のガラス板側に設けられ、前記画素を照明するバックライトとを備える液晶表示パネルであって、
   前記液晶表示パネルは、前記液晶に混入した異物に起因する輝点不良の画素を有し、
   前記薄膜トランジスタ基板の前記輝点不良が発生している画素に対応する前記第１のガラス板の外面に、前記輝点不良が発生している画素へのバックライト光を遮断する遮光膜を備え、
   前記遮光膜が設けられた画素及びその周囲の正常に動作する画素に対応する前記第２のガラス板の外面に、前記正常に動作する画素を透過したバックライト光を当該遮光膜が設けられた画素側に取り込む、前記第２のガラス基板に掘り込んだ球形の一部の形状を有する凹欠加工部を有することを特徴とする液晶表示パネル。
2. 請求項１において、
   前記凹欠加工部は、前記輝点不良が発生している画素に隣接する画素の一部に橋絡して形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
3. 請求項１又は２において、
   前記輝点不良が発生している画素に隣接する画素のカラーフィルタが、当該輝点不良が発生している画素のカラーフィルタと同色であることを特徴とする液晶表示パネル。
4. 請求項１又は２において、
   前記輝点不良が発生している画素に隣接する画素のカラーフィルタが、当該輝点不良が発生している画素のカラーフィルタとは異なる色であることを特徴とする液晶表示パネル。
5. 請求項１乃至４の何れかにおいて、
   前記凹欠加工部は、前記輝点不良が発生している画素について１又は２以上配置されていることを特徴とする液晶表示パネル。
6. 第１のガラス板の主面に薄膜トランジスタで構成した複数の画素をマトリクス配置した薄膜トランジスタ基板と、第２のガラス板の主面に前記複数の画素のそれぞれに対応して配置した複数のカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板と、前記薄膜トランジスタ基板と前記カラーフィルタ基板の対向間隙に封止された液晶と、第１のガラス板側に設けられ、前記画素を照明するバックライトとを備える液晶表示パネルであって、
   前記液晶表示パネルは、前記液晶に混入した異物に起因する輝点不良の画素を有し、
   前記薄膜トランジスタ基板の前記輝点不良が発生している画素に対応する前記第１のガラス板の外面に、前記輝点不良が発生している画素へのバックライト光を遮断する遮光膜を備え、
   前記遮光膜を設けられた画素及びその周囲の正常に動作する画素に対応する前記第２のガラス板の外面に、前記正常に動作する画素を透過したバックライト光を当該輝点不良の画素側に取り込む微細な凹凸形状をもつ光学フィルムを貼付してなることを特徴とする液晶表示パネル。
7. 請求項６において、
   前記微細な凹凸形状をもつ光学フィルムは、前記輝点不良が発生している画素に隣接する画素の一部に橋絡して形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
8. 請求項６又は７において、
   前記輝点不良が発生している画素に隣接する画素のカラーフィルタが、当該輝点不良が発生している画素のカラーフィルタと同色であることを特徴とする液晶表示パネル。
9. 請求項６又は７において、
   前記輝点不良が発生している画素に隣接する画素のカラーフィルタが、当該輝点不良が発生している画素のカラーフィルタとは異なる色であることを特徴とする液晶表示パネル。
10. 請求項６乃至９の何れかにおいて、
    前記微細な凹凸形状をもつ光学フィルムは、前記輝点不良が発生している画素に隣接する画素の一部に橋絡して形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
11. 請求項１０において、
    前記微細な凹凸形状をもつ光学フィルムは、三角畝状の表面を持つプリズムシートであることを特徴とする液晶表示パネル。
12. 請求項１０において、
    前記微細な凹凸形状をもつ光学フィルムは、半円形畝状の表面を持つ光学シートであることを特徴とする液晶表示パネル。
13. 請求項１０において、
    前記微細な凹凸形状をもつ光学フィルムは、多数の三角錘、円錐、半円形の何れかを表面に形成した光学シートであることを特徴とする液晶表示パネル。
14. 請求項１０において、
    前記微細な凹凸形状をもつ光学フィルムは、凹欠加工部を表面に形成した光学シートであることを特徴とする液晶表示パネル。