JP4832930B2 - 光学補償膜およびそれを用いた液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は光学補償膜、およびそれを用いた液晶表示装置に関する。

近年の薄型ディスプレイ市場において液晶表示装置は急速に市場が拡大している。液晶表示装置の液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板および液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過および反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが既に商品化されている。一般消費者も従来のブラウン管（ＣＲＴ）に変わるものとしてあらゆる表示モードの液晶表示装置を広く受け入れている。このような状況において液晶表示装置は一枚以上の光学補償膜を配置することが普通になっており、光学補償膜には更なる高機能化とコストダウンが求められている。特許文献１には重合性基を有する液晶化合物を用いて所望の光学性能を満たすことに加えて、生産性の向上を達成し得る光学補償膜の作製方法が開示されている。特許文献２および３には重合性基を有する特許文献１とは異なる構造の液晶化合物を用いて光学補償膜を作製する方法が開示されている。しかしながらこれらの文献においては本発明で記載している重合性液晶化合物故に本質的に有する問題である保存性の改良等に関する技術については何ら言及されていない。

特許第２６９２０３５号公報 特開２００５−１２２１５５号公報 特開２００５−１２２１５６号公報

本発明の課題は、上記課題を解決することを目的とするものであって、液晶表示装置の液晶セルを光学的に補償し、輝点欠陥の少ない光学補償膜を得ることでコントラストの改善および色味の視角方向に依存した変化が軽減された安価な液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明はこれらの状況を鑑みて鋭意検討した結果、下記手段を用いることで重合性液晶化合物を用いた光学補償膜の作製に際して本質的に生じる製造工程における液晶化合物の保存性の課題について、光学性能を犠牲にすることなく対策できること、さらには生産性が向上し、安価で輝点や欠陥の少ない光学補償膜の作製に寄与できることを見出した。
具体的には、下記手段により達成された。
（１）少なくとも１種類の重合性液晶化合物を含む組成物（１）であって、かつ、該組成物（１）を、６０℃、６０％相対湿度下、３日間保管した後のＧＰＣチャートの分子量５０００を越える範囲のＧＰＣパターン面積比が該組成物（１）の全パターン面積に対して０．１％（ポリスチレン換算）を越えない組成物（１）を含む組成物（２）を重合硬化させることにより形成した光学異方性層を有する光学補償膜。
（２）前記重合性液晶化合物が常温で粉末である（１）に記載の光学補償膜。
（３）前記組成物（１）は、重合性液晶化合物を溶媒に溶かした形態である、（１）または（２）に記載の光学補償膜。
（４）前記重合が光重合である（１）〜（３）のいずれか１項に記載の光学補償膜。
（５）前記重合性液晶化合物が円盤状液晶化合物である（１）〜（４）のいずれか１項に記載の光学補償膜。
（６）前記重合性液晶化合物が一般式（ＤＩ）で表される、（１）〜（４）のいずれか１項に記載の光学補償膜。
一般式（ＤＩ）

（一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、およびＹ¹³はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³はそれぞれ独立に、単結合および二価の連結基のいずれかを表す。Ｈ¹、Ｈ²、およびＨ³はそれぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ａ）および一般式（ＤＩ−Ｂ）のいずれかを表す。Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、それぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ａ）

（一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹およびＹＡ²はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、およびイミノのいずれかを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｂ）

（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹およびＹＢ²は、それぞれ独立にメチンおよび窒素原子のいずれか表す。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、およびイミノのいずれかを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｍ）ｎ₁−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
（一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ−Ａ）または一般式（ＤＩ−Ｂ）中の５員環に結合する位置を表す。Ｌ²¹は単結合および二価の連結基のいずれかを表し、Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−のいずれかを表し、Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。Ｍは少なくとも１種の環状構造を有する二価の連結基を表す。Ｑ¹はそれぞれ独立に、重合性基および水素原子のいずれかを表す。ｎ₁は０〜４の整数を表す。）
（７）（１）〜（６）のいずれか１項に記載の光学補償膜を有する液晶表示装置。

本発明は、液晶表示装置の液晶セルを光学的に補償する光学補償膜を安定的に安価に製造することで液晶表示装置のコストダウンに寄与する。さらには輝点や欠陥の少ない光学補償膜を得ることにつながり、それらを適用した液晶表示装置の表示品位をさらに高めることができる。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
なお、本明細書において、「４５°」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５°未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。

本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板および液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」および「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」および「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。

また、本明細書において「分子対称軸」とは、分子が回転対称軸を有する場合は該対称軸をいうが、厳密な意味で分子が回転対称性であることを要求するものではない。一般的には、分子対称軸は、円盤状液晶化合物では、円盤面の中心を貫く円盤面に対して垂直な軸と一致し、また棒状液晶化合物では分子の長軸と一致する。

また、本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−50度から＋50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。

本発明の光学補償膜は、少なくとも１種類の重合性液晶化合物を含む組成物（１）であって、かつ、該組成物（１）を、６０℃、６０％相対湿度下、３日間保管した後のＧＰＣチャートの分子量５０００を越える範囲のＧＰＣパターン面積比が該組成物（１）の全パターン面積に対して０．１％（ポリスチレン換算）（好ましくは、０．０５％）を越えない組成物（２）に含まれる前記重合性液晶化合物を重合硬化させることにより形成したものである。
ここで、ＧＰＣチャートとは、下記に述べるＧＰＣ測定方法に記載の条件と装置によって測定したＧＰＣのチャートをいう。
また、分子量５０００を越える範囲のＧＰＣパターンとは、後述するポリスチレン換算分子量で５０００以上の成分のＧＰＣチャート上での溶出パターンを溶出時間と検出強度によって表されるエリア（Ａｒｅａ）のことをいい、全パターン面積とは、組成物（１）のＧＰＣチャート上での全溶出パターンのエリア（Ａｒｅａ）のことをいう。組成物（１）の含量（重量）が最も多い成分を主成分といい、通常、重合性液晶化合物をいう。
また、本明細書では、組成物（２）は組成物（１）の構成成分であることを意味するが、組成物（２）と組成物（１）は同一であってもよい。

（ＧＰＣ測定方法）
（１）試料を量り取り、０．１重量％になるようにテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解し、試料溶液を調製した。
（２）（１）の試料溶液１０μｌを下記のＧＰＣ測定装置に注入し、２０分間流してＵＶ波長λ＝２５４ｎｍ付近で検出される試料の溶出時間を測定した。
装 置：ＨＬＣ−８２２０（ＴＯＳＯＨ社）
ガードカラム：ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｈ
カラム：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ，ＳｕｐｅｒＨＺ４０００及びＳｕｐｅｒＨＺ２０００ ３連（ＴＯＳＯＨ社）
温 度：４０℃
溶 媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
流 速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ

次に、本発明の光学補償膜の作製に用いられる材料、作製方法等について、詳細に説明する。
［光学補償膜]
本発明の光学補償膜は、液晶表示装置、特にＯＣＢモード、ＶＡモードの液晶表示装置の視野角コントラストの拡大、および視野角に依存した色ずれの軽減に寄与する。本発明の光学補償膜は、観察者側の偏光板と液晶セルとの間に配置しても、背面側の偏光板と液晶セルとの間に配置してもよいし、双方に配置してもよい。例えば、独立の部材として液晶表示装置内部に組み込むこともできるし、また、偏光膜を保護する保護膜に、光学特性を付与して透明フィルムとしても機能させて、偏光板の一部材として、液晶表示装置内部に組み込むこともできる。本発明の光学補償膜の好ましい態様は、例えば、支持体と、該支持体上に前記組成物（２）を重合硬化させてなる光学異方性層とを有する態様である。前記支持体と光学異方性層との間に、光学異方性層中の液晶化合物の配向を制御する配向膜を有していてもよい。また、後述する光学特性を満たす限り、該支持体および光学異方性層はそれぞれ、２以上の層からなっていてもよい。まず、本発明の光学補償膜の各構成部材について詳細に説明する。

（光学異方性層）
本発明の光学補償膜は、前記組成物（２）から形成された光学異方性層を少なくとも一層有する。前記光学異方性層は、セルロースアシレートフィルム等の支持体の表面に直接形成してもよいし、支持体上に配向膜を形成し、該配向膜上に形成してもよい。また、別の基材に形成した液晶化合物層を、粘着剤、接着剤等を用いて、セルロースアシレートフィルム等の支持体上に転写することで、本発明の光学補償膜を作製することも可能である。
光学異方性層の形成に用いる液晶化合物としては、棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物が挙げられる。棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよい。また、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はなく、例えば、光学異方性層の作製に低分子液晶化合物を用いた場合、光学異方性層を形成される過程で、該化合物が架橋され液晶性を示さなくなった態様であってもよい。

（棒状液晶化合物）
本発明に使用可能な棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも用いることができる。言い換えると、棒状液晶化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。

本発明に用いる棒状液晶化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基またはエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。

（円盤状液晶化合物）
円盤状液晶化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

前記円盤状液晶化合物には、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基または置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の、液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。

上記した様に、液晶化合物から光学異方性層を形成した場合、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はない。例えば、低分子の円盤状液晶化合物が熱または光で反応する基を有しており、熱または光によって該基が反応して、重合または架橋し、高分子量化することによって光学異方性層が形成される場合などは、光学異方性層中に含まれる化合物は、もはや液晶性を失っていてもよい。円盤状液晶化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、円盤状液晶化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。

円盤状液晶化合物を重合により固定するためには、円盤状液晶化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。

円盤状液晶化合物としては、一般式（ＤＩ）で表される化合物が好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、およびＹ¹³はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。
前記Ｙ¹¹、Ｙ¹²、およびＹ¹³がメチンの場合は、置換基を有していてもよい。
前記置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、シアノ基が挙げられる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、シアノ基が好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子、シアノ基がより好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³は、それぞれ独立に、単結合および二価のいずれかの連結基を表す。
前記Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³が二価の連結基の場合は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。これらの基が水素原子を含む基である場合は、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。
前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルで置換された炭素原子数２〜６のカルバモイル基、炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

前記Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³で表される二価の連結基は、少なくとも１種類の環状構造を有する二価の環状基であってもよい。
前記二価の環状基としては、５員環、６員環、７員環であることが好ましく、５員環、６員環であることがより好ましく、６員環であることが特に好ましい。前記環状基に含まれる環は、縮合環であってもよいし、単環であってもよく、単環であることがより好ましい。
前記環状基に含まれる環としては、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。前記芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。前記脂肪族環としては、例えば、シクロヘキサン環などが挙げられる。前記複素環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環などが挙げられる。前記環状基は、芳香族環、複素環が好ましい。

前記Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³で表される二価の環状基のうち、前記ベンゼン環を有する環状基としては、例えば、１，４−フェニレン基が好ましい。前記ナフタレン環を有する環状基としては、例えば、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。前記シクロヘキサン環を有する環状基としては、例えば、１，４−シクロへキシレン基が好ましい。前記ピリジン環を有する環状基としては、例えば、ピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。前記ピリミジン環を有する環状基としては、例えば、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。

前記Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³で表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数１〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が挙げられる。

前記Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−Ｍ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｍ−、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｍ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−Ｍ−、＊−Ｃ≡Ｃ−Ｍ−、＊−Ｍ−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｍ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｍ−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｍ−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−Ｍ−、＊−Ｃ≡Ｃ−Ｍ−が好ましく、単結合が特に好ましい。なお、前記＊は一般式（Ｉ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²、およびＹ¹³を含む６員環に結合する位置を表し、前記Ｍは二価の環状基を表す。

一般式（ＤＩ）中、Ｈ¹、Ｈ²、およびＨ³はそれぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ａ）および一般式（ＤＩ−Ｂ）のいずれかを表す。
一般式（ＤＩ−Ａ）

一般式（ＤＩ-Ａ）中、ＹＡ¹およびＹＡ²はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、およびイミノのいずれかを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。
一般式（ＤＩ−Ｂ）

一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹およびＹＢ²は、それぞれ独立にメチンおよび窒素原子のいずれか表す。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、およびイミノのいずれかを表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。

一般式（ＤＩ）中、Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、それぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
〔一般式（ＤＩ−Ｒ）〕
＊−（−Ｌ²¹−Ｍ）ｎ₁−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中の５員環に結合する位置を表す。Ｌ²¹は単結合および二価の連結基のいずれかを表す。Ｌ²¹が二価の連結基の場合は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。これらの基が水素原子を含む場合は、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。
前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、ハロゲンで置換された炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルで置換された炭素原子数２〜６のカルバモイル基、炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

Ｌ²¹は単結合、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合がより好ましい。

Ｌ²¹で表される二価の連結基は、少なくとも１種類の環状構造を有する二価の環状基であってもよい。二価の環状基としては、５員環、６員環、７員環であることが好ましく、５員環、６員環であることがより好ましく、６員環であることが特に好ましい。前記環状基に含まれる環は、縮合環であってもよいし、単環であってもよく、単環であることがより好ましい。
前記環状基に含まれる環としては、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。前記芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環などが挙げられる。前記脂肪族環としては、例えば、シクロヘキサン環などが挙げられる。前記複素環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環などが挙げられる。

Ｌ²¹で表される二価の環状基のうち、前記ベンゼン環を有する環状基としては、例えば、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基が好ましい。前記ナフタレン環を有する環状基としては、例えば、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。前記シクロヘキサン環を有する環状基としては、例えば、１，４−シクロへキシレン基が好ましい。前記ピリジン環を有する環状基としては、例えば、ピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。前記ピリミジン環を有する環状基としては、例えば、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。前記二価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。

Ｌ²¹で表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数１〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン置換アルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン置換アルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

一般式（ＤＩ−Ｒ）中、ｎ₁は０〜４の整数を表す。ｎ₁は１〜３の整数が好ましく、１および２のいずれかが特に好ましい。

一般式（ＤＩ−Ｒ）中、Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−のいずれかを表し、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−がより好ましい。これらの基が水素原子を含む基である場合は、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。
前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、ハロゲンで置換された炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルで置換された炭素原子数２〜６のカルバモイル基、炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

一般式（ＤＩ−Ｒ）中、Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。
前記他の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル置換カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が挙げられる。これらの中でも特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、本発明の液晶化合物から液晶組成物を調製する際に、使用する溶媒に対する溶解性を向上させることができる。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−の組み合わせからなることが好ましい。また、Ｌ²³は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することが特に好ましい。さらに、Ｌ²³は、−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、２〜１２個含有することが特に好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｑ¹はそれぞれ独立に、重合性基および水素原子のいずれかを表す。Ｑ¹は、本発明の液晶化合物を、位相差の大きさが熱により変化しないようにする観点から、重合性基であることが好ましい。ここで、重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。したがって、前記重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。このような重合性基としては、特に制限はないが、付加重合反応が可能な重合性基としては、例えば、以下に示す基が挙げられる。

前記重合性基は、縮合重合反応が可能な官能基が特に好ましく、このような重合性基としては、例えば、重合性エチレン性不飽和基および開環重合性基のいずれかが好ましい。
前記重合性エチレン性不飽和基としては、例えば、下記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）で表される基が挙げられる。

式（Ｍ−３）および（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子およびアルキル基のいずれかを表す。Ｒとしては、水素原子およびメチル基のいずれかが好ましい。
式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）で表される基の中でも、式（Ｍ−１）および式（Ｍ−２）で表される基のいずれかが好ましく、式（Ｍ−１）で表される基が特に好ましい。

前記開環重合性基としては、例えば、環状エーテル基が好ましく、その中でもエポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が特に好ましい。

また、本発明で用いる円盤状液晶化合物としては、一般式（ＤＩＩ）で表される化合物が特に好ましい。

一般式（ＤＩＩ）

ただし、一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、およびＹ³³は、一般式（ＤＩ）における、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、およびＹ¹³と同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式(ＤＩＩ)中、Ｒ³¹、Ｒ³²、およびＲ³³はそれぞれ独立に、一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹およびＡ³²はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。Ａ³¹およびＡ³²としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることが特に好ましい。Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、およびイミノのいずれかを表し、酸素原子であることが特に好ましい。Ｍは二価の環状基を表す。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｍで表される二価の環状基としては、６員環状構造を有する二価の連結基が好ましい。前記二価の環状基に含まれる環は、縮合環であってもよいし、単環であってもよく、単環であることがより好ましい。
前記環状基に含まれる環としては、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。前記芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環などが挙げられる。前記脂肪族環としては、例えば、シクロヘキサン環などが挙げられる。前記複素環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環などが挙げられる。

Ｍで表される二価の環状基のうち、前記ベンゼン環を有する環状基としては、例えば、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基が好ましい。前記ナフタレン環を有する環状基としては、例えば、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。前記シクロヘキサン環を有する環状基としては、例えば、１，４−シクロへキシレン基が好ましい。前記ピリジン環を有する環状基としては、例えば、ピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。前記ピリミジン環を有する環状基としては、例えば、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。前記二価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。

Ｍで表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン置換アルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン置換アルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、ｎ₃は１〜３の整数を表し、１および２のいずれかが好ましい。
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｌ³¹、Ｌ³²、Ｑ³は、それぞれ一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²、Ｌ²³、およびＱ¹と同義であり、好ましい範囲も同義である。

一般式（ＤＩ）および一般式（ＤＩＩ）のいずれかで表される化合物としては、特に制限はないが、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。

前記光学異方性層の形成に用いる重合性液晶化合物は、良好なモノドメイン性を示す液晶相を発現することが望ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。良好なモノドメイン性を示すと、位相差板が高い光透過率を有しやすくなる。

前記光学異方性層の形成に用いる重合性液晶化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相およびディスコティックネマチック相（Ｎ_D相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（Ｎ_D相）が最も好ましい。

前記光学異方性層の形成に用いる重合性液晶化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましい。さらに好ましくは４０℃〜２８０℃であり、最も好ましくは６０℃〜２５０℃である。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。

本発明において、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物または前記円盤状液晶化合物の分子は、配向状態に固定されている。これら重合性液晶化合物における分子対称軸の、支持体側の界面における配向平均方向は、支持体の面内の遅相軸との交差角が略０度または略４５度である。
ここで「略」とは、±５°の範囲の角度をいい、前記角度は前者の場合−３〜＋３°、後者の場合４２〜４８°が好ましく、それぞれ−２〜＋２°、４３〜４７°がより好ましい。前記光学異方性層中における重合性液晶化合物の分子対称軸の平均方向は、支持体の長手方向（すなわち、支持体の進相軸方向）に対してそれぞれ−２〜＋２°、４３°〜４７°であることが好ましい。

また、本明細書において、「分子対称軸」とは、分子が回転対称軸を有する場合は該対称軸をいうが、厳密な意味で分子が回転対称性であることを要求するものではない。一般的には、分子対称軸は、円盤状液晶化合物では、円盤面の中心を貫く円盤面に対して垂直な軸と一致し、また棒状液晶化合物では分子の長軸と一致する。

前記重合性液晶化合物における分子対称軸の配向平均方向は、一般に重合性液晶化合物または配向膜の材料を選択することにより、若しくはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。
本発明では、例えば、光学異方性層形成用配向膜をラビング処理によって作製する場合は、例えば、セルロースアシレートフィルムの遅相軸に対して平行または４５°の方向にラビング処理することで、重合性液晶化合物の分子対称軸の、少なくともセルロースアシレートフィルム界面における配向平均方向が、セルロースアシレートフィルムの遅相軸に対して平行（０°）または４５°である光学異方性層を形成することができる。
本発明の光学補償膜は、例えば、遅相軸が長手方向と平行な長尺状のセルロースアシレートフィルムを用いると連続的に作製できる。より具体的には、１）長尺状のセルロースアシレートフィルムの表面に連続的に配向膜形成用塗布液を塗布して配向膜を作製し、２）前記配向膜の表面を連続的に長手方向に平行または４５°の方向にラビング処理し、３）作製した前記配向膜上に連続的に重合性液晶化合物を含有する光学異方性層形成用塗布液を塗布して、重合性液晶化合物の分子を配向させて、その状態に固定することで光学異方性層を作製して、長尺状の光学補償膜を連続的に作製することができる。前記長尺状に作製された光学補償膜は、液晶表示装置内に組み込まれる前に、所望の形状に裁断される。

また、前記重合性液晶化合物の表面側（空気側）の分子対称軸の配向平均方向について、空気界面側の重合性液晶化合物の分子対称軸の配向平均方向は、セルロースアシレートフィルムの遅相軸に対して略０°および略４５°であるのが好ましく、前者の場合−３〜＋３°、後者の場合４２〜４８°であるのがより好ましく、それぞれ−２〜＋２°、４３〜４７°であるのが特に好ましい。重合性液晶化合物の分子対称軸の配向平均方向は対象とする液晶表示装置の駆動モードに合わせて選択される。一般にＴＮモードにおいては前者０°が好ましく、ＯＣＢモードにおいては４５°が好ましいが本発明において液晶駆動モードは特に限定されない。
前記空気界面側の前記重合性液晶化合物における分子対称軸の配向平均方向は、一般に、重合性液晶化合物または重合性液晶化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。
前記重合性液晶化合物と共に使用する添加剤としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー、重合性ポリマーなどが挙げられる。前記分子対称軸の配向方向が変化する程度も、上記と同様に、前記重合性液晶化合物と前記添加剤との選択により調整できる。特に前記界面活性剤に関しては、上述の塗布液の表面張力制御と両立することが好ましい。

本発明で用いる重合性液晶化合物を含む組成物（１）は重合反応を実質的に抑制する化合物を含むことが好ましい。重合反応を実質的に抑制する化合物とは「'99UV/EB硬化材料・製品市場便覧（シーエムシー出版）」の第３章に記載のあるような一般的に知られた重合禁止剤であってもよい。特に種類は問わないが重合性液晶化合物に混合した際に液晶性を阻害しないものであること、適切な添加量で使用した際に重合性液晶化合物の硬化性を著しく損なわないものであることが好ましい。重合反応を実質的に抑制する化合物は重合性液晶化合物に対して微量混合（ゼロでないこと）されていればよいが、混合される量としては対重合性液晶化合物換算で０．００５〜３質量％程度であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜１質量％である。成型された光学異方性層中における該化合物の好ましい含有量は１０ｍｇ／ｍ²以下または０．１ｍｍｏｌ／ｍ²以下であることが硬化膜の品質を保持する上で好ましい。

本発明における重合を抑制する化合物の有無を光学異方性層から検出する方法としては光学異方性層表面もしくは断面について実施したＴＯＦ−ＳＩＭＳの測定結果のフラグメント解析が一例としてあげられる。

重合性液晶化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤および重合性モノマ−は、円盤状液晶化合物と相溶性を有し、重合性液晶化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。重合性モノマ−（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物の添加量は、重合性液晶化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマ−を混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。

重合性液晶化合物として円盤状液晶化合物を用いる場合には、円盤状液晶化合物とある程度の相溶性を有し、円盤状液晶化合物に傾斜角の変化を与えられるポリマーを用いるのが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロ−スおよびセルロースアセテートブチレ−トを挙げることができる。円盤状液晶化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、円盤状液晶化合物に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
円盤状液晶化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。

本発明において、前記光学異方性層は、少なくとも面内光学異方性を有する。前記光学異方性層の、面内レターデーションＲｅは３〜３００ｎｍであるのが好ましく、５〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０〜１００ｎｍであるのがさらに好ましい。前記光学異方性層の厚さ方向のレターデーションＲｔｈについては、２０〜４００ｎｍであるのが好ましく、５０〜２００ｎｍであるのがより好ましい。また、前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、０．５〜１０μｍであることが最も好ましい。

(支持体)
本発明の光学補償膜は、支持体を有していてもよい。支持体は、ポリマーフィルムであることが好ましい。また、支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ノルボルネン系ポリマーおよびポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートンおよびゼオネックスいずれも商品名））を用いてもよい。

中でもセルロースエステルフィルムが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。特に炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）が好ましい。セルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。

なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の光学フィルムに用いることもできる。
偏光板保護フィルム、もしくは位相差フィルムに本発明の光学補償シートを使用する場合は、ポリマーフィルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。

酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算によって求められる。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．０〜１．６５であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。

セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるポリマーフィルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度または多い方が好ましい。
２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。
６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。

（レターデーション上昇剤）
本明細書において「レターデーション上昇剤」とは、ある添加剤を含むセルロースアシレートフィルムの波長５５０ｎｍで測定したＲｅレターデーション値が、その添加剤を含まない以外は全く同様に作製したセルロースアシレートフィルムの波長５５０ｎｍで測定したＲｅレターデーション値（未延伸状態）よりも、２０ｎｍ以上高い値となる「添加剤」を意味する。レターデーション値の上昇は、３０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、６０ｎｍ以上であることが最も好ましい。

レターデーション上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物が好ましい。レターデーション上昇剤は、ポリマー１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．２〜５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．５〜２質量部の範囲で使用することが最も好ましい。二種類以上のレターデーション上昇剤を併用してもよい。
レターデーション上昇剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
レターデーション上昇剤の具体例については、特開２００１−１６６１４４号公報の６頁〜１８頁に記載の化合物が挙げられる。

＜配向膜＞
本発明の配向膜は、例えば、前記セルロースアシレートフィルムによる支持体上に設けられる。前記配向膜は、前記円盤状液晶化合物等の重合性液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する。
前記配向膜は、ラビング処理等の配向処理が施されたポリマー層であり、該ポリマー層を構成するポリマーとしては、特に制限はないが、例えば、ポリビニルアルコールが好ましい。
前記ポリビニルアルコールとしては、例えば、少なくとも１つのヒドロキシル基が、ビニル、オキシラニル、またはアジリジニルを有する基で置換されているものが挙げられる。これらは、一般に、前記ポリビニルアルコールのポリマー鎖（炭素原子）と、結合基としてのエーテル結合（−Ｏ−）、ウレタン結合（−ＯＣＯＮＨ−）、アセタール結合（（−Ｏ−）₂ ＣＨ−）、またはエステル結合（−ＯＣＯ−）を介して間接的に結合していることが好ましく、より具体的には、前記ビニル、オキシラニル、またはアジリジニルを有する基が、結合基と共にポリビニルアルコールに結合していることが好ましい。

前記ポリビニルアルコールとしては、特に制限はないが、例えば、下記式（１）で表されるポリマーが挙げられる。

ただし、前記式（Ｉ）中、Ｌ¹¹はエーテル結合、ウレタン結合、アセタール結合、およびエステル結合のいずれかを表し、Ｒ¹¹は、アルキレン基およびアルキレンオキシ基のいずれかを表し、Ｌ¹²はＲ¹¹とＱ¹¹とをつなぐ連結基を表わし、Ｑ¹¹はビニル、オキシラニル、およびアジリジニルのいずれかを表す。ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１００の条件にて、ｘ１は１０〜９９．９モル％、ｙ１は０．０１〜８０モル％、およびｚ１は０〜７０モル％である。ｋおよびｈは、それぞれ０または１の整数を表す。

一般式（Ｉ）中、Ｒ¹¹としては、例えば、炭素原子数１〜２４のアルキレン基、少なくとも一個の隣接しないＣＨ₂基が−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＮＲ⁷−（Ｒ⁷は炭素原子数１〜４のアルキル基または炭素原子数６〜１５のアリール基を表わす）、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、炭素原子数６〜１５のアリーレンで置換された炭素原子数３〜２４のアルキレン基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アルキルカルボニルチオ基、アリールカルボニルチオ基、アルキルスルホニルチオ基、アリールスルホニルチオ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、カルボキシ基、およびスルホ基で置換されたアルキレン基などが挙げられる。

前記Ｒ¹¹としては、−Ｒ²−、−Ｒ³−（Ｏ−Ｒ⁴）_t−ＯＲ⁵−、−Ｒ³−ＣＯ−Ｒ⁶−、−Ｒ³−ＮＨ−Ｒ⁶−、−Ｒ³−ＮＲ⁷−Ｒ⁶−、−Ｒ³−Ｓ−Ｒ⁶−、−Ｒ³−ＳＯ₂−Ｒ⁶−、および−Ｒ³−Ａ²−Ｒ⁶−（Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、およびＲ⁶は、それぞれ炭素原子数１〜２４のアルキレン基を表し、Ｒ⁷は炭素原子数１〜１２のアルキル基および炭素原子数６〜１５のアリール基のいずれかを表し、Ａ²は炭素原子数６〜２４のアリーレン基を表し、ｔは、０〜４の整数を表す。）のいずれかを表わすことが好ましい。
さらに、前記Ｒ¹¹は、−Ｒ²−および−Ｒ³−(Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ₂)_t−（但し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ炭素原子数１〜１２のアルキレン基を表し、ｔは０〜２の整数を表す。）を表わすことが好ましく、これらの中でも、炭素原子数１〜１２のアルキレン基が好ましい。

前記アルキレン基は置換基を有していてもよい。前記置換基しては、例えば、炭素原子数１〜２４のアルキル基、炭素原子数６〜２４のアリール基、炭素原子数１〜２４のアルコキシ基、炭素原子数６〜２４のアリールオキシ基、炭素原子数１〜２４のアルキルチオ基、炭素原子数６〜２４のアリールチオ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニル基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニル基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニルオキシ基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニルオキシ、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニルオキシ基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニルチオ基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニルチオ基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニルチオ基、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニルチオ基、炭素原子数２〜２４のアルキルカルボニルアミノ基、炭素原子数７〜２４のアリールカルボニルアミノ基、炭素原子数１〜２４のアルキルスルホニルアミノ基、炭素原子数６〜２４のアリールスルホニルアミノ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。

前記アルキレン基の好ましい置換基としては、炭素原子数１〜２４のアルキル基（特に炭素原子数１〜１２）、炭素原子数６〜２４のアリール基（特に炭素原子数６〜１４）、炭素原子数２〜２４のアルコキシアルキル基（特に炭素原子数２〜１２）が挙げられる。
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
１〜４個のアルコキシ基で置換された前記アルキル基としては、例えば、２−メトキシエチル基、２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、２−［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］エチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−（２−エトキシエトキシ）エチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ｎ−プロピルオキシプロピル基、２−メチルブチルオキシメチル基などが挙げられる。
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２−アニシル基、３−アニシル基、４−アニシル基、２−ビフェニル基、３−ビフェニル基、４−ビフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基などが挙げられる。また、前記アリール基は複素環基でもよく、該複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、チアゾリル基およびオキサゾリル基などが挙げられる。

前記式（Ｉ）中、Ｌ¹²としては、例えば、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲ−、−ＮＲＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯＮＲ−（ただし、Ｒは水素原子または低級アルキル基を表わす。）などが好ましい。
前記式（Ｉ）中、−（Ｌ¹²）_h −Ｑ¹²としては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、ビニルフェノキシ基、ビニルベンゾイルオキシ基、スチリル基、１，２−エポキシエチル基、１，２−エポキシプロピル基、２，３−エポキシプロピル基、１，２−イミノエチル基、１，２−イミノプロピル基または２，３−イミノプロピル基などが好ましい。
さらに、前記−（Ｌ¹²）_h−Ｑ¹²としては、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、ビニルベンゾイルオキシ基、１，２−エポキシエチル基、１，２−エポキシプロピル基、２，３−エポキシプロピル基、１，２−イミノエチル基、１，２−イミノプロピル基、２，３−イミノプロピル基も好ましい。これらの中では特に、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が好ましい。

前記アルキル基およびアルコキシ基の炭素原子数は、１〜２４個が好ましく、１〜１２個が特に好ましい。
前記アルキル基としては、例えば、無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、２−エチルヘキシル基等）；１〜４のアルコキシ基で置換されたアルキル基（例えば、２−メトキシエチル基、２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、２−［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］エチル基、２−ｎ−ブトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−（２−エトキシエトキシ）エチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ｎ−プロピルオキシプロピル基、３−ベンジルオキシプロピル基、２−メチルブチルオキシメチル基等）；アラルキル基（例えば、２−フェニルエチル基および２−（４−ｎ−ブチルオキシフェニル）エチル基）；ビニルアルキル基（例えば、ビニルメチル基、２−ビニルエチル基、５−ビニルペンチル基、６−ビニルヘキシル基、７−ビニルヘプチル基、８−ビニルオクチル基等）；ビニルオキシアルキル基（例えば、２−ビニルオキシエチル基、５−ビニルオキシペンチル基、６−ビニルオキシヘキシル基、７−ビニルオキシヘプチル基、８−ビニルオキシオクチル基等）；オキシラニルアルキル基（例えば、３，４−エポキシブチル基、４，５−エポキシペンチル基、５，６−エポキシヘキシル基、６，７−エポキシヘプチル基、７，８−エポキシオクチル基、６，７−エポキシオクチル基等）；アクリロイルオキシアルキル基（例えば、２−アクリロイルオキシエチル基、３−アクリロイルオキシプロピル基、４−アクリロイルオキシブチル基、５−アクリロイルオキシペンチル基、６−アクリロイルオキシヘキシル基、７−アクリロイルオキシヘプチル基、８−アクリロイルオキシオクチル基等）；メタクリロイルオキシアルキル基（例えば、２−メタクリロイルオキシエチル基、３−メタクリロイルオキシプロピル基、４−メタクリロイルオキシブチル基、５−メタクリロイルオキシペンチル基、６−メタクリロイルオキシヘキシル基、７−メタクリロイルオキシヘプチル基、８−メタクリロイルオキシオクチル基等）；クロトノイルオキシアルキル基（例えば、２−クロトノイルオキシエチル基、３−クロトノイルオキシプロピル基、４−クロトノイルオキシブチル基、５−クロトノイルオキシペンチル基、６−クロトノイルオキシヘキシル基、７−クロトノイルオキシヘプチル基および８−クロトノイルオキシオクチル基等）が挙げられる。

本発明の光学補償膜を偏光膜と貼り合せて、偏光板と一体化して、液晶表示装置等に組み込んでもよい。かかる場合は、光学補償膜のポリマーフィルム等からなる支持体が、偏光膜の保護フィルムを兼ねていると、液晶表示装置の薄型化にも寄与するので好ましい。
［偏光板］
偏光膜は、一般的に、ポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。偏光板は液晶セルの外側に配置される。本発明では、偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とからなる一対の偏光板を、液晶セルを挟持して配置させるのが好ましい。なお、上記した様に、液晶セル側に配置される保護膜は、本発明の光学補償膜であってもよい。

《接着剤》
偏光膜と保護膜との接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。

《偏光膜と透明保護膜の一貫製造工程》
本発明に使用可能な偏光板は、偏光膜用フィルムを延伸後、収縮させ揮発分率を低下させる乾燥工程を有するが、乾燥後もしくは乾燥中に少なくとも片面に透明保護膜を貼り合わせた後、後加熱工程を有することが好ましい。前記保護膜が、透明保護膜として機能する光学異方性層の支持体を兼ねている態様では、片面に透明保護膜、反対側に光学異方性層を有する透明支持体を貼り合わせた後、後加熱するのが好ましい。具体的な貼り付け方法として、フィルムの乾燥工程中、両端を保持した状態で接着剤を用いて偏光膜に透明保護膜を貼り付け、その後両端を耳きりする、もしくは乾燥後、両端保持部から偏光膜用フィルムを解除し、フィルム両端を耳きりした後、透明保護膜を貼り付けるなどの方法がある。耳きりの方法としては、刃物などのカッターで切る方法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いることができる。貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させるため、および偏光性能を良化させるために、加熱することが好ましい。加熱の条件としては、接着剤により異なるが、水系の場合は、３０℃以上が好ましく、さらに好ましくは４０℃〜１００℃、さらに好ましくは５０℃〜９０℃である。これらの工程は一貫のラインで製造されることが、性能上および生産効率上さらに好ましい。

《偏光板の性能》
本発明に関連する透明保護膜、偏光子、支持体からなる偏光板の光学的性質および耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）同等以上の性能を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２≧０．９９９５（但し、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、６０℃、９０％相対湿度（ＲＨ）雰囲気下に５００時間および８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下、さらには１％以下、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１％以下、さらには０．１％以下であることが好ましい。

《液晶表示装置》
図面を用いて本発明の液晶表示装置の一例について、詳細に説明する。
一例として図１に示すＯＣＢモードの液晶表示装置は、電圧印加時、即ち黒表示時に、液晶が基板面に対してベンド配向する液晶層７とそれを挟む基板６および８からなる液晶セルを有する。基板６および８は液晶面に配向処理が施してあり、ラビング方向を矢印ＲＤで示す。裏面の場合は破線矢印で示してある。液晶セルを挟持して偏光膜１および１０１が配置されている。偏光膜１および１０１は、それぞれの透過軸２および１０２を互いに直交に、且つ液晶セルの液晶層７のＲＤ方向と４５度の角度に配置される。偏光膜１および１０１と液晶セルとの間には、セルロースアシレートフィルム等のポリマーフィルム３ａおよび１０３ａと、黒表示時の液晶セルのレターデーションを満足する光学異方性層５および９がそれぞれ配置されている。ポリマーフィルム３ａおよび１０３ａは、その遅相軸４ａおよび１０４ａが、それぞれに隣接する偏光膜１および１０１の透過軸２および１０２の方向と平行に配置されている。また、光学異方性層５および９は、重合性液晶化合物の配向によって発現された光学異方性を有する。

図１中の液晶セルは、上側基板６および下側基板８と、これらに挟持される液晶分子７から形成される液晶層からなる。基板６および８の液晶分子７に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されていて、電圧無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子７の配向がプレチルト角をもった平行方向に制御されている。また、基板６および８の内面には、液晶分子７からなる液晶層に電圧を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。本発明では、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは、０．１〜１．５μｍとするのが好ましく、０．２〜１．５μｍとするのがより好ましく、０．２〜１．２μｍとするのがさらに好ましく、０．６〜０．９μｍとするのがよりさらに好ましい。これらの範囲では白電圧印加時における白表示輝度が高いことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。用いる液晶材料については特に制限されないが、上下基板６および８間に電界が印加される態様では、電界方向に平行に液晶分子７が応答するような、誘電率異方性が正の液晶材料を使用する。

例えば、液晶セルをＯＣＢモードの液晶セルとする場合は、上下基板６および８間に、誘電異方性が正で、Δｎ＝０．０８、Δε＝５程度のネマチック液晶材料などを用いることができる。液晶層の厚さｄについては特に制限されないが、前記範囲の特性の液晶を用いる場合、６μｍ程度に設定することができる。厚さｄと、白電圧印加時の屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化するので、白電圧印加時において十分な明るさを得るためには、無印加状態における液晶層のΔｎ・ｄは０．６〜１．５μｍの範囲になるように設定するのが好ましい。

ポリマーフィルム３ａおよび１０３ａは、光学異方性層５および９の支持体として機能していてもよいし、偏光膜１と偏光膜１０１の保護膜としても機能していてもよいし、その双方の機能を有していてもよい。即ち、偏光膜１、ポリマーフィルム３ａおよび光学異方性層５、または偏光膜１０１、ポリマーフィルム１０３ａおよび光学異方性層９は、一体化された積層体として液晶表示装置内部に組み込まれていてもよいし、それぞれ単独の部材として組み込まれていてもよい。また、ポリマーフィルム３ａと偏光膜１との間、またはポリマーフィルム１０３ａと偏光膜１０１との間に、別途、偏光膜用の保護膜が配置された構成であってもよいが、該保護膜は配置されていないのが好ましい。ポリマーフィルム３ａの遅相軸４ａ、ポリマーフィルム１０３ａの遅相軸１０４ａは、互いに実質的に平行もしくは直交しているのが好ましい。ポリマーフィルム３ａおよび１０３ａの遅相軸４ａおよび１０４ａが互いに直交していると、それぞれのポリマーフィルムの複屈折を互いに打ち消すことにより、液晶表示装置に垂直入射した光の光学特性が劣化するのを低減することができる。また、遅相軸４ａおよび１０４ａが互いに平行する態様では、液晶層に残留位相差がある場合には保護膜の複屈折でこの位相差を補償することができる。

偏光膜１および１０１の透過軸２および１０２、ポリマーフィルム３ａおよび１０３ａの遅相軸方向４ａおよび１０４ａ、ならびに液晶分子７の配向方向については、各部材に用いられる材料、表示モード、部材の積層構造等に応じて最適な範囲に調整する。すなわち、偏光膜１の透過軸２および偏光膜１０１の透過軸１０２が、互いに実質的に直交しているように配置する。

光学異方性層５および９は、ポリマーフィルム３ａおよび１０３ａと、液晶セルとの間に配置される。光学異方性層５および９は、重合性液晶化合物、例えば、棒状化合物または円盤状化合物を含有する組成物から形成された層である。光学異方性層において、重合性液晶化合物の分子は、所定の配向状態に固定されている。光学異方性層５および９中の重合性液晶化合物の分子対称軸の、少なくともポリマーフィルム３ａおよび１０３ａ側の界面における配向平均方向５ａおよび９ａと、ポリマーフィルム３ａおよび１０３ａの面内の遅相軸４ａおよび１０４ａは、略４５度で交差している。かかる関係で配置すると、光学異方性層５または９が、法線方向からの入射光に対してレターデーションを生じさせて、光漏れを生じさせることがない。液晶セル側の界面においても、光学異方性層５および９の分子対称軸の配向平均方向は、ポリマーフィルム３ａおよび１０３ａの面内の遅相軸４ａおよび１０４ａは略４５度であるのが好ましい。

また、光学異方性層５の重合性液晶化合物の分子対称軸の偏光膜側（ポリマーフィルム界面側）の配向平均方向５ａは、より近くに位置する偏光膜１の透過軸２と略４５度に配置するのが好ましい。同様に、光学異方性層９の重合性液晶化合物の分子対称軸の偏光膜側（ポリマーフィルム界面側）の配向平均方向９ａが、より近くに位置する偏光膜１０１の透過軸１０２と略４５度に配置するのが好ましい。かかる関係で配置すると、光学異方性層５または９が発生するレターデーションと液晶層で発生するレターデーションとの和に応じて光スイッチングをすることができる。但し、本発明の液晶表示装置は、この構成に限定されるものではない。

本発明の液晶表示装置は、図１に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１ 光学補償膜の作製］
（実施例１）
−セルロースアセテートフィルムの作製−
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
〔セルロースアセテート溶液の組成〕
酢化度６０．９％のセルロースアセテート・・・１００質量部
トリフェニルフォスフェート・・・７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート・・・３．９質量部
メチレンクロライド・・・３００質量部
メタノール・・・４５質量部

別のミキシングタンクに、酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）４質量部、下記レターデーション上昇剤２５質量部、シリカ微粒子（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）０.５質量部、メチレンクロライド８０質量部、およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。

前記セルロースアセテート溶液４７０質量部に、前記レターデーション上昇剤溶液１８．５質量部を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。前記レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は３．５％であった。残留溶剤量が３５質量％のフィルムをバンドから剥離した後、１５０℃の温度で、フィルムのテンターを用いて３０％の延伸倍率で横延伸した後、クリップを外して１３０℃で４５秒間乾燥させ、セルロースアセテートフィルム１を作製した。作製されたセルロースアセテートフィルム１の残留溶剤量は０．２質量％であり、膜厚は８８μｍであった。

同様に前記セルロースアセテート溶液４７０質量部に、前記レターデーション上昇剤溶液４７．６質量部を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。前記レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は９％であった。残留溶剤量が３５質量％のフィルムをバンドから剥離した後、１２５℃の温度で、フィルムのテンターを用いて４２％の延伸倍率で横延伸した後、クリップを外して１２０℃で４５秒間乾燥させセルロースアセテートフィルム２を作製した。作製されたセルロースアセテートフィルム２の残留溶剤量は０．２質量％であり、膜厚は８７μｍであった。

−セルロースアセテートフィルムのケン化処理−
作製したセルロースアセテートフィルム１および２の一方の面に、１．５規定の水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を２５ｍｌ／ｍ²塗布し、２５℃で５秒間放置した後、流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにして、前記セルロースアセテートフィルムの一方の表面のみをケン化した。

−配向膜の形成−
ケン化処理したセルロースアセテートフィルム１および２の一方の面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜Ｈ−１を形成した。
〔配向膜塗布液の組成〕
下記構造式（Ｂ）で表される変性ポリビニルアルコール・・・１０質量部
水・・・３７１質量部
メタノール・・・１１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・０．５質量部

ただし、前記構造式（Ｂ）中、ｘ＝８６．３３、ｙ＝１．６７、ｚ＝１２である。

−ラビング処理−
前記配向膜が形成されたセルロースアセテートフィルムを速度２０ｍ／分で搬送し、長手方向に対して４５°にラビング処理されるようにラビングロール（３００ｍｍ直径）を設定し、６５０ｒｐｍで回転させて、配向膜設置表面にラビング処理を施した。ラビングロールとの接触長さは、１８ｍｍとなるように設定した。

（円盤状液晶化合物を含む組成物の調整）
表１に示した量の添加化合物を事前に混合した、円盤状液晶化合物を含む組成物を調製した。具体的には、液晶化合物に対する添加化合物の混合量が、表１に示す混合割合となるように、粉末状の液晶性化合物を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解した後に添加化合物を添加した。
保管シミュレーション前後のＧＰＣチャートの全パターン面積に対する分子量５０００を越える範囲のＧＰＣパターン面積比を測定したものも表１に示した。ここで、加熱保管前は、ＭＥＫに溶解した状態のものを測定したものであり、加熱保管後は、加熱保管前試料を６０℃６０ＲＨ％の条件下に３日間保管した後の状態を測定したものである。

表１中、「組成物／液晶性化合物」の欄の「ＤＬ」は組成物であることを、「Ｄ」は液晶性化合物のみ（添加化合物を添加していないもの）であることを、（Ａ）は、上記円盤状液晶化合物（Ａ）であることをそれぞれ示している。

ＨＭＭ：ハイドロキノンモノメチルエーテル
Ｉｒｇｎｏｘ１０１０：チバスペシャリティーケミカルズ（商品名）

（塗布液試料の調製）
以下に示す塗布液試料００１および試料００２を調整した。また、試料００２において、円盤状液晶化合物（Ａ）を、表２に示す組成物（ＤＬ−１〜１２）または液晶性化合物（Ｄ−８９、Ｄ−３４６）に置き換えた以外は同様にして塗布液試料００３から０１６を調製した。尚、表２に示す組成物は、円盤状液晶性化合物が等重量となるように置き換えた。
なお塗布液試料００１から０１６で使用した円盤状液晶化合物（Ａ）、組成物（ＤＬ−１〜１２）、液晶性化合物（Ｄ−８９、Ｄ−３４６）はすべて粉末を６０℃５０ＲＨ％の条件下に７日間保管した長期経時保管シミュレーション粉末を使用した。

（塗布液試料００１）
────────────────────────────────────
円盤状液晶化合物（Ａ） ９１．００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
９．００質量部
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）
セルロースアセテートブチレート １.１０質量部
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３．００質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．００質量部
フルオロ脂肪族基含有共重合体 ０．２２質量部
（メガファックＦ７８０ 大日本インキ（株）製）
メチルエチルケトン ２２６．３４質量部
────────────────────────────────────

（塗布液試料００２）
────────────────────────────────────
円盤状液晶化合物（Ｄ−３３７） １００．００質量部
セルロースアセテートブチレート １．００質量部
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３．００質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．００質量部
フルオロ脂肪族基含有共重合体 ０．２２質量部
（メガファックＦ７８０ 大日本インキ（株）製）
メチルエチルケトン ２２６．３４質量部
────────────────────────────────────

（光学異方性層の形成）
前述した配向膜のラビング処理面に、光学異方性層用の塗布液塗試料００１を＃３．０のワイヤーバーを３００回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、１５ｍ／分で搬送されている配向膜面に連続的に塗布した。

室温から１０５℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１２５℃の乾燥ゾーンで円盤状液晶化合物層の膜面風速が、２．５ｍ／ｓｅｃとなるように、約１２０秒間加熱し、円盤状液晶化合物を配向させた。次に、９０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フィルムの表面温度が約１０５℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させて、円盤状液晶化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にした。このようにして、ロール状光学補償膜（試料１０１）を作製した。

−光学特性の測定−
作製した光学補償膜の一部を切り取り、サンプルとして用いて、光学特性を測定した。２５℃、５５％ＲＨの環境下で、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）により、波長５５０ｎｍでの光をフィルム法線方向に入射させて測定した光学異方性層のレターデーション（Ｒｅ）値は３０．０ｎｍであった。

光学異方性層用の塗布液試料００２から試料０１６を用いて塗布試料１０１と同様の方法で光学異方性層を作製した以外は、同様にして試料１０２から試料１１６を作製した。なおそれぞれ用いる塗布液試料ごとに前述した配向膜上で重合性液晶化合物が配向に要する最短の時間を上記の塗工条件下であらかじめ求めておき、用いる塗布液試料ごとに乾燥ゾーン中で加熱する時間（乾燥時間）を表３に示したようにコントロールした。

これらの試料について、前述の方法に従ってレターデーションを求めた。その他表３にある各種の評価試験を実施した。結果を下記表３にまとめて示した。

（光学異方性層の密着評価）
光学補償膜をガラス板上に粘着剤で固定後に、２ｍｍ間隔で１０×１０で深さ５μｍのクロスカットを実施後に、日東電工製ＮＴテープを貼付後に１００ｇの重りで１０往復擦り密着、１晩放置後に剥離した際に１００マス中での剥離箇所の個数をカウントした。
○：０〜５個 良好である
△：６〜２０個 ＮＧではないがやや劣る
×：２１〜１００個 明らかにＮＧ

（フィルム輝点、欠陥評価）
偏光顕微鏡の偏光板クロスニコル条件下の透過光における観察で倍率５０倍の視野の中に認められる輝点や配向欠陥の数をカウントした。
○：０〜１０個 良好である
△：１１個〜１００個 ＮＧではないがやや劣る
×：１００個以上 明らかにＮＧ

［実施例２：偏光板の作製］
＜偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例１で作製した光学補償膜（試料１０１）を偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と位相差板の遅相軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
試料１０１を、試料１０２〜試料１１６に代えた以外は、同様にして偏光板をそれぞれ作製した。

［実施例３：液晶表示装置での実装評価］
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを４．０μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。正面における透過率が最も小さくなる電圧すなわち黒電圧を求めた。

上記試料１０１〜１１６をそれぞれ用いて作製した偏光板を貼り付けた液晶セルそれぞれに対して正面における黒表示透過率（％）を測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて測定した。結果を下記表３に示した。

表３に示した結果から、本発明の試料（組成物）を用いた場合、光学特性を変えずに輝点・欠陥が少なく、膜強度の指標の一つである密着試験も良好であり、これらを用いた液晶表示装置は透過率が低く、黒輝度が良好であることが確認された。また試料１０３〜試料１０５と試料１０６や試料１０７の比較や試料１０８や試料１０９と試料１１０の比較より本発明で用いる重合性液晶組成物（１）を、実質的に重合反応を抑制する化合物の添加によって調製する場合、添加量には適点が存在することも示唆された。さらには試料１０３から試料１１６の乾燥時間は試料１０１より短く、本発明の技術を用いることで配向に必要とする加熱時間の短い重合性液晶化合物をその他の性能を満足したまま使用できることが確認された。

ＯＣＢモードの液晶表示装置の構成例を示す模式図である。

符号の説明

１、１０１ 偏光膜
２、１０２ 透過軸
３ａ、１０３ａ ポリマーフィルム（光学異方性層の支持体または偏光膜の保護フィルム）
４ａ、１０４ａ、遅相軸
５、９ 光学異方性層
５ａ、９ａ 平均配向方向
６、８ 基板
７ 液晶層
ＲＤ ラビング方向

Claims (4)

1. 少なくとも１種類の下記一般式（ＤＩ）で表される重合性液晶化合物と、重合反応を実質的に制御する化合物を含む組成物（１）であって、常温で粉末である組成物（１）を、６０℃、６０％相対湿度下、３日間保管した後のＧＰＣチャートの分子量５０００を越える範囲のＧＰＣパターン面積比が該組成物（１）の全パターン面積に対して０．１％（ポリスチレン換算）を越えない組成物（１）を含む組成物（２）を重合硬化させることにより形成した光学異方性層を有する光学補償膜。
   一般式（ＤＩ）
   

   

   （一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、およびＹ¹³はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³はそれぞれ独立に、単結合および二価の連結基のいずれかを表す。Ｈ¹、Ｈ²、およびＨ³はそれぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ａ）および一般式（ＤＩ−Ｂ）のいずれかを表す。Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、それぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
   一般式（ＤＩ−Ａ）
   

   

   （一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹およびＹＡ²はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。ＸＡは、ＹＡ²がメチンのとき、酸素原子を表し、窒素原子のとき、酸素原子または硫黄原子を表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
   一般式（ＤＩ−Ｂ）
   

   

   （一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹およびＹＢ²は、それぞれ独立にメチンおよび窒素原子のいずれか表す。ＸＢは、ＹＢ²がメチンのとき、酸素原子を表し、窒素原子のとき、酸素原子または硫黄原子を表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
   一般式（ＤＩ−Ｒ）
   ＊−（−Ｌ²¹−Ｍ）ｎ₁−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
   （一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ−Ａ）または一般式（ＤＩ−Ｂ）中の５員環に結合する位置を表す。Ｌ²¹は単結合および二価の連結基のいずれかを表し、Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−のいずれかを表し、Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。Ｍは少なくとも１種の環状構造を有する二価の連結基を表す。Ｑ¹はそれぞれ独立に、重合性基および水素原子のいずれかを表す。ｎ₁は０〜４の整数を表す。）
2. 前記重合が光重合である請求項１に記載の光学補償膜。
3. 請求項１または２に記載の光学補償膜を有する液晶表示装置。
4. 少なくとも１種類の下記一般式（ＤＩ）で表される重合性液晶化合物と、重合反応を実質的に制御する化合物を含む組成物（１）であって、常温で粉末である組成物（１）を、６０℃、６０％相対湿度下、３日間保管した後のＧＰＣチャートの分子量５０００を越える範囲のＧＰＣパターン面積比が該組成物（１）の全パターン面積に対して０．１％（ポリスチレン換算）を越えない組成物（１）を用いて組成物（２）を調整し、該組成物（２）を重合硬化させて光学異方性層を形成することを含む光学補償膜の製造方法。
   一般式（ＤＩ）
   

   

   （一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、およびＹ¹³はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。Ｌ¹、Ｌ²、およびＬ³はそれぞれ独立に、単結合および二価の連結基のいずれかを表す。Ｈ¹、Ｈ²、およびＨ³はそれぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ａ）および一般式（ＤＩ−Ｂ）のいずれかを表す。Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ³は、それぞれ独立に一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
   一般式（ＤＩ−Ａ）
   

   

   （一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹およびＹＡ²はそれぞれ独立に、メチンおよび窒素原子のいずれかを表す。ＸＡは、ＹＡ²がメチンのとき酸素原子を表し、窒素原子のとき、酸素原子または硫黄原子を表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
   一般式（ＤＩ−Ｂ）
   

   

   （一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹およびＹＢ²は、それぞれ独立にメチンおよび窒素原子のいずれか表す。ＸＢは、ＹＢ²がメチンのとき、酸素原子を表し、窒素原子のとき、酸素原子または硫黄原子を表す。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。）
   一般式（ＤＩ−Ｒ）
   ＊−（−Ｌ²¹−Ｍ）ｎ₁−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
   （一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ−Ａ）または一般式（ＤＩ−Ｂ）中の５員環に結合する位置を表す。Ｌ²¹は単結合および二価の連結基のいずれかを表し、Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−のいずれかを表し、Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。Ｍは少なくとも１種の環状構造を有する二価の連結基を表す。Ｑ¹はそれぞれ独立に、重合性基および水素原子のいずれかを表す。ｎ₁は０〜４の整数を表す。）

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