JP4832861B2 - Paste coating apparatus and paste coating method. - Google Patents
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Description
本発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置及びペーストの塗布方法に関する。 The present invention relates to a paste coating apparatus and a paste coating method for discharging a paste from a nozzle to coat and draw a linear pattern on a substrate.
液晶表示パネルの製造工程で用いられるペースト塗布装置では、ペーストとしてのシール剤を基板上に矩形枠状のパターンを塗布描画する。シール剤の塗布はシリンジの先端のノズルからシール剤を基板上に塗布することにより行なわれ、ノズルの先端と基板上面との間隔(ギャップ)が常時一定となるように制御(ギャップ制御)される。 In a paste coating apparatus used in a manufacturing process of a liquid crystal display panel, a rectangular frame pattern is applied and drawn on a substrate with a sealing agent as a paste. The sealant is applied by applying the sealant onto the substrate from the nozzle at the tip of the syringe, and is controlled (gap control) so that the gap (gap) between the tip of the nozzle and the top surface of the substrate is always constant. .
ペースト塗布装置には、一定容量のシール剤を充填したシリンジが交換可能に取付けられ、シリンジの先端部には着脱式のノズルがセットされている。シール剤の消費が進み、シリンジ内のシール剤の残量が少なくなると、シリンジを交換する必要がある。その際には、作業者がシリンジをペースト塗布装置の保持具に対して着脱するのであるが、操作を誤ってノズルの先端を周囲の装置にぶつけて曲げてしまうことが多々ある。一般的にシール剤の塗布は幅0.3mm程度の微細な線であり、ノズルの先端もこれに比例して細長い形状であるので、強い衝撃を与えると、容易に曲がり変形が生じる。 A syringe filled with a fixed amount of sealing agent is replaceably attached to the paste application device, and a detachable nozzle is set at the tip of the syringe. When the consumption of the sealing agent progresses and the remaining amount of the sealing agent in the syringe decreases, it is necessary to replace the syringe. At that time, the operator attaches and detaches the syringe with respect to the holder of the paste application device, but the operation often mistakes the operation to bend the tip of the nozzle against the surrounding device. In general, the application of the sealing agent is a fine line having a width of about 0.3 mm, and the tip of the nozzle has an elongated shape in proportion thereto. Therefore, when a strong impact is applied, bending deformation easily occurs.
ペースト塗布装置は、ノズルの先端と基板上面とのギャップを、常時一定となるように制御する必要があるので、ノズルに傾きが生じると、塗布精度を維持することができない。 Since the paste coating apparatus needs to control the gap between the tip of the nozzle and the upper surface of the substrate so that it is always constant, the coating accuracy cannot be maintained if the nozzle is tilted.
また、ギャップが同一でもノズルが傾いていると、ノズルからのシール剤の出やすさが変わることによって塗布量にバラツキが生じる。図15(A)に示すように、基板116に対して垂直なノズル126の基準中心軸に対して、ノズル126に傾きがない正常位置にある場合には、ノズル126が図中右方向に移動するときも左方向に移動するときも、ノズル126からのペーストLの出やすさは同じである。従って、左右どちらに移動しても、同じ塗布量でペーストLを塗布することができる。
In addition, if the nozzle is inclined even if the gap is the same, the coating amount varies due to the change in the ease with which the sealant is discharged from the nozzle. As shown in FIG. 15A, when the
しかしながら、図15(B)に示すように、基板116に対してノズル126が左に傾いていると、同一のギャップでも塗布量が変わる。図15(C)に示すように、基板116に対してノズル126が左に傾いている状態で、ノズル126を図中の右方向に移動させながらペーストLを塗布する場合、ペーストLはノズル126の移動方向の前方側に向けて吐出される。そのため、ノズル126は吐出されたペーストLに向けて移動することとなるので、ノズル126の吐出口は基板116に塗布されたペーストLによって塞がれる状態になり、吐出抵抗が大きくなる。これに対し、図15(B)に示すように、ノズル126を図中の左方向に移動させながらペーストLを塗布する場合、ペーストLは、ノズル126の移動方向の後方側に向けて吐出されるので、吐出抵抗が大きくなることはない。従って、ノズル126を図中右方向に移動させながらペーストLを塗布する場合、塗布量が必要量よりも少なくなってしまう。
However, as shown in FIG. 15B, when the
上述のようなペースト塗布装置で基板上に矩形枠状のパターンを塗布描画する場合、ノズルが傾いていると、対向する辺のうち一方の辺の塗布量が必要量よりも少なくなってしまうことがある。 When applying and drawing a rectangular frame pattern on a substrate with the paste application device as described above, if the nozzle is inclined, the application amount on one of the opposing sides will be less than the required amount. There is.
このような状態で、2枚の基板をシール剤を介して貼り合わせたときに、2枚の基板間の間隙が、シール剤の塗布量が少ない辺に対応する部分で他の辺に対応する部分よりも小さくなってしまう。その結果、2枚の基板とシール剤とによって囲まれる空間内に封入される液晶の厚みが、間隙が小さくなった部分で薄くなる。液晶の厚みが薄い部分があると、その部分で表示ムラが発生し、表示品質を損ねることになるという問題がある。 In such a state, when the two substrates are bonded together via the sealant, the gap between the two substrates corresponds to the other side at the portion corresponding to the side where the amount of the sealant applied is small. It will be smaller than the part. As a result, the thickness of the liquid crystal sealed in the space surrounded by the two substrates and the sealant is reduced at the portion where the gap is reduced. If there is a portion where the liquid crystal is thin, there is a problem that display unevenness occurs in that portion and the display quality is impaired.
上述の不具合を防止するために、作業者がノズルの外観検査を定期的に行なっているが、これは生産に直接寄与しない時間であるから、ペースト塗布装置に使用するノズルの本数が増えると作業効率の低下を招く。 In order to prevent the above-mentioned problems, the worker regularly inspects the appearance of the nozzles, but this is a time that does not directly contribute to production, so the work will increase as the number of nozzles used in the paste applicator increases. It causes a decrease in efficiency.
また、傾きや曲がりは三次元的であるから、簡易計測が困難であり、専ら作業者の目視に頼るものとなり、良否判断が主観的となりバラツキが大きいものとなっていた。
従って、上述のような不具合を防止するために、ノズルの傾きの有無を知る必要がある。
In addition, since the tilt and bend are three-dimensional, simple measurement is difficult, relying solely on the visual observation of the operator, and the pass / fail judgment is subjective and has a large variation.
Therefore, in order to prevent the above-described problems, it is necessary to know whether the nozzle is tilted.
特許文献1には、基準位置に対するノズルの位置ずれ量を位置ずれ検出装置で検出し、予め設定されたティーチングデータから位置ずれ検出装置で求められた位置ずれ量を加算若しくは減算することにより、予め設定されたティーチングデータを補正し、正しい位置に材料が塗布されるように修正する材料塗布装置が開示されている。 In Patent Document 1, a positional deviation amount of a nozzle with respect to a reference position is detected by a positional deviation detection device, and a positional deviation amount obtained by a positional deviation detection device is added or subtracted from preset teaching data in advance. There is disclosed a material application apparatus that corrects teaching data that has been set and corrects the material to be applied at a correct position.
しかしながら、特許文献1に開示のものには、ノズルの傾きを検出すること、及び、ノズルが例えば許容値以上傾いているか否かを判別して許容値以上傾いている場合には、ペーストを良好に塗布できないものとして取り替えたり又はその旨を知らせたりする等の技術についての開示がない。
本発明の課題は、ノズルの傾きを検出することにより、塗布量にバラツキが生じることを防止することのできるペースト塗布装置及びペーストの塗布方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a paste coating apparatus and a paste coating method capable of preventing variation in the coating amount by detecting the inclination of a nozzle.
請求項1の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出する検出装置を有するようにしたものである。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a paste application apparatus that applies and draws a linear pattern on a substrate by discharging paste from the nozzle, and includes a detection device that detects an inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to the application surface of the substrate. It is what you have.
請求項2の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出する検出装置と、該検出装置によって検出した前記ノズルの傾きに基づいて、ペースト塗布の実行可否を判別する制御装置を備えるようにしたものである。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a paste application apparatus for applying and drawing a linear pattern on a substrate by discharging a paste from the nozzle, and a detection device for detecting an inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to the application surface of the substrate ; And a control device for determining whether or not the paste application can be performed based on the inclination of the nozzle detected by the detection device.
請求項3の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペースト塗布装置において、前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出する検出装置と、該検出装置によって検出したノズルの傾きに基づいて、ペーストの吐出条件を変更する制御装置を備えるようにしたものである。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a paste coating apparatus for coating and drawing a linear pattern on a substrate by discharging a paste from the nozzle, and a detection device for detecting an inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to the coating surface of the substrate ; A control device for changing the paste discharge conditions based on the inclination of the nozzle detected by the detection device is provided.
請求項4の発明は、請求項1〜3のいずれかの発明において更に、前記検出装置は、前記ノズルの先端を撮像する撮像装置を有し、該撮像装置によるノズル先端の撮像画像に基づいてノズルの傾きを検出するようにしたものである。 According to a fourth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the detection device further includes an image pickup device that picks up an image of the tip of the nozzle, and is based on a captured image of the tip of the nozzle by the image pickup device. The inclination of the nozzle is detected.
請求項5の発明は、請求項1〜3のいずれかの発明において更に、前記検出装置は、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて、前記ノズルの中心軸に沿う方向の複数個所で前記ノズルの位置を検出するセンサを有し、それぞれの方向における複数個所での検出値に基づいて該ノズルの傾きを求めるようにしたものである。 According to a fifth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the detection device is provided at a plurality of locations in a direction along the central axis of the nozzle in each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane. A sensor for detecting the position of the nozzle is provided, and the inclination of the nozzle is obtained based on detection values at a plurality of positions in each direction.
請求項6の発明は、請求項1〜3のいずれかの発明において更に、前記検出装置は、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて前記ノズルの位置を検出するセンサを有し、それぞれの方向からの検出値と基準値との比較によって該ノズルの傾きを求めるようにしたものである。 According to a sixth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the detection device further includes a sensor that detects the position of the nozzle in each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane, The inclination of the nozzle is obtained by comparing the detected value from the direction and the reference value.
請求項7の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペーストの塗布方法において、前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出し、該検出したノズルの傾きに基づいてペースト塗布の実行可否を判別するようにしたものである。 According to a seventh aspect of the present invention, in the paste application method for applying and drawing a linear pattern on the substrate by discharging the paste from the nozzle, the inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to the application surface of the substrate is detected. Whether or not paste application can be performed is determined based on the detected inclination of the nozzle.
請求項8の発明は、ペーストをノズルから吐出させて基板上に線状のパターンを塗布描画するペーストの塗布方法において、前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出し、該検出したノズルの傾きに基づいてペーストの吐出条件を変更するようにしたものである。
According to an eighth aspect of the present invention, in the paste application method for applying and drawing a linear pattern on the substrate by discharging the paste from the nozzle, the inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to the application surface of the substrate is detected, The discharge condition of the paste is changed based on the detected nozzle inclination.
請求項9の発明は、請求項7又は8の発明において更に、前記ノズルの先端に対向する方向から撮像した画像に基づいて、前記ノズルの傾きを検出するようにしたものである。 According to a ninth aspect of the present invention, in the seventh or eighth aspect of the present invention, the inclination of the nozzle is detected based on an image picked up from a direction facing the tip of the nozzle.
請求項10の発明は、請求項7又は8の発明において更に、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて、前記ノズルの中心軸に沿う方向の複数個所で前記ノズルの位置を検出し、それぞれの方向の複数個所での検出値に基づいて該ノズルの傾きを求めるようにしたものである。
The invention of
請求項11の発明は、請求項7又は8の発明において更に、同一の水平面内で直交する2方向のそれぞれについて前記ノズルの位置を検出し、それぞれの方向からの検出値と基準値との比較によって該ノズルの傾きを求めるようにしたものである。
The invention of
本発明によれば、ペースト塗布装置は、ノズルの傾きを検出する検出装置を有するので、ノズルの傾きに起因する塗布不良を未然に防止することができ、塗布品質を向上させることができる。 According to the present invention, since the paste application device has the detection device that detects the inclination of the nozzle, it is possible to prevent an application failure due to the inclination of the nozzle, and to improve the application quality.
図1はペースト塗布装置を示す斜視図、図2は第1実施例における図1のステージの拡大図、図3は第1実施例の検出装置の要部を示す模式図、図4は図3の検出装置にて撮像したノズルの先端の処理画像を示す模式図、図5は第2実施例における検出装置の要部を示す模式図、図6は図5の検出装置にて撮像したノズルの側面の処理画像を示す模式図、図7はノズルの傾きを求めるための説明図、図8は第3実施例におけるステージの拡大図、図9は第3実施例の検出装置の要部を示す模式図、図10は図9の検出装置にて検出したX軸方向とY軸方向のノズルの直径を合成して作成した画像を示す模式図、図11は第4実施例におけるステージの拡大図、図12は第4実施例の検出装置の要部を示す斜視図、図13は図11の検出装置にて測定したノズルのX軸方向における断面を示す模式図、図14は、図12、図13のノズルの中心軸を含む水平面における断面図、図15はノズルの傾きと塗布量の関係を示す模式図で、(A)は、ノズルが傾いていない正常な状態、(B)はノズルの傾きと塗布方向が同一の場合、(C)はノズルの傾きと塗布方向が反対の場合の模式図である。 1 is a perspective view showing a paste application device, FIG. 2 is an enlarged view of the stage of FIG. 1 in the first embodiment, FIG. 3 is a schematic view showing the main part of the detection device of the first embodiment, and FIG. FIG. 5 is a schematic diagram showing the main part of the detection device in the second embodiment, and FIG. 6 is a schematic view of the nozzle imaged by the detection device of FIG. FIG. 7 is an explanatory diagram for obtaining the inclination of the nozzle, FIG. 8 is an enlarged view of the stage in the third embodiment, and FIG. 9 shows the main part of the detection device of the third embodiment. Schematic diagram, FIG. 10 is a schematic diagram showing an image created by combining the nozzle diameters in the X-axis direction and the Y-axis direction detected by the detection device of FIG. 9, and FIG. 11 is an enlarged view of the stage in the fourth embodiment. FIG. 12 is a perspective view showing a main part of the detection device of the fourth embodiment, and FIG. 13 shows the detection device of FIG. FIG. 14 is a schematic view showing a cross section of the measured nozzle in the X-axis direction, FIG. 14 is a cross-sectional view in a horizontal plane including the central axis of the nozzle in FIGS. 12 and 13, and FIG. 15 is a schematic view showing the relationship between the inclination of the nozzle and the coating amount. (A) is a normal state where the nozzle is not tilted, (B) is a schematic diagram when the nozzle tilt and the application direction are the same, and (C) is a schematic diagram when the nozzle tilt and the application direction are opposite. .
(第1実施例)
以下、図面を参照しながらこの発明の第1実施例を説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
最初に、図1中、X軸とY軸は互いに直交しそれぞれ水平方向に延び、Z軸はX軸とY軸に対して垂直方向に延びる。 First, in FIG. 1, the X axis and the Y axis are orthogonal to each other and extend in the horizontal direction, and the Z axis extends in a direction perpendicular to the X axis and the Y axis.
図1はペースト塗布装置10の概略的構成を示す斜視図であって、ペースト塗布装置10は直方体状のベース11を備える。ベース11の上面に、図1に示すように、Yテーブル12がY軸方向(図1中、ペースト塗布装置10の前後方向)に沿って移動可能に設けられ、Yテーブル12は不図示のボールねじとナット及びボールねじを回動するサーボモータ13からなる駆動手段によって駆動される。Yテーブル12の上面にθ回転機構14を介してステージ15が設けられる。ステージ15はθ回転機構14によって、図1に示すように、Z軸(図1中、ペースト塗布装置10の上下方向)回りに水平面内で回転可能となっている。ステージ15の上面には、例えば液晶表示パネルに用いられるガラス製の矩形の基板16が載置され、不図示の真空吸着等の手段によって吸着保持される。
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a
ベース11の上面には、Yテーブル12を跨ぐ状態で門型の支持体20が設けられる。この支持体20の水平な梁部の前面にY軸方向に直交するX軸方向(図1中、塗布装置の左右方向)に沿ってガイドレール21が固定される。ガイドレール21上に2つのXテーブル22がX軸方向に移動可能に設けられ、2つのXテーブル22は不図示のリニアモータからなる駆動手段によって駆動される。リニアモータはガイドレール21上に設けられたマグネットとXテーブル22に設けられたコイルからなる。
A gate-shaped
Xテーブル22上にZテーブル23がそれぞれZ軸方向(上下方向)に移動可能に設けられ、Zテーブル23はボールねじとナット及びボールねじを回動するサーボモータ24からなる駆動手段によって駆動される。
A Z table 23 is provided on the X table 22 so as to be movable in the Z-axis direction (vertical direction). The Z table 23 is driven by a driving means including a ball screw, a nut, and a
2つのZテーブル23上に、シール剤を吐出するための吐出装置25がそれぞれ設けられる。吐出装置25は、先端部に円筒状のノズル26を着脱自在に取付けたシリンジ27を備え、ノズル26はステンレス合金からなる。ノズル26を取付けたシリンジ27はZテーブル23上に固定して設けられた保持具29に着脱自在に取付けられる。シリンジ27内にはペーストとしてのシール剤が充填され、シリンジ27はそれぞれ管路30を介して不図示の加圧気体源に接続され、シリンジ27と加圧気体源との間にはそれぞれ電磁開閉弁31と、電磁開閉弁31の下流側に電空レギュレータ32が介装される。シリンジ27内に充填されたシール剤は加圧気体源からの加圧気体により加圧されて、シリンジ27先端のノズル26から吐出される。
Zテーブル23上には、レーザ変位計28からなる距離検出器がシリンジ27と一体的に取付け固定され、レーザ変位計28は基板16上面までの距離を測定する。
On the Z table 23, a distance detector comprising a
上記塗布装置のベース11の一側には制御装置36が設けられる。制御装置36はYテーブル12を駆動するサーボモータ13、Xテーブル22を駆動する不図示のリニアモータ、吐出装置25のZテーブル23を駆動するサーボモータ24をそれぞれ制御する。
A
また、制御装置36はシリンジ27と加圧気体源との間の管路30に介装された電磁開閉弁31と電空レギュレータ32を制御する。
Moreover, the
また、2つのZテーブル23上に、それぞれステージ15上に載置された基板16の位置を検出するためのCCDカメラ37からなる撮像装置が設けられる。
制御装置36にはモニタ用のディスプレイ38と入力用のキーボード39が接続される。
Further, on the two Z tables 23, an imaging device including a
A
次に、上記構成のペースト塗布装置10によって基板16上にシール剤を塗布する動作について説明する。
Next, the operation of applying the sealing agent on the
まず、ステージ15の上面に、不図示のロボット等によって基板16が供給載置されると、基板16の四隅に付された不図示のアライメントマークがCCDカメラ37によって撮像され、撮像信号が制御装置36に入力される。制御装置36は、撮像された画像から画像認識により予め設定された位置との間の位置ずれを検出し、そのずれが零となるようにXテーブル22、Yテーブル12、θ回転機構14を制御する。
First, when the
ペースト塗布装置10の制御装置36は、Xテーブル22のリニアモータとYテーブル12のサーボモータ12を駆動してXテーブル22とYテーブル12を水平方向に移動させ、Zテーブル23のサーボモータ24を駆動してZテーブル23を上下方向に移動させ、吐出装置25のシリンジ27の先端のノズル26からシール剤を吐出させて、基板16上に矩形枠状のパターン33を塗布描画する。2つの吐出装置25は、X軸方向に並んだ2つのパターン33を同時に塗布描画する。
The
レーザ変位計28は基板16上面までの距離を測定し、制御装置36は、レーザ変位計28の測定値に基づきノズルの先端と基板16上面との間隔(以下、ギャップと言う)が常時一定となるようにサーボモータ24を駆動してZテーブル23を移動制御(以下、ギャップ制御と言う)して、均一な幅及び厚さのパターン33を基板16上に塗布描画する。
The
ペースト塗布装置10の制御装置36は、配管30に設けられた電磁開閉弁31の開閉をオンオフ制御してシール剤の吐出、停止を制御し、また、電空レギュレータ32を制御して電空レギュレータ32の下流側の気体の圧力を調整してシール剤の吐出圧を調整する。
The
このようにして4つの矩形枠状のパターン33が基板16上に塗布描画されるが、シリンジ27の交換時や一定の周期でシリンジ27の先端のノズル26の傾きの検査が行なわれる。
In this way, four rectangular frame-shaped
ノズル26の傾きを検査するために、図2、図3に示すように、ペースト塗布装置10は検出装置43を有する。検出装置43はステージ15の前部中央に上部を開口して形成された断面円形の測定穴44を有する。ノズル26の傾きの検出時には、測定穴44の上方の測定位置にノズル26が位置する。また、検出装置43は、測定穴44の底部に上向きに設けられたCCDカメラ45からなる撮像装置とCCDカメラ45の外周の測定穴44の底部上に設けられたリング照明46を有する。
In order to inspect the inclination of the
ノズル26の傾きの検出は、予め設定された測定穴44の上方の測定位置で行なわれる。CCDカメラ45は、ノズル26がペースト塗布装置10のZテーブル23上に位置ずれ及びステージ15に対する傾きのない基準位置(以下、明細書中において、単に「基準位置」と言う)に取付けられているとき、ノズル26の中心線C0の延長上に、図4に示すように、CCDカメラ45の画像の中心Oが位置するように取付けられる。
The detection of the inclination of the
リング照明46はノズル26の先端部にスポット光を照射する。
検出装置43は、不図示の画像処理装置を有し、CCDカメラ45が撮像したノズル26の先端部の画像を画像処理装置にて画像処理する。
The
The
次に、上記構成の検出装置43によってノズル26の傾きを検出する動作について説明する。
Next, an operation of detecting the inclination of the
ペースト塗布装置10の制御装置36は、Xテーブル22、Yテーブル12を原点位置から予め設定された距離だけ水平方向に移動させ、更にZテーブル23を原点位置から予め設定された距離だけ下降させて、ノズル26をステージ15の前部中央の測定穴44上方の予め設定された測定位置に位置決めする。
The
次いで、CCDカメラ45は、ノズル26の先端を下から撮像し、撮像された画像は画像処理装置にて画像処理される。図4は、CCDカメラ45で撮像された画像の処理画像47を示し、CCDカメラ45の撮像視野の中心と処理画像47の中心とは、一致しているものとする。また、処理画像47において左右方向がX軸方向、上下方向がY軸方向である。ノズル26が傾いていないときには、処理画像47におけるノズル26先端の処理画像P0の中心O0が処理画像47上の中心(座標)Oに位置し、ノズル26先端の処理画像P0は真円状を呈する。ノズル26が傾いているときには、ノズル26先端の処理画像P1に示す如く、その中心O1が処理画像47上の中心Oからずれたところに位置し、ノズル26先端の処理画像P1は楕円状を呈する。
Next, the
画像処理装置にて、ノズル26が傾いていないときの処理画像P0の中心O0と、ノズル26が傾いているときの処理画像P1の中心O1の位置ずれ量L1を求め、位置ずれ量L1とノズル26の長さLn(既知の値)から、図3に示すように、ノズル26が傾いているときの中心線C1のノズル26が傾いていないときの中心線C0に対する傾き角度θをsinθ=L1/Lnにより算出する。
In the image processing apparatus, a positional deviation amount L1 between the center O 0 of the processed image P 0 when the
また、図4に示すように、ノズル26の処理画像P1の中心O1が、処理画像47のX−Y座標上のどの象限のどの位置にあるかによってノズル26の傾きの方向と位置を知ることができる。
Further, as shown in FIG. 4, the direction and position of the inclination of the
尚、ここで、ノズル26を測定位置に位置付けるときに、Xテーブル22及びYテーブル12による位置決め誤差が生じることが考えられる。しかしながら、例えば、本実施例のような液晶表示パネルの製造に用いられるペースト塗布装置10では、Xテーブル22及びYテーブル12の繰り返し位置決め精度が±数μmである。これに対し、傾きによるノズル26の位置ずれ量L1は数十μm以上である。従って、Xテーブル22及びYテーブル12による位置決め誤差は、ノズル26の位置ずれ量L1の許容値内に含まれる程度に小さいので、上述の測定精度に影響することはない。
Here, when the
また、ノズル26の傾きθが予め設定された基準値を超える場合には、ディスプレイ38上に表示したり警報を鳴らしたりして作業者に知らせるようにすることにより、作業者は検出されたノズル26の傾きに基づいてシール剤の塗布の実行可否を判別する。
Further, when the inclination θ of the
また、単に、位置ずれ量L1を予め設定された基準値と比較して、位置ずれ量L1が予め設定された基準値を超えるか否かにより、シール剤の塗布の実行可否を判別するようにすることもできる。 Further, the position deviation amount L1 is simply compared with a preset reference value, and whether or not the sealant application can be performed is determined based on whether or not the position deviation amount L1 exceeds a preset reference value. You can also
また、ノズル26が傾いている場合には、ノズル26先端の処理画像P1は楕円状を呈するので、その長辺aと短辺bの比を求め、楕円であるか真円であるかを判断することによって、ノズル26の傾きを判断することもできる。また、これらのノズル26の先端の位置ずれ量L1と楕円であるか真円であるかの2つの条件によってノズル26の傾きを判断することもできる。
Further, when the
また、ノズル26の先端部の周囲の輪郭の形状によってノズル26表面の欠け等の欠陥を検出することもできる。
Further, a defect such as a chip on the surface of the
また、シール剤をノズル26から吐出させて基板16上に矩形枠状のパターンを塗布描画する場合、従来技術のところで述べたように、ノズル26が傾いていると、同一のギャップでも移動する方向によって塗布量が変わる。
Further, when a rectangular frame pattern is applied and drawn on the
ノズル26の移動方向が変わっても塗布量を一定にするために、ペースト塗布装置10は、上述の検出装置43によって検出したノズル26の傾きに基づいて、シール剤の吐出条件を変更する制御装置36を備える。即ち、制御装置36内のプログラムは、検出装置43にて測定したノズル26の傾きのデータを読み込み、制御装置36は、予め定められたノズル26の傾き及び傾きの方向のデータと基板16に塗布されるシール剤の塗布量との関係に基づいて、シール剤の吐出条件を変更する。即ち、制御装置36は、吐出装置25の電空レギュレータ32を制御してシリンジ27内のシール剤を加圧する気体の圧力(吐出圧力)を変更したり、Xテーブル22、Yテーブル12の駆動手段を制御したりしてXテーブル22、Yテーブル12の移動速度(塗布速度)を変更する。
In order to make the coating amount constant even if the moving direction of the
例えば、ノズルの傾き及び傾きの方向のデータと基板16に塗布されるシール剤の塗布量との関係は、次のようにして得ることができる。
For example, the relationship between nozzle tilt and tilt direction data and the amount of sealant applied to the
即ち、ノズルの傾き角度、ノズルの移動方向に対するノズルの傾きの方向、及び、塗布速度を一定とした条件で、吐出圧力と塗布量との関係を調べる。この関係を、ノズルの傾き角度、或いはノズルの傾きの方向の条件を順次変更し、条件毎に取得する。このようにすることにより、種々のノズルの傾き及びノズルの傾きの方向に対する吐出圧力とシール剤の塗布量との関係を知ることができる。 That is, the relationship between the discharge pressure and the coating amount is examined under the condition that the nozzle tilt angle, the nozzle tilt direction with respect to the nozzle moving direction, and the coating speed are constant. This relationship is acquired for each condition by sequentially changing the nozzle tilt angle or the condition of the nozzle tilt direction. By doing so, it is possible to know the relationship between the discharge pressure and the coating amount of the sealant with respect to various nozzle inclinations and nozzle inclination directions.
第1実施例によれば以下の作用効果を奏する。
(a)ペースト塗布装置10の検出装置43がノズル26の傾きを検出するので、ノズル26の傾きに起因する塗布不良を未然に防止することができ、塗布品質を向上させることができる。
According to 1st Example, there exist the following effects.
(a) Since the
(b)ノズル26の傾きを検出し、検出したノズル26の傾きに基づいてシール剤の塗布の実行可否を判別するので、ノズル26が傾いているとき、例えば、許容値以上傾いているときには塗布を行なわないようにして、ノズル26の傾きに起因する塗布不良を未然に防止することができる。その結果、塗布品質を向上させることができる。
(b) Since the inclination of the
(c)ノズル26の傾き及び傾きの方向を検出し、検出されたノズル26の傾きと傾きの方向に基づいてシール剤の吐出条件を変更するので、例えば、基板16上に矩形枠状のパターン33を塗布描画する場合、ノズル26と基板16との相対移動方向に対してノズル26が傾いている方向及び角度と基板16に塗布されるシール剤の塗布量との関係を調べておいて、ノズル26と基板16との相対移動方向毎に、即ちX軸方向とY軸方向の別及びそれぞれの方向における往動方向と復動方向の別にノズル26からのシール剤の吐出圧力や塗布速度等のシール剤の吐出条件を変えることで、塗布パターン33全体での塗布量を均一にすることができる。その結果、塗布品質を向上させることができる。
(c) Since the inclination of the
(d)検出装置43は、ノズル26の軸線方向においてノズル26の先端に対向する方向から撮像した画像に基づいて、ノズル26の傾きを検出する。即ち、予め設定された測定位置でノズル26先端を撮像するのみの簡単な操作で、ノズル26の傾きを検出することができる。その結果、効率的にノズル26の検査を行なうことができる。
(d) The
また、撮像した画像に基づいてノズル26の傾きを検出するので、作業者の主観が介在することがなく安定した検出精度を得ることができる。
In addition, since the inclination of the
また、ステージ15の前部に上部を開口する測定穴44を設け、この測定穴44内にCCDカメラ45からなる撮像装置を収納した、即ち、撮像装置は基板16を載置するテーブルの上面より下に収納されるので、検出装置43がノズル26やステージ15の移動の妨げとなることを防止できる。また、ノズル26が検出装置43に衝突するようなことを防止することができ、ノズル26の損傷による損害を未然に防止できる。
Further, a
(第2実施例)
第2実施例は、図5に示すように、ステージ15内に収納したCCDカメラ45にてノズル26の側面の画像を撮像することができるようにしたものである。検出装置55は、ステージ15の前部のコーナ部に上部を開口するZ軸方向の孔50Aと、この孔50Aと交差するX軸方向(Y軸方向でも良い)の孔50Bからなる測定穴50を有し、X軸方向の孔50BにCCDカメラ45を収納する。検出装置55は、更に、Z軸方向の孔50Aの上方にノズル26の側面に対向してシリンジ27側の取付部材51に取付けた反射板52と、Z軸方向の孔50Aの底部に設けた反射板53を有し、取付部材51の反射板52と反対側の位置に背景板54を有する。
(Second embodiment)
In the second embodiment, as shown in FIG. 5, an image of the side surface of the
尚、ノズル26は、その中心を通る鉛直軸を中心として、取付部材51に対して独立して回動可能に設けられている。また、取付部材51は、不図示のエアシリンダ等の駆動手段によりノズル26に対して昇降可能に設けられている。これにより、取付部材51は、図5に示したノズル26の撮像位置と、この位置よりも上方に設定されたノズル26による塗布動作を妨げることのない退避位置とに位置付けることが可能とされる。
The
ノズル26の傾きの検出は予め設定された測定位置で行なわれる。CCDカメラ45は、ノズル26が基準位置にあるときにおけるノズル26の中心線C0が、図6に示すように、CCDカメラ45の処理画像57の中心線Zに位置するようにステージ15の孔50B内に取付けられる。尚、この実施例において、CCDカメラ45の撮像視野のZ軸方向(上下方向)の中心線と処理画像57の中心線Zとは一致しているものとする。
The detection of the inclination of the
CCDカメラ45は照明装置48を有し、照明装置48の光が反射板53と反射板52で反射されノズル26の側面を照射し、CCDカメラ45は照射されたノズル26の側面の画像を撮像する。
背景板54はノズル26の輪郭画像を鮮明に撮像するために使用することができる。
The
The
次に、上記構成の検出装置55によってノズル26の傾きを検出する動作について説明する。
Next, an operation of detecting the inclination of the
ペースト塗布装置10の制御装置36は、Xテーブル22、Yテーブル12を原点位置から予め設定された距離だけ水平方向に移動させ、更にZテーブル23を原点位置から予め設定された距離だけ下降させて、ノズル26をステージ15の前部のコーナ部に設けられた測定穴50の上方の予め設定された測定位置に位置決めする。
The
CCDカメラ45にてノズル26のX軸方向の側面の画像を撮像し、撮像したX軸方向の側面の画像を画像処理装置にて画像処理して、図6に示すように、X軸方向の側面の処理画像57を得る。得られた処理画像57におけるノズル26の処理画像P1先端の中心O1とノズル26が基準位置にあるときにおける処理画像57の中心線ZとのX軸方向のずれ量ΔXを画像処理装置にて求める。
An image of the side surface in the X-axis direction of the
次いで、ノズル26を90度回転させ、Y軸方向の側面の画像を撮像し、X軸方向の場合と同様に、得られた処理画像におけるノズル26の処理画像の先端の中心とノズル26が基準位置にあるときにおける処理画像57の中心線ZとのY軸方向のずれ量ΔYを画像処理装置にて求める。
Next, the
次いでX軸方向のずれ量ΔXとY軸方向のずれ量ΔYから、図7に示すように、L12=ΔX2+ΔY2の関係に基づき、ノズル26が基準位置にあるときのノズル26の中心Oからのずれ量L1を算出する。次いで、実施例1の場合と同様に、ずれ量L1とノズルの長さ(既知の値)からノズルの傾きθを求める。
以上のようにして、ノズル26の傾きの角度θと方向を求めることができる。
Next, as shown in FIG. 7, based on the relationship of L1 2 = ΔX 2 + ΔY 2 from the deviation amount ΔX in the X-axis direction and the deviation amount ΔY in the Y-axis direction, the center of the
As described above, the inclination angle θ and the direction of the
第2実施例によれば、第1実施例の作用効果(a)〜(d)と同様の作用効果を奏する。
尚、この第2実施例において、次のようにして、ノズル26の中心Oからのずれ量L1を求めるようにしても良い。
According to 2nd Example, there exists an effect similar to the effect (a)-(d) of 1st Example.
In the second embodiment, the deviation L1 from the center O of the
即ち、図5に示す状態から、ノズル26を、その中心を通る鉛直軸を中心に1回転させる。そして、この1回転中、所定の角度毎、例えば、10度毎にノズル26の画像を撮像する。撮像した画像毎にノズル26の中心Oからのずれ量を求める。求めたずれ量のうち、最大のずれ量をノズル26の中心Oからのずれ量L1とする。
That is, from the state shown in FIG. 5, the
(第3実施例)
第3実施例の検出装置60は、図8、図9に示すように、ステージ15の前部中央に上部を開口して形成された断面円形の測定穴61を有し、測定穴61の外周に同一の水平面内で直交するX軸方向とY軸方向のそれぞれに一対ずつ設けたレーザ式の測長器62、63からなる2次元センサを有する。一対の測長器62、63は投光器62A、63Aと受光器62B、63Bからなり、投光器62A、63Aからレーザ光が平行光として送り出され、平行光は受光器62B、63Bに内蔵されているイメージセンサによって受光される。ノズル26が平行光を遮るとノズル26の大きさに比例した影が生ずるので、この影の大きさや位置を受光器62B、63Bの不図示のイメージセンサが走査、演算してノズル26の直径、位置として測定する。
(Third embodiment)
As shown in FIGS. 8 and 9, the
次に、上記構成の検出装置60によってノズル26の傾きを検出する動作について説明する。
Next, an operation of detecting the inclination of the
ペースト塗布装置10の制御装置36は、Xテーブル22、Yテーブル12を原点位置から予め設定された距離だけ水平方向に移動させ、更にZテーブル23を原点位置から予め設定された距離だけ下降させて測定穴61内にノズル26を挿入し、ステージ15の測定穴61内の予め設定された測定位置に位置決めする。
The
検出装置60は、X軸方向とY軸方向に配置された測長器62、63により、それぞれX軸方向とY軸方向からノズル26の直径とその位置を測定した後、ノズル26をZ軸方向に順次等間隔で下降させ、ノズル26が基準位置にあるときのノズル26の中心軸Zに沿う方向の複数個所Z1、Z2・・・Z6でX軸方向とY軸方向からノズル26の直径とその位置を検出する。
The
図10は、X軸方向から検出したノズル26の直径とその位置とY軸方向から検出したノズル26の直径とその位置から作成した合成画像64で、横軸にX−Y軸方向(水平方向)の位置を示し、縦軸にZ軸方向の位置を示す。ノズル26が基準位置にあるときには、ノズル26の中心線は、図10に示すZ軸に一致する。
FIG. 10 is a
複数個所Z1、Z2・・・Z6におけるノズル26の各直径D1x・D1y、D2x・D2y・・・D6x・D6yの中心O1、O2・・・O6を結ぶことにより、ノズル26の中心線C1を得ることができ、各直径D1x・D1y、D2x・D2y・・・D6x・D6yを結ぶことにより、ノズル26の外形線を得ることができる。図10中の各楕円は、ノズル26の各直径D1x・D1y、D2x・D2y・・・D6x・D6yに基づいてノズル26のX−Y軸方向(水平方向)の断面を模式的に表したものである。
By connecting the centers O1, O2,... O6 of the diameters D1 x , D1 y , D2 x , D2 y, D6 x , D6 y of the
このようにして求めたノズル26の中心線C1より、ノズル26の基準位置に対する傾きの角度とその方向を求める。
From the center line C1 of the
第3実施例によれば、第1実施例の(a)〜(c)の作用効果と同様の作用効果を奏するとともに、更に、以下の作用効果を奏する。 According to the third embodiment, the same operational effects as the effects (a) to (c) of the first embodiment are exhibited, and the following operational effects are further exhibited.
ノズル26をZ軸方向に移動させてノズル26のZ軸方向の複数個所のデータからノズル26の傾きを検査するので、傾き以外にノズル26の曲がりも検出できる。例えば、ノズル26が「C」の字状や「く」の字状に曲がっている場合等である。このように、ノズル26の曲がりが検出された場合には、その旨をディスプレイ38に表示する等して作業者に報知する。これにより、作業者は、このノズル26により良好な塗布が行なえるか否かを判断することができるので、不適切なノズル26が使用されることによる塗布不良を未然に防ぐことができ、塗布品質を向上させることができる。
Since the
尚、ノズル26に曲がりが生じている場合には、曲がりのない正常なノズル26と同じ吐出条件を与えても、必要な塗布量が得られないことが考えられる。そこで、ノズル26の曲がりが検出されたときには、制御装置36により塗布を行なわないように処理するようにしても良い。
When the
また、検出装置60は、予め設定された測定位置でノズル26先端を検出するのみの簡単な操作で、ノズル26の傾きを検出することができる。その結果、効率的にノズル26の検査を行なうことができる。
The
また、測長器62,63の測定値に基づいてノズル26の傾きを検出するので、作業者の主観が介在することなく安定した検出精度を得ることができる。
Moreover, since the inclination of the
また、ステージ15の前部に上部を開口する測定穴61を設け、この測定穴61内に測長器62、63を配置したので、検出装置60がノズル26やステージ15の移動の妨げとなることを防止できる。また、ノズル26が検出装置60に衝突するようなことを防止することができ、ノズル26の損傷による損害を未然に防止できる。
Further, since the
(第4実施例)
第4実施例の検出装置70は、図11〜図14に示すように、ステージ15の前部中央に上部を開口して形成された断面正四角形の測定穴71を有し、測定穴71のX軸方向に沿う一辺とY軸方向に沿う一辺の各中央部に円筒状の渦電流センサ72、73からなる近接センサを有する。図13、図14に示すように、渦電流センサ72、73の各中心軸の延長上のX軸とY軸は同一の水平面内で直交(交点O)し、各センサ72、73は交点Oから等距離に位置する。
(Fourth embodiment)
As shown in FIGS. 11 to 14, the
次に、上記構成の検出装置70によってノズル26の傾きを検出する動作について説明する。
Next, an operation of detecting the inclination of the
Xテーブル22、Yテーブル12を原点位置から予め設定された距離だけ移動させて、測定穴71の上方にノズル26を移動させ、更に、Zテーブル23を原点位置から予め設定された距離だけ下方に移動させて、ノズル26の先端部を測定穴71内の測定位置に位置決めする。
The X table 22 and the Y table 12 are moved from the origin position by a preset distance, the
ノズル26の傾きの検出は、ノズル26の先端部の側面が各センサ72、73に対向するZ軸方向の位置で行なわれ、ノズル26が基準位置にあるときには、図14に2点鎖線で示すように、ノズル26の中心線C0は、測定穴内のX軸とY軸が交わる交点O上に位置する。この交点Oを中心にしてX軸方向の左右とY軸方向の左右にそれぞれノズル26を移動させることにより、X軸方向とY軸方向のそれぞれについて渦電流センサ72、73からノズル26までの最短距離L2、L3を検出して、X軸方向とY軸方向のノズル26の傾きを検出する。
The detection of the inclination of the
図13、図14の2点鎖線はノズル26が傾いていない基準位置にあるときの測定穴71内におけるノズル26の位置を示す。
The two-dot chain line in FIGS. 13 and 14 indicates the position of the
ノズル26が傾いていると、図14に実線で示すように、ノズル26が基準位置にあるときの基準値(最短距離)L0と比較して検出値(最短距離)L2、L3にそれぞれのずれΔY、ΔXが生じる。基準値L0と検出値L2、L3とのそれぞれのずれΔY、ΔXを計算することで、ノズル26の傾きの角度とその方向を求めることができる。
When the
例えば、第2実施例において図7を用いて説明した方法と同様にしてノズル26の中心からのずれ量L1とその方向を求め、第1実施例にて説明した式sinθ=L1/Lnを用いてノズル26の傾きを求める。但し、この実施例では、Lnはノズル26の基部から渦電流センサ72、73による測定位置までの距離Ln′とする。
For example, the amount L1 of deviation from the center of the
尚、図12に示すように、測定穴71の底部にZ軸方向のずれを検出する近接センサ74を設けることもできる。この場合には、渦電流型のセンサ74を使用して、近接センサ74からノズル26の先端面との最短距離を検出する。Z軸方向の近接センサ74を設けることによりノズル26の傾きをより正確に測定することができる。
As shown in FIG. 12, a
即ち、近接センサ74を用いてノズル26の先端のZ軸方向における位置を測定し、Z軸方向における基準位置に対するノズル26先端の位置の位置ずれΔZを求める。そして、sinθ=L1/Ln′を、Z軸方向の位置ずれΔZを加味したsinθ=L1/(Ln′−ΔZ)とする。つまり、ノズル26がZ軸方向に位置ずれした分ΔZだけ、ノズル26の基部から渦電流センサ72、73による測定位置までの距離Ln′が増減するので、この増減分ΔZを距離Ln′に加える。これにより、ノズル26の傾きの角度を、増減分(ΔZ)を加えないで求める場合よりも正確に求めることができる。
That is, the position of the tip of the
また、上述の近接センサ72、73に代えて、不図示の限定反射型の光学式センサを使用することもできる。限定反射型のセンサを使用した場合には、受光部は正反射光のみ受光するので、ノズル26の基準位置からのずれ量を精度良く測定することができる。
Further, in place of the
第4実施例によれば、第1実施例の(a)〜(c)の作用効果と同様の作用効果を奏するとともに、更に、以下の作用効果を奏する。 According to the fourth embodiment, the same operational effects as the effects (a) to (c) of the first embodiment are exhibited, and the following operational effects are further achieved.
X軸方向とY軸方向の2つの渦電流センサ72、73からなる検出装置70は、画像処理装置等の比較的コストの高い装置を必要としないので、コストアップを招くことがなく、また、比較的簡単にノズル26の傾きを計測できる。
The
また、検出装置70は、予め設定された測定位置でノズル26先端を検出するのみの簡単な操作で、ノズル26の傾きを検出することができる。その結果、効率的にノズル26の検査を行なうことができる。
In addition, the
また、渦電流センサ72、73の測定値に基づいてノズル26の傾きを検出するので、作業者の主観が介在することなく安定した検出精度を得ることができる。
Moreover, since the inclination of the
また、ステージ15の前部に上部を開口する測定穴61を設け、この測定穴61内に渦電流センサ72、73を配置したので、検出装置70がノズル26やステージ15の移動の妨げとなることを防止できる。また、ノズル26が検出装置70に衝突するようなことを防止でき、ノズル26の損傷による損害を未然に防止できる。
In addition, since the
以上、本発明の実施例を図面により詳述したが、本発明の具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。例えば、ノズルの傾きは直線的な傾きのみならず、曲がりも含むことは言うまでもない。 The embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration of the present invention is not limited to this embodiment, and even if there is a design change or the like without departing from the gist of the present invention. It is included in the present invention. For example, it goes without saying that the inclination of the nozzle includes not only a linear inclination but also a bend.
また、実施例では、ステージ15の前部の中央又はコーナ部にノズルの傾きを検出する検出装置を設けたが、ステージ15の後部又は側部であっても良い。
Further, in the embodiment, the detection device that detects the inclination of the nozzle is provided at the center of the front portion of the
また、枠状のパターンは矩形に限らず、多角形や円形の枠であっても良い。要するにノズルの移動方向が往動と復動とで変わるものであれば良い。 Further, the frame-shaped pattern is not limited to a rectangle, and may be a polygonal or circular frame. In short, it is sufficient if the moving direction of the nozzle changes between forward movement and backward movement.
また、パターンは、枠状に限らず直線状やL字状、或いはコ字状等でも良く、要するに線状のパターンであれば良い。 Further, the pattern is not limited to the frame shape, and may be a linear shape, an L shape, a U shape, or the like.
また、ノズルの傾きや曲がりが大きくなるとノズルが撮像装置の焦点深度内から外れたり、センサの測定範囲内から外れたりして、検出エラーとなることが考えられる。そこで、検出エラーが生じたときは、ノズルに傾きや曲がりが生じているとして、ディスプレイ上にその旨を表示する等して作業者に報知するようにしても良い。 Further, when the inclination or bending of the nozzle increases, it is conceivable that the nozzle moves out of the depth of focus of the imaging apparatus or out of the measurement range of the sensor, resulting in a detection error. Therefore, when a detection error occurs, it is possible to notify the operator that the nozzle has been tilted or bent and that effect is displayed on the display.
10 ペースト塗布装置
16 基板
26 ノズル
33 パターン
36 制御装置
43、55、60、70 検出装置
45 CCDカメラ(撮像装置)
44、50、61、71 測定穴
62、63、72、73 センサ
DESCRIPTION OF
44, 50, 61, 71 Measuring
Claims (11)
前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出する検出装置を有することを特徴とするペースト塗布装置。 In a paste application apparatus that discharges a paste from a nozzle to apply and draw a linear pattern on a substrate,
A paste coating apparatus comprising: a detection device that detects an inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to the coating surface of the substrate .
前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出する検出装置と、
該検出装置によって検出した前記ノズルの傾きに基づいて、ペースト塗布の実行可否を判別する制御装置を備えることを特徴とするペースト塗布装置。 In a paste application apparatus that discharges a paste from a nozzle to apply and draw a linear pattern on a substrate,
A detection device for detecting an inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to the coating surface of the substrate ;
A paste coating apparatus comprising: a control device that determines whether or not paste coating can be performed based on the inclination of the nozzle detected by the detection device.
前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出する検出装置と、
該検出装置によって検出したノズルの傾きに基づいて、ペーストの吐出条件を変更する制御装置を備えることを特徴とするペースト塗布装置。 In a paste application apparatus that discharges a paste from a nozzle to apply and draw a linear pattern on a substrate,
A detection device for detecting an inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to the coating surface of the substrate ;
A paste coating apparatus comprising: a control device that changes a paste discharge condition based on a nozzle inclination detected by the detection device.
それぞれの方向における複数個所での検出値に基づいて該ノズルの傾きを求める請求項1〜3のいずれかに記載のペースト塗布装置。 The detection device has a sensor that detects the position of the nozzle at a plurality of locations in a direction along the central axis of the nozzle for each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane,
The paste coating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein an inclination of the nozzle is obtained based on detection values at a plurality of positions in each direction.
それぞれの方向からの検出値と基準値との比較によって該ノズルの傾きを求める請求項1〜3のいずれかに記載のペースト塗布装置。 The detection device includes a sensor that detects the position of the nozzle in each of two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane,
The paste coating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the inclination of the nozzle is obtained by comparing a detected value from each direction with a reference value.
前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出し、該検出したノズルの傾きに基づいてペースト塗布の実行可否を判別することを特徴とするペーストの塗布方法。 In the paste application method of discharging a paste from a nozzle and applying and drawing a linear pattern on the substrate,
A paste application method, comprising: detecting an inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to an application surface of the substrate; and determining whether or not the paste application can be performed based on the detected inclination of the nozzle.
前記基板の塗布面に垂直な方向に対する前記ノズルの傾きを検出し、該検出したノズルの傾きに基づいてペーストの吐出条件を変更することを特徴とするペーストの塗布方法。 In the paste application method of discharging a paste from a nozzle and applying and drawing a linear pattern on the substrate,
A paste application method, comprising: detecting an inclination of the nozzle with respect to a direction perpendicular to an application surface of the substrate; and changing a paste discharge condition based on the detected inclination of the nozzle.
それぞれの方向の複数個所での検出値に基づいて該ノズルの傾きを求める請求項7又は8に記載のペーストの塗布方法。 For each of the two directions orthogonal to each other in the same horizontal plane, the position of the nozzle is detected at a plurality of locations along the central axis of the nozzle,
The paste application method according to claim 7 or 8, wherein the inclination of the nozzle is obtained based on detection values at a plurality of locations in each direction.
それぞれの方向からの検出値と基準値との比較によって該ノズルの傾きを求める請求項7又は8に記載のペーストの塗布方法。 Detecting the position of the nozzle in each of two directions orthogonal within the same horizontal plane;
The paste application method according to claim 7 or 8, wherein the inclination of the nozzle is obtained by comparing a detected value from each direction with a reference value.
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