JP4832625B2 - 非対称導波路窒化物レーザダイオード構造、並びに形成方法及び製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般的には、レーザダイオードの分野に関し、詳細には、短波長の窒化物ベースのレーザダイオードに関する。短波長の窒化物ベースのレーザダイオードは、レーザ・プリント・オペレーション及び他の適用例に対して、赤色及び赤外線（ＩＲ）レーザダイオードよりも、より小さなスポットサイズ及びより良好な焦点深度を提供する。シングル・スポット窒化物レーザダイオードは、高密度光学記憶装置のような領域で使用される。
【０００２】
【従来の技術】
AlGaInNのような、よりバンドギャップが高い半導体合金をベースとするレーザダイオードが開発されている。主に、日本の日亜化学工業（株）(Nichia Chemical Company)により、近紫外から紫色のスペクトルにおいて、優れた半導体レーザの特性が確立されている。例えば、ナカムラら(S. Nakamura et al.)の、「GaN基板上で成長したInGaN/GaN/AlGaN ベースレーザダイオードのCWオペレーション("CW Operation of InGaN/GaN/AlGaN-based laser diodes grown on GaN substrates")」を参照されたい。
【０００３】
プリントシステムに組み込まれるレーザダイオードにとって、信頼性のある低閾値の動作は、基本的要求事項である。低閾値動作の達成に伴う困難さとしては、量子井戸活性領域に注入した電子の閉込めがある。注入電子が適正に閉込められないと、量子井戸活性領域から電子が漏洩し、構造のｐ型層から注入された正孔と再結合する。例えば、日亜化学工業（株）のナカムラによって開拓された窒化物レーザ構造では、注入電子を閉込めるために、活性領域に隣接して、薄膜でバンドギャップが高い層を配置している。ナカムラの構造では、Al0.2Ga0.8N:Mgの200Åの層が、高エネルギー電子（量子井戸から脱出するのに十分なエネルギーを有する電子）がｐ型材料中へ拡散して手近な正孔と再結合するのを防止するための、トンネルバリヤ層として作用する。電子の漏洩を低減することにより、レーザの閾値電流及び温度感度が下がり、レーザの量子効率が上がる。
【０００４】
図１は、従来の窒化物レーザ構造１００を示す。従来の窒化物レーザ構造１００は、GaN:Mgのｐ型導波層１１５及びGaN:Siのｎ型導波層１１６の両方を、In0.12Ga0.88N/In0.02Ga0.98N:Siの多重量子井戸活性領域１２０の上に配置されたAl0.2Ga0.8N:Mgのトンネルバリヤ層１１０とともに用いる。ｐ型導波層１１５の上にはAl0.07Ga0.93N:Mgのｐ型クラッド層１３０が配置され、ｎ型導波層１１６の下にはAl0.07Ga0.93N:Siのｎ型クラッド１３１層が配置されている。GaN:Mg層１４０は、オーミック接触を容易にするキャップ層として働き、Al2O3層１５０は成長基板として働く。GaN:Mg層１４０の上にはNi/Auのｐ型コンタクト層（図示せず）があり、GaN:Si層１５５の露出面上にはTi/Alコンタクト層（図示せず）がある。GaN:Si層１５５は側方コンタクト層であり、In0.03Ga0.97N:Si層１５６は欠陥の伝搬を防止するための欠陥低減層である。GaN層１６０はバッファ層として機能する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
図２は、単純化したバンド図を用いてトンネルバリヤ層１１０の機能を示している。トンネルバリヤ層１１０は、注入電子に対する強力な閉込めバリヤとして作用するｐ型AlGaN層である。活性領域１２０（図１参照）を構成する量子井戸２２０、２２１、２２２、２２３及び２２４はInGaNであり、一方、トンネルバリヤ層１１０はAlGaNである。AlGaNトンネルバリヤ層１１０に対する伝導帯の電子のポテンシャルエネルギー準位２５０及び擬フェルミ準位２５５が示されるとともに、電子のポテンシャルエネルギー準位２５０及び伝導帯のフェルミ準位に対する低ｐ型ドープエネルギー準位２３０及び高ｐ型ドープエネルギー準位２４０が示されている。正孔のポテンシャルエネルギー準位２６５とともに、正孔の擬フェルミ準位２６０が示されている。ナカムラ型のレーザ構造がうまく動作するためには、バンドギャップが高いAlGaNトンネルバリヤ層１１０のｐ型ドープが成功する必要がある。しかし、トンネルバリヤ層１１０の成長は、有機金属化学蒸着（ＭＯＣＶＤ）の間のトリメチルアルミニウムとアンモニアとの間の寄生の前反応により、アルミニウム含有率が高い合金のｐ型ドープの難しさや、アルミニウム含有率が高い合金の信頼性を高めることの難しさを含む、多くの実際上の困難を呈する。トンネルバリヤ層１１０内の正孔密度やアルミニウム含有量が不十分な場合、ｐ型ドープレベルにともない電子の閉込めが強くなるので、層１１０が電子を収容する能力は低下する。
【０００６】
ｐ型クラッド層１３０を多重量子井戸活性領域のすぐ近くに、一般的に少数キャリヤ拡散長の１つ分以内に配置した場合、ｐ型クラッド層１３０を用いて、注入電子を窒化物レーザダイオードに閉込めることができる。この手法の難しい点は、従来の窒化物レーザダイオード構造１００として図３に示されるように、光学モードとの空間的な重なりを最大にするために、多重量子井戸活性領域１２０が、一般的に、導波路領域の中核に配置されていることである。しかし、これによると、ｐ型クラッド層は、多重量子井戸領域１２０から少数キャリヤ拡散長の１つ分より離れて配置される。屈折率プロファイル３１０、及び対応する基本横光学モード３２０が、ｎ型クラッド層１３１とｎ型導波層１１６との界面からの相対的な距離の関数として示されている。導波層の膜厚は、光学閉込め係数Γを最大にするように個別に調整される。光学閉込め係数Γは、光学ゲイン(optical gain)が生成される多重量子井戸活性領域１２０に重なるパワー（出力）の分数である。窒化物レーザダイオードの、多重量子井戸活性領域１２０の上下の導波層の一般的な膜厚は、電子拡散長の１つ分より大きい約100nmである。これにより、従来の窒化物レーザダイオード構造１００のｐ型クラッド層１３０は、注入電子を閉込めるために、多重量子井戸活性領域１２０から遠く離れて配置される。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に従い、ｐ型クラッド層を用いて、窒化物レーザダイオード内の、ｐ型導波層をなくすとともに、ｐ型の、バンドギャップが非常に高く、アルミニウム含有率が高い、AlGaNトンネルバリヤ層の必要性をなくす。ｐ型クラッド層は、電子の漏洩を抑制するために用いられる。ｐ型クラッド層に加え、アルミニウム含有率が高いトンネルバリヤ、超格子構造、又は分布式電子リフレクタ(distributed electron reflector)を、多重量子井戸領域とｐ型クラッド層との界面に配置してもよい。ヒ化物及びリン化物のような他の材料から製造されるレーザダイオードでは、電子の漏洩を抑制するためにｐ型クラッド層を用いるのであるが、窒化物レーザダイオードにおけるｐ型クラッド層の使用は、簡単ではない。窒化物における少数キャリヤ拡散長（再結合が生じる前に少数キャリヤが移動する平均距離）は、他のレーザダイオード材料よりも数倍短い。よって、ｐ型クラッド層は、一般的に、多重量子井戸活性領域から拡散長の数倍離れたところに存在する。従って、注入電子は、認識可能なほどｐ型クラッド層によって閉込められず、そのために、アルミニウム含有率が高いトンネルバリヤ層が必要となる。赤色及び赤外線レーザダイオードでは、導波層の膜厚は拡散長の単なる分数であるので、クラッド層が効果的に漏洩を抑制できる。
【０００８】
ｐ型クラッド層が、光学閉込め係数を最大にするための一般的な100nm離れた位置ではなく、多重量子井戸活性領域に隣接して配置されても、窒化物レーザダイオード構造では、依然として高い光学閉込め係数を達成し得る。これは、窒化物層で生じる比較的弱い横断（層の平面に垂直な）導波によって、モードの大半がクラッド層内に減衰しながら拡がることに起因する。実際、導波核とクラッド層との屈折率の差Δｎはわずか約0.05であり、一般的なAlGaAsレーザにおける屈折率の差よりも大きさが１桁近く小さい。この弱い横断導波によって、導波モードのピークの強さがより低くなり、これにより、いかなる導波路の非対称性に対しても、光学閉込め係数が影響されにくくなる。
【０００９】
この非対称導波路窒化物レーザダイオード構造又は従来の窒化物レーザ構造に超格子を導入して、キャリヤの閉込めを強化してもよい。均一なバルク層の代わりに超格子を用いる。適正に設計された超格子は、構造的な欠陥が形成される傾向を抑制する一方で、適切なｐ型ドープ及び量子井戸内のキャリヤの閉込めを可能にする。例えば、GaN層とAlGaN層とが交互する超格子は、GaN層が容易にｐ型ドープされるので、高濃度のｐ型ドープを可能にする。キャリヤの閉込めには、量子井戸活性領域と周囲の層との間の価電子帯及び伝導帯における適切なバンドオフセットが必要である。超格子構造によるキャリヤの閉込めには、共鳴トンネル効果を回避する必要もある。
【００１０】
短周期超格子を、干渉電子リフレクタとして作用するように設計してもよい。短周期超格子は、漏洩電子の波動関数を反射して多重量子井戸活性領域に戻す、分布式ブラッグリフレクタとして機能する。 “複数量子バリヤ(Multi-Quantum Barriers)”としばしば呼ばれる類似の構造を用いて、短波長（λ＜650nm）赤色AlGaNInPレーザ内の電子を閉込め、電子を、多重量子井戸活性領域のすぐ隣ではなく、ｐ型クラッド層内に配置する。低バンドギャップ超格子層を用いて干渉反射を行えば、AlGaN層の必要性を低くするか、又はなくすことができる。これは、膜の構造上の品質を維持し、AlGaN層が横断導波に悪影響を及ぼさず、低バンドギャップバリヤ層を使用できることはｐ型ドープに有利である。超格子を構成する層の厚さは、共鳴トンネル効果を回避するように選択される必要がある。層の厚さを適切に選択することにより、旧式のバリヤの高さを超える電子エネルギーに対して、ほぼ100％の電子反射率が可能になる。従って、注入電子の閉込めには、適正に設計された分布式電子リフレクターの方が、バルクバリヤ層よりも効果的であり得る。
【００１１】
よって、本発明に従い、ｐ型導波層及びアルミニウム含有率が高いトンネルバリヤの必要性をなくして、多重量子井戸活性領域上に蒸着された電子を閉込めるためのｐ型クラッド層を有する、窒化物レーザダイオード構造を作ることができる。更に、多重量子井戸領域とｐ型クラッド層との間に、キャリヤの閉込めを強化するための超格子を導入してもよい。
【００１２】
本発明の第１の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、第１及び第２の表面を有する活性層と、前記活性層の前記第１の表面と接触する遷移層と、前記遷移層に隣接して付着されたｐ型クラッド層と、前記活性層の前記第２の表面と接触するｎ型層と、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造である。
本発明の第２の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオードの形成方法であって、第１及び第２の表面を有する活性層を備えるステップと、前記活性層の前記第１の表面と接触する遷移層を配置するステップと、前記遷移層に隣接してｐ型クラッド層を配置するステップと、前記活性層の前記第２の表面と接触するｎ型層を配置するステップと、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオードの形成方法である。
本発明の第３の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、第１及び第２の表面を有する活性層と、前記活性層の第１の表面とｐ型クラッド層との間に配置され、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層と、前記活性層の前記第２の表面に隣接するｎ型層と、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造である。
本発明の第４の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、第１及び第２の表面を有する活性層と、前記活性層の第１の表面とｐ型クラッド層との間に配置され、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層と、前記活性層の前記第２の表面とｎ型クラッド層との間に配置されたｎ型導波層と、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造である。本発明の第５の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の製造方法であって、第１及び第２の表面を有する活性層を備えるステップと、前記活性層の前記第１の表面とｐ型クラッド層との間に、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層を配置するステップと、前記活性層の前記第２の表面に隣接してｎ型層を配置するステップと、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の製造方法である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下の詳細説明と添付の図面を参照することにより、本発明の真価及び多くの付随する長所が容易に理解されよう。
【００１４】
本発明の実施の形態に従い、図４（Ａ）は、多重量子井戸領域１２０上にｐ型導波層１１５及びAlGaNトンネルバリヤ層１１０を持たない、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００を示している。ｐ型クラッド層１３０は、多重量子井戸活性領域１２０に隣接して配置されており、薄膜のアンドープGaN層４２９が両者の間の遷移層として働く。基板１５０は、例えば、Al2O3で構成できるが、SiC若しくはGaN、又は他の適切な基板材料であってもよい。レーザダイオード構造４００に対するパルス閾値電流密度の一般的な値は、領域の寸法が約750μm×3μmで、6.5ボルトで5kA/cm2である。
【００１５】
図４（Ｂ）は、レーザダイオード構造４００の中心領域のバンド図を示している。図２の従来構造１００のバンド図との違いに注目されたい。従来構造１００では、多重量子井戸活性領域１２０とｐ型クラッド層１３０との間に、ｐ型導波層１１５及びトンネルバリヤ層１１０がある。ｐ型導波層１１５の膜厚は、ｎ型導波層１１６の膜厚とほぼ等しい。非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００では、ｐ型導波層１１５はなくされ、ｐ型クラッド層１３０は多重量子井戸活性領域１２０に接近して配置されており、両者の間にあるのはアンドープGaN遷移層４２９だけである。非対称構造４００では、ｐ型クラッド層１３０が、光学的閉込めのためのクラッド層及び注入電子に対する電子閉込めバリヤの両方の機能を持つ。
【００１６】
図５は、トンネルバリヤ層１１０をなくした非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００の、モデリングされた反射率プロファイル５１０及び対応する基本横光学モードプロファイル５２０を示している。図３と同様、モデリングには、ＭＯＤＥＩＧ誘電導波シミュレーションソフトウェアを用いた。このソフトウェアは、ウェブサイトwww.seas.smu.edu/modeig.からダウンロードしてもよい。図５は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００では、モードピーク５５０が多重量子井戸活性領域１２０の位置５３０と一致しないことを示している。図６では、曲線６１０は従来の窒化物レーザダイオード構造１００のΓtotalを表し、一方、曲線６２０は非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００のΓtotalを表している。図６は、モードピーク５５０（図５参照）の、多重量子井戸活性領域１２０の位置５３０からの相対的な変位が、光学閉込め係数Γを認識可能なほど低下させないことを示している。これは、窒化物レーザダイオードの場合、モードの閉込めが非常に弱いことを理由とする。図６のΓtotal値は、量子井戸活性領域１２０の５つの量子井戸の各々に対する個々のΓの合計を表しており、ｎ型導波層１１６の膜厚に対して作図されている。従来の窒化物レーザ構造１００は、ｐ型クラッド層１３０から膜厚100nmのｐ型導波層１１５によって離隔されたトンネルバリヤ層１１０を有するようになっている。従来の窒化物レーザ構造１００のΓtotalの方がやや高いが、従来の窒化物レーザ構造１００及び非対称導波路窒化物レーザ構造４００の両方とも、ノミナルのΓtotalは、依然として約5％である。
【００１７】
図５は、多重量子井戸活性領域１２０の位置５３０の、モードピーク５５０に向かいｐ型クラッド層１３０から離れる僅かな変位が、より高いΓtotal値を生じることを示している。GaN遷移層４２９の膜厚を増すことにより、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００におけるｐ型クラッド層１３０と多重量子井戸活性領域１２０との離隔距離を約20nmまで増加でき、図７からわかるように、従来の窒化物レーザ構造１００で達成される光学閉込め係数よりも幾分大きい光学閉込め係数を達成できる。GaN遷移層４２９の追加部分は、ｐ型ドープを施されてもよい。図７では、従来の窒化物レーザ構造１００のΓtotalと、本発明に従った２つの実施の形態とを比較している。曲線７１０は、100nmのｐ型導波層１１５及び10nmのトンネルバリヤ層１１０を有する従来の窒化物レーザダイオード構造１００の合計光学閉込め係数を示している。計算された曲線７２０及び７３０は、ｐ型クラッド層１３０と多重量子井戸活性領域１２０との間に、一般的な6nmの離隔距離と増加した20nmの離隔距離とをそれぞれ有する構造４００を示している。しかし、多重量子井戸活性領域１２０とｐ型クラッド層１３０との離隔距離を増加すると、窒化物材料における短い少数キャリヤ拡散長に起因して、ｐ型クラッド層１３０によって与えられる電子の閉込めを大きく低下させることがある。よって、改善された光学的閉込めは、注入電子の閉込めが低下したことによるオフセットを超えてもよい。
【００１８】
本発明に従った実施の形態では、多重量子井戸領域１２０とｐ型クラッド層１３０との間に、薄膜（一般的には膜厚約2から6nm）のアンドープGaN層４２９が挿入されている。GaN層４２９は、低速（多重量子井戸領域１２０に用いられる速度とほぼ等しい）で、リアクター条件を、多重量子井戸領域１２０の成長に最適な条件から、ｐ型クラッド層１３０の成長に最適な条件に変えて、蒸着される。アンドープGaN層４２９は、多重量子井戸活性領域１２０とｐ型クラッド層１３０との成長条件の違いを調和させる遷移層である。詳細には、多重量子井戸活性領域１２０にインジウム（In）を含ませるには、約775℃の温度で、水素キャリヤのガスの流れが無いことが必要である。より良好な均一性を達成し、多重量子井戸活性領域の個々の量子井戸間の界面での急激なガスの転換を可能にするために、低圧（約200トル）環境を用いる。量子井戸の低圧成長により、有機金属バブラーソース(organometallic bubbler sources)を通る水素キャリヤガスの流れを最小にすることもできる。ｐ型クラッド層１３０の蒸着には、活性領域１２０の蒸着パラメータとはかなり異なるパラメータが必要である。トリメチルアルミニウムとアンモニアとの前反応を抑制するには、10 slpm（standard liters per minute）の高い水素キャリヤガスの流量が必要である。同様に、ｐ型ドープには、品質の良いｐ型クラッド層１３０を得るために、高圧（約700トル）及び900℃の温度が用いられる。
【００１９】
本発明に従った実施の形態では、合計光学閉込め係数Γtotalは、ｎ型クラッド層１３１のアルミニウム含有量を増加することにより、増加されてもよい。図８は、ｎ型クラッド層１３１の組成が、曲線８１０で示されるAl0.07Ga0.93Nから曲線８２０で示されるAl0.10Ga0.90Nへと変更されると、合計光学閉込め係数Γtotalがどのように増加するかを示している。よって、ｐ型クラッド層１３０及びｎ型クラッド層１３１の組成の非対称性を用いて、基本横光学モードピーク５１０に相対する多重量子井戸活性領域の変位を補償し、高い合計光学閉込め係数Γtotalを維持することができる。
【００２０】
図９（Ａ）は、電子の閉込めを強化するように変更された非対称導波路窒化物レーザダイオード構造９００を示している。非対称導波路窒化物レーザダイオード構造９００には、多重量子井戸領域１２０とｐ型クラッド層１３０との界面に層９１０が追加されている。追加層９１０は、ｎ周期超格子９１０ａ、分布式電子リフレクタ９１０ｂ、又はアルミニウム含有率が高いトンネルバリヤ層９１０ｃであり得る。
【００２１】
図９（Ｂ）は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造９００の中心領域のバンド図を示している。 図９（Ｂ）は、多重量子井戸活性領域１２０とｐ型クラッド層１３０との間に付加的な電子閉込め層である追加層９１０が挿入されたこと以外は、図４（Ｂ）と類似している。図９（Ｂ）では、追加層９１０のバンドエッジが点線で示されている。実際には、層９１０はｎ周期超格子で構成されていてもよい。
【００２２】
図１０は、５周期超格子９１０ａを示している。超格子９１０ａは、膜厚ｄ1のAlx1Ga1-x1N層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９、並びに膜厚ｄ2のAlx2Ga1-x2N層１０５２、１０５４、１０５６、１０５８及び１０６０からなる。超格子９１０ａについての一般的な選択は、(x1・d1＋x2・d2)/(d1＋d2)と等しく定められる超格子９１０ａの平均組成ｘavgが、高アルミニウム含有率トンネルバリヤ層９１０ｃの組成と等しくなるように、組成及び膜厚を選択することである。しかし、超格子９１０ａのバリヤ層１０５２、１０５４、１０５６、１０５８及び１０６０は組成ｘavgの高アルミニウム含有率トンネルバリヤ層９１０ｃより大きいバンドギャップを有し、井戸層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９内に量子を閉込めると電子の許容エネルギーがより高い値にシフトするので、ｘavgはより低い値で十分である。均一なAl0.2Ga0.8N:Mgトンネルバリヤ層９１０ｃと置き換えるために、超格子構造９１０ａは、x1=0及びx2=0.25と選択できよう。
【００２３】
x1は、層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９を適切にｐ型ドープできるように選択されるので、x1の値は約0.1より低い値に制限される。x1の一般的な値としてはx1=0をとり、その結果はGaN層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９となる。x2は、超格子９１０ａが効果的に電子を閉込められるように、十分高いバンドギャップを備えるように選択され、x2の一般的な値は上述のようにx2=0.25である。膜厚d1及びd2は、0から約50Åの範囲であってよく、一般的な値はd1=d2=20Åである。井戸層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９とバリヤ層１０５２、１０５４、１０５６、１０５８及び１０６０との間の電子波動関数の大きな重なりを可能にするには、膜厚が約50Å未満であることが必要である。バリヤ層の膜厚が10Åを超えれば、井戸層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９のシャープな界面の達成及び高濃度のドープを目的として、適切に成長を制御できる。波動関数の計算に基づき、膜厚d1及びd2は10から20Åが最適である。結果として、超格子９１０ａの合計膜厚は100から200Åとなる。超格子９１０ａ内の電子の最低許容エネルギーは、超格子９１０ａの量子井戸の伝導帯と超格子９１０ａの量子バリヤの伝導帯との間のレベルである。電子の最低許容エネルギーは、井戸の膜厚が減少するにつれて増加する。超格子９１０ａを使用すると、構造上の欠陥を形成する傾向も減少し、トンネルバリヤへのｐ型ドープの遂行能力を改善する。超格子９１０ａは、従来の窒化物レーザダイオード構造１００におけるトンネルバリヤ層１１０の代わりに用いられてもよい。
【００２４】
図１１は、本発明に従った分布式電子リフレクタ９１０ｂの実施の形態における、５対短周期Al0.2Ga0.8N/GaN超格子構造１１００を示している。GaN層１１０２、１１０４、１１０６、１１０８及び１１１０は、約2nmの膜厚を有するように選択され、AlGaN層１１０１、１１０３、１１０５、１１０７、１１０９は、約3nmの膜厚を有するように選択される。個々の層の膜厚は、幾分は、約700meV未満のエネルギーでの注入電子による共鳴トンネリングを防止する一方で、700meVまでの強い反射を生じるように選択される。例えば、図１２は、超格子１１００の電子エネルギーに対する反射率を示しており、0meVは多重量子井戸活性領域１２０内の量子井戸の伝導帯位置に対応し、300meVは多重量子井戸活性領域１２０内のバリヤ層の伝導帯位置に対応する。AlGaNバリヤ層１１０１、１１０３、１１０５、１１０７及び１１０９の伝導帯位置としては700meVがとられている。
【００２５】
図１３は、本発明に従った分布式電子リフレクタ９１０ｂの実施の形態における、５対短周期InGaN/Al0.2Ga0.8N超格子構造１３００を示している。GaNの代わりにInGaNを用いることにより、アクセプタのイオン化エネルギーはGaNより低いので、改善されたｐ型ドープが可能になる。更に、InGaNの高い屈折率により、InGaNとAlGaN多重量子バリヤとの組合せは、GaNの平均屈折率に近い平均屈折率を有する。よって、構造１３００は、横断導波に関して比較的ニュートラルである。一方、一般的な200ÅのAl0.2Ga0.8Nバルクバリヤ層は、量子井戸活性領域の光学閉込め係数Γに対して悪影響を有する。最終的に、InGaN/AlGaN短周期超格子構造１３００は、構造上の欠陥の形成を抑制し得る、ひずみの平衡の形態を与える。ひずみの平衡が生じるのは、超格子構造１３００内において、InGaNには二軸性の圧縮応力がかかり、一方AlGaNには二軸性の引っ張り応力がかかるからである。
【００２６】
低バンドギャップInGaN層１３０２、１３０４、１３０６、１３０８及び１３１０は、約1nmの膜厚を有するように選択され、一方、AlGaN層１３０１、１３０３、１３０５、１３０７及び１３０９は、約3nmの膜厚を有するように選択される。個々の層の膜厚は、幾分は、約800meV未満のエネルギーでの注入電子による共鳴トンネリングを防止する一方で、800meVまでの強い反射を生じるように選択される。例えば、図１４は、超格子１３００の電子エネルギーに対する反射率を示しており、0meVは多重量子井戸活性領域１２０内の量子井戸の伝導帯位置に対応し、300meVは多重量子井戸活性領域１２０内のバリヤ層の伝導帯位置に対応する。AlGaNバリヤ層１３０１、１３０３、１３０５、１３０７及び１３０９の伝導帯位置としては700meVがとられている。図１４は、超格子構造１３００の有効なバリヤの高さは旧式のバリヤの高さ700meVよりも高いことを示している。
【００２７】
図１５は、本発明に従った分布式電子リフレクタ９１０ｂの実施の形態の、５対短周期InGaN/GaN超格子構造１５００を示している。超格子構造１５００は、高バンドギャップのAlGaN層を全く含まない。GaN層１５０２、１５０４、１５０６、１５０８及び１５１０は、約2nmの膜厚を有するように選択され、一方、InGaN層１５０１、１５０３、１５０５、１５０７及び１５０９は、約1nmの膜厚を有するように選択される。個々の層の膜厚は、幾分は、共鳴トンネリングを回避するように選択される。例えば、図１６は、超格子１５００の電子エネルギーに対する反射率を示しており、0meVは多重量子井戸活性領域１２０内の量子井戸の伝導帯位置に対応し、300meVは多重量子井戸活性領域１２０内のバリヤ層の伝導帯位置に対応する。図１６は、超格子構造１５００の有効なバリヤの高さは約500meVであることを示しており、これは旧式のバリヤの高さである300meVよりもかなり大きい。しかし、図１６は、超格子構造１５００が約300meVで狭い伝導共鳴を有することを示している。この狭い伝導共鳴以外は、超格子構造１５００は約500meVまでの高い反射率を与える。超格子１５００のようなAlGaN-フリー多重量子バリヤは、ｐ型ドープ及び構造的な品質の改善に加えて、横断導波も改善する。
【００２８】
InGaN層１３０２、１３０４、１３０６、１３０８及び１３１０、又は１５０２、１５０４、１５０６、１５０８及び１５１０が、多重量子井戸活性領域のバンドギャップエネルギーに比肩するバンドギャップエネルギーを有する場合は、超格子構造１３００又は１５００は、それぞれ、多重量子井戸活性領域１２０から、ある最小距離dminだけ変位されるべきである。この変位により、多重量子井戸活性領域１２０から超格子構造１３００又は１５００のそれぞれのInGaN層１３０２、１３０４、１３０６、１３０８及び１３１０、又は１５０２、１５０４、１５０６、１５０８及び１５１０に注入される電子のトンネリングが抑制される。dminは、超格子構造１３００又は１５００との認識可能な相互作用が生じる前に電子の波動関数が干渉性を失うほどには変位が大きくないこととする要件により、限定される。dminの一般的な範囲は約5から10nmである。
【００２９】
図１８の表１は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００を構成する層を、サファイア基板１５０上に蒸着される順序で、各層の適切な蒸着パラメータとともに示している。有機金属フローは、固体（TMIn及びCp2Mg）又は液体（TMGa、TMAl、及びTEGa）の蒸気の水素キャリヤガスによる完全飽和に基づいて計算された、μモル/分で表されている。非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００は、有機金属化学蒸着（ＭＯＣＶＤ）を用いて作られる。図１７は、一枚の5cmサファイア基板ウェハを収容するための約80mmの内径を有する、石英リアクタセル１７００を示している。リアクタの幾何形状は、反応ガスが、リアクタの一番上から、サファイアウェハの表面１７５０の約25cm上方にあるライン１７３０を通して注入される、垂直フローとなっている。ディフューザ構造１７８０がライン１７３０に取付けられている。ガス状の前駆物質の寄生の前反応を回避するために、アンモニアのフローは導入口１７２０を通されることによりアルキルＩＩＩ族前駆物質から隔てられる。有機金属フローは導入口１７１０を通して導入される。サファイア基板ウェハ１５０は、SiCコーティングされたグラファイトの回転する（約10rpm）サセプタ１７６０上に置かれる。サセプタ１７６０は、誘導的に加熱され、サセプタ１７６０の温度は光ファイバー結合(fiber-optic-coupled)パイロメータ（図示せず）で測定され、比例−積分−微分 (proportional-integral-derivative)コントローラで制御される。石英リアクター１７００内の圧力は、リアクター排気ライン（図示せず）内のスロットルバルブ（図示せず）により、約50から740トルの間で調整される。
【００３０】
以下の説明で、図１８及び図１９の表１及び表２、並びに図４及び図９を参照すると、サファイア（Al2O3）基板１５０は、Ｃ面方位（0001）又はＡ面方位（1120）のいずれかのサファイアである。サファイア基板ウェハ１５０は、米国のワシントン州ワシュガル(Washougal)所在のバイクロン・クリスタル・プロダクツ社(Bicron Crystal Products)から入手され、標準スペックとしては片面エピタキシャル研磨及び13ミルの厚さが含まれる。サファイア基板１５０に、温度1050℃、圧力200トルで、10 slpm(standard liters per minute)のH2フローにより、600秒間の、ヒートクリーニングが行われる。膜厚0.03μmのGaNバッファ層１６０は、温度550℃、圧力200トルで、34μモル/分のTMGa（トリメチルガリウム(CH3)3Ga）フロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、120秒間、蒸着される。膜厚2μmのアンドープGaN層（図示せず）は、温度1125℃、圧力700トルで、1200秒間の、136μモル/分のTMGaフロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、蒸着される。
【００３１】
膜厚5μmのGaN:Si側方コンタクト層１５５は、温度1100℃、圧力200トルで、3000秒間の、136μモル/分のTMGaフロー、0.0002 sccm (standard cubic centimeters per minute)のSiH4フロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、蒸着される。膜厚0.1μmのIn0.03Ga0.97N:Si欠陥低減層１５６は、温度800℃、圧力200トルで、600秒間の、12μモル/分のTEGa（トリエチルガリウム(C2H5)3Ga）フロー、6μモル/分のTMIn（トリメチルインジウム(CH3)3In）フロー、0.00002 sccmのSiH4フロー、及び5 slpmのNH3フローにより、蒸着される。
【００３２】
膜厚0.7μmのAl0.07Ga0.93N:Siクラッド層１３１は、温度1100℃、圧力200トルで、800秒間の、102μモル/分のTMGaフロー、10μモル/分のTMAl（トリメチルアルミニウム(CH3)3Al）フロー、0.0002 sccmのSiH4フロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、蒸着される。膜厚0.1μmのGaN:Si導波層１１６は、温度1100℃、圧力200トルで、300秒間の、34μモル/分のTMGaフロー、0.00002 sccmのSiH4フロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、蒸着される。
【００３３】
多重量子井戸活性領域１２０の、膜厚0.003μmの第１のIn0.12Ga0.88N量子井戸層（図示せず）は、温度775℃、圧力200トルで、5μモル/分のTEGaフロー、24μモル/分のTMInフロー、及び4 slpmのNH3フローにより、蒸着される。続いて、第１のIn0.02Ga0.98N:Siバリヤ層（図示せず）が、第１の量子井戸層の上に蒸着される。膜厚0.006μmのIn0.02Ga0.98N:Siバリヤ層は、温度775℃、圧力200トルで、180秒間の、5μモル/分のTEGaフロー、3μモル/分のTMInフロー、0.00001 sccmのSiH4フロー、及び5 slpmのNH3フローにより、蒸着される。図１８の表１からわかるように、この量子井戸層とバリヤ層との組合せは、同じ条件下であと３回繰返される。次に、第５の量子井戸層が、表１で説明されるように蒸着される。続いて、膜厚0.005μmμのアンドープGaN遷移層４２９が、150秒間、温度を775から900℃まで変え、圧力を200から700トルまで変えて、蒸着される。GaN層４２９については、TEGaフローは5μモル/分、NH3フローは4 slpm、及びH2フローは10 slpmで、蒸着時間は150秒間である。
【００３４】
膜厚0.5μmのAl0.07Ga0.93N:Mgクラッド層１３０は、温度900℃、圧力700トルで、2400秒間の、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量12μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mg（ビスシクロペンタジエチルマグネシウム(C2H5)2Mg）フロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10slpmのH2フローにより、蒸着される。膜厚0.1μmのGaN:Mgキャップ層１４０は、温度900℃、圧力700トルで、300秒間の、流量34 slpmのTMGaフロー、流量0.5 slpmのCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、蒸着される。
【００３５】
図１９の表２及び図９（Ａ）を参照すると、５対周期超格子構造９１０ａは、所望であればGaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.002μmのGaN:Mg層１０５１の蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、34μモル/分のTMGaフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、6秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量4 slpmのNH3フロー及び流量10 slpmのH2フローを変えずに、5秒間停止される。膜厚0.002μmのAl0.25Ga0.75N:Mg層１０５２の蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量60μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、6秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量4 slpmのNH3フロー及び流量10 slpmのH2フローを変えずに、5秒間停止される。前述のシーケンスが４回繰返され、５対周期超格子９１０ａが作られる。
【００３６】
図１９の表２並びに図９（Ａ）及び図１１を参照すると、分布式電子リフレクタ９１０ｂの５対短周期Al0.2Ga0.8N/GaN超格子構造１１００は、所望であれば、GaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.002μmのGaN:Mg層１１０１の蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、34μモル/分のTMGaフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、6秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量4 slpmのNH3フロー及び流量10 slpmのH2フローを変えずに、5秒間停止される。膜厚0.003μmのAl0.2Ga0.8N:Mg層１１０２の蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量50μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、9秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量4 slpmのNH3フロー及び流量10 slpmのH2フローを変えずに、5秒間停止される。前述のシーケンスが４回繰返され、５対周期超格子１１００が作られる。
【００３７】
図１９の表２並びに図９（Ａ）及び図１３を参照すると、分布式電子リフレクタ９１０ｂの５対短周期InGaN/AlGaN超格子構造１３００は、所望であれば、GaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.001μmのIn0.1Ga0.9N:Mg層１３０１の蒸着の予想される条件は、温度800℃、圧力700トルで、10μモル/分のTEGaフロー、10μモル/分のTMInフロー、流量0.2μモル/分のCp2Mgフロー、流量5 slpmのNH3フローにより、15秒間である。続いて、温度又は圧力を変えずに、NH3の流量を5 slpm から4 slpmに変えるとともにH2の流量を0 slpmから10 slpmに変え、 10秒間停止される。膜厚0.003μmのAl0.2Ga0.8N:Mg層１３０２の蒸着の予想される条件は、温度800℃、圧力700トルで、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量50μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、9秒間である。続いて、温度又は圧力を変えずに、NH3の流量を4 slpmから5 slpmに変えるとともにH2の流量を10 slpmから0 slpmに変え、5秒間停止される。前述のシーケンスが４回繰返され、５対周期超格子１３００が作られる。
【００３８】
図１９の表２並びに図９（Ａ）及び図１５を参照すると、分布式電子リフレクタ９１０ｂの５対短周期InGaN/AlGaN超格子構造１５００は、所望であれば、GaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.001μmのIn0.1Ga0.9N:Mg層１５０１の蒸着の予想される条件は、温度800℃、圧力700トルで、10μモル/分のTEGaフロー、10μモル/分のTMInフロー、流量0.1μモル/分のCp2Mgフロー、及び流量5 slpmのNH3フローにより、15秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量5 slpmのNH3フローを変えずに、5秒間停止される。膜厚0.002μmのGaN:Mg層１５０２の蒸着の予想される条件は、温度800℃、圧力700トルで、流量10μモル/分のTEGaフロー、流量0.1μモル/分のCp2Mgフロー、及び流量5 slpmのNH3フローにより、30秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量5 slpmのNH3フローを変えずに、5秒間停止される。前述のシーケンスが４回繰返され、５対周期超格子１５００が作られる。
【００３９】
図１９の表２及び図９（Ａ）を参照すると、アルミニウム含有率が高いトンネルバリヤ層９１０ｃは、所望であれば、GaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.015μmのAl0.2Ga0.8N:Mgトンネルバリヤ層９１０ｃの蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量58μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、40秒間である。
【００４０】
本発明は、特定の実施の形態とともに述べられてきたが、上記の説明に照らせば、当業者にとって多くの代替、修正、及び変更物が明らかであることは明白である。従って、本発明は、添付の特許請求の範囲の精神及び範囲に含まれる他のそのような代替、修正及び変更物を包含することを意図するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術の窒化物レーザダイオード構造を示す図である。
【図２】従来の窒化物レーザダイオード構造のバンド図である。
【図３】従来の窒化物レーザダイオードの屈折率プロファイル及び対応する基本横光学モードを示すグラフである。
【図４】本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の、（Ａ）図は層を示し、（Ｂ）図はバンド図を示す図である。
【図５】本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオードの屈折率プロファイル及び対応する基本横光学モードを示すグラフである。
【図６】従来の窒化物レーザダイオードと本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオードとの比較を示すグラフである。
【図７】従来の窒化物レーザダイオードと本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオードとの比較を示すグラフである。
【図８】本発明に従った２つの非対称導波路窒化物レーザダイオードの、合計光学閉込め係数の比較を示すグラフである。
【図９】本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の、（Ａ）図は層を示し、（Ｂ）図はバンド図を示す図である。
【図１０】本発明に従った超格子構造を示す図である。
【図１１】本発明に従った超格子構造を示す図である。
【図１２】図１１の超格子の電子反射スペクトルを示すグラフである。
【図１３】本発明に従った超格子構造を示す図である。
【図１４】図１３の超格子の電子反射スペクトルを示すグラフである。
【図１５】本発明に従った超格子構造を示す図である。
【図１６】図１５の超格子の電子反射スペクトルを示すグラフである。
【図１７】石英リアクターを示す図である。
【図１８】本発明に従った層の蒸着のパラメータ及びシーケンスの表を示す図である。
【図１９】本発明に従った層の蒸着のパラメータ及びシーケンスの表を示す図である。
【符号の説明】
１１６ ｎ型導波層
１２０ 多重量子井戸活性領域
１３０ ｐ型クラッド層
１３１ ｎ型クラッド層
１４０ キャップ層
１５０ 基板
１５５ 側方コンタクト層
１５６ 欠陥低減層
１６０ バッファ層
４００ 非対称導波路窒化物レーザダイオード構造
４２９ 遷移層
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般的には、レーザダイオードの分野に関し、詳細には、短波長の窒化物ベースのレーザダイオードに関する。短波長の窒化物ベースのレーザダイオードは、レーザ・プリント・オペレーション及び他の適用例に対して、赤色及び赤外線（ＩＲ）レーザダイオードよりも、より小さなスポットサイズ及びより良好な焦点深度を提供する。シングル・スポット窒化物レーザダイオードは、高密度光学記憶装置のような領域で使用される。
【０００２】
【従来の技術】
AlGaInNのような、よりバンドギャップが高い半導体合金をベースとするレーザダイオードが開発されている。主に、日本の日亜化学工業（株）(Nichia Chemical Company)により、近紫外から紫色のスペクトルにおいて、優れた半導体レーザの特性が確立されている。例えば、ナカムラら(S. Nakamura et al.)の、「GaN基板上で成長したInGaN/GaN/AlGaN ベースレーザダイオードのCWオペレーション("CW Operation of InGaN/GaN/AlGaN-based laser diodes grown on GaN substrates")」を参照されたい。
【０００３】
プリントシステムに組み込まれるレーザダイオードにとって、信頼性のある低閾値の動作は、基本的要求事項である。低閾値動作の達成に伴う困難さとしては、量子井戸活性領域に注入した電子の閉込めがある。注入電子が適正に閉込められないと、量子井戸活性領域から電子が漏洩し、構造のｐ型層から注入された正孔と再結合する。例えば、日亜化学工業（株）のナカムラによって開拓された窒化物レーザ構造では、注入電子を閉込めるために、活性領域に隣接して、薄膜でバンドギャップが高い層を配置している。ナカムラの構造では、Al0.2Ga0.8N:Mgの200Åの層が、高エネルギー電子（量子井戸から脱出するのに十分なエネルギーを有する電子）がｐ型材料中へ拡散して手近な正孔と再結合するのを防止するための、トンネルバリヤ層として作用する。電子の漏洩を低減することにより、レーザの閾値電流及び温度感度が下がり、レーザの量子効率が上がる。
【０００４】
図１は、従来の窒化物レーザ構造１００を示す。従来の窒化物レーザ構造１００は、GaN:Mgのｐ型導波層１１５及びGaN:Siのｎ型導波層１１６の両方を、In0.12Ga0.88N/In0.02Ga0.98N:Siの多重量子井戸活性領域１２０の上に配置されたAl0.2Ga0.8N:Mgのトンネルバリヤ層１１０とともに用いる。ｐ型導波層１１５の上にはAl0.07Ga0.93N:Mgのｐ型クラッド層１３０が配置され、ｎ型導波層１１６の下にはAl0.07Ga0.93N:Siのｎ型クラッド１３１層が配置されている。GaN:Mg層１４０は、オーミック接触を容易にするキャップ層として働き、Al2O3層１５０は成長基板として働く。GaN:Mg層１４０の上にはNi/Auのｐ型コンタクト層（図示せず）があり、GaN:Si層１５５の露出面上にはTi/Alコンタクト層（図示せず）がある。GaN:Si層１５５は側方コンタクト層であり、In0.03Ga0.97N:Si層１５６は欠陥の伝搬を防止するための欠陥低減層である。GaN層１６０はバッファ層として機能する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
図２は、単純化したバンド図を用いてトンネルバリヤ層１１０の機能を示している。トンネルバリヤ層１１０は、注入電子に対する強力な閉込めバリヤとして作用するｐ型AlGaN層である。活性領域１２０（図１参照）を構成する量子井戸２２０、２２１、２２２、２２３及び２２４はInGaNであり、一方、トンネルバリヤ層１１０はAlGaNである。AlGaNトンネルバリヤ層１１０に対する伝導帯の電子のポテンシャルエネルギー準位２５０及び擬フェルミ準位２５５が示されるとともに、電子のポテンシャルエネルギー準位２５０及び伝導帯のフェルミ準位に対する低ｐ型ドープエネルギー準位２３０及び高ｐ型ドープエネルギー準位２４０が示されている。正孔のポテンシャルエネルギー準位２６５とともに、正孔の擬フェルミ準位２６０が示されている。ナカムラ型のレーザ構造がうまく動作するためには、バンドギャップが高いAlGaNトンネルバリヤ層１１０のｐ型ドープが成功する必要がある。しかし、トンネルバリヤ層１１０の成長は、有機金属化学蒸着（ＭＯＣＶＤ）の間のトリメチルアルミニウムとアンモニアとの間の寄生の前反応により、アルミニウム含有率が高い合金のｐ型ドープの難しさや、アルミニウム含有率が高い合金の信頼性を高めることの難しさを含む、多くの実際上の困難を呈する。トンネルバリヤ層１１０内の正孔密度やアルミニウム含有量が不十分な場合、ｐ型ドープレベルにともない電子の閉込めが強くなるので、層１１０が電子を収容する能力は低下する。
【０００６】
ｐ型クラッド層１３０を多重量子井戸活性領域のすぐ近くに、一般的に少数キャリヤ拡散長の１つ分以内に配置した場合、ｐ型クラッド層１３０を用いて、注入電子を窒化物レーザダイオードに閉込めることができる。この手法の難しい点は、従来の窒化物レーザダイオード構造１００として図３に示されるように、光学モードとの空間的な重なりを最大にするために、多重量子井戸活性領域１２０が、一般的に、導波路領域の中核に配置されていることである。しかし、これによると、ｐ型クラッド層は、多重量子井戸領域１２０から少数キャリヤ拡散長の１つ分より離れて配置される。屈折率プロファイル３１０、及び対応する基本横光学モード３２０が、ｎ型クラッド層１３１とｎ型導波層１１６との界面からの相対的な距離の関数として示されている。導波層の膜厚は、光学閉込め係数Γを最大にするように個別に調整される。光学閉込め係数Γは、光学ゲイン(optical gain)が生成される多重量子井戸活性領域１２０に重なるパワー（出力）の分数である。窒化物レーザダイオードの、多重量子井戸活性領域１２０の上下の導波層の一般的な膜厚は、電子拡散長の１つ分より大きい約100nmである。これにより、従来の窒化物レーザダイオード構造１００のｐ型クラッド層１３０は、注入電子を閉込めるために、多重量子井戸活性領域１２０から遠く離れて配置される。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に従い、ｐ型クラッド層を用いて、窒化物レーザダイオード内の、ｐ型導波層をなくすとともに、ｐ型の、バンドギャップが非常に高く、アルミニウム含有率が高い、AlGaNトンネルバリヤ層の必要性をなくす。ｐ型クラッド層は、電子の漏洩を抑制するために用いられる。ｐ型クラッド層に加え、アルミニウム含有率が高いトンネルバリヤ、超格子構造、又は分布式電子リフレクタ(distributed electron reflector)を、多重量子井戸領域とｐ型クラッド層との界面に配置してもよい。ヒ化物及びリン化物のような他の材料から製造されるレーザダイオードでは、電子の漏洩を抑制するためにｐ型クラッド層を用いるのであるが、窒化物レーザダイオードにおけるｐ型クラッド層の使用は、簡単ではない。窒化物における少数キャリヤ拡散長（再結合が生じる前に少数キャリヤが移動する平均距離）は、他のレーザダイオード材料よりも数倍短い。よって、ｐ型クラッド層は、一般的に、多重量子井戸活性領域から拡散長の数倍離れたところに存在する。従って、注入電子は、認識可能なほどｐ型クラッド層によって閉込められず、そのために、アルミニウム含有率が高いトンネルバリヤ層が必要となる。赤色及び赤外線レーザダイオードでは、導波層の膜厚は拡散長の単なる分数であるので、クラッド層が効果的に漏洩を抑制できる。
【０００８】
ｐ型クラッド層が、光学閉込め係数を最大にするための一般的な100nm離れた位置ではなく、多重量子井戸活性領域に隣接して配置されても、窒化物レーザダイオード構造では、依然として高い光学閉込め係数を達成し得る。これは、窒化物層で生じる比較的弱い横断（層の平面に垂直な）導波によって、モードの大半がクラッド層内に減衰しながら拡がることに起因する。実際、導波核とクラッド層との屈折率の差Δｎはわずか約0.05であり、一般的なAlGaAsレーザにおける屈折率の差よりも大きさが１桁近く小さい。この弱い横断導波によって、導波モードのピークの強さがより低くなり、これにより、いかなる導波路の非対称性に対しても、光学閉込め係数が影響されにくくなる。
【０００９】
この非対称導波路窒化物レーザダイオード構造又は従来の窒化物レーザ構造に超格子を導入して、キャリヤの閉込めを強化してもよい。均一なバルク層の代わりに超格子を用いる。適正に設計された超格子は、構造的な欠陥が形成される傾向を抑制する一方で、適切なｐ型ドープ及び量子井戸内のキャリヤの閉込めを可能にする。例えば、GaN層とAlGaN層とが交互する超格子は、GaN層が容易にｐ型ドープされるので、高濃度のｐ型ドープを可能にする。キャリヤの閉込めには、量子井戸活性領域と周囲の層との間の価電子帯及び伝導帯における適切なバンドオフセットが必要である。超格子構造によるキャリヤの閉込めには、共鳴トンネル効果を回避する必要もある。
【００１０】
短周期超格子を、干渉電子リフレクタとして作用するように設計してもよい。短周期超格子は、漏洩電子の波動関数を反射して多重量子井戸活性領域に戻す、分布式ブラッグリフレクタとして機能する。 “複数量子バリヤ(Multi-Quantum Barriers)”としばしば呼ばれる類似の構造を用いて、短波長（λ＜650nm）赤色AlGaNInPレーザ内の電子を閉込め、電子を、多重量子井戸活性領域のすぐ隣ではなく、ｐ型クラッド層内に配置する。低バンドギャップ超格子層を用いて干渉反射を行えば、AlGaN層の必要性を低くするか、又はなくすことができる。これは、膜の構造上の品質を維持し、AlGaN層が横断導波に悪影響を及ぼさず、低バンドギャップバリヤ層を使用できることはｐ型ドープに有利である。超格子を構成する層の厚さは、共鳴トンネル効果を回避するように選択される必要がある。層の厚さを適切に選択することにより、旧式のバリヤの高さを超える電子エネルギーに対して、ほぼ100％の電子反射率が可能になる。従って、注入電子の閉込めには、適正に設計された分布式電子リフレクターの方が、バルクバリヤ層よりも効果的であり得る。
【００１１】
よって、本発明に従い、ｐ型導波層及びアルミニウム含有率が高いトンネルバリヤの必要性をなくして、多重量子井戸活性領域上に蒸着された電子を閉込めるためのｐ型クラッド層を有する、窒化物レーザダイオード構造を作ることができる。更に、多重量子井戸領域とｐ型クラッド層との間に、キャリヤの閉込めを強化するための超格子を導入してもよい。
【００１２】
本発明の第１の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、第１及び第２の表面を有する活性層と、前記活性層の前記第１の表面と接触する遷移層と、前記遷移層に隣接して付着されたｐ型クラッド層と、前記活性層の前記第２の表面と接触するｎ型層と、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造である。
本発明の第２の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオードの形成方法であって、第１及び第２の表面を有する活性層を備えるステップと、前記活性層の前記第１の表面と接触する遷移層を配置するステップと、前記遷移層に隣接してｐ型クラッド層を配置するステップと、前記活性層の前記第２の表面と接触するｎ型層を配置するステップと、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオードの形成方法である。
本発明の第３の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、第１及び第２の表面を有する活性層と、前記活性層の第１の表面とｐ型クラッド層との間に配置され、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層と、前記活性層の前記第２の表面に隣接するｎ型層と、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造である。
本発明の第４の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、第１及び第２の表面を有する活性層と、前記活性層の第１の表面とｐ型クラッド層との間に配置され、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層と、前記活性層の前記第２の表面とｎ型クラッド層との間に配置されたｎ型導波層と、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造である。本発明の第５の態様は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の製造方法であって、第１及び第２の表面を有する活性層を備えるステップと、前記活性層の前記第１の表面とｐ型クラッド層との間に、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層を配置するステップと、前記活性層の前記第２の表面に隣接してｎ型層を配置するステップと、を有する、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の製造方法である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下の詳細説明と添付の図面を参照することにより、本発明の真価及び多くの付随する長所が容易に理解されよう。
【００１４】
本発明の実施の形態に従い、図４（Ａ）は、多重量子井戸領域１２０上にｐ型導波層１１５及びAlGaNトンネルバリヤ層１１０を持たない、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００を示している。ｐ型クラッド層１３０は、多重量子井戸活性領域１２０に隣接して配置されており、薄膜のアンドープGaN層４２９が両者の間の遷移層として働く。基板１５０は、例えば、Al2O3で構成できるが、SiC若しくはGaN、又は他の適切な基板材料であってもよい。レーザダイオード構造４００に対するパルス閾値電流密度の一般的な値は、領域の寸法が約750μm×3μmで、6.5ボルトで5kA/cm2である。
【００１５】
図４（Ｂ）は、レーザダイオード構造４００の中心領域のバンド図を示している。図２の従来構造１００のバンド図との違いに注目されたい。従来構造１００では、多重量子井戸活性領域１２０とｐ型クラッド層１３０との間に、ｐ型導波層１１５及びトンネルバリヤ層１１０がある。ｐ型導波層１１５の膜厚は、ｎ型導波層１１６の膜厚とほぼ等しい。非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００では、ｐ型導波層１１５はなくされ、ｐ型クラッド層１３０は多重量子井戸活性領域１２０に接近して配置されており、両者の間にあるのはアンドープGaN遷移層４２９だけである。非対称構造４００では、ｐ型クラッド層１３０が、光学的閉込めのためのクラッド層及び注入電子に対する電子閉込めバリヤの両方の機能を持つ。
【００１６】
図５は、トンネルバリヤ層１１０をなくした非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００の、モデリングされた反射率プロファイル５１０及び対応する基本横光学モードプロファイル５２０を示している。図３と同様、モデリングには、ＭＯＤＥＩＧ誘電導波シミュレーションソフトウェアを用いた。このソフトウェアは、ウェブサイトwww.seas.smu.edu/modeig.からダウンロードしてもよい。図５は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００では、モードピーク５５０が多重量子井戸活性領域１２０の位置５３０と一致しないことを示している。図６では、曲線６１０は従来の窒化物レーザダイオード構造１００のΓtotalを表し、一方、曲線６２０は非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００のΓtotalを表している。図６は、モードピーク５５０（図５参照）の、多重量子井戸活性領域１２０の位置５３０からの相対的な変位が、光学閉込め係数Γを認識可能なほど低下させないことを示している。これは、窒化物レーザダイオードの場合、モードの閉込めが非常に弱いことを理由とする。図６のΓtotal値は、量子井戸活性領域１２０の５つの量子井戸の各々に対する個々のΓの合計を表しており、ｎ型導波層１１６の膜厚に対して作図されている。従来の窒化物レーザ構造１００は、ｐ型クラッド層１３０から膜厚100nmのｐ型導波層１１５によって離隔されたトンネルバリヤ層１１０を有するようになっている。従来の窒化物レーザ構造１００のΓtotalの方がやや高いが、従来の窒化物レーザ構造１００及び非対称導波路窒化物レーザ構造４００の両方とも、ノミナルのΓtotalは、依然として約5％である。
【００１７】
図５は、多重量子井戸活性領域１２０の位置５３０の、モードピーク５５０に向かいｐ型クラッド層１３０から離れる僅かな変位が、より高いΓtotal値を生じることを示している。GaN遷移層４２９の膜厚を増すことにより、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００におけるｐ型クラッド層１３０と多重量子井戸活性領域１２０との離隔距離を約20nmまで増加でき、図７からわかるように、従来の窒化物レーザ構造１００で達成される光学閉込め係数よりも幾分大きい光学閉込め係数を達成できる。GaN遷移層４２９の追加部分は、ｐ型ドープを施されてもよい。図７では、従来の窒化物レーザ構造１００のΓtotalと、本発明に従った２つの実施の形態とを比較している。曲線７１０は、100nmのｐ型導波層１１５及び10nmのトンネルバリヤ層１１０を有する従来の窒化物レーザダイオード構造１００の合計光学閉込め係数を示している。計算された曲線７２０及び７３０は、ｐ型クラッド層１３０と多重量子井戸活性領域１２０との間に、一般的な6nmの離隔距離と増加した20nmの離隔距離とをそれぞれ有する構造４００を示している。しかし、多重量子井戸活性領域１２０とｐ型クラッド層１３０との離隔距離を増加すると、窒化物材料における短い少数キャリヤ拡散長に起因して、ｐ型クラッド層１３０によって与えられる電子の閉込めを大きく低下させることがある。よって、改善された光学的閉込めは、注入電子の閉込めが低下したことによるオフセットを超えてもよい。
【００１８】
本発明に従った実施の形態では、多重量子井戸領域１２０とｐ型クラッド層１３０との間に、薄膜（一般的には膜厚約2から6nm）のアンドープGaN層４２９が挿入されている。GaN層４２９は、低速（多重量子井戸領域１２０に用いられる速度とほぼ等しい）で、リアクター条件を、多重量子井戸領域１２０の成長に最適な条件から、ｐ型クラッド層１３０の成長に最適な条件に変えて、蒸着される。アンドープGaN層４２９は、多重量子井戸活性領域１２０とｐ型クラッド層１３０との成長条件の違いを調和させる遷移層である。詳細には、多重量子井戸活性領域１２０にインジウム（In）を含ませるには、約775℃の温度で、水素キャリヤのガスの流れが無いことが必要である。より良好な均一性を達成し、多重量子井戸活性領域の個々の量子井戸間の界面での急激なガスの転換を可能にするために、低圧（約200トル）環境を用いる。量子井戸の低圧成長により、有機金属バブラーソース(organometallic bubbler sources)を通る水素キャリヤガスの流れを最小にすることもできる。ｐ型クラッド層１３０の蒸着には、活性領域１２０の蒸着パラメータとはかなり異なるパラメータが必要である。トリメチルアルミニウムとアンモニアとの前反応を抑制するには、10 slpm（standard liters per minute）の高い水素キャリヤガスの流量が必要である。同様に、ｐ型ドープには、品質の良いｐ型クラッド層１３０を得るために、高圧（約700トル）及び900℃の温度が用いられる。
【００１９】
本発明に従った実施の形態では、合計光学閉込め係数Γtotalは、ｎ型クラッド層１３１のアルミニウム含有量を増加することにより、増加されてもよい。図８は、ｎ型クラッド層１３１の組成が、曲線８１０で示されるAl0.07Ga0.93Nから曲線８２０で示されるAl0.10Ga0.90Nへと変更されると、合計光学閉込め係数Γtotalがどのように増加するかを示している。よって、ｐ型クラッド層１３０及びｎ型クラッド層１３１の組成の非対称性を用いて、基本横光学モードピーク５１０に相対する多重量子井戸活性領域の変位を補償し、高い合計光学閉込め係数Γtotalを維持することができる。
【００２０】
図９（Ａ）は、電子の閉込めを強化するように変更された非対称導波路窒化物レーザダイオード構造９００を示している。非対称導波路窒化物レーザダイオード構造９００には、多重量子井戸領域１２０とｐ型クラッド層１３０との界面に層９１０が追加されている。追加層９１０は、ｎ周期超格子９１０ａ、分布式電子リフレクタ９１０ｂ、又はアルミニウム含有率が高いトンネルバリヤ層９１０ｃであり得る。
【００２１】
図９（Ｂ）は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造９００の中心領域のバンド図を示している。 図９（Ｂ）は、多重量子井戸活性領域１２０とｐ型クラッド層１３０との間に付加的な電子閉込め層である追加層９１０が挿入されたこと以外は、図４（Ｂ）と類似している。図９（Ｂ）では、追加層９１０のバンドエッジが点線で示されている。実際には、層９１０はｎ周期超格子で構成されていてもよい。
【００２２】
図１０は、５周期超格子９１０ａを示している。超格子９１０ａは、膜厚ｄ1のAlx1Ga1-x1N層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９、並びに膜厚ｄ2のAlx2Ga1-x2N層１０５２、１０５４、１０５６、１０５８及び１０６０からなる。超格子９１０ａについての一般的な選択は、(x1・d1＋x2・d2)/(d1＋d2)と等しく定められる超格子９１０ａの平均組成ｘavgが、高アルミニウム含有率トンネルバリヤ層９１０ｃの組成と等しくなるように、組成及び膜厚を選択することである。しかし、超格子９１０ａのバリヤ層１０５２、１０５４、１０５６、１０５８及び１０６０は組成ｘavgの高アルミニウム含有率トンネルバリヤ層９１０ｃより大きいバンドギャップを有し、井戸層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９内に量子を閉込めると電子の許容エネルギーがより高い値にシフトするので、ｘavgはより低い値で十分である。均一なAl0.2Ga0.8N:Mgトンネルバリヤ層９１０ｃと置き換えるために、超格子構造９１０ａは、x1=0及びx2=0.25と選択できよう。
【００２３】
x1は、層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９を適切にｐ型ドープできるように選択されるので、x1の値は約0.1より低い値に制限される。x1の一般的な値としてはx1=0をとり、その結果はGaN層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９となる。x2は、超格子９１０ａが効果的に電子を閉込められるように、十分高いバンドギャップを備えるように選択され、x2の一般的な値は上述のようにx2=0.25である。膜厚d1及びd2は、0から約50Åの範囲であってよく、一般的な値はd1=d2=20Åである。井戸層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９とバリヤ層１０５２、１０５４、１０５６、１０５８及び１０６０との間の電子波動関数の大きな重なりを可能にするには、膜厚が約50Å未満であることが必要である。バリヤ層の膜厚が10Åを超えれば、井戸層１０５１、１０５３、１０５５、１０５７及び１０５９のシャープな界面の達成及び高濃度のドープを目的として、適切に成長を制御できる。波動関数の計算に基づき、膜厚d1及びd2は10から20Åが最適である。結果として、超格子９１０ａの合計膜厚は100から200Åとなる。超格子９１０ａ内の電子の最低許容エネルギーは、超格子９１０ａの量子井戸の伝導帯と超格子９１０ａの量子バリヤの伝導帯との間のレベルである。電子の最低許容エネルギーは、井戸の膜厚が減少するにつれて増加する。超格子９１０ａを使用すると、構造上の欠陥を形成する傾向も減少し、トンネルバリヤへのｐ型ドープの遂行能力を改善する。超格子９１０ａは、従来の窒化物レーザダイオード構造１００におけるトンネルバリヤ層１１０の代わりに用いられてもよい。
【００２４】
図１１は、本発明に従った分布式電子リフレクタ９１０ｂの実施の形態における、５対短周期Al0.2Ga0.8N/GaN超格子構造１１００を示している。GaN層１１０２、１１０４、１１０６、１１０８及び１１１０は、約2nmの膜厚を有するように選択され、AlGaN層１１０１、１１０３、１１０５、１１０７、１１０９は、約3nmの膜厚を有するように選択される。個々の層の膜厚は、幾分は、約700meV未満のエネルギーでの注入電子による共鳴トンネリングを防止する一方で、700meVまでの強い反射を生じるように選択される。例えば、図１２は、超格子１１００の電子エネルギーに対する反射率を示しており、0meVは多重量子井戸活性領域１２０内の量子井戸の伝導帯位置に対応し、300meVは多重量子井戸活性領域１２０内のバリヤ層の伝導帯位置に対応する。AlGaNバリヤ層１１０１、１１０３、１１０５、１１０７及び１１０９の伝導帯位置としては700meVがとられている。
【００２５】
図１３は、本発明に従った分布式電子リフレクタ９１０ｂの実施の形態における、５対短周期InGaN/Al0.2Ga0.8N超格子構造１３００を示している。GaNの代わりにInGaNを用いることにより、アクセプタのイオン化エネルギーはGaNより低いので、改善されたｐ型ドープが可能になる。更に、InGaNの高い屈折率により、InGaNとAlGaN多重量子バリヤとの組合せは、GaNの平均屈折率に近い平均屈折率を有する。よって、構造１３００は、横断導波に関して比較的ニュートラルである。一方、一般的な200ÅのAl0.2Ga0.8Nバルクバリヤ層は、量子井戸活性領域の光学閉込め係数Γに対して悪影響を有する。最終的に、InGaN/AlGaN短周期超格子構造１３００は、構造上の欠陥の形成を抑制し得る、ひずみの平衡の形態を与える。ひずみの平衡が生じるのは、超格子構造１３００内において、InGaNには二軸性の圧縮応力がかかり、一方AlGaNには二軸性の引っ張り応力がかかるからである。
【００２６】
低バンドギャップInGaN層１３０２、１３０４、１３０６、１３０８及び１３１０は、約1nmの膜厚を有するように選択され、一方、AlGaN層１３０１、１３０３、１３０５、１３０７及び１３０９は、約3nmの膜厚を有するように選択される。個々の層の膜厚は、幾分は、約800meV未満のエネルギーでの注入電子による共鳴トンネリングを防止する一方で、800meVまでの強い反射を生じるように選択される。例えば、図１４は、超格子１３００の電子エネルギーに対する反射率を示しており、0meVは多重量子井戸活性領域１２０内の量子井戸の伝導帯位置に対応し、300meVは多重量子井戸活性領域１２０内のバリヤ層の伝導帯位置に対応する。AlGaNバリヤ層１３０１、１３０３、１３０５、１３０７及び１３０９の伝導帯位置としては700meVがとられている。図１４は、超格子構造１３００の有効なバリヤの高さは旧式のバリヤの高さ700meVよりも高いことを示している。
【００２７】
図１５は、本発明に従った分布式電子リフレクタ９１０ｂの実施の形態の、５対短周期InGaN/GaN超格子構造１５００を示している。超格子構造１５００は、高バンドギャップのAlGaN層を全く含まない。GaN層１５０２、１５０４、１５０６、１５０８及び１５１０は、約2nmの膜厚を有するように選択され、一方、InGaN層１５０１、１５０３、１５０５、１５０７及び１５０９は、約1nmの膜厚を有するように選択される。個々の層の膜厚は、幾分は、共鳴トンネリングを回避するように選択される。例えば、図１６は、超格子１５００の電子エネルギーに対する反射率を示しており、0meVは多重量子井戸活性領域１２０内の量子井戸の伝導帯位置に対応し、300meVは多重量子井戸活性領域１２０内のバリヤ層の伝導帯位置に対応する。図１６は、超格子構造１５００の有効なバリヤの高さは約500meVであることを示しており、これは旧式のバリヤの高さである300meVよりもかなり大きい。しかし、図１６は、超格子構造１５００が約300meVで狭い伝導共鳴を有することを示している。この狭い伝導共鳴以外は、超格子構造１５００は約500meVまでの高い反射率を与える。超格子１５００のようなAlGaN-フリー多重量子バリヤは、ｐ型ドープ及び構造的な品質の改善に加えて、横断導波も改善する。
【００２８】
InGaN層１３０２、１３０４、１３０６、１３０８及び１３１０、又は１５０２、１５０４、１５０６、１５０８及び１５１０が、多重量子井戸活性領域のバンドギャップエネルギーに比肩するバンドギャップエネルギーを有する場合は、超格子構造１３００又は１５００は、それぞれ、多重量子井戸活性領域１２０から、ある最小距離dminだけ変位されるべきである。この変位により、多重量子井戸活性領域１２０から超格子構造１３００又は１５００のそれぞれのInGaN層１３０２、１３０４、１３０６、１３０８及び１３１０、又は１５０２、１５０４、１５０６、１５０８及び１５１０に注入される電子のトンネリングが抑制される。dminは、超格子構造１３００又は１５００との認識可能な相互作用が生じる前に電子の波動関数が干渉性を失うほどには変位が大きくないこととする要件により、限定される。dminの一般的な範囲は約5から10nmである。
【００２９】
図１８の表１は、非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００を構成する層を、サファイア基板１５０上に蒸着される順序で、各層の適切な蒸着パラメータとともに示している。有機金属フローは、固体（TMIn及びCp2Mg）又は液体（TMGa、TMAl、及びTEGa）の蒸気の水素キャリヤガスによる完全飽和に基づいて計算された、μモル/分で表されている。非対称導波路窒化物レーザダイオード構造４００は、有機金属化学蒸着（ＭＯＣＶＤ）を用いて作られる。図１７は、一枚の5cmサファイア基板ウェハを収容するための約80mmの内径を有する、石英リアクタセル１７００を示している。リアクタの幾何形状は、反応ガスが、リアクタの一番上から、サファイアウェハの表面１７５０の約25cm上方にあるライン１７３０を通して注入される、垂直フローとなっている。ディフューザ構造１７８０がライン１７３０に取付けられている。ガス状の前駆物質の寄生の前反応を回避するために、アンモニアのフローは導入口１７２０を通されることによりアルキルＩＩＩ族前駆物質から隔てられる。有機金属フローは導入口１７１０を通して導入される。サファイア基板ウェハ１５０は、SiCコーティングされたグラファイトの回転する（約10rpm）サセプタ１７６０上に置かれる。サセプタ１７６０は、誘導的に加熱され、サセプタ１７６０の温度は光ファイバー結合(fiber-optic-coupled)パイロメータ（図示せず）で測定され、比例−積分−微分 (proportional-integral-derivative)コントローラで制御される。石英リアクター１７００内の圧力は、リアクター排気ライン（図示せず）内のスロットルバルブ（図示せず）により、約50から740トルの間で調整される。
【００３０】
以下の説明で、図１８及び図１９の表１及び表２、並びに図４及び図９を参照すると、サファイア（Al2O3）基板１５０は、Ｃ面方位（0001）又はＡ面方位（1120）のいずれかのサファイアである。サファイア基板ウェハ１５０は、米国のワシントン州ワシュガル(Washougal)所在のバイクロン・クリスタル・プロダクツ社(Bicron Crystal Products)から入手され、標準スペックとしては片面エピタキシャル研磨及び13ミルの厚さが含まれる。サファイア基板１５０に、温度1050℃、圧力200トルで、10 slpm(standard liters per minute)のH2フローにより、600秒間の、ヒートクリーニングが行われる。膜厚0.03μmのGaNバッファ層１６０は、温度550℃、圧力200トルで、34μモル/分のTMGa（トリメチルガリウム(CH3)3Ga）フロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、120秒間、蒸着される。膜厚2μmのアンドープGaN層（図示せず）は、温度1125℃、圧力700トルで、1200秒間の、136μモル/分のTMGaフロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、蒸着される。
【００３１】
膜厚5μmのGaN:Si側方コンタクト層１５５は、温度1100℃、圧力200トルで、3000秒間の、136μモル/分のTMGaフロー、0.0002 sccm (standard cubic centimeters per minute)のSiH4フロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、蒸着される。膜厚0.1μmのIn0.03Ga0.97N:Si欠陥低減層１５６は、温度800℃、圧力200トルで、600秒間の、12μモル/分のTEGa（トリエチルガリウム(C2H5)3Ga）フロー、6μモル/分のTMIn（トリメチルインジウム(CH3)3In）フロー、0.00002 sccmのSiH4フロー、及び5 slpmのNH3フローにより、蒸着される。
【００３２】
膜厚0.7μmのAl0.07Ga0.93N:Siクラッド層１３１は、温度1100℃、圧力200トルで、800秒間の、102μモル/分のTMGaフロー、10μモル/分のTMAl（トリメチルアルミニウム(CH3)3Al）フロー、0.0002 sccmのSiH4フロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、蒸着される。膜厚0.1μmのGaN:Si導波層１１６は、温度1100℃、圧力200トルで、300秒間の、34μモル/分のTMGaフロー、0.00002 sccmのSiH4フロー、4 slpmのNH3フロー、及び10 slpmのH2フローにより、蒸着される。
【００３３】
多重量子井戸活性領域１２０の、膜厚0.003μmの第１のIn0.12Ga0.88N量子井戸層（図示せず）は、温度775℃、圧力200トルで、5μモル/分のTEGaフロー、24μモル/分のTMInフロー、及び4 slpmのNH3フローにより、蒸着される。続いて、第１のIn0.02Ga0.98N:Siバリヤ層（図示せず）が、第１の量子井戸層の上に蒸着される。膜厚0.006μmのIn0.02Ga0.98N:Siバリヤ層は、温度775℃、圧力200トルで、180秒間の、5μモル/分のTEGaフロー、3μモル/分のTMInフロー、0.00001 sccmのSiH4フロー、及び5 slpmのNH3フローにより、蒸着される。図１８の表１からわかるように、この量子井戸層とバリヤ層との組合せは、同じ条件下であと３回繰返される。次に、第５の量子井戸層が、表１で説明されるように蒸着される。続いて、膜厚0.005μmμのアンドープGaN遷移層４２９が、150秒間、温度を775から900℃まで変え、圧力を200から700トルまで変えて、蒸着される。GaN層４２９については、TEGaフローは5μモル/分、NH3フローは4 slpm、及びH2フローは10 slpmで、蒸着時間は150秒間である。
【００３４】
膜厚0.5μmのAl0.07Ga0.93N:Mgクラッド層１３０は、温度900℃、圧力700トルで、2400秒間の、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量12μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mg（ビスシクロペンタジエチルマグネシウム(C2H5)2Mg）フロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10slpmのH2フローにより、蒸着される。膜厚0.1μmのGaN:Mgキャップ層１４０は、温度900℃、圧力700トルで、300秒間の、流量34 slpmのTMGaフロー、流量0.5 slpmのCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、蒸着される。
【００３５】
図１９の表２及び図９（Ａ）を参照すると、５対周期超格子構造９１０ａは、所望であればGaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.002μmのGaN:Mg層１０５１の蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、34μモル/分のTMGaフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、6秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量4 slpmのNH3フロー及び流量10 slpmのH2フローを変えずに、5秒間停止される。膜厚0.002μmのAl0.25Ga0.75N:Mg層１０５２の蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量60μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、6秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量4 slpmのNH3フロー及び流量10 slpmのH2フローを変えずに、5秒間停止される。前述のシーケンスが４回繰返され、５対周期超格子９１０ａが作られる。
【００３６】
図１９の表２並びに図９（Ａ）及び図１１を参照すると、分布式電子リフレクタ９１０ｂの５対短周期Al0.2Ga0.8N/GaN超格子構造１１００は、所望であれば、GaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.002μmのGaN:Mg層１１０１の蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、34μモル/分のTMGaフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、6秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量4 slpmのNH3フロー及び流量10 slpmのH2フローを変えずに、5秒間停止される。膜厚0.003μmのAl0.2Ga0.8N:Mg層１１０２の蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量50μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、9秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量4 slpmのNH3フロー及び流量10 slpmのH2フローを変えずに、5秒間停止される。前述のシーケンスが４回繰返され、５対周期超格子１１００が作られる。
【００３７】
図１９の表２並びに図９（Ａ）及び図１３を参照すると、分布式電子リフレクタ９１０ｂの５対短周期InGaN/AlGaN超格子構造１３００は、所望であれば、GaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.001μmのIn0.1Ga0.9N:Mg層１３０１の蒸着の予想される条件は、温度800℃、圧力700トルで、10μモル/分のTEGaフロー、10μモル/分のTMInフロー、流量0.2μモル/分のCp2Mgフロー、流量5 slpmのNH3フローにより、15秒間である。続いて、温度又は圧力を変えずに、NH3の流量を5 slpm から4 slpmに変えるとともにH2の流量を0 slpmから10 slpmに変え、 10秒間停止される。膜厚0.003μmのAl0.2Ga0.8N:Mg層１３０２の蒸着の予想される条件は、温度800℃、圧力700トルで、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量50μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、9秒間である。続いて、温度又は圧力を変えずに、NH3の流量を4 slpmから5 slpmに変えるとともにH2の流量を10 slpmから0 slpmに変え、5秒間停止される。前述のシーケンスが４回繰返され、５対周期超格子１３００が作られる。
【００３８】
図１９の表２並びに図９（Ａ）及び図１５を参照すると、分布式電子リフレクタ９１０ｂの５対短周期InGaN/AlGaN超格子構造１５００は、所望であれば、GaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.001μmのIn0.1Ga0.9N:Mg層１５０１の蒸着の予想される条件は、温度800℃、圧力700トルで、10μモル/分のTEGaフロー、10μモル/分のTMInフロー、流量0.1μモル/分のCp2Mgフロー、及び流量5 slpmのNH3フローにより、15秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量5 slpmのNH3フローを変えずに、5秒間停止される。膜厚0.002μmのGaN:Mg層１５０２の蒸着の予想される条件は、温度800℃、圧力700トルで、流量10μモル/分のTEGaフロー、流量0.1μモル/分のCp2Mgフロー、及び流量5 slpmのNH3フローにより、30秒間である。続いて、温度又は圧力並びに流量5 slpmのNH3フローを変えずに、5秒間停止される。前述のシーケンスが４回繰返され、５対周期超格子１５００が作られる。
【００３９】
図１９の表２及び図９（Ａ）を参照すると、アルミニウム含有率が高いトンネルバリヤ層９１０ｃは、所望であれば、GaN遷移層４２９のすぐ上に蒸着されてもよい。膜厚0.015μmのAl0.2Ga0.8N:Mgトンネルバリヤ層９１０ｃの蒸着の予想される条件は、温度900℃、圧力700トルで、流量34μモル/分のTMGaフロー、流量58μモル/分のTMAlフロー、流量0.5μモル/分のCp2Mgフロー、流量4 slpmのNH3フロー、及び流量10 slpmのH2フローにより、40秒間である。
【００４０】
本発明は、特定の実施の形態とともに述べられてきたが、上記の説明に照らせば、当業者にとって多くの代替、修正、及び変更物が明らかであることは明白である。従って、本発明は、添付の特許請求の範囲の精神及び範囲に含まれる他のそのような代替、修正及び変更物を包含することを意図するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術の窒化物レーザダイオード構造を示す図である。
【図２】従来の窒化物レーザダイオード構造のバンド図である。
【図３】従来の窒化物レーザダイオードの屈折率プロファイル及び対応する基本横光学モードを示すグラフである。
【図４】本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の、（Ａ）図は層を示し、（Ｂ）図はバンド図を示す図である。
【図５】本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオードの屈折率プロファイル及び対応する基本横光学モードを示すグラフである。
【図６】従来の窒化物レーザダイオードと本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオードとの比較を示すグラフである。
【図７】従来の窒化物レーザダイオードと本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオードとの比較を示すグラフである。
【図８】本発明に従った２つの非対称導波路窒化物レーザダイオードの、合計光学閉込め係数の比較を示すグラフである。
【図９】本発明に従った非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の、（Ａ）図は層を示し、（Ｂ）図はバンド図を示す図である。
【図１０】本発明に従った超格子構造を示す図である。
【図１１】本発明に従った超格子構造を示す図である。
【図１２】図１１の超格子の電子反射スペクトルを示すグラフである。
【図１３】本発明に従った超格子構造を示す図である。
【図１４】図１３の超格子の電子反射スペクトルを示すグラフである。
【図１５】本発明に従った超格子構造を示す図である。
【図１６】図１５の超格子の電子反射スペクトルを示すグラフである。
【図１７】石英リアクターを示す図である。
【図１８】本発明に従った層の蒸着のパラメータ及びシーケンスの表を示す図である。
【図１９】本発明に従った層の蒸着のパラメータ及びシーケンスの表を示す図である。
【符号の説明】
１１６ ｎ型導波層
１２０ 多重量子井戸活性領域
１３０ ｐ型クラッド層
１３１ ｎ型クラッド層
１４０ キャップ層
１５０ 基板
１５５ 側方コンタクト層
１５６ 欠陥低減層
１６０ バッファ層
４００ 非対称導波路窒化物レーザダイオード構造
４２９ 遷移層
Claims (5)
- 非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、
第１及び第２の表面を有しかつＩｎＧａＮからなる活性層と、
前記活性層の前記第１の表面と接触する遷移層であって当該遷移層の厚さは少数キャリアの拡散長の範囲内である、当該遷移層と、
前記遷移層に隣接して付着されしかつＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層と、
前記活性層の前記第２の表面と接触するｎ型層と、
を有し、
前記遷移層は、アンドープＧａＮ層であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間にはｐ型導波層を有しないように、前記活性層を基準に各層が重なる方向に非対称であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間の距離が、１０ｎｍ未満であることを特徴とする、
非対称導波路窒化物レーザダイオード構造。 - 非対称導波路窒化物レーザダイオードの形成方法であって、
第１及び第２の表面を有しかつＩｎＧａＮからなる活性層を備えるステップと、
前記活性層の前記第１の表面と接触する遷移層であって当該遷移層の厚さは少数キャリアの拡散長の範囲内である、当該遷移層を配置するステップと、
前記遷移層に隣接しかつＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層を配置するステップと、
前記活性層の前記第２の表面と接触するｎ型層を配置するステップと、
を有し、
前記遷移層は、アンドープＧａＮ層であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間にはｐ型導波層を有しないように、前記活性層を基準に各層が重なる方向に非対称であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間の距離が、１０ｎｍ未満であることを特徴とする、
非対称導波路窒化物レーザダイオードの形成方法。 - 非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、
第１及び第２の表面を有しかつＩｎＧａＮからなる活性層と、
前記活性層の第１の表面とＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層との間に配置され、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層と、
前記電子閉込め層と前記活性層との間に配置された遷移層であって当該遷移層の厚さは少数キャリアの拡散長の範囲内である、当該遷移層と、
前記活性層の前記第２の表面に隣接するｎ型層と、
を有し、
前記遷移層は、アンドープＧａＮ層であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間にはｐ型導波層を有しないように、前記活性層を基準に各層が重なる方向に非対称であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間の距離が、１０ｎｍ未満であることを特徴とする、
非対称導波路窒化物レーザダイオード構造。 - 非対称導波路窒化物レーザダイオード構造であって、
第１及び第２の表面を有しかつＩｎＧａＮからなる活性層と、
前記活性層の第１の表面とＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層との間に配置され、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層と、
前記電子閉込め層と前記活性層との間に配置された遷移層であって当該遷移層の厚さは少数キャリアの拡散長の範囲内である、当該遷移層と、
前記活性層の前記第２の表面とｎ型クラッド層との間に配置されたｎ型導波層と、
を有し、
前記遷移層は、アンドープＧａＮ層であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間にはｐ型導波層を有しないように、前記活性層を基準に各層が重なる方向に非対称であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間の距離が、１０ｎｍ未満であることを特徴とする、
非対称導波路窒化物レーザダイオード構造。 - 非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の製造方法であって、
第１及び第２の表面を有しかつＩｎＧａＮからなる活性層を備えるステップと、
前記活性層の前記第１の表面とＡｌＧａＮからなるｐ型クラッド層との間に、前記ｐ型クラッド層より大きなバンドギャップを有する電子閉込め層と、遷移層であって当該遷移層の厚さは少数キャリアの拡散長の範囲内である、当該遷移層と、を配置するステップと、
前記活性層の前記第２の表面に隣接してｎ型層を配置するステップと、
を有し、
前記遷移層は、アンドープＧａＮ層であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間にはｐ型導波層を有しないように、前記活性層を基準に各層が重なる方向に非対称であり、
前記ｐ型クラッド層と前記活性層との間の距離が、１０ｎｍ未満であることを特徴とする、
非対称導波路窒化物レーザダイオード構造の製造方法。
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