JP4830445B2 - Metal container cleaning method and resin molded product cleaning method - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 269
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 102
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 70
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 70
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 68
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 68
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 118
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 116
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- -1 diethylene glycol alkyl ether Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims abstract description 19
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229940048842 sodium xylenesulfonate Drugs 0.000 claims abstract description 18
- QUCDWLYKDRVKMI-UHFFFAOYSA-M sodium;3,4-dimethylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1C QUCDWLYKDRVKMI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 18
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 claims description 35
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical group O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 27
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 15
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 31
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 29
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 5
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 4
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- NWAHZAIDMVNENC-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoinden-5-yl methacrylate Chemical compound C12CCCC2C2CC(OC(=O)C(=C)C)C1C2 NWAHZAIDMVNENC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N (z)-2-cyano-3-thiophen-2-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C/C1=CC=CS1 QYGBYAQGBVHMDD-XQRVVYSFSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-2-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1COCC1OC1 ZADXFVHUPXKZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 IYMZEPRSPLASMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- REUQOSNMSWLNPD-UHFFFAOYSA-N [2-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 REUQOSNMSWLNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- LJZJMIZQMNDARW-UHFFFAOYSA-N decan-3-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCC(CC)OC(=O)C(C)=C LJZJMIZQMNDARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- VLWUKSRKUMIQAX-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[SiH](OCC)CCCOCC1CO1 VLWUKSRKUMIQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
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Abstract
Description
本発明は金属製容器及び樹脂成形品の洗浄方法に関し、更に詳しくは、付着した感光性組成物を容易に除去することができる、金属製容器及び樹脂成形品の洗浄方法に関する。 The present invention relates to a cleaning method for a metal container and a resin molded product, and more particularly, to a cleaning method for a metal container and a resin molded product that can easily remove the attached photosensitive composition.
紫外線や放射線等の光線が照射されることで硬化する、着色レジスト組成物、保護膜用組成物、及び絶縁膜用組成物等をはじめとする感光性組成物は、カラーフィルター、表示パネル用スペーサー、薄膜トランジスタ(TFT)型液晶表示素子等の電子機器用部品を製造するための材料として一般的に用いられている(例えば、特許文献1〜3参照)。
Photosensitive compositions including colored resist compositions, protective film compositions, and insulating film compositions that are cured by irradiation with light rays such as ultraviolet rays and radiation include color filters and display panel spacers. It is generally used as a material for manufacturing electronic device parts such as thin film transistor (TFT) type liquid crystal display elements (see, for example,
例えば、着色レジスト組成物は、顔料等の着色剤を含有することにより着色しているレジスト組成物であり、放射線等が照射されることで硬化する感光性組成物である。また、保護膜用組成物や絶縁膜組成物は、特に着色等されていない無色の有機組成物であり、着色レジスト組成物と同様、放射線等が照射されることで硬化する感光性組成物である。このような感光性組成物は、一般的には金属製容器に収容された状態で保存、運搬等される。 For example, the colored resist composition is a resist composition colored by containing a colorant such as a pigment, and is a photosensitive composition that is cured when irradiated with radiation or the like. The protective film composition or the insulating film composition is a colorless organic composition that is not particularly colored, and is a photosensitive composition that is cured by irradiation with radiation or the like, similar to the colored resist composition. is there. Such a photosensitive composition is generally stored, transported, etc. while being contained in a metal container.
感光性組成物を金属製容器から取り出して使用するに際して、取り出した感光性組成物の一部がこぼれる等して金属製容器の外側に付着することがある。金属製容器の外側に付着した感光性組成物は、それに含まれる溶剤が揮発して被膜となったり、照明光等の影響によって硬化したりするため、汚れとして金属製容器の外側に強固に付着する。一方、金属製容器には樹脂製内袋が収納され、感光性組成物は、この樹脂製内袋に充填された状態で金属製容器内に収容されている場合が多い。このような場合、樹脂製内袋があるために、感光性組成物は金属製容器の内側には付着する可能性は低い。しかしながら、使用状況によっては樹脂製内袋が破損等して感光性組成物が金属製容器の内側にこぼれ、外側と同じく汚れとして強固に付着することがある。また、この金属製容器とともに使用される樹脂製の付属品、例えばチューブやO−リング等の樹脂成形品にも、感光性組成物は汚れとして付着する。 When the photosensitive composition is taken out from the metal container and used, a part of the removed photosensitive composition may spill out and adhere to the outside of the metal container. The photosensitive composition adhering to the outside of the metal container volatilizes the solvent contained therein to form a film or hardens due to the influence of illumination light, etc., so it adheres firmly to the outside of the metal container as dirt. To do. On the other hand, a resin inner bag is accommodated in the metal container, and the photosensitive composition is often contained in the metal container in a state of being filled in the resin inner bag. In such a case, since there is a resin inner bag, the photosensitive composition is unlikely to adhere to the inside of the metal container. However, depending on usage, the resin inner bag may be damaged, and the photosensitive composition may spill inside the metal container and adhere firmly as dirt like the outside. The photosensitive composition also adheres as dirt to resin accessories used with the metal container, such as resin molded products such as tubes and O-rings.
金属製容器やその付属品に付着した感光製組成物を除去するための洗浄方法としては、例えば揮発性の有機溶剤を使用してブラッシングや払拭等する手作業による方法を挙げることができる。但し、手作業による洗浄では、洗浄効率は必ずしも高いものとはいえず、洗浄効率を向上させるための改善を図る必要がある。また、有機溶剤を使用した機械洗浄によれば洗浄効率は向上するが、防爆設備等の大型かつ特殊な設備が不可欠であるといった不都合があるとともに、洗浄により生じた廃液の処理が困難であるといった問題がある。 Examples of the cleaning method for removing the photosensitive composition attached to the metal container and its accessories include a manual method such as brushing or wiping using a volatile organic solvent. However, in manual cleaning, the cleaning efficiency is not necessarily high, and it is necessary to improve the cleaning efficiency. In addition, although the cleaning efficiency is improved by mechanical cleaning using an organic solvent, there is an inconvenience that a large and special facility such as an explosion-proof facility is indispensable, and it is difficult to treat the waste liquid generated by the cleaning. There's a problem.
これらの問題を解消しつつ、効率的に感光性組成物を除去する洗浄方法としては、比較的水に馴染み易く極性の高い有機化合物を洗浄成分として含む、いわゆる準水系の洗浄液を用いる洗浄方法を挙げることができる。関連する従来技術として、特定のアミノアルコール及び極性有機溶剤からなる洗浄液を用いる洗浄方法(例えば、特許文献4参照)、グリコールエーテル系の有機溶剤を含有する洗浄液やそれを用いる洗浄方法(例えば、特許文献5〜7参照)が開示されている。 As a cleaning method for efficiently removing the photosensitive composition while eliminating these problems, a cleaning method using a so-called quasi-aqueous cleaning liquid that contains an organic compound that is relatively accustomed to water and has a high polarity as a cleaning component. Can be mentioned. As a related art, a cleaning method using a cleaning liquid composed of a specific amino alcohol and a polar organic solvent (for example, see Patent Document 4), a cleaning liquid containing a glycol ether organic solvent and a cleaning method using the same (for example, a patent) Documents 5 to 7) are disclosed.
しかしながら、これらの特許文献において開示された洗浄方法では、洗浄効果が必ずしも十分とはいえず、手作業に頼らざるを得ない場合がある。このため、手作業に頼ることなく、十分な洗浄効果を得ることができ、かつ、防爆設備等の不要な洗浄方法を開発する必要性がある。
本発明は、このような従来技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、洗浄対象物に付着した汚染物質としての感光性組成物を洗浄して容易に除去することが可能であるとともに、防爆設備等の特殊な設備を必要とせず、洗浄廃液の処理も簡便な、環境に対する影響について十分な配慮のなされた金属製容器及び樹脂成形品の洗浄方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and the problem is that the photosensitive composition as a contaminant attached to the object to be cleaned is easily removed by cleaning. Provides cleaning methods for metal containers and resin molded products with sufficient consideration for the environment, which does not require special equipment such as explosion-proof equipment and is easy to handle cleaning waste liquid. There is to do.
本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、洗浄液として、少なくともジエチレングリコールアルキルエーテル等の成分を含有する準水系の洗浄液を特定条件下で使用することによって、上記課題を達成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors can achieve the above-mentioned problems by using a semi-aqueous cleaning liquid containing at least a component such as diethylene glycol alkyl ether as a cleaning liquid under specific conditions. The inventors have found that this is possible and have completed the present invention.
即ち、本発明によれば、以下に示す金属製容器の洗浄方法、及び樹脂成形品の洗浄方法が提供される。 That is, according to the present invention, the following metal container cleaning method and resin molded product cleaning method are provided.
[1]金属製容器に付着した感光性組成物を、ジエチレングリコールアルキルエーテル、キシレンスルホン酸ナトリウム、及びケイ酸ナトリウムを少なくとも含有する準水系の洗浄液を使用して超音波洗浄を行うことにより除去する工程を含む金属製容器の洗浄方法。 [1] A step of removing the photosensitive composition adhering to the metal container by ultrasonic cleaning using a semi-aqueous cleaning solution containing at least diethylene glycol alkyl ether, sodium xylene sulfonate, and sodium silicate. For cleaning metal containers including
[2]前記ジエチレングリコールアルキルエーテルが、ジエチレングリコールモノブチルエーテルであり、前記洗浄液の、前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの濃度が、0.05〜10質量%である前記[1]に記載の金属製容器の洗浄方法。 [2] The method for cleaning a metal container according to [1], wherein the diethylene glycol alkyl ether is diethylene glycol monobutyl ether, and the concentration of the diethylene glycol monobutyl ether in the cleaning liquid is 0.05 to 10% by mass.
[3]前記洗浄液に含有される、前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、前記キシレンスルホン酸ナトリウムの量の割合が、10〜150質量%である前記[2]に記載の金属製容器の洗浄方法。 [3] The method for cleaning a metal container according to [2], wherein a ratio of the amount of the sodium xylene sulfonate to the amount of the diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is 10 to 150% by mass.
[4]前記洗浄液に含有される、前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、前記ケイ酸ナトリウムの量の割合が、10〜150質量%である前記[2]又は[3]に記載の金属製容器の洗浄方法。 [4] The metal container according to [2] or [3], wherein a ratio of the amount of the sodium silicate to the amount of the diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is 10 to 150% by mass. Cleaning method.
[5]前記洗浄液の固形分濃度が、0.1〜30質量%である前記[1]〜[4]のいずれかに記載の金属製容器の洗浄方法。 [5] The method for cleaning a metal container according to any one of [1] to [4], wherein the cleaning liquid has a solid content concentration of 0.1 to 30% by mass.
[6]前記洗浄液の液温が40〜80℃、pHが10〜12.5であり、超音波洗浄を0.5〜60分間行う前記[1]〜[5]のいずれかに記載の金属製容器の洗浄方法。 [6] The metal according to any one of [1] to [5], wherein the temperature of the cleaning liquid is 40 to 80 ° C., the pH is 10 to 12.5, and ultrasonic cleaning is performed for 0.5 to 60 minutes. How to clean the container.
[7]前記感光性組成物が、着色レジスト組成物、保護膜用組成物、又は絶縁膜用組成物である前記[1]〜[6]のいずれかに記載の金属製容器の洗浄方法。 [7] The method for cleaning a metal container according to any one of [1] to [6], wherein the photosensitive composition is a colored resist composition, a protective film composition, or an insulating film composition.
[8]樹脂成形品に付着した感光性組成物を、ジエチレングリコールアルキルエーテル、キシレンスルホン酸ナトリウム、及びケイ酸ナトリウムを少なくとも含有する準水系の洗浄液を使用して洗浄することにより除去する工程を含む樹脂成形品の洗浄方法。 [8] A resin comprising a step of removing a photosensitive composition adhering to a resin molded article by washing with a semi-aqueous washing solution containing at least diethylene glycol alkyl ether , sodium xylene sulfonate, and sodium silicate. Cleaning method for molded products.
[9]前記ジエチレングリコールアルキルエーテルが、ジエチレングリコールモノブチルエーテルであり、前記洗浄液の、前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの濃度が、0.05〜10質量%である前記[8]に記載の樹脂成形品の洗浄方法。 [9] The method for cleaning a resin molded product according to [8], wherein the diethylene glycol alkyl ether is diethylene glycol monobutyl ether, and the concentration of the diethylene glycol monobutyl ether in the cleaning liquid is 0.05 to 10% by mass.
[10]前記洗浄液に含有される、前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、前記キシレンスルホン酸ナトリウムの量の割合が、10〜150質量%である前記[9]に記載の樹脂成形品の洗浄方法。 [10] The method for cleaning a resin molded product according to [9], wherein a ratio of the amount of the sodium xylene sulfonate to the amount of the diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is 10 to 150% by mass.
[11]前記洗浄液に含有される、前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、前記ケイ酸ナトリウムの量の割合が、10〜150質量%である前記[9]又は[10]に記載の樹脂成形品の洗浄方法。 [11] The resin molded article according to [9] or [10], wherein a ratio of the amount of the sodium silicate to the amount of the diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is 10 to 150% by mass. Cleaning method.
[12]前記洗浄液の固形分濃度が、0.1〜30質量%である前記[8]〜[11]のいずれかに記載の樹脂成形品の洗浄方法。 [12] The method for cleaning a resin molded product according to any one of [8] to [11], wherein the cleaning liquid has a solid content concentration of 0.1 to 30% by mass.
[13]前記洗浄液の液温が40〜80℃、pHが10〜12.5であり、洗浄を0.5〜60分間行う前記[8]〜[12]のいずれかに記載の樹脂成形品の洗浄方法。 [13] The resin molded product according to any one of [8] to [12], wherein the temperature of the cleaning liquid is 40 to 80 ° C., the pH is 10 to 12.5, and the cleaning is performed for 0.5 to 60 minutes. Cleaning method.
[14]前記洗浄液を使用して超音波洗浄する前記[8]〜[13]のいずれかに記載の樹脂成形品の洗浄方法。 [14] The method for cleaning a resin molded product according to any one of [8] to [13], wherein ultrasonic cleaning is performed using the cleaning liquid.
[15]前記感光性組成物が、着色レジスト組成物、保護膜用組成物、又は絶縁膜用組成物である前記[8]〜[14]のいずれかに記載の樹脂成形品の洗浄方法。 [15] The method for cleaning a resin molded product according to any one of [8] to [14], wherein the photosensitive composition is a colored resist composition, a protective film composition, or an insulating film composition.
本発明の金属製容器の洗浄方法によれば、防爆設備等の特殊な設備を必要とせず、洗浄対象物に付着した汚染物質としての感光性組成物を洗浄して容易に除去することが可能である。また、本発明の金属製容器の洗浄方法は、洗浄廃液の処理も簡便であり、環境に対する影響についても十分に配慮がなされている。 According to the metal container cleaning method of the present invention, it is possible to easily remove the photosensitive composition as a contaminant adhering to the object to be cleaned without requiring special equipment such as explosion-proof equipment. It is. In addition, the metal container cleaning method of the present invention is easy to process the cleaning waste liquid, and is sufficiently considered for the influence on the environment.
また、本発明の樹脂成形品の洗浄方法によれば、防爆設備等の特殊な設備を必要とせず、洗浄対象物に付着した汚染物質としての感光性組成物を洗浄して容易に除去することが可能である。また、本発明の樹脂成形品の洗浄方法は、洗浄廃液の処理も簡便であり、環境に対する影響についても十分に配慮がなされている。 In addition, according to the method for cleaning a resin molded product of the present invention, the photosensitive composition as a contaminant adhering to the object to be cleaned can be easily removed by cleaning without requiring special equipment such as explosion-proof equipment. Is possible. In addition, the method for cleaning a resin molded product of the present invention is easy to treat the cleaning waste liquid, and is sufficiently considered for the influence on the environment.
以下、本発明の実施の最良の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良等が加えられたものも本発明の範囲に入ることが理解されるべきである。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The best mode for carrying out the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following embodiment, and is based on the ordinary knowledge of those skilled in the art without departing from the gist of the present invention. It should be understood that modifications and improvements as appropriate to the following embodiments also fall within the scope of the present invention.
本発明の金属製容器の洗浄方法の一実施形態は、金属製容器に付着した感光性組成物を、ジエチレングリコールアルキルエーテル、キシレンスルホン酸ナトリウム、及びケイ酸ナトリウムを少なくとも含有する準水系の洗浄液を使用して、超音波洗浄を行うことにより除去する工程を含む洗浄方法である。以下、その詳細について説明する。 One embodiment of the method for cleaning a metal container of the present invention uses a semi-aqueous cleaning liquid containing at least diethylene glycol alkyl ether, sodium xylene sulfonate, and sodium silicate as the photosensitive composition attached to the metal container. And it is a cleaning method including the process of removing by performing ultrasonic cleaning. The details will be described below.
本実施形態の金属製容器の洗浄方法において洗浄対象となる金属製容器の形状や、これを構成する金属の種類等は特に限定されない。金属製容器の例としては、いわゆる一斗缶やドラム缶等のような形状のものを挙げることができる。金属製容器を構成する好適な金属としては、例えばステンレス、アルミニウム、カーボン鋼等を挙げることができる。より具体的な金属製容器の例としては、図1に示すような形状のキャニスター缶1を挙げることができる。このキャニスター缶1は、感光性組成物を充填するための樹脂製内袋をその内部に収納することが可能な金属製容器であり、容器本体4と、この容器本体4に配設される上部プロテクター3a及び下部プロテクター3bと、同じく容器本体4に配設され、内容物の注入・排出を行う注入・排出口部2aと密封栓2bとを備えたものである。感光性組成物は、主として容器本体4の上面や上部プロテクター3a、或いはネジ溝等が形成された注入・排出口部2aや密封栓2bの周囲に付着し易い。本実施形態の金属製容器の洗浄方法によれば、手作業によっては除去し難いネジ溝等の複雑形状の部分に付着した感光性組成物であっても効果的に洗浄・除去することができる。
In the metal container cleaning method of the present embodiment, the shape of the metal container to be cleaned, the type of metal constituting the metal container, and the like are not particularly limited. As an example of a metal container, there can be mentioned a container having a shape such as a so-called Ito can or a drum can. Examples of suitable metals constituting the metal container include stainless steel, aluminum, and carbon steel. As a more specific example of the metal container, a canister can 1 having a shape as shown in FIG. The
本実施形態の金属製容器の洗浄方法で用いる洗浄液は、ジエチレングリコールアルキルエーテル、キシレンスルホン酸ナトリウム、及びケイ酸ナトリウムを少なくとも含有する洗浄液である。この洗浄液を用いて超音波洗浄を行うと、金属製容器の表面にこびりついた感光性組成物を効果的に除去することができる。また、ジエチレングリコールアルキルエーテルは極性有機溶媒の一種であって水と馴染み易く、これを含有する洗浄液(準水系の洗浄液)については洗浄後の排水の処理も簡便である。即ち、洗浄後の洗浄液(廃液)については、油水分離及びpH調整を行うこと、又はフィルター等を使用して固形分を分離することにより、容易に廃棄することが可能である。 The cleaning liquid used in the metal container cleaning method of this embodiment is a cleaning liquid containing at least diethylene glycol alkyl ether, sodium xylene sulfonate, and sodium silicate. When ultrasonic cleaning is performed using this cleaning liquid, the photosensitive composition stuck to the surface of the metal container can be effectively removed. In addition, diethylene glycol alkyl ether is a kind of polar organic solvent and is easy to be familiar with water, and for a cleaning liquid (quasi-aqueous cleaning liquid) containing this, it is easy to treat waste water after cleaning. That is, the washed liquid (waste liquid) after washing can be easily discarded by performing oil / water separation and pH adjustment, or by separating the solid content using a filter or the like.
なお、洗浄液の全体に対する、ジエチレングリコールアルキルエーテルの濃度が高過ぎると、溶剤によるレジスト組成物の溶解度が上昇し、リサイクルが難しくなる傾向にある。また、ジエチレングリコールアルキルエーテルを構成するアルキル基は、洗浄効果の面からn−ブチル基が好ましい。即ち、ジエチレングリコールアルキルエーテルは、ジエチレングリコールモノブチルエーテルであることが好ましい。 If the concentration of diethylene glycol alkyl ether in the entire cleaning solution is too high, the solubility of the resist composition in the solvent increases, and recycling tends to be difficult. Further, the alkyl group constituting the diethylene glycol alkyl ether is preferably an n-butyl group from the viewpoint of cleaning effect. That is, the diethylene glycol alkyl ether is preferably diethylene glycol monobutyl ether.
洗浄液に含有されるジエチレングリコールアルキルエーテルが、ジエチレングリコールモノブチルエーテルである場合に、この洗浄液のジエチレングリコールモノブチルエーテルの濃度は、0.05〜10質量%であることが好ましく、0.1〜2質量%であることが更に好ましく、0.3〜1質量%であることが特に好ましい。洗浄液のジエチレングリコールモノブチルエーテル濃度が0.05質量%未満であると、洗浄効果が十分に発揮され難くなる傾向にある。一方、10質量%超であると、溶剤によるレジスト組成物の溶解度が上昇し、リサイクルが難しくなる傾向にある。 When the diethylene glycol alkyl ether contained in the cleaning liquid is diethylene glycol monobutyl ether, the concentration of the diethylene glycol monobutyl ether in the cleaning liquid is preferably 0.05 to 10% by mass, and preferably 0.1 to 2% by mass. It is further more preferable and it is especially preferable that it is 0.3-1 mass%. When the concentration of diethylene glycol monobutyl ether in the cleaning liquid is less than 0.05% by mass, the cleaning effect tends to be hardly exhibited. On the other hand, if it exceeds 10% by mass, the solubility of the resist composition in the solvent increases and recycling tends to be difficult.
また、洗浄液に含有される、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、キシレンスルホン酸ナトリウムの量の割合は、10〜150質量%であることが好ましく、30〜100質量%であることが更に好ましく、50〜80質量%であることが特に好ましい。洗浄液に含有される、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、キシレンスルホン酸ナトリウムの量の割合が10質量%であると、洗浄効果が十分に発揮され難くなる傾向にある。一方、150質量%超であると、必要な洗浄時間が長くなる傾向にある。 The ratio of the amount of sodium xylene sulfonate to the amount of diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 30 to 100% by mass, and 50 to 50%. It is especially preferable that it is 80 mass%. When the ratio of the amount of sodium xylene sulfonate to the amount of diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is 10% by mass, the cleaning effect tends to be hardly exhibited. On the other hand, if it exceeds 150% by mass, the required cleaning time tends to be longer.
洗浄液に含有される、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、ケイ酸ナトリウムの量の割合は、10〜150質量%であることが好ましく、30〜100質量%であることが更に好ましく、50〜80質量%であることが特に好ましい。洗浄液に含有される、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、ケイ酸ナトリウムの量の割合が10質量%であると、洗浄効果が十分に発揮され難くなる傾向にある。一方、150質量%超であると、必要な洗浄時間が長くなる傾向にある。 The ratio of the amount of sodium silicate to the amount of diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 30 to 100% by mass, and 50 to 80% by mass. It is particularly preferred that When the ratio of the amount of sodium silicate to the amount of diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is 10% by mass, the cleaning effect tends to be hardly exhibited. On the other hand, if it exceeds 150% by mass, the required cleaning time tends to be longer.
本実施形態の金属製容器の洗浄方法においては、固形分濃度が0.1〜30質量%の洗浄液を使用することが好ましく、0.2〜20質量%の洗浄液を使用することが更に好ましく、0.5〜5質量%の洗浄液を使用することが特に好ましい。洗浄液の固形分濃度が0.1質量%未満であると、洗浄効果が十分に発揮され難くなる傾向にある。一方、洗浄液の固形分濃度が30質量%超であると、溶剤による感光性組成物の溶解度が上昇し、リサイクルが難しくなる傾向にある。なお、本明細書にいう「洗浄液の固形分」とは、洗浄液に含有される全成分のうち、水分以外の成分のことをいう。従って、「固形分」には、常温で固体の成分のみならず、常温で液体の成分が含まれる。 In the method for cleaning a metal container of the present embodiment, it is preferable to use a cleaning liquid having a solid content concentration of 0.1 to 30% by mass, and more preferably to use a cleaning liquid of 0.2 to 20% by mass, It is particularly preferable to use 0.5 to 5% by weight of cleaning liquid. When the solid content concentration of the cleaning liquid is less than 0.1% by mass, the cleaning effect tends to be hardly exhibited. On the other hand, when the solid content concentration of the cleaning liquid is more than 30% by mass, the solubility of the photosensitive composition in the solvent increases, and recycling tends to be difficult. The “solid content of the cleaning liquid” referred to in the present specification refers to components other than moisture among all the components contained in the cleaning liquid. Accordingly, the “solid content” includes not only a solid component at normal temperature but also a liquid component at normal temperature.
本実施形態の金属製容器の洗浄方法では、揮発性の有機溶媒を実質的に含有しない準水系の洗浄液を用いることから、洗浄に際して防爆設備等の大型かつ特殊な設備が不要である。従って、本実施形態の金属製容器の洗浄方法は、簡易な設備・施設内で実施できるといった利点がある。なお、本実施形態において、洗浄効果、洗浄廃液の処理の簡便さ、及び防爆設備不要等の観点から、好適に用いることのできる洗浄液の具体例としては、商品名「ブルーゴールド J−100」、「ブルーゴールド J−200」(モダンケミカル社製)等を挙げることができる。 In the method for cleaning a metal container according to the present embodiment, a semi-aqueous cleaning liquid that substantially does not contain a volatile organic solvent is used, so that a large and special facility such as an explosion-proof facility is not required for cleaning. Therefore, the metal container cleaning method of the present embodiment has an advantage that it can be carried out in a simple facility / facility. In the present embodiment, from the viewpoints of cleaning effect, ease of processing of cleaning waste liquid, and the need for explosion-proof equipment, as specific examples of cleaning liquid that can be suitably used, the trade name “Blue Gold J-100”, “Blue Gold J-200” (manufactured by Modern Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
本実施形態の金属製容器の洗浄方法においては、洗浄液の液温が40〜80℃であることが好ましく、50〜70℃であることが更に好ましく、55〜65℃であることが特に好ましい。洗浄液の液温が40℃未満であると、洗浄効果が十分ではない場合がある。また、洗浄液の液温が80℃超であると、洗浄効果は十分に発揮される一方でエネルギーコストの面で不利になる傾向にある。 In the metal container cleaning method of the present embodiment, the temperature of the cleaning liquid is preferably 40 to 80 ° C, more preferably 50 to 70 ° C, and particularly preferably 55 to 65 ° C. If the temperature of the cleaning liquid is less than 40 ° C., the cleaning effect may not be sufficient. Moreover, when the liquid temperature of the cleaning liquid is higher than 80 ° C., the cleaning effect is sufficiently exerted, but the energy cost tends to be disadvantageous.
また、本実施形態の金属製容器の洗浄方法においては、洗浄液のpHは10〜12.5であることが好ましく、11〜12であることが更に好ましく、11.5〜12であることが特に好ましい。洗浄液のpHが10未満であると、洗浄不足となる傾向にある。一方、洗浄液のpHが12.5超であると、洗浄度は変化し難くなる一方で、洗浄液を洗い落とすための後工程であるリンス工程のための設備が増大する傾向にある。 In the metal container cleaning method of the present embodiment, the pH of the cleaning liquid is preferably 10 to 12.5, more preferably 11 to 12, and particularly preferably 11.5 to 12. preferable. When the pH of the cleaning liquid is less than 10, there is a tendency that the cleaning is insufficient. On the other hand, if the pH of the cleaning liquid is more than 12.5, the degree of cleaning becomes difficult to change, while equipment for a rinsing process, which is a subsequent process for washing off the cleaning liquid, tends to increase.
本実施形態の金属製容器の洗浄方法においては、超音波洗浄を0.5〜60分間行うことが好ましく、5〜40分間行うことが更に好ましく、10〜30分間行うことが特に好ましい。超音波洗浄の時間が3分未満であると、洗浄効果が十分ではない場合がある。また、超音波洗浄の時間が60分超であると、洗浄効果は十分に発揮される一方でエネルギーコストの面で不利になる傾向にある。 In the metal container cleaning method of this embodiment, ultrasonic cleaning is preferably performed for 0.5 to 60 minutes, more preferably 5 to 40 minutes, and particularly preferably 10 to 30 minutes. If the ultrasonic cleaning time is less than 3 minutes, the cleaning effect may not be sufficient. Further, if the ultrasonic cleaning time is more than 60 minutes, the cleaning effect is sufficiently exerted, but the energy cost tends to be disadvantageous.
なお、本実施形態の金属製容器の洗浄方法は、金属製容器に付着する汚染物質としての感光性組成物が、着色レジスト組成物、保護膜用組成物、又は絶縁膜用組成物である場合に好適に採用される。着色レジスト用組成物としては、例えば、アゾ系顔料及び/又はジケトン化合物からなる顔料を含有する着色剤と、アルカリ可溶性樹脂と、多官能性モノマーと光重合開始剤とを含むカラーフィルター用の感放射線性組成物を挙げることができる。より具体的には、所定の顔料(例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists社発行)ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー155、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントレッド254等)の混合物と、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体と、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートと、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾールと、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンとの混合物をエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートに溶解したもの等を挙げることができる。 In the cleaning method for a metal container according to this embodiment, the photosensitive composition as a contaminant attached to the metal container is a colored resist composition, a protective film composition, or an insulating film composition. Is preferably employed. Examples of the color resist composition include color filters containing a colorant containing an azo pigment and / or a diketone compound, an alkali-soluble resin, a polyfunctional monomer, and a photopolymerization initiator. Mention may be made of radiation compositions. More specifically, predetermined pigments (for example, Color Index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists) Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 155, CI Pigment Green 36, C Pigment Red 254), methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, dipentaerythritol pentaacrylate, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', Examples include a mixture of 5,5′-tetraphenylbiimidazole and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone dissolved in ethylene glycol monoethyl ether acetate.
また、保護膜用組成物としては、例えば、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、並びに特定のオレフィン系不飽和化合物の共重合と、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物と、感放射線重合開始剤と、シクロヘキサノンとを含有する感放射線性樹脂組成物を挙げることができる。より具体的には、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、スチレン、メタクリル酸、ジシクロペンタニルメタクリレート、及びグリシジルメタクリレート(並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及び/又は1,4−ブタジエン)からなる共重合体と、KAYARAD DPHA(商品名(日本化薬社製))と、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン(イルガキュア369(商品名(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)))との混合物を、シクロヘキサノンに溶解したもの等を挙げることができる。 Examples of the protective film composition include copolymerization of an unsaturated carboxylic acid and / or an unsaturated carboxylic acid anhydride, an epoxy group-containing unsaturated compound, and a specific olefinically unsaturated compound, and ethylenically unsaturated. The radiation sensitive resin composition containing the polymeric compound which has a coupling | bonding, a radiation sensitive polymerization initiator, and cyclohexanone can be mentioned. More specifically, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), styrene, methacrylic acid, dicyclopentanyl methacrylate, and glycidyl methacrylate (and propylene glycol monomethyl ether acetate and / or 1,4- Butadiene), KAYARAD DPHA (trade name (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one (Irgacure) 369 (trade name (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))) and the like dissolved in cyclohexanone.
更に、絶縁膜用組成物としては、不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸無水物、エポキシ基含有不飽和化合物、マレイミド系モノマー、並びにその他のオレフィン系不飽和化合物の共重合体と、1,2−キノンジアジド系化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物を挙げることができる。より具体的には、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、スチレン、メタクリル酸、メタクリル酸グリシジル、及びフェニルマレイミド(並びにp−ビニルベンジルグリシジルエーテル及び/又は1,3−ブタジエン)の共重合体と、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルとの混合物をジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解したもの等を挙げることができる。 Further, the insulating film composition includes an unsaturated carboxylic acid and / or unsaturated carboxylic acid anhydride, an epoxy group-containing unsaturated compound, a maleimide monomer, and a copolymer of other olefinic unsaturated compounds, 1 , 2-quinonediazide compounds, and radiation sensitive resin compositions. More specifically, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), styrene, methacrylic acid, glycidyl methacrylate, and phenylmaleimide (and p-vinylbenzyl glycidyl ether and / or 1,3-butadiene) ) And a mixture of 2,3,4,4′-tetrahydroxybenzophenone-1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester in diethylene glycol ethyl methyl ether. .
次に、本実施形態の金属製容器の洗浄方法の更なる詳細について、図面を参照しつつ説明する。図2は、金属製容器を洗浄する工程の一例を模式的に示す断面図であり、複数の金属製容器10を流れ作業で順次洗浄する状態を示している。感光性組成物が付着した金属製容器10は、超音波の発生源となる超音波振動子20を備えた洗浄工程12において、所定の洗浄液の存在下に洗浄される。ここで、洗浄工程12に先立ち、金属製容器10を洗浄液に予め浸漬する予備浸漬工程11を設けることが、付着した感光性組成物を膨潤させ、より高い洗浄効果を得ることができるために好ましい。
Next, further details of the metal container cleaning method of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a process for cleaning the metal container, and shows a state in which the plurality of
洗浄工程12を終了した金属製容器10は、図2中の進行方向の矢印の向きに従って、水等により洗浄液を流し落とすリンス工程13、空気流の吹き付け等により金属製容器10を乾燥する乾燥工程14へと順次進行させればよい。乾燥工程14を終えた金属製容器10は、搬出部15を通じて搬出受け台16等へと進行することとなる。
The
次に、本発明の樹脂成形品の洗浄方法の実施形態について説明する。本発明の樹脂成形品の洗浄方法の一実施形態は、樹脂成形品に付着した感光性組成物を、ジエチレングリコールアルキルエーテル、キシレンスルホン酸ナトリウム、及びケイ酸ナトリウムを少なくとも含有する準水系の洗浄液を使用して洗浄することにより除去する工程を含む樹脂成形品の洗浄方法である。以下、その詳細について説明する。 Next, an embodiment of the method for cleaning a resin molded product of the present invention will be described. One embodiment of the method for cleaning a resin molded product of the present invention uses a semi-aqueous cleaning solution containing at least diethylene glycol alkyl ether, sodium xylene sulfonate, and sodium silicate as the photosensitive composition attached to the resin molded product. Then, it is a method for cleaning a resin molded product including a step of removing by washing. The details will be described below.
本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法において洗浄対象となる樹脂成形品の形状は特に限定されない。例えば、カップ形状、リング形状、チューブ形状等の単純な形状から、各種取付部品等の複雑形状等を挙げることができる。より具体的には、図3に示すような形状のカップリング31、及びチューブ32からなるディップチューブ35や、O−リング40等を挙げることができる。これらの成形品は、前述のキャニスター缶1(図1参照)に配設されて用いられる、いわゆる付属品である。また、洗浄対象となる樹脂成形品を構成する樹脂の種類についても特に限定されないが、好適な樹脂としては、例えばフッ素樹脂、ポリエチレン、ナイロン等を挙げることができる。本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法によれば、手作業によっては除去し難い複雑形状を有する樹脂成形品に付着した感光性組成物であっても効果的に洗浄・除去することができる。
The shape of the resin molded product to be cleaned in the resin molded product cleaning method of the present embodiment is not particularly limited. For example, from a simple shape such as a cup shape, a ring shape, and a tube shape, complex shapes such as various attachment parts can be exemplified. More specifically, a dip tube 35 composed of a
本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法で用いる洗浄液は、ジエチレングリコールアルキルエーテル、キシレンスルホン酸ナトリウム、及びケイ酸ナトリウムを少なくとも含有する洗浄液である。この洗浄液を用いて洗浄すると、樹脂成形品の表面にこびりついた感光性組成物を効果的に除去することができる。また、ジエチレングリコールアルキルエーテルは極性有機溶媒の一種であって水と馴染み易く、これを含有する洗浄液(準水系の洗浄液)は、洗浄後の排水の処理も簡便である。即ち、洗浄後の洗浄液(廃液)については、油水分離及びpH調整を行うこと、又はフィルター等を使用して固形分を分離することにより、容易に廃棄することが可能である。なお、ジエチレングリコールアルキルエーテルを構成するアルキル基は、洗浄効果の面からn−ブチル基が好ましい。即ち、ジエチレングリコールアルキルエーテルは、ジエチレングリコールモノブチルエーテルであることが好ましい。 The cleaning liquid used in the method for cleaning a resin molded product of the present embodiment is a cleaning liquid containing at least diethylene glycol alkyl ether, sodium xylene sulfonate, and sodium silicate. When the cleaning liquid is used for cleaning, the photosensitive composition sticking to the surface of the resin molded product can be effectively removed. In addition, diethylene glycol alkyl ether is a kind of polar organic solvent and is easily compatible with water, and a cleaning liquid containing this (quasi-aqueous cleaning liquid) can easily treat waste water after cleaning. That is, the washed liquid (waste liquid) after washing can be easily discarded by performing oil / water separation and pH adjustment, or by separating the solid content using a filter or the like. The alkyl group constituting the diethylene glycol alkyl ether is preferably an n-butyl group from the viewpoint of cleaning effect. That is, the diethylene glycol alkyl ether is preferably diethylene glycol monobutyl ether.
洗浄液に含有されるジエチレングリコールアルキルエーテルが、ジエチレングリコールモノブチルエーテルである場合に、この洗浄液のジエチレングリコールモノブチルエーテルの濃度は、0.05〜10質量%であることが好ましく、0.1〜2質量%であることが更に好ましく、0.3〜1質量%であることが特に好ましい。洗浄液のジエチレングリコールモノブチルエーテル濃度が0.05質量%未満であると、洗浄効果が十分に発揮され難くなる傾向にある。一方、10質量%超であると、溶剤によるレジスト組成物の溶解度が上昇し、リサイクルが難しくなる傾向にある。 When the diethylene glycol alkyl ether contained in the cleaning liquid is diethylene glycol monobutyl ether, the concentration of the diethylene glycol monobutyl ether in the cleaning liquid is preferably 0.05 to 10% by mass, and preferably 0.1 to 2% by mass. It is further more preferable and it is especially preferable that it is 0.3-1 mass%. When the concentration of diethylene glycol monobutyl ether in the cleaning liquid is less than 0.05% by mass, the cleaning effect tends to be hardly exhibited. On the other hand, if it exceeds 10% by mass, the solubility of the resist composition in the solvent increases and recycling tends to be difficult.
また、洗浄液に含有される、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、キシレンスルホン酸ナトリウムの量の割合は、10〜150質量%であることが好ましく、30〜100質量%であることが更に好ましく、50〜80質量%であることが特に好ましい。洗浄液に含有される、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、キシレンスルホン酸ナトリウムの量の割合が10質量%であると、洗浄効果が十分に発揮され難くなる傾向にある。一方、150質量%超であると、必要な洗浄時間が長くなる傾向にある。 The ratio of the amount of sodium xylene sulfonate to the amount of diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 30 to 100% by mass, and 50 to 50%. It is especially preferable that it is 80 mass%. When the ratio of the amount of sodium xylene sulfonate to the amount of diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is 10% by mass, the cleaning effect tends to be hardly exhibited. On the other hand, if it exceeds 150% by mass, the required cleaning time tends to be longer.
洗浄液に含有される、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、ケイ酸ナトリウムの量の割合は、10〜150質量%であることが好ましく、30〜100質量%であることが更に好ましく、50〜80質量%であることが特に好ましい。洗浄液に含有される、ジエチレングリコールモノブチルエーテルの量に対する、ケイ酸ナトリウムの量の割合が10質量%であると、洗浄効果が十分に発揮され難くなる傾向にある。一方、150質量%超であると、必要な洗浄時間が長くなる傾向にある。 The ratio of the amount of sodium silicate to the amount of diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 30 to 100% by mass, and 50 to 80% by mass. It is particularly preferred that When the ratio of the amount of sodium silicate to the amount of diethylene glycol monobutyl ether contained in the cleaning liquid is 10% by mass, the cleaning effect tends to be hardly exhibited. On the other hand, if it exceeds 150% by mass, the required cleaning time tends to be longer.
本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法においては、固形分濃度が0.1〜30質量%の洗浄液を使用することが好ましく、0.2〜20質量%の洗浄液を使用することが更に好ましく、0.5〜5質量%の洗浄液を使用することが特に好ましい。洗浄液の固形分濃度が0.1質量%未満であると、洗浄効果が十分に発揮され難くなる傾向にある。一方、洗浄液の固形分濃度が30質量%超であると、溶剤による感光性組成物の溶解度が上昇し、リサイクルが難しくなる傾向にある。 In the resin molded product cleaning method of the present embodiment, it is preferable to use a cleaning liquid having a solid content concentration of 0.1 to 30% by mass, and more preferably 0.2 to 20% by mass. It is particularly preferable to use 0.5 to 5% by weight of cleaning liquid. When the solid content concentration of the cleaning liquid is less than 0.1% by mass, the cleaning effect tends to be hardly exhibited. On the other hand, when the solid content concentration of the cleaning liquid is more than 30% by mass, the solubility of the photosensitive composition in the solvent increases, and recycling tends to be difficult.
本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法では、揮発性の有機溶媒を実質的に含有しない準水系の洗浄液を用いることから、洗浄に際して防爆設備等の大型かつ特殊な設備が不要である。従って、本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法は、簡易な設備・施設内で実施できるといった利点がある。なお、本実施形態において、洗浄効果、洗浄廃液の処理の簡便さ、及び防爆設備不要等の観点から、好適に用いることのできる洗浄液の具体例としては、商品名「ブルーゴールド J−100」、「ブルーゴールド J−200」(モダンケミカル社製)等を挙げることができる。 The resin molded product cleaning method of the present embodiment uses a semi-aqueous cleaning liquid that does not substantially contain a volatile organic solvent, and therefore does not require large and special equipment such as explosion-proof equipment. Therefore, the method for cleaning a resin molded product according to this embodiment has an advantage that it can be carried out in a simple facility / facility. In the present embodiment, from the viewpoints of cleaning effect, ease of processing of cleaning waste liquid, and the need for explosion-proof equipment, as specific examples of cleaning liquid that can be suitably used, the trade name “Blue Gold J-100”, “Blue Gold J-200” (manufactured by Modern Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法においては、洗浄液の液温が40〜80℃であることが好ましく、50〜70℃であることが更に好ましく、55〜65℃であることが特に好ましい。洗浄液の液温が40℃未満であると、洗浄効果が十分ではない場合がある。また、洗浄液の液温が80℃超であると、洗浄効果は十分に発揮される一方でエネルギーコストの面で不利になる傾向にある。 In the resin molded product cleaning method of the present embodiment, the temperature of the cleaning liquid is preferably 40 to 80 ° C, more preferably 50 to 70 ° C, and particularly preferably 55 to 65 ° C. If the temperature of the cleaning liquid is less than 40 ° C., the cleaning effect may not be sufficient. Moreover, when the liquid temperature of the cleaning liquid is higher than 80 ° C., the cleaning effect is sufficiently exerted, but the energy cost tends to be disadvantageous.
また、本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法においては、洗浄液のpHは10〜12.5であることが好ましく、11〜12であることが更に好ましく、11.5〜12であることが特に好ましい。洗浄液のpHが10未満であると、洗浄不足となる傾向にある。一方、洗浄液のpHが12.5超であると、洗浄度は変化し難くなる一方で、洗浄液を洗い落とすための後工程であるリンス工程のための設備が増大する傾向にある。 In the method for cleaning a resin molded product according to this embodiment, the pH of the cleaning liquid is preferably 10 to 12.5, more preferably 11 to 12, and particularly preferably 11.5 to 12. preferable. When the pH of the cleaning liquid is less than 10, there is a tendency that the cleaning is insufficient. On the other hand, if the pH of the cleaning liquid is more than 12.5, the degree of cleaning becomes difficult to change, while equipment for a rinsing process, which is a subsequent process for washing off the cleaning liquid, tends to increase.
本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法においては、上述の洗浄液を用いて実施する洗浄方法の具体的な態様については特に限定されない。例えば、被洗浄物を洗浄液中に浸漬のみして洗浄(浸漬洗浄)する方法によっても十分な洗浄効果を得ることができる。また、ブラシやヘラ等の洗浄器具を用いる手作業による洗浄を前述の浸漬洗浄と併用する方法や、樹脂成形品(被洗浄物)を洗浄液中に浸漬した状態で超音波洗浄する方法等を好適例として挙げることができる。これらのなかでも、本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法においては、樹脂成形品(被洗浄物)を洗浄液中に浸漬した状態で超音波洗浄を行うことが、樹脂成形品に付着した感光性組成物を更に効果的に洗浄・除去することができるために更に好ましい。また、超音波洗浄は、0.5〜60分間行うことが好ましく、5〜40分間行うことが更に好ましく、10〜30分間行うことが特に好ましい。超音波洗浄の時間が3分未満であると、洗浄効果の向上が十分に図れない場合がある。また、超音波洗浄の時間が60分超であると、洗浄効果は十分に発揮される一方でエネルギーコストの面で不利になる傾向にある。 In the method for cleaning a resin molded product according to the present embodiment, the specific mode of the cleaning method performed using the above-described cleaning liquid is not particularly limited. For example, a sufficient cleaning effect can also be obtained by a method in which an object to be cleaned is immersed in a cleaning liquid and cleaned (immersion cleaning). Also suitable is a method in which manual cleaning using a cleaning tool such as a brush or spatula is used in combination with the above-described immersion cleaning, or a method in which a resin molded product (object to be cleaned) is ultrasonically cleaned in a state of being immersed in a cleaning liquid. As an example. Among these, in the method for cleaning a resin molded product according to the present embodiment, ultrasonic cleaning is performed in a state where the resin molded product (object to be cleaned) is immersed in a cleaning liquid. This is more preferable because the composition can be more effectively cleaned and removed. The ultrasonic cleaning is preferably performed for 0.5 to 60 minutes, more preferably 5 to 40 minutes, and particularly preferably 10 to 30 minutes. If the ultrasonic cleaning time is less than 3 minutes, the cleaning effect may not be sufficiently improved. Further, if the ultrasonic cleaning time is more than 60 minutes, the cleaning effect is sufficiently exerted, but the energy cost tends to be disadvantageous.
なお、本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法は、樹脂成形品に付着する汚染物質としての感光性組成物が、着色レジスト組成物、保護膜用組成物、又は絶縁膜用組成物である場合に好適に採用される。着色レジスト組成物、保護膜用組成物、及び絶縁膜用組成物のそれぞれの具体例としては、前述の金属製容器の洗浄方法において例示したものと同一のものを挙げることができる。 In the method for cleaning a resin molded product of the present embodiment, the photosensitive composition as a contaminant attached to the resin molded product is a colored resist composition, a protective film composition, or an insulating film composition. Is preferably employed. Specific examples of the colored resist composition, the protective film composition, and the insulating film composition include the same ones as exemplified in the above-described method for cleaning a metal container.
次に、本実施形態の樹脂成形品の洗浄方法の更なる詳細について説明する。感光性組成物が付着した樹脂成形品は、その全体が所定の洗浄液に浸漬されるような状態で洗浄される。樹脂成形品を1つずつ洗浄する必要はなく、複数個をまとめて洗浄することもできる。具体的には、複数個の樹脂成形品を網・籠等にまとめて入れた状態で洗浄液に浸漬し、洗浄することができる。なお、既述の如く、樹脂成形品を洗浄液に浸漬した状態で超音波洗浄を行うことが、付着した感光性組成物を除去し、より高い洗浄効果を得ることができるために好ましい。 Next, further details of the resin molded product cleaning method of the present embodiment will be described. The resin molded product to which the photosensitive composition is adhered is cleaned in a state where the entire resin molded product is immersed in a predetermined cleaning solution. It is not necessary to wash the resin molded products one by one, and a plurality of resin molded products can be washed together. Specifically, a plurality of resin molded products can be cleaned by immersing them in a cleaning solution in a state where they are put together in a net or a basket. As described above, it is preferable to perform ultrasonic cleaning in a state where the resin molded article is immersed in a cleaning liquid because the attached photosensitive composition can be removed and a higher cleaning effect can be obtained.
洗浄完了後は、水等により洗浄液を流し落とし、次いで、空気流の吹き付け等により樹脂成形品を乾燥すればよい。 After the cleaning is completed, the cleaning liquid may be poured off with water or the like, and then the resin molded product may be dried by blowing an air flow or the like.
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples.
(1)金属製容器の洗浄 (1) Cleaning metal containers
(実施例1)
図1に示すような形状のステンレス製のキャニスター缶1(H1(缶全高)=470mm、H2(缶有効高さ)=400mm、D(缶径)=280mm、容量=19L、質量=5kg、注入・排出口部2の口径=50.8mmφ、容器本体4の厚み=1.0mm、上部プロテクター3aの厚み=0.8mm、下部プロテクター3bの厚み=1.0mm)を用意し、その缶内外面の部分にレジスト組成物を付着させた。「ブルーゴールド J−100」(商品名(モダンケミカル社製))を水で7体積%に希釈したもの(pH=11.5、液温=65℃)を洗浄(剤)液として使用し、この洗浄(剤)液中にキャニスター缶1を浸漬した状態で、28kHzの超音波をかけながら10分間超音波洗浄を行った。生じた排水は、フィルターを使用して固形分を分離した後、産業廃棄物として処理した。なお、レジスト組成物としては、C.I.ピグメントイエロー83及びC.I.ピグメントグリーン36の17/83(質量比)混合物80質量部と、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体(共重合質量比=25/65/10、重量平均分子量=55,000)50質量部と、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート40質量部と、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール10質量部、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン10質量部との混合物を、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート800質量部に溶解して調製したものを使用した。
Example 1
なお、「ブルーゴールド J−100」(商品名(モダンケミカル社製))を水で7体積%に希釈して調製した洗浄液(剤)の固形分濃度は、1.5質量%である。また、この洗浄液(剤)には、ジエチレングリコールモノブチルエーテルが0.57質量%、キシレンスルホン酸ナトリウムが0.44質量%、及びケイ酸ナトリウムが0.39質量%の割合でそれぞれ含まれている。 The solid concentration of the cleaning liquid (agent) prepared by diluting “Blue Gold J-100” (trade name (manufactured by Modern Chemical Co., Ltd.) with water to 7% by volume is 1.5% by mass. Further, this cleaning liquid (agent) contains 0.57% by mass of diethylene glycol monobutyl ether, 0.44% by mass of sodium xylene sulfonate, and 0.39% by mass of sodium silicate.
(実施例2、比較例1〜12)
表1,2に示す洗浄(剤)液を使用するとともに、表1,2に示す洗浄方式によって洗浄を行ったこと以外は、実施例1と同様にしてキャニスター缶1の洗浄を行った。なお、表2の記載中、「組成(1)」は、エチレングリコールモノブチルエーテル90質量%、フッ化アンモニウム0.03質量%、及び残分が水の洗浄剤であり、特開2003−171692号公報の実施例において開示された洗浄剤と同一組成の洗浄剤である。また、表2の記載中、「組成(2)」は、ジエチレングリコールモノブチルエーテル25質量%水溶液、トリエチレングリコールモノメチルエーテル25質量%水溶液、及びNH4OHの10質量%水溶液を、1:1:0.4の体積比率で混合して得られた洗浄剤であり、特開2003−171694号公報の実施例において開示された洗浄剤と同一組成の洗浄剤である。以下、各表における「組成(1)」及び「組成(2)」は、上記と同様の意味で用いている。
(Example 2, Comparative Examples 1-12)
The canister can 1 was cleaned in the same manner as in Example 1 except that the cleaning (agent) solutions shown in Tables 1 and 2 were used and the cleaning method shown in Tables 1 and 2 was used. In Table 2, “Composition (1)” is 90% by mass of ethylene glycol monobutyl ether, 0.03% by mass of ammonium fluoride, and the balance is water detergent. It is a cleaning agent having the same composition as the cleaning agent disclosed in the examples of the publication. In the description of Table 2, “Composition (2)” refers to a 25% by weight aqueous solution of diethylene glycol monobutyl ether, a 25% by weight aqueous solution of triethylene glycol monomethyl ether, and a 10% by weight aqueous solution of NH 4 OH, 1: 1: 0. A cleaning agent obtained by mixing at a volume ratio of .4, and having the same composition as the cleaning agent disclosed in the examples of JP-A-2003-171694. Hereinafter, “Composition (1)” and “Composition (2)” in each table are used in the same meaning as described above.
(実施例3、比較例13〜17)
レジスト組成物に代えて保護膜用組成物をキャニスター缶1に付着させた。その後、表3に示す洗浄(剤)液を使用するとともに、表3に示す洗浄方式によって洗浄を行ったこと以外は、実施例1と同様にしてキャニスター缶1の洗浄を行った。なお、保護膜用組成物としては以下に示すものを使用した。
(Example 3, Comparative Examples 13-17)
Instead of the resist composition, the protective film composition was adhered to the
[保護膜用組成物]:冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)6質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込んだ。引き続き、スチレン20質量部、メタクリル酸グリシジル65質量部、及びN−フェニルマレイミド15質量部を仕込み、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を95℃に上昇させた状態で4時間保持し、共重合体を含む共重合体溶液(固形分濃度:32.8質量%)を得た。得られた共重合体溶液(共重合体100質量部(固形分)に相当)を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100質量部で希釈した後、環式脂肪族エポキシ樹脂(商品名「エピコート1032H60」、油化シェルエポキシ社製)20質量部、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン5質量部、及びフッ素系界面活性剤(商品名「メガファック172」、大日本インキ化学工業社製)0.02質量部を主剤として添加し、更に、無水トリメリット酸をジエチレングリコールメチルエチルエーテル溶液(25質量%濃度)を固形分換算で20質量部添加した。その後、十分に撹拌することにより、保護膜用組成物を得た。なお、この保護膜用組成物は、特開2001−158816号公報の実施例1に記載された硬化性組成物と同一のものである。 [Protective film composition]: A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 6 parts by mass of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) and 200 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate. Subsequently, 20 parts by mass of styrene, 65 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 15 parts by mass of N-phenylmaleimide were charged and purged with nitrogen, and then gently stirred. The solution was kept at a temperature of 95 ° C. for 4 hours to obtain a copolymer solution containing the copolymer (solid content concentration: 32.8% by mass). After the obtained copolymer solution (corresponding to 100 parts by mass (solid content) of the copolymer) was diluted with 100 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, a cyclic aliphatic epoxy resin (trade name “Epicoat 1032H60”, (Oilized Shell Epoxy Co., Ltd.) 20 parts by mass, γ-glycidoxypropyldiethoxysilane 5 parts by mass, and fluorosurfactant (trade name “Megafac 172”, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.02 A part by mass was added as a main ingredient, and further, 20 parts by mass of trimellitic anhydride in terms of solid content was added as a diethylene glycol methyl ethyl ether solution (25% by mass concentration). Then, the composition for protective films was obtained by fully stirring. This protective film composition is the same as the curable composition described in Example 1 of JP-A-2001-158816.
(実施例4、比較例18〜22)
レジスト組成物に代えて絶縁膜用組成物をキャニスター缶1に付着させた。その後、表4に示す洗浄(剤)液を使用するとともに、表4に示す洗浄方式によって洗浄を行ったこと以外は、実施例1と同様にしてキャニスター缶1の洗浄を行った。なお、絶縁膜用組成物としては以下に示すものを使用した。
(Example 4, Comparative Examples 18-22)
Instead of the resist composition, the insulating film composition was adhered to the
[絶縁膜用組成物]:冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)7質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート220質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸22質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート38質量部、メタクリル酸グリシジル40質量部、α−メチルスチレンダイマー1.5質量部を仕込み、窒素置換しながらゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70℃に上昇させた状態で5時間保持し、共重合体を含む共重合体溶液(固形分濃度:31.2質量%)を得た。共重合体の重量平均分子量は18500、分子量分布は1.8であった。なお、重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)(商品名「HLC−8020」、東ソー社製)を用いて測定した、ポリスチレン換算の平均分子量である。得られた共重合体溶液(共重合体100重量部(固形分)に相当)と、4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール(1mol)及び1,2−ナフトキノンジアジド−6−スルホン酸クロリド(2mol)の縮合物(4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−6−スルホン酸エステル)30質量部と、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン5質量部とを混合した。固形分濃度が30質量%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径0.5μmのミリポアフィルタで濾過して、絶縁膜用組成物の溶液を調製した。なお、この絶縁膜用組成物の溶液は、特開2001−240757号公報の実施例1に記載された感放射線性樹脂組成物の溶液と同一のものである。 [Insulating film composition]: A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 7 parts by mass of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 220 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate. Subsequently, 22 parts by mass of methacrylic acid, 38 parts by mass of dicyclopentanyl methacrylate, 40 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 1.5 parts by mass of α-methylstyrene dimer were charged, and gently stirring was started while replacing with nitrogen. The temperature of the solution was raised to 70 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer solution containing the copolymer (solid content concentration: 31.2% by mass). The weight average molecular weight of the copolymer was 18500, and the molecular weight distribution was 1.8. The weight average molecular weight is an average molecular weight in terms of polystyrene measured using GPC (gel permeation chromatography) (trade name “HLC-8020”, manufactured by Tosoh Corporation). The obtained copolymer solution (corresponding to 100 parts by weight (solid content) of the copolymer) and 4,4 ′-[1- [4- [1- [4-hydroxyphenyl] -1-methylethyl] phenyl ] Ethylidene] condensate of bisphenol (1 mol) and 1,2-naphthoquinonediazide-6-sulfonic acid chloride (2 mol) (4,4 ′-[1- [4- [1- [4-hydroxyphenyl] -1- 30 parts by weight of methylethyl] phenyl] ethylidene] bisphenol-1,2-naphthoquinonediazide-6-sulfonic acid ester) and 5 parts by weight of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane were mixed. After dissolving in propylene glycol monomethyl ether acetate so that the solid content concentration was 30% by mass, the solution was filtered through a Millipore filter having a pore size of 0.5 μm to prepare an insulating film composition solution. In addition, the solution of this composition for insulating films is the same as the solution of the radiation sensitive resin composition described in Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-240757.
(実施例5、比較例23〜27)
レジスト組成物に代えてスペーサー用組成物をキャニスター缶1に付着させた。その後、表5に示す洗浄(剤)液を使用するとともに、表5に示す洗浄方式によって洗浄を行ったこと以外は、実施例1と同様にしてキャニスター缶1の洗浄を行った。なお、スペーサー用組成物としては以下に示すものを使用した。
(Example 5, Comparative Examples 23 to 27)
Instead of the resist composition, the spacer composition was adhered to the
[スペーサー用組成物]:冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)5質量部、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル200質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸20質量部、メタクリル酸グリシジル45質量部、スチレン10質量部、及びメタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル25質量部を仕込み、窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を70℃に上昇させた状態で5時間保持し、共重合体を含む共重合体溶液(固形分濃度:33.2質量%)を得た。共重合体の重量平均分子量は24,000であった。なお、重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)(商品名「HLC−8020」、東ソー社製)を用いて測定した、ポリスチレン換算の平均分子量である。得られた共重合体溶液(共重合体100重量部(固形分)に相当)と、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物80質量部と、下記構造式(1)で表される光重合開始剤25質量部とを混合した。固形分濃度が35質量%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径0.2μmのミリポアフィルタでろ過して、スペーサー用組成物の溶液を調製した。なお、このスペーサー用組成物の溶液は、特開2001−261761号公報の実施例1に記載された組成物溶液と同一のものである。 [Composition for spacer]: A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 5 parts by mass of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts by mass of diethylene glycol methyl ethyl ether. Subsequently, 20 parts by mass of methacrylic acid, 45 parts by mass of glycidyl methacrylate, 10 parts by mass of styrene, and 25 parts by mass of tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl methacrylate were charged, and the atmosphere was replaced with nitrogen. After that, stirring was started gently. The temperature of the solution was raised to 70 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer solution containing the copolymer (solid content concentration: 33.2% by mass). The weight average molecular weight of the copolymer was 24,000. The weight average molecular weight is an average molecular weight in terms of polystyrene measured using GPC (gel permeation chromatography) (trade name “HLC-8020”, manufactured by Tosoh Corporation). The obtained copolymer solution (corresponding to 100 parts by weight of copolymer (solid content)), 80 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, and the following structural formula (1) 25 parts by mass of a photopolymerization initiator was mixed. After dissolving in propylene glycol monomethyl ether acetate so that the solid content concentration was 35% by mass, the solution was filtered through a Millipore filter having a pore diameter of 0.2 μm to prepare a spacer composition solution. In addition, the solution of this composition for spacers is the same as the composition solution described in Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-261661.
(洗浄効果の評価方法)
洗浄効果を、以下に示す基準に従って目視観察することにより3段階に評価した。評価結果を表1〜5に示す。
○:残存物の視認不可(概ね99%(面積率)以上洗浄可能)
△:残存物の視認可能(概ね50以上99%未満(面積率)洗浄可能)
×:残存物の視認可能(概ね50%未満(面積率)洗浄可能)
(Evaluation method of cleaning effect)
The cleaning effect was evaluated in three stages by visual observation according to the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1-5.
○: Remaining residue is not visible (can be cleaned by 99% (area ratio) or more)
Δ: Remaining residue can be visually recognized (approximately 50 to less than 99% (area ratio) can be cleaned)
×: Remaining residue visible (generally less than 50% (area ratio) washable)
(考察)
表1〜5に示すように、実施例1〜5では、比較例1〜27に比して優れた洗浄効果が発揮されることを確認することができた。
(Discussion)
As shown in Tables 1 to 5, in Examples 1 to 5, it was confirmed that an excellent cleaning effect was exhibited as compared with Comparative Examples 1 to 27.
(2)樹脂成形品の洗浄 (2) Cleaning resin molded products
(実施例6)
被洗浄物として、図3に示すような形状のカップリング、チューブ、及びO−リング(いずれもフッ素樹脂製)を用意し、その表面に、実施例1で用いたものと同一のレジスト組成物を付着させた。「ブルーゴールド J−100」(商品名(モダンケミカル社製))を水で7体積%に希釈したもの(pH=11.5、液温=65℃)を洗浄(剤)液として使用し、この洗浄(剤)液中に被洗浄物を浸漬した状態で、28kHzの超音波をかけながら20分間超音波洗浄を行った。生じた排水は、フィルターを使用して固形分を分離した後、産業廃棄物として処理した。
(Example 6)
As an object to be cleaned, a coupling, a tube, and an O-ring (all made of a fluororesin) having a shape as shown in FIG. 3 are prepared, and the same resist composition as that used in Example 1 is provided on the surface. Was attached. "Blue Gold J-100" (trade name (manufactured by Modern Chemical Co., Ltd.)) diluted with water to 7% by volume (pH = 11.5, liquid temperature = 65 ° C.) is used as a cleaning (agent) liquid, With the object to be cleaned immersed in this cleaning (agent) solution, ultrasonic cleaning was performed for 20 minutes while applying 28 kHz ultrasonic waves. The resulting wastewater was treated as industrial waste after separating the solids using a filter.
(実施例7,8)
超音波洗浄することに代えて、スプレーノズルを用いて洗浄すること以外は実施例6と同様にして被洗浄物(カップリング、チューブ、及びO−リング)を洗浄した。なお、実施例8で使用した、「ブルーゴールド J−200」(商品名(モダンケミカル社製))を水で7体積%に希釈して調製した洗浄液(剤)には、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、キシレンスルホン酸ナトリウム、及びケイ酸ナトリウムが含まれている。
(Examples 7 and 8)
Instead of ultrasonic cleaning, the cleaning target (coupling, tube, and O-ring) was cleaned in the same manner as in Example 6 except that cleaning was performed using a spray nozzle. The cleaning liquid (agent) prepared by diluting “Blue Gold J-200” (trade name (manufactured by Modern Chemical Co.)) to 7% by volume with water used in Example 8 includes diethylene glycol monobutyl ether and xylene. Sodium sulfonate and sodium silicate are included.
(比較例28〜33)
表6に示す洗浄(剤)液を使用するとともに、表6に示す洗浄方式によって洗浄を行ったこと以外は、実施例6と同様にして被洗浄物(カップリング、チューブ、及びO−リング)の洗浄を行った。
(Comparative Examples 28-33)
The object to be cleaned (coupling, tube, and O-ring) was used in the same manner as in Example 6 except that the cleaning (agent) solution shown in Table 6 was used and cleaning was performed by the cleaning method shown in Table 6. Was washed.
(洗浄効果の評価方法)
洗浄効果を、以下に示す基準に従って目視観察することにより3段階に評価した。評価結果を表6に示す。
○:残存物の視認不可(概ね99%(面積率)以上洗浄可能)
△:残存物の視認可能(50以上99%未満(面積率)洗浄可能)
×:残存物の視認可能(50%未満(面積率)洗浄可能)
(Evaluation method of cleaning effect)
The cleaning effect was evaluated in three stages by visual observation according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 6.
○: Remaining residue is not visible (can be cleaned by 99% (area ratio) or more)
△: Residue can be visually recognized (50 to less than 99% (area ratio) can be washed)
×: Remaining residue visible (less than 50% (area ratio) can be washed)
(考察)
表6に示すように、実施例6〜8では、比較例28〜33に比して優れた洗浄効果が発揮されることを確認することができた。
(Discussion)
As shown in Table 6, in Examples 6-8, it was confirmed that an excellent cleaning effect was exhibited as compared with Comparative Examples 28-33.
本発明の金属製容器の洗浄方法、及び樹脂成形品の洗浄方法は、汚染物質としての感光性組成物が付着し易い金属製容器や、その付属品である樹脂成形品を効率的に洗浄する方法として好適である。 The metal container cleaning method and the resin molded product cleaning method of the present invention efficiently clean a metal container to which a photosensitive composition as a contaminant easily adheres and a resin molded product that is an accessory thereof. It is suitable as a method.
1:キャニスター缶、2a:注入・排出口部、2b:密封栓、3a:上部プロテクター、3b:下部プロテクター、4:容器本体、10:金属製容器、11:予備浸漬工程、12:洗浄工程、13:リンス工程、14:乾燥工程、15:搬出部、16:搬出受け台、20:超音波振動子、31:カップリング、32:チューブ、35:ディップチューブ、40:O−リング、H1:缶全高、H2:缶有効高さ、D:缶径 1: canister can, 2a: inlet / outlet part, 2b: sealing stopper, 3a: upper protector, 3b: lower protector, 4: container body, 10: metal container, 11: preliminary immersion process, 12: washing process, 13: Rinsing process, 14: Drying process, 15: Unloading part, 16: Unloading base, 20: Ultrasonic vibrator, 31: Coupling, 32: Tube, 35: Dip tube, 40: O-ring, H 1 : Overall height of can, H 2 : Effective height of can, D: Can diameter
Claims (15)
前記洗浄液の、前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの濃度が、0.05〜10質量%である請求項1に記載の金属製容器の洗浄方法。 The diethylene glycol alkyl ether is diethylene glycol monobutyl ether;
The method for cleaning a metal container according to claim 1, wherein the concentration of the diethylene glycol monobutyl ether in the cleaning liquid is 0.05 to 10% by mass.
前記洗浄液の、前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの濃度が、0.05〜10質量%である請求項8に記載の樹脂成形品の洗浄方法。 The diethylene glycol alkyl ether is diethylene glycol monobutyl ether;
The method for cleaning a resin molded article according to claim 8, wherein the concentration of the diethylene glycol monobutyl ether in the cleaning liquid is 0.05 to 10% by mass.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005307523A JP4830445B2 (en) | 2004-11-15 | 2005-10-21 | Metal container cleaning method and resin molded product cleaning method |
TW094137936A TWI430850B (en) | 2004-11-15 | 2005-10-28 | Washing method of metal container and washing method of resin molded article |
TW094137936K TWI409109B (en) | 2004-11-15 | 2005-10-28 | Washing method of metal container and washing method of resin molded article |
CN2005101315828A CN1775384B (en) | 2004-11-15 | 2005-11-14 | Method for washing metal container and resin formed article |
KR1020050108448A KR100804982B1 (en) | 2004-11-15 | 2005-11-14 | Washing method of metal container and washing method of resin molded article |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004330927 | 2004-11-15 | ||
JP2004330927 | 2004-11-15 | ||
JP2005307523A JP4830445B2 (en) | 2004-11-15 | 2005-10-21 | Metal container cleaning method and resin molded product cleaning method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006159180A JP2006159180A (en) | 2006-06-22 |
JP4830445B2 true JP4830445B2 (en) | 2011-12-07 |
Family
ID=36661758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005307523A Expired - Fee Related JP4830445B2 (en) | 2004-11-15 | 2005-10-21 | Metal container cleaning method and resin molded product cleaning method |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4830445B2 (en) |
KR (1) | KR100804982B1 (en) |
CN (1) | CN1775384B (en) |
TW (2) | TWI430850B (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7397915B2 (en) | 2019-07-26 | 2023-12-13 | コマディール・エス アー | Method for producing beveled stones especially for horological movements |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100787820B1 (en) | 2006-10-11 | 2007-12-21 | 경운대학교 산학협력단 | Surface treatment method of magnesium alloys frame of a pair of spectacles |
CN105603442A (en) * | 2016-02-05 | 2016-05-25 | 上海上创超导科技有限公司 | Normal-temperature foamless oil-removal cleaning agent for highlight metal strip material |
CN114682589A (en) * | 2022-04-11 | 2022-07-01 | 云南磷化集团有限公司 | Method for washing quinoline phosphomolybdate precipitate remained in glass sand core crucible |
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-
2005
- 2005-10-21 JP JP2005307523A patent/JP4830445B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-28 TW TW094137936A patent/TWI430850B/en not_active IP Right Cessation
- 2005-10-28 TW TW094137936K patent/TWI409109B/en active
- 2005-11-14 CN CN2005101315828A patent/CN1775384B/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-11-14 KR KR1020050108448A patent/KR100804982B1/en active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI430850B (en) | 2014-03-21 |
TWI409109B (en) | 2013-09-21 |
KR100804982B1 (en) | 2008-02-20 |
CN1775384B (en) | 2011-06-08 |
CN1775384A (en) | 2006-05-24 |
KR20060054148A (en) | 2006-05-22 |
TW200624552A (en) | 2006-07-16 |
JP2006159180A (en) | 2006-06-22 |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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