JP4827772B2 - 低圧処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板に低圧下で所定の処理を行う際に用いられる低圧処理装置に関し、特に大型の基板の場合に用いられる低圧処理装置に関するものである。

従来、基板に低圧下で所定の処理を行う際に用いられる低圧処理装置としては、例えば、図１６に示すような低圧処理装置１００や、図１７に示すような低圧処理装置２００が提案されている。

図１６に示された低圧処理装置１００は、基台１０１と、平台１０２と、ハウジング１０４と、排気管１０５と、キャリア１０７とを備えている。

平台１０２は、基台１０１の上に設けられている。また、ハウジング１０４は、平台１０２の上に設けられており、平台１０２とでチャンバー１０６を構成している。また、キャリア１０７は平台１０２の上に設置されている。そして、キャリア１０７の側壁には、排気口１０８が設けられている。この排気口１０８には、排気管１０５が接続されている。一方、基板１０３は、チャンバー１０６内においてキャリア１０７の上に設置されている。そして、低圧処理装置１００は、排気管１０５を利用してチャンバー１０６内の空気を排出することにより、チャンバー１０６内の気体圧力を低下させている。

また、図１７に示された低圧処理装置２００は、基台２０１と、平台２０２と、ハウジング２０４と、排気管２０５とを備えている。

平台２０２は、基台２０１の上に設けられている。また、ハウジング２０４は、平台２０２の上に設けられており、平台２０２とでチャンバー２０６を構成している。また、基板１０３は、チャンバー２０６内で平台２０２の上に設置されている。また、ハウジング２０４は排気口２０７を有している。この排気口２０７には、排気管２０５が接続されている。そして、低圧処理装置２００は、この排気管２０５を利用してチャンバー２０６内の空気を排出することによりチャンバー２０６内の圧力を低下させている。

特願２００７−００６７３９号明細書

しかしながら、最初に説明した低圧処理装置１００では、排気口１０８が基板１０３の下方に位置し、なお且つ、排気口１０８が基板１０３に近すぎるため、チャンバー１０６内の空気を排出する際に、基板１０３が排気時の気流の影響を受けて湾曲してしまう。したがって、例えば、この低圧処理装置１００を用いて、基板１０３の表面にフォトレジストフィルムを密着させても、フォトレジストフィルムを均一に密着できない。

また、もう一方の低圧処理装置２００では、排気口２０７が基板１０３の上方に位置し、なお且つ、排気口２０７が基板１０３から遠いので、チャンバー２０６内の空気を排出する際に、基板１０３が湾曲するのが抑えられる。しかしながら、この低圧処理装置２００では、単一の排気口２０７を有しているだけである。このため、チャンバー２０６内の空気を排出する際にチャンバー２０６内に乱流が生じる。したがって、この低圧処理装置２００の場合でも、基板１０３の表面にフォトレジストフィルムを均一に密着させることができない。この問題は、特に大きい基板１０３の場合に顕著に現れる。

本発明は、かかる従来の課題に鑑みてなされたものであり、低圧処理時にチャンバー内に乱流が発生するのを防ぐことができる低圧処理装置を提供することを目的とする。

前記課題を解決するために、本発明の低圧処理装置においては、基板に低圧下で所定の処理を行う際に用いられる低圧処理装置であって、前記低圧処理装置は、チャンバーと、排気モジュールとを備え、前記チャンバーは、前記基板を載置するための基板台と、該基板台の上に分離可能に設置されたハウジングとを有し、当該ハウジングは、前記基板台に設置された状態で当該基板台に載置された前記基板を覆うように構成され、前記排気モジュールは、前記ハウジングの上面全体に設けられた複数の排気口と、各排気口に接続された複数の排気管と、各排気管を介して前記チャンバー内の空気を吸引して排出することにより当該チャンバー内の圧力を下げる吸引手段とを備え、当該吸引手段は、前記各排気口における前記空気の吸引力が等しく設定され、前記複数の排気管は、前記ハウジングが前記基板台から分離する際に同時に上下に分離するように構成され、前記低圧処理装置は、粉塵除去装置をさらに備え、当該粉塵除去装置は、前記ハウジングが前記基板台から分離した際に、前記ハウジングと前記基板台との接触位置から粉塵を吸引するように構成されたことを特徴としている。

また、本発明の低圧処理装置においては、前記複数の排気口は、マトリックス状に配置されたことを特徴としている。

また、本発明の低圧処理装置においては、前記複数の排気管は耐熱性であり、前記排気モジュールは、加熱器をさらに備え、当該加熱器は、前記複数の排気管の内壁に付着される揮発性物質が揮発するように当該複数の排気管を加熱するように構成されたことを特徴としている。

また、本発明の低圧処理装置においては、前記加熱器は、前記複数の排気管を取り囲むように設けられた電熱線であることを特徴としている。

また、本発明の低圧処理装置においては、前記排気モジュールは、前記複数の排気管及び前記電熱線を覆う断熱材をさらに備えたことを特徴としている。

また、本発明の低圧処理装置においては、前記排気モジュールは、複数の粉塵収容部材を備え、各微塵収容部材は、前記チャンバー内で前記排気口の下方に所定の間隔をあけて配置された粉塵収容部材本体と、該粉塵収容部材本体を前記排気管の先端部に結合するための取付部材とを備え、前記粉塵収容部材本体には、前記排気口と対向する凹部が設けられ、該凹部は、前記排気管から前記チャンバー内に落下する粉塵を収容するように構成されたことを特徴としている。

また、本発明の低圧処理装置においては、前記微塵収容部材本体は、下端面が曲面であることを特徴としている。

本発明の低圧処理装置においては、ハウジングの上面全体に複数の排気口を設け、各排気口に接続された複数の排気管の吸引力を等しく設定したことにより、排気時にチャンバー内の空気がまっすぐに流れるようにした。よって、本発明の低圧処理装置は、低圧処理時にチャンバー内に乱流が発生するのを防ぐことができる。その結果、この低圧処理装置を用いて、基板にフォトレジストフィルムを密着させると、基板にフォトレジストフィルムを均一に密着できる。

本発明の上記に述べた目的、特長、長所等をさらに分り易く、図面をもって下記の通り説明を行う。

図１は、本発明の一実施の形態を示す低圧処理装置１の正面図である。この低圧処理装置１は、基台２と、チャンバー３と、排気装置４と、粉塵除去装置５，５と、ハウジング移動装置（図示せず）とを中心にして構成されている。

チャンバー３は、図２に示すように、基板台３１と、ハウジング３２とから構成されている。基板台３１は、平台３１１と、キャリア３１２とから構成されている。平台３１１は基台２の上に設けられている。平台３１１の周縁部全体にはゴムパッド３１３が設けられている。このゴムパッド３１３上には、窒素ノズル３１４が設けられている。一方、キャリア３１２は、平台３１１上の中央部分に設けられている。このキャリア３１２は基板を運ぶために用いられる。そして、このキャリア３１２には、基板６が載置されている。

また、ハウジング３２は、ゴムパッド３１３を介して平台３１１の上に設置されている。このハウジング３２は、平台３１１から分離可能に構成されている。さらに、ハウジング３２は、平台３１１に設置された状態で、平台３１１に載置されたキャリア３１２及び基板６を覆うように構成されている。

一方、排気装置４は、図３に示すように、第１排気モジュール４１と、第２排気モジュール４２と、第３排気モジュール４３とを中心にして構成されている。

第１排気モジュール４１は、図３及び図４に示すように複数の第１排気口４１１と、第１排気管４１２と、第１スロットル４１３と、第１減圧ポンプ４１４とを備えている。

複数の第１排気口４１１は、図５にも示すように、ハウジング３２の上面の中央部分に設けられている。具体的には、複数の第１排気口４１１は、ハウジング３２の上面の中心を中心にした矩形状に配置されている。

また、第１排気菅４１２は、耐熱性（４０〜２００℃）であって、各排気口４１１に接続されている。そして、この排気菅４１２は、二つの横排気管４１２１と、二つの縦排気菅４１２２とを備えている。

二つの横排気管４１２１は、縦に配列されている。この横排気管４１２１は、図３に示すように、上部４１２１ａと下部４１２１ｂとから構成されている。上部４１２１ａ及び下部４１２１ｂは、ハウジング３２が平台３１１から分離する際に同時に上下に分離するように構成されている。そして、各上部４１２１ａは、横に配列された上下側の排気口４１１群のそれぞれに挿通しており、先端部がチャンバー３内に位置されている。

図６に示すように、各横排気管４１２１の上部の先端部には、粉塵収容部材４１５が設けられている。この粉塵収容部材４１５は、粉塵収容部材本体４１５１と、取付部材４１５２とを備えている。

粉塵収容部材本体４１５１は、チャンバー３内で横排気管４１２１の下方に所定の間隔をおいて配置されている。この粉塵収容部材本体４１５１には、凹部４１５１ａが設けられている。この凹部４１５１ａは、横排気管４１２１と対向して設けられており、横排気管４１２１からチャンバー３内に落下する粉塵１０を収容するように構成されている。また、粉塵収容部材本体４１５１の下端面４１５１ｂは曲面に構成されている。一方、取付部材４１５２は、粉塵収容部材本体４１５１を、横排気管４１２１の先端部に結合するための部材である。

また、上部４１２１ａの基端側には、図示しないが非戻り弁（ｎｏｎ−ｒｅｔｕｒｎ ｖａｌｖｅ）が設けられている。この非戻り弁は、上部４１２１ａ内の空気がハウジング３２内に逆流するのを避けるものである。また、図３に示すように、上部４１２１ａと下部４１２１ｂとの間には、気密性を上げるためにゴムパッド４１２１ｃが設けられている。また、各下部４１２１ｂは、第１接続管４１ａに接続されている。

一方、縦排気管４１２２は、二つの横排気管４１２１を接続するものである。具体的には、縦排気管４１２２は、複数の第１排気口４１１が縦に連通するように、隣接する横排気管４１２１を接続している。

また、図３に示した第１スロットル４１３及び第１減圧ポンプ４１４は、本発明の吸引手段を構成している。第１スロットル４１３は、第１接続管４１ａの途中部分に接続されている。また、第１減圧ポンプ４１４は、第２接続管４１ｂを介して第１スロットル４１３に接続されている。また、第１接続管４１ａの排出側には、図１に示すように排気弁４１６が取り付けられている。

一方、第２排気モジュール４２は、図３や図４に示すように、複数の第２排気口４２１と、第２排気管４２２と、第２スロットル４２３と、第２減圧ポンプ４２４とを備えている。

複数の第２排気口４２１は、ハウジング３２の上面において複数の第１排気口４１１を囲むように設けられている。具体的には、複数の第２排気口４２１は、図７にも示すように、ハウジング３２の上面の中心を中心にした矩形状に配置されている。

また、第２排気菅４２２は、耐熱性（４０〜２００℃）であって、各第２排気口４２１に接続されている。そして、第２排気菅４２２は、二つの横排気管４２２１と、二つの縦排気菅４２２２とを備えている。

横排気管４２２１は、横に延在して形成されている。この横排気管４２２１は、上部４２２１ａと下部４２２１ｂとから構成されている。上部４２２１ａ及び下部４２２１ｂは、ハウジング３２が平台３１１から分離する際に同時に上下に分離するように構成されている。そして、上部４２２１ａは、横に配列された上下の第２排気口４２１群のそれぞれに挿通しており、先端部がチャンバー３内に位置されている。

そして、上部４２２１ａの基端側には、図示しないが非戻り弁が設けられている。この非戻り弁は、上部４２２１ａ内の空気がハウジング３２内に逆流するのを避けるものである。また、図３に示すように、上部４２２１ａと下部４２２１ｂとの間には、気密性を上げるためにゴムパッド４２２１ｃが設けられている。また、各下部４２２１ｂは、第１接続管４２ａに接続されている。

一方、各縦排気管４２２２は、縦に延在して形成されている。そして、各縦排気管４１２２は、縦に配列された左右の第２排気口４２１群のそれぞれに挿通し、この状態で双方の横排気管４２２１に接続されている。

そして、横排気管４２２１の先端部には、図２に示すような粉塵収容部材４１５が設けられている。この粉塵収容部材４１５は、第１排気管４１２に設けられた粉塵収容部材４１５と同じものであり、横排気管４２２１または縦排気管４２２２からチャンバー３内に落下する粉塵１０を収容するように構成されている。

また、図３に示した第２スロットル４２３及び第２減圧ポンプ４２４は、本発明の吸引手段を構成している。第２スロットル４２３は、第１接続管４２ａの途中部分に接続されている。また、第２減圧ポンプ４２４は、第２接続管４２ｂを介して第２スロットル４２３に接続されている。また、第１接続管４２ａの排出側には、図１に示すように排気弁４１６が取り付けられている。

また、第３排気モジュール４３は、図３や図４に示すように、複数の第３排気口４３１と、第３排気管４３２と、第３スロットル４３３と、第３減圧ポンプ４３４とを備えている。

複数の第３排気口４３１は、ハウジング３２の上面において複数の第２排気口４２１を囲むように設けられている。具体的には、複数の第３排気口４３１は、図８にも示すように、ハウジング３２の上面の中心を中心にした矩形状に配置されている。

したがって、本実施の形態では、ハウジング３２の上面に設けられた複数の排気口４１１、４２１、４３１は、マトリックス状に配置されている。なお、本実施の形態では、第１排気口４１１、第２排気口４２１及び第３排気口４３１は矩形状に配置されているが、ハウジング３２の上面の中心を中心とした同心状に配置されれば、配置形状は円形状またはその他の形状でも良い。

また、第３排気菅４３２は、耐熱性（４０〜２００℃）であって、各第３排気口４３１に接続されている。そして、第３排気菅４３２は、二つの横排気管４３２１と、二つの縦排気菅４３２２とを備えている。

各横排気管４３２１は、横に延在して形成されている。この横排気管４３２１は、図３に示すように、上部４３２１ａと下部４３２１ｂとから構成されている。上部４３２１ａ及び下部４３２１ｂは、ハウジング３２が平台３１１から分離する際に同時に上下に分離するように構成されている。そして、上部４３２１ａは、横に配列された上下の第３排気口４３１群のそれぞれに挿通しており、先端部がチャンバー３内に位置されている。

そして、上部４３２１ａの基端側には、図示しないが非戻り弁が設けられている。この非戻り弁は、上部４３２１ａ内の空気がハウジング３２内に逆流するのを避けるものである。また、図３に示すように、上部４３２１ａと下部４３２１ｂとの間には、気密性を上げるためにゴムパッド４３２１ｃが設けられている。また、各下部４３２１ｂは、第１接続管４３ａに接続されている。

一方、各縦排気管４３２２は、縦に延在して形成されている。そして、各縦排気管４３２２は、縦に配列された左右の第３排気口４３１群のそれぞれに挿通し、この状態で双方の横排気管４３２１に接続されている。

そして、横排気管４３２１の先端部には、図２に示すような粉塵収容部材４１５が設けられている。この粉塵収容部材４１５は、第１排気管４１２や第２排気管４２２に設けられた粉塵収容部材４１５と同じものであり、横排気管４３２１または縦排気管４３２２からチャンバー３内に落下する粉塵１０を収容するように構成されている。

また、図３に示した第３スロットル４３３及び第３減圧ポンプ４３４は、本発明の吸引手段を構成している。第３スロットル４３３は、第１接続管４３ａの途中部分に接続されている。また、第３減圧ポンプ４３４は、第２接続管４３ｂを介して第３スロットル４３３に接続されている。また、第１接続管４２ａの排出側には、図１に示すように排気弁４１６が取り付けられている。

また、排気装置４は、図９に示すように、電熱線４４と、断熱材４５とをさらに備えている。電熱線４４は、本発明の加熱器を構成している。この電熱線４４は、第１排気管４１２、第２外気管４２２及び第３排気管４３２を取り囲むように設けられている。そして、この電熱線４４は、各排気管４１２、４２２、４３２の内壁に付着される樹脂等の揮発性物質が揮発するように各排気管４１２、４２２、４３２を４０〜２００℃の間で加熱するように構成されている。また、断熱材４５は、各排気管４１２、４２２、４３２の横排気管の上部及び電熱線４４を覆うように設けられている。

一方、図１に示した粉塵除去装置５は、ハウジング３２が平台３１１から分離した際に、ハウジング３２と平台３１１との接触位置から粉塵を吸引するものである。なお、この粉塵としては、ハウジング３２内や基板６の表面上に発生する粉塵や、特にゴムパッド３１３が摩擦でこすれて発生する粉塵等がある。

また、図１０に示すように、ハウジング移動装置７は、支持手段７１と、一対のエアーシリンダー７２，７２とを備えている。支持手段７１は、ハウジング３２に結合して左右に長く形成されている。支持手段７１の下端部の左右側には、ロッド７１１が設けられている。このロッド７１１は下方に延出している。一方、エアーシリンダー７２，７２は、ロッド７２１が、支持手段７１のロッド７１１に結合している。そして、エアーシリンダー７２，７２の駆動が、図外の制御部によって制御されることによりロッド７２１，７２１が上下に移動し、これに伴ってハウジング３２が上下に移動するように構成されている。

かかる構成において、低圧処理装置１を用いたフォトレジストフィルムの密着処理を以下に説明する。

まず、ハウジング３２を上げて、基板６が載せられたキャリア３１２を平台３１１に載せる。次に、基板６にフォトレジストフィルム（図示せず）を載せた後、ハウジング３２を下げて低圧処理を開始する（図１及び図１１参照）。

具体的には、各排気モジュール４１〜４３の排気弁４１６が閉鎖される。そして、各スロットル４１３、４２３、４３３が開き、減圧ポンプ４１４、４２４、４３４が駆動する。各減圧ポンプ４１４、４２４、４３４は、各排気管４１２、４２２、４３２を介して、チャンバー３内の空気Ａを吸引して排出することにより、チャンバー３内の圧力を下げる。

このときに、各排気管４１２、４２２、４３２における空気Ａの吸引力（排出力）は等しく設定されている。具体的には、第１スロットル４１３の開度は第２スロットル４２３の開度より小さく、第２スロットル４２３の開度は第３スロットル４３３の開度より小さく設定されている。そして、複数の排気口４１１、４２１、４３１は、図４に示したようにハウジング３２の上面全体に配置されている。このため、図１１に示すようにチャンバー３内の空気Ａはまっすぐ上方へ流れて排出される。よって、本実施の形態の低圧処理装置１は、低圧処理時にチャンバー３内に乱流が発生するのを防ぐことができる。したがって、この低圧処理装置１を用いて、基板６にフォトレジストフィルムを密着させると、基板６にフォトレジストフィルムを均一に密着できる。

また、このときに電熱線４４が発熱している。これにより、各排気管４１２、４２２、４３２の内壁に付着した揮発性物質が揮発して凝固するのが避けられる。したがって、各排気管４１２、４２２、４３２からチャンバー３内に落ちる粉塵１０の量を少なくすることができる。また、各排気管４１２、４２２、４３２からチャンバー３内に粉塵１０が落ちても、その粉塵１０が粉塵収容部材４１５内に収容されるので、粉塵１０の回収作業の作業効率が高まる。また、図６に示したように、粉塵収容部材４１５の下端面４１５１ｂは曲面に構成されているので、排気管４１２、４２２、４３２にチャンバー３内の空気を導きやすくできる。

そして、低圧処理終了後、図１２に示すように、各スロットル４１３、４２３、４３３が閉じられるとともに各減圧ポンプ４１４、４２４、４３４が停止し、各排気弁４１６が開く。そして、チャンバー３内には、窒素ノズル３１４によって窒素Ｎが注入される。これにより、チャンバー３内と外部との圧力が平衡にされる。

そして、図１３に示すように、ハウジング３２が上げられて平台３１１と分離される。次に、図１４や図１５に示すように、粉塵除去装置５が駆動する。粉塵除去装置５は、平台３１１上やハウジング３２内の粉塵、粉塵収容部材４１５内の粉塵、排気管４１２、４２２、４３２内の粉塵を吸引して取り除く。そして、アーム（図示せず）により、平台３１１からキャリア３１２が取り上げられて次の工程に送られる。そして、この平台３１１には、次のキャリア３１２が載せられ、前述した低圧処理が再び行われる。

以上、好適な実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はこれらの実施の形態に限定はされないと解されるべきであり、つまり本発明は、当業者であれば自明であるような各種変更および均等なアレンジをカバーするものである。上に掲げた実施の形態は、本発明の原理を説明するための最良の態様を提示すべく選択し記載したものである。即ち、添付の特許請求の範囲は、かかる各種変更および均等なアレンジが全て包含されるように、最も広い意味に解釈されるべきである。

以上説明したように、本発明の低圧処理装置は、低圧処理時にチャンバー内に乱流が発生するのを防ぐことができる。したがって、本発明の低圧処理装置は、低圧処理装置の技術分野において十分に利用することができる。

本発明の一実施の形態を示す低圧処理装置の正面図である。 図１の要部の拡大図である。 同実施の形態の排気装置の構成図である。 同実施の形態の低圧処理装置の上面図である。 図４において第１排気管のみを示す図である。 第１排気管の先端部を示す図である。 図４において第２排気管のみを示す図である。 図４において第３排気管のみを示す図である。 同実施の形態の電熱線及び断熱材が設置された状態を示す図である。 同実施の形態の低圧処理装置において、ハウジング移動装置が設置された状態を示す図である。 同実施の形態の低圧処理装置において、低圧処理時の図である。 同実施の形態の低圧処理装置において、窒素ガスが注入された状態を示す図である。 同実施の形態の低圧処理装置において、低圧処理後にハウジングを上げた状態を示す図である。 同実施の形態の低圧処理装置において、粉塵除去装置が駆動した状態を示す図である。 図１４の要部を示す拡大図である。 従来の低圧処理装置の模式図である。 他の従来の低圧処理装置の模式図である。

符号の説明

１ 低圧処理装置
３ チャンバー
５ 粉塵除去装置
６ 基板
３１ 基板台
３２ ハウジング
４１ 第１排気モジュール
４２ 第２排気モジュール
４３ 第３排気モジュール
４４ 電熱線
４５ 断熱材
４１１ 第１排気口
４１２ 第１排気管
４１３ 第１スロットル
４１４ 第１減圧ポンプ
４１５ 粉塵収容部材
４２１ 第２排気口
４２２ 第２排気管
４２３ 第２スロットル
４２４ 第２減圧ポンプ
４３１ 第３排気口
４３２ 第３排気管
４３３ 第３スロットル
４３４ 第３減圧ポンプ
４１５１ 粉塵収容部材
４１５１ａ 凹部
４１５１ｂ 下端面
４１５２ 取付部材

Claims (7)

1. 基板に低圧下で所定の処理を行う際に用いられる低圧処理装置であって、
   前記低圧処理装置は、チャンバーと、排気モジュールとを備え、
   前記チャンバーは、前記基板を載置するための基板台と、該基板台の上に分離可能に設置されたハウジングとを有し、当該ハウジングは、前記基板台に設置された状態で当該基板台に載置された前記基板を覆うように構成され、
   前記排気モジュールは、前記ハウジングの上面全体に設けられた複数の排気口と、各排気口に接続された複数の排気管と、各排気管を介して前記チャンバー内の空気を吸引して排出することにより当該チャンバー内の圧力を下げる吸引手段とを備え、当該吸引手段は、前記各排気口における前記空気の吸引力が等しく設定され、
   前記複数の排気管は、前記ハウジングが前記基板台から分離する際に同時に上下に分離するように構成され、
   前記低圧処理装置は、粉塵除去装置をさらに備え、当該粉塵除去装置は、前記ハウジングが前記基板台から分離した際に、前記ハウジングと前記基板台との接触位置から粉塵を吸引するように構成されたことを特徴とする低圧処理装置。
2. 前記複数の排気口は、マトリックス状に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の低圧処理装置。
3. 前記複数の排気管は耐熱性であり、前記排気モジュールは、加熱器をさらに備え、当該加熱器は、前記複数の排気管の内壁に付着される揮発性物質が揮発するように当該複数の排気管を加熱するように構成されたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の低圧処理装置。
4. 前記加熱器は、前記複数の排気管を取り囲むように設けられた電熱線であることを特徴とする請求項３に記載の低圧処理装置。
5. 前記排気モジュールは、前記複数の排気管及び前記電熱線を覆う断熱材をさらに備えたことを特徴とする請求項４に記載の低圧処理装置。
6. 前記排気モジュールは、複数の粉塵収容部材を備え、各微塵収容部材は、前記チャンバー内で前記排気口の下方に所定の間隔をあけて配置された粉塵収容部材本体と、該粉塵収容部材本体を前記排気管の先端部に結合するための取付部材とを備え、前記粉塵収容部材本体には、前記排気口と対向する凹部が設けられ、該凹部は、前記排気管から前記チャンバー内に落下する粉塵を収容するように構成されたことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の低圧処理装置。
7. 前記微塵収容部材本体は、下端面が曲面であることを特徴とする請求項６に記載の低圧処理装置。

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