JP4820711B2 - 触媒の選択酸化能の評価方法および高濃度水素含有ガスの製造方法 - Google Patents
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Description
xmax(CO)≦xmax(O2) (1)
[式中、xmax(CO)およびxmax(O2)はそれぞれ一酸化炭素および酸素の消費ピーク位置を示す。]
xmax(CO)≦xmax(O2) (1)
[式中、xmax(CO)およびxmax(O2)はそれぞれ一酸化炭素および酸素の消費ピーク位置を示す。]
xmax(CO)≦xmax(O2) (1)
xmax(CO)≦xmax(H2) (2)
0<xmax(CO)≦xmax(O2)≦Z≦50 (3)
0<xmax(CO)≦xmax(H2)≦Z≦50 (4)
0<xmax(O2)<xmax(CO)≦Z<100 (5)
0<xmax(H2)<xmax(CO)≦Z<100 (6)
0<xmax(CO)≦80 (7)
0<xmax(O2)≦50 (8)
0<xmax(H2)≦50 (9)
0<Z≦80 (10)
(触媒の調製)
市販のγ−アルミナ担体に、金属Ru量で0.2重量%のK2RuO4を、含浸法によって担持し、乾燥により水分を除去した後、還元することでRu/Al2O3触媒を調製した。
上記のRu/Al2O3触媒を図1に示す反応装置に充填し、前処理として、200℃で1時間水素還元を行なった。
Claims (11)
- 水素および一酸化炭素を含有する原料ガスと、酸素含有ガスと、を触媒層に流通させて前記原料ガス中の一酸化炭素を選択酸化するに際し、前記触媒層の上流端から前記触媒層の所定の位置までの前記原料ガスの流れ方向の距離と該位置における一酸化炭素または酸素の濃度との相関を得、次いで、一酸化炭素および酸素のそれぞれについて、濃度の変化率としての微分値が極大値を与える消費ピーク位置を求め、得られた一酸化炭素の消費ピーク位置と酸素の消費ピーク位置との関係に基づいて前記触媒層の一酸化炭素の選択酸化能を評価することを特徴とする触媒の選択酸化能の評価方法。
- 前記一酸化炭素の消費ピーク位置と前記酸素の消費ピーク位置とが下記式(1)で表される条件を満たすか否かを判定することを特徴とする、請求項1に記載の触媒の選択酸化能の評価方法。
xmax(CO)≦xmax(O2) (1)
[式中、xmax(CO)およびxmax(O2)はそれぞれ一酸化炭素および酸素の消費ピーク位置を示す。] - 前記触媒層を構成する触媒が、無機酸化物からなる担体と、該担体に担持されたルテニウムとを含有することを特徴とする、請求項1または2に記載の触媒の選択酸化能の評価方法。
- 前記無機酸化物が酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする、請求項3に記載の触媒の選択酸化能の評価方法。
- 前記触媒が、前記担体に担持された、白金、パラジウム、金、ロジウムおよびイリジウムから選ばれる少なくとも1種の金属をさらに含有することを特徴とする、請求項3または4に記載の触媒の選択酸化能の評価方法。
- 前記触媒が、酸化アルミニウムからなる担体と、該担体に担持されたルテニウムおよび白金とを含有することを特徴とする、請求項3〜5のうちのいずれか1項に記載の触媒の選択酸化能の評価方法。
- 前記原料ガスの水素濃度が40〜85体積%であり、一酸化炭素濃度が0.1〜2体積%であることを特徴とする、請求項1〜6のうちのいずれか1項に記載の触媒の選択酸化能の評価方法。
- 前記酸素含有ガス中の酸素と前記原料ガス中の一酸化炭素との比がモル比で0.5〜3であることを特徴とする、請求項1〜7のうちのいずれか1項に記載の触媒の選択酸化能の評価方法。
- 前記原料ガスが炭化水素、アルコールまたはエーテルを脱硫反応、改質反応および水性ガスシフト反応することにより得られたものであることを特徴とする、請求項1〜8のうちのいずれか1項に記載の触媒の選択酸化能の評価方法。
- 水素および一酸化炭素を含有する原料ガスと、酸素含有ガスと、を触媒層に流通させて前記原料ガス中の一酸化炭素を選択酸化するに際し、前記触媒層の上流端から前記触媒層の所定の位置までの前記原料ガスの流れ方向の距離と該位置における水素または一酸化炭素の濃度との相関を得、次いで、水素および一酸化炭素のそれぞれについて、濃度の変化率としての微分値が極大値を与える燃焼ピーク位置を求め、得られた一酸化炭素の消費ピーク位置と酸素の消費ピーク位置とが下記式(1)で表される条件を満たすように前記原料ガス中の一酸化炭素を選択酸化することを特徴とする高濃度水素含有ガスの製造方法。
xmax(CO)≦xmax(O2) (1)
[式中、xmax(CO)およびxmax(O2)はそれぞれ一酸化炭素および酸素の消費ピーク位置を示す。] - 前記触媒層の下流端から得られる生成ガス中の一酸化炭素濃度が100体積ppm以下であることを特徴とする、請求項10に記載の高濃度水素含有ガスの製造方法。
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