JP4817167B2 - 相変化記憶素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1に示すように、相変化膜を溶融温度(melting temperature:Tm)より高い温度で短い時間(第1動作区間:t1)の間加熱した後、速い速度で冷却させると(quenching)相変化膜は非晶質状態(amorphous state)に変わる(曲線‘A’参照)。これに対し、相変化膜を溶融温度(Tm)より低く、結晶化温度(crystallization temperature:Tc)より高い温度で第1動作区間(t1)より長い時間(第2動作区間:t2)の間加熱した後に冷却させると、相変化膜は結晶状態(crystalline state)に変わる(曲線‘B’参照)。
上述したように相変化膜の相変化のためにはジュール熱が必要である。通常的な相変化記憶素子において、相変化膜と接触する面積を通じて高い密度の電流を流すと相変化膜のい接触面の結晶状態が変わって、接触面が小さければ小さいほど相変化物質の状態を変化させるのに必要な電流密度は小さくてすむ。
図2に示すように、従来の相変化記憶素子は下部電極(bottom electrode)11が形成された半導体基板10と、下部電極11上に形成されて下部電極11の所定の部分を露出させる第1コンタクトホール13を有した第1絶縁膜12と、第1コンタクトホール13を埋め込む下部電極コンタクト(bottom electrode contact)14と、下部電極コンタクト14を含んだ第1絶縁膜12上に形成されて下部電極コンタクト14を露出させる第2コンタクトホール16を有した第2絶縁膜15と、第2コンタクトホール16を埋め込む相変化膜17と、相変化膜17を含んだ第2絶縁膜15上に形成された上部電極(top electrode)18を有する。
前記第4絶縁膜は、前記第3絶縁膜に比べてエッチング率が高い酸化膜で形成されることを特徴とする。
前記相変化膜パターンは、GeSb2Te4膜及びGe2Sb2Te5膜の内のいずれか一つで形成されることを特徴とする。
前記相変化膜パターンは、その断面形状が「I」字形状を有することを特徴とする。
前記下部電極を含んだ前記窒化膜と前記相変化膜パターンとの間に介された第5絶縁膜をさらに有することを特徴とする。
前記第4絶縁膜としては、前記第3絶縁膜に比べてエッチング率が高い酸化膜を利用することを特徴とする。
したがって、本発明に係る相変化記憶素子は相変化膜の相変化に必要な電流量、すなわち、相変化記憶素子のプログラム動作に必要な電流量を低めることができるという効果がある。
本発明の実施例による相変化記憶素子は、図3に示すように、その上面に所定の下部構造(図示せず)が具備された半導体基板40上に形成されて、半導体基板40の所定部分を露出させる複数の第1コンタクトホール42を有した第1絶縁膜41と、第1コンタクトホール42を埋め込む導電プラグ43と、導電プラグ43を含んだ第1絶縁膜41上に形成されて導電プラグ43間の半導体基板40の一部を露出させる第2コンタクトホール45を有した第2絶縁膜44と、第2絶縁膜44上に第2コンタクトホール45を埋め込むように形成されたビットライン46と、ビットライン46を含んだ第2絶縁膜44上に順次形成され導電プラグ43を露出させる複数の第3コンタクトホール50を有した第3絶縁膜47、第4絶縁膜48、及び窒化膜49と、第3コンタクトホール50を埋め込む複数の下部電極51と、窒化膜49及び第4絶縁膜48内に形成され下部電極51間の第3絶縁膜47の所定部分を露出させる開口部54と、開口部54と連結されて下部電極51の側壁の一部を露出させるキャビティ(cavity)部Cと、開口部54及びキャビティ部Cを埋め込んで下部電極51の一側と連結される、その断面形状が「I」字形状を有する相変化膜パターン55と、相変化膜パターン55上に形成された上部電極56とを有する。
また、上部電極56上にさらに形成されたハードマスク(hard mask)膜57を有する。一方、下部電極51と上部電極56はすべてポリシリコンベースの物質及び金属系物質の内のいずれか一つの物質で形成する。
図4乃至図9は本発明の実施例による相変化記憶素子の製造方法を説明するための断面図である。
本発明の実施例による相変化記憶素子の製造方法は、まず、図4に示すように、その上面に所定の下部構造(図示せず)が具備された半導体基板40上に第1絶縁膜41を形成する。次に、第1絶縁膜41を選択的にエッチングして半導体基板40の所定部分を露出させる複数の第1コンタクトホール42を形成する。続いて、第1コンタクトホール42を導電膜で埋め込み導電プラグ43を形成する。その後、導電プラグ43を含んだ第1絶縁膜41上に第2絶縁膜44を形成した後、導電プラグ43間の半導体基板40の一部を露出させるように第2絶縁膜44と第1絶縁膜41を選択的にエッチングして第2コンタクトホール45を形成する。
続いて、第3絶縁膜47上に第3絶縁膜47とエッチング選択比が異なる第4絶縁膜48及び窒化膜49を順次形成する。この時、第3絶縁膜47は、HDP、USG、PSG、SOG、TEOS、HLD及びBPSG酸化膜で構成された群から選択されるいずれか一つを利用して形成し、第4絶縁膜48は、第3絶縁膜47に比べてエッチング率が高い酸化膜を利用する。
ここで、相変化膜ではGST膜を用い、この時、GST膜としては、GeSb2Te4膜及びGe2Sb2Te5膜の内のいずれか一つを用いて形成する。また、上部電極用導電膜としては、ポリシリコンベースの物質及び金属系物質の内のいずれか一つの物質を用いる。そして一方、下部電極51の側壁の一部分に相変化膜パターン55との接触面58が形成される。
41 第1絶縁膜
42 第1コンタクトホール
43 導電プラグ
44 第2絶縁膜
45 第2コンタクトホール
46 ビットライン
47 第3絶縁膜
48 第4絶縁膜
49 窒化膜
50 第3コンタクトホール
51 下部電極
52 第5絶縁膜
53 感光膜パターン
54 開口部
55 相変化膜パターン
56 上部電極
57 ハードマスク膜
58 接触面
C キャビティ部
Claims (10)
- その上面に所定の下部構造が具備された半導体基板上に形成され、前記半導体基板の所定部分を露出させる複数の第1コンタクトホールを有した第1絶縁膜と、
前記第1コンタクトホールを埋め込む導電プラグと、
前記導電プラグを含んだ前記第1絶縁膜上に形成され、前記導電プラグ間の半導体基板の一部を露出させる第2コンタクトホールを有した第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜上に形成され、前記第2コンタクトホールを埋め込むビットラインと、
前記ビットラインを含んだ前記第2絶縁膜上に順次形成されて前記導電プラグを露出させる複数の第3コンタクトホールを有した第3絶縁膜、第4絶縁膜、及び窒化膜と、
前記第3コンタクトホールを埋め込む複数の下部電極と、
前記窒化膜及び第4絶縁膜内に形成され、前記下部電極間の前記第3絶縁膜の所定部分を露出させる開口部と、
前記開口部と連結されて前記下部電極の側壁の一部を露出させるキャビティ部と、
前記開口部及びキャビティ部を埋め込み前記下部電極の一側と連結される相変化膜パターンと、
前記相変化膜パターン上に形成された上部電極とを有することを特徴とする相変化記憶素子。 - 前記第3絶縁膜は、HDP、USG、PSG、SOG、TEOS、HLD及びBPSG酸化膜で構成された群から選択されるいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項1に記載の相変化記憶素子。
- 前記第4絶縁膜は、前記第3絶縁膜に比べてエッチング率が高い酸化膜で形成されることを特徴とする請求項1に記載の相変化記憶素子。
- 前記相変化膜パターンは、GeSb2Te4膜及びGe2Sb2Te5膜の内のいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項1に記載の相変化記憶素子。
- 前記相変化膜パターンは、その断面形状が「I」字形状を有することを特徴とする請求項1に記載の相変化記憶素子。
- 前記下部電極を含んだ前記窒化膜と前記相変化膜パターンとの間に介された第5絶縁膜をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の相変化記憶素子。
- その上面に所定の下部構造が具備された半導体基板上に第1絶縁膜を形成してから、前記第1絶縁膜を選択的にエッチングして前記半導体基板の所定部分を露出させる複数の第1コンタクトホールを形成する段階と、
前記第1コンタクトホールを導電膜で埋め込み導電プラグを形成した後、前記導電プラグを含んだ前記第1絶縁膜上に第2絶縁膜を形成する段階と、
前記導電プラグ間の半導体基板の一部を露出させるように前記第2絶縁膜と第1絶縁膜を選択的にエッチングして第2コンタクトホールを形成する段階と、
前記第2絶縁膜上に前記第2コンタクトホールを埋め込むビットラインを形成する段階と、
前記ビットラインを含んだ前記第2絶縁膜上に第3絶縁膜、該第3絶縁膜とエッチング選択比が異なる第4絶縁膜及び窒化膜を順次形成する段階と、
前記導電プラグを露出させるように前記窒化膜、第4、第3及び第2絶縁膜を選択的にエッチングして複数の第3コンタクトホールを形成する段階と、
前記第3コンタクトホールを導電膜で埋め込み複数の下部電極を形成する段階と、
前記下部電極を含んだ前記窒化膜上に第5絶縁膜を形成してから、前記第5絶縁膜、窒化膜及び第4絶縁膜を選択的にエッチングして前記下部電極間の前記第3絶縁膜の所定部分を露出させる開口部を形成する段階と、
前記開口部を形成する段階で残留した下部電極間の前記第4絶縁膜を湿式エッチングして前記開口部と連結して前記下部電極の側壁の一部分を露出させるキャビティ部を形成する段階と、
前記開口部及びキャビティ部を埋め込むように前記第5絶縁膜上に相変化膜、上部電極用導電膜を順次形成する段階と、
前記上部電極用導電膜と相変化膜をパターニングして前記下部電極の一側と連結される相変化膜パターン及び上部電極をそれぞれ形成する段階とを有することを特徴とする相変化記憶素子の製造方法。 - 前記第2絶縁膜上に前記第2コンタクトホールを埋め込むビットラインを形成する段階は、前記第2コンタクトホールを含んだ前記第2絶縁膜上に前記第2コンタクトホールを埋め込むように金属膜を蒸着する段階と、前記金属膜をパターニングする段階とを有することを特徴とする請求項7に記載の相変化記憶素子の製造方法。
- 前記第4絶縁膜としては、前記第3絶縁膜に比べてエッチング率が高い酸化膜を利用することを特徴とする請求項7に記載の相変化記憶素子の製造方法。
- 離隔配置された一対の下部電極と、
断面形状が「I」字形状を有する、下端部の一側部分及び前記一側部分に対向する他側部分がそれぞれ対応する前記下部電極の側壁の一部分と接触する相変化膜パターンと、
前記相変化膜パターン上に形成された上部電極とを有することを特徴とする相変化記憶
素子
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US7265373B2 (en) * | 2005-01-04 | 2007-09-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Phase change memory device and method of manufacturing |
US7973301B2 (en) * | 2005-05-20 | 2011-07-05 | Qimonda Ag | Low power phase change memory cell with large read signal |
US7946331B2 (en) | 2005-06-14 | 2011-05-24 | Cufer Asset Ltd. L.L.C. | Pin-type chip tooling |
US7767493B2 (en) * | 2005-06-14 | 2010-08-03 | John Trezza | Post & penetration interconnection |
US8456015B2 (en) * | 2005-06-14 | 2013-06-04 | Cufer Asset Ltd. L.L.C. | Triaxial through-chip connection |
US7655938B2 (en) * | 2005-07-20 | 2010-02-02 | Kuo Charles C | Phase change memory with U-shaped chalcogenide cell |
US7488680B2 (en) * | 2005-08-30 | 2009-02-10 | International Business Machines Corporation | Conductive through via process for electronic device carriers |
US7635855B2 (en) | 2005-11-15 | 2009-12-22 | Macronix International Co., Ltd. | I-shaped phase change memory cell |
US7449710B2 (en) * | 2005-11-21 | 2008-11-11 | Macronix International Co., Ltd. | Vacuum jacket for phase change memory element |
US7829876B2 (en) * | 2005-11-21 | 2010-11-09 | Macronix International Co., Ltd. | Vacuum cell thermal isolation for a phase change memory device |
US7324365B2 (en) * | 2006-03-02 | 2008-01-29 | Infineon Technologies Ag | Phase change memory fabricated using self-aligned processing |
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US8618523B2 (en) * | 2006-05-31 | 2013-12-31 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device |
TWI310558B (en) * | 2006-06-02 | 2009-06-01 | Ind Tech Res Inst | Phase change memory cell |
US7663909B2 (en) * | 2006-07-10 | 2010-02-16 | Qimonda North America Corp. | Integrated circuit having a phase change memory cell including a narrow active region width |
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US7718989B2 (en) | 2006-12-28 | 2010-05-18 | Macronix International Co., Ltd. | Resistor random access memory cell device |
US7729161B2 (en) | 2007-08-02 | 2010-06-01 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory with dual word lines and source lines and method of operating same |
TW200913249A (en) * | 2007-09-04 | 2009-03-16 | Ind Tech Res Inst | Phase-change memory and fabrication method thereof |
US20100163826A1 (en) * | 2008-12-30 | 2010-07-01 | Stmicroelectronics S.R.L. | Method for active pinch off of an ovonic unified memory element |
US8064247B2 (en) | 2009-01-14 | 2011-11-22 | Macronix International Co., Ltd. | Rewritable memory device based on segregation/re-absorption |
US8406033B2 (en) | 2009-06-22 | 2013-03-26 | Macronix International Co., Ltd. | Memory device and method for sensing and fixing margin cells |
US8238149B2 (en) | 2009-06-25 | 2012-08-07 | Macronix International Co., Ltd. | Methods and apparatus for reducing defect bits in phase change memory |
US8363463B2 (en) | 2009-06-25 | 2013-01-29 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory having one or more non-constant doping profiles |
US8110822B2 (en) | 2009-07-15 | 2012-02-07 | Macronix International Co., Ltd. | Thermal protect PCRAM structure and methods for making |
US8198619B2 (en) | 2009-07-15 | 2012-06-12 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory cell structure |
US7894254B2 (en) | 2009-07-15 | 2011-02-22 | Macronix International Co., Ltd. | Refresh circuitry for phase change memory |
US8064248B2 (en) | 2009-09-17 | 2011-11-22 | Macronix International Co., Ltd. | 2T2R-1T1R mix mode phase change memory array |
US8178387B2 (en) | 2009-10-23 | 2012-05-15 | Macronix International Co., Ltd. | Methods for reducing recrystallization time for a phase change material |
US8729521B2 (en) | 2010-05-12 | 2014-05-20 | Macronix International Co., Ltd. | Self aligned fin-type programmable memory cell |
US8310864B2 (en) | 2010-06-15 | 2012-11-13 | Macronix International Co., Ltd. | Self-aligned bit line under word line memory array |
US8597974B2 (en) * | 2010-07-26 | 2013-12-03 | Micron Technology, Inc. | Confined resistance variable memory cells and methods |
US8395935B2 (en) | 2010-10-06 | 2013-03-12 | Macronix International Co., Ltd. | Cross-point self-aligned reduced cell size phase change memory |
US8497705B2 (en) | 2010-11-09 | 2013-07-30 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change device for interconnection of programmable logic device |
US8467238B2 (en) | 2010-11-15 | 2013-06-18 | Macronix International Co., Ltd. | Dynamic pulse operation for phase change memory |
US8853665B2 (en) | 2012-07-18 | 2014-10-07 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor constructions, memory cells, memory arrays and methods of forming memory cells |
KR102006876B1 (ko) | 2012-09-04 | 2019-08-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 필름 박리장치 및 그것을 이용한 필름 박리방법 |
US9166159B2 (en) | 2013-05-23 | 2015-10-20 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor constructions and methods of forming memory cells |
US9672906B2 (en) | 2015-06-19 | 2017-06-06 | Macronix International Co., Ltd. | Phase change memory with inter-granular switching |
US10381366B1 (en) | 2018-02-17 | 2019-08-13 | Sandisk Technologies Llc | Air gap three-dimensional cross rail memory device and method of making thereof |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6969866B1 (en) * | 1997-10-01 | 2005-11-29 | Ovonyx, Inc. | Electrically programmable memory element with improved contacts |
WO2000057498A1 (en) * | 1999-03-25 | 2000-09-28 | Energy Conversion Devices, Inc. | Electrically programmable memory element with improved contacts |
KR100437458B1 (ko) * | 2002-05-07 | 2004-06-23 | 삼성전자주식회사 | 상변화 기억 셀들 및 그 제조방법들 |
US6791102B2 (en) * | 2002-12-13 | 2004-09-14 | Intel Corporation | Phase change memory |
US7323734B2 (en) * | 2003-02-25 | 2008-01-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Phase changeable memory cells |
KR100504700B1 (ko) * | 2003-06-04 | 2005-08-03 | 삼성전자주식회사 | 고집적 상변환 램 |
US7291556B2 (en) * | 2003-12-12 | 2007-11-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method for forming small features in microelectronic devices using sacrificial layers |
US6936840B2 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-30 | International Business Machines Corporation | Phase-change memory cell and method of fabricating the phase-change memory cell |
KR100647218B1 (ko) * | 2004-06-04 | 2006-11-23 | 비욘드마이크로 주식회사 | 고집적 상변화 메모리 셀 어레이 및 이를 포함하는 상변화메모리 소자 |
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