JP4813834B2 - 降圧型スイッチングレギュレータおよびその制御回路ならびにそれを用いた電子機器 - Google Patents

降圧型スイッチングレギュレータおよびその制御回路ならびにそれを用いた電子機器 Download PDF

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Description

本発明は、降圧型スイッチングレギュレータに関し、特に同期整流方式のスイッチングレギュレータの低消費電力化のための技術に関する。
近年の携帯電話、PDA(Personal Digital Assistant)、ノート型パーソナルコンピュータなどのさまざまな電子機器に、デジタル信号処理を行うマイクロプロセッサが搭載されている。こうしたマイクロプロセッサの駆動に必要とされる電源電圧は、半導体製造プロセスの微細化に伴って低下しており、なかには1.5V以下の低電圧で動作するものもある。
一方、こうした電子機器には電源としてリチウムイオン電池などの電池が搭載される。リチウムイオン電池から出力される電池電圧は、3V〜4V程度であり、電池電圧をそのままマイクロプロセッサに供給したのでは、無駄な電力消費が発生する。そこで、降圧型のスイッチングレギュレータなどを用いて電池電圧を降圧し、定電圧化してマイクロプロセッサに供給するのが一般的である。
こうした用途に用いられる降圧型のスイッチングレギュレータには、整流用のダイオードを用いる方式(以下、ダイオード整流方式という)と、ダイオードの代わりに、整流用トランジスタを用いる方式(以下、同期整流方式という)が存在する。前者の場合、負荷に流れる負荷電流が低いときに高効率が得られるという利点を有するが、回路の構成素子として、インダクタ、キャパシタに加えてダイオードが必要となるため、回路面積が大きくなる。後者の場合、負荷に供給する電流が小さいときの効率は、前者に比べて劣るが、ダイオードの代わりにトランジスタを用いるため、LSIの内部に集積化することができ、周辺部品を含めた回路面積としては小型化が可能となる。このことから、携帯電話などの小型化が要求される電子機器においては、同期整流方式のスイッチングレギュレータが用いられることが多い。たとえば、特許文献1から3には、降圧型のスイッチングレギュレータに関する技術が開示されている。
特開2004−32875号公報 特開2002−252971号公報 特開2003−319643号公報
電池の長寿命化が求められる電子機器において、スイッチングレギュレータの高効率化は、非常に重要な技術的課題である。スイッチングレギュレータの効率を制限する要因のひとつとして、スイッチング素子として使用されるスイッチングトランジスタおよび同期整流用トランジスタのオン抵抗が挙げられる。スイッチングレギュレータの効率を高めるためには、損失として働くオン抵抗を可能な限り小さく、すなわちトランジスタサイズを大きく設計することが望ましい。
しかしながら、トランジスタにある程度の電流が流れる重負荷時の効率を重視してトランジスタサイズを大きく設計すると、トランジスタのゲート容量が大きくなる。その結果、トランジスタをオンオフさせるためにゲート電圧を変化させる際に必要となるゲートドライブ電流が大きくなるという問題が発生する。特に、トランジスタに流れる電流が小さい軽負荷時においては、ゲートドライブ電流により効率が制限されてしまうことになる。
本発明はかかる課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、重負荷時および軽負荷時において高効率化を実現した同期整流方式の降圧型スイッチングレギュレータおよびその制御回路の提供にある。
本発明のある態様は、同期整流方式の降圧型スイッチングレギュレータの制御回路に関する。この制御回路は、出力インダクタおよび出力キャパシタを含むスイッチングレギュレータ出力回路に、スイッチング電圧を供給するスイッチングトランジスタおよび同期整流用トランジスタと、スイッチングトランジスタおよび同期整流用トランジスタを相補的にオンオフするドライバ回路と、を備える。スイッチングトランジスタおよび同期整流用トランジスタは、それぞれオンオフが独立に制御可能なm個およびn個(m、nは2以上の整数)のセグメントに分割して形成する。
この態様によると、トランジスタを複数のセグメントに分割することにより、負荷の種類、負荷の状態などに応じて、いずれのセグメントをスイッチング動作させるかを切り替えることができ、トランジスタサイズを制御することができる。その結果、重負荷時にはスイッチング動作を行うセグメント数を増加させることによりオン抵抗を小さくし、逆に軽負荷時には、スイッチング動作を行うセグメント数を減少させることによりゲートドライブ電流を低減し、高効率化を図ることができる。
制御回路は、降圧型スイッチングレギュレータの負荷状態を監視する負荷監視回路をさらに備えてもよい。ドライバ回路は、軽負荷になるに従い、スイッチングトランジスタおよび同期整流用トランジスタの駆動するセグメント数を減少させてもよい。
制御回路に、負荷状態、すなわち負荷電流の大小を監視する負荷監視回路を設けることにより、負荷電流の大きさに応じて動作させるセグメント数、すなわちトランジスタサイズを適応的に変化させ、高効率な降圧動作を実現することができる。
スイッチングトランジスタおよび同期整流用トランジスタは、それぞれPチャンネルMOSFETおよびNチャンネルMOSFETであり、同期整流用トランジスタをn個のセグメントに分割するとともに、スイッチングトランジスタを2×n個のセグメントに分割して形成してもよい。
さらに、スイッチングトランジスタおよび同期整流用トランジスタを1つの半導体基板上に一体集積化し、スイッチングトランジスタを、n個のセグメントを含む2つの領域に分割するとともに、2つの領域を、同期整流用トランジスタを挟むように隣接して配置してもよい。
一般的なシリコンの半導体プロセスにおいて、PチャンネルMOSFETのドライブ能力は、NチャンネルMOSFETのそれに劣る。したがって、2つのトランジスタのドライブ能力を同等とするためには、PチャンネルMOSFETのトランジスタサイズを大きく設計する必要がある。PチャンネルMOSFETで構成されるスイッチングトランジスタを2分割し、スイッチングトランジスタと同期整流用トランジスタを上述の配置とすることにより、配線を効率化することができる。
スイッチングトランジスタの分割された2つの領域および同期整流用トランジスタはそれぞれ、隣接する方向に対して垂直方向にn個のセグメントに分割されてもよい。
本発明の別の態様は、降圧型スイッチングレギュレータである。この降圧型スイッチングレギュレータは、一端が接地された出力キャパシタと、出力キャパシタの他端にその一端が接続された出力インダクタと、出力インダクタの他端に、スイッチング電圧を供給する上述の制御回路と、を備え、出力キャパシタの他端の電圧を出力する。
本発明のさらに別の態様は、電子機器である。この電子機器は、電池と、電池から出力される電池電圧を降圧して負荷に供給する上述の降圧型スイッチングレギュレータと、を備える。
この態様によると、負荷の状態に応じて、トランジスタサイズを調節することにより、スイッチングレギュレータの効率を改善することができ、ひいては電池の寿命を延ばすことができる。
なお、以上の構成要素の任意の組合せや本発明の構成要素や表現を、方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。
本発明に係る降圧型スイッチングレギュレータおよびその制御回路によれば、重負荷時および軽負荷時において高効率化を実現することができる。
図1は、実施の形態に係る降圧型スイッチングレギュレータ200の構成を示す回路図である。図2は、図1の降圧型スイッチングレギュレータ200を搭載した電子機器300の構成を示すブロック図である。電子機器300は、たとえば携帯電話端末やCDプレイヤ、PDAなどの電池駆動型の小型情報端末である。以下の実施の形態では、電子機器300は携帯電話端末として説明する。
電子機器300は、電池310、電源装置320、アナログ回路330、デジタル回路340、マイクロプロセッサ350、LED360を含む。電池310は、たとえばリチウムイオン電池であり、電池電圧Vbatとして3〜4V程度を出力する。アナログ回路330は、パワーアンプや、アンテナスイッチ、LNA(Low Noise Amplifier)、ミキサやPLL(Phase Locked Loop)などの高周波回路を含み、電源電圧Vcc=3.4V程度で安定動作する回路ブロックを含む。また、デジタル回路340は、各種DSP(Digital Signal Processor)などを含み、電源電圧Vdd=3.4V程度で安定動作する回路ブロックを含む。マイクロプロセッサ350は、電子機器300全体を統括的に制御するブロックであり、電源電圧1.5Vで動作する。LED360は、RGB3色のLED(Light Emitting Diode)を含み、液晶のバックライトや、照明として用いられ、その駆動には、4V以上の駆動電圧が要求される。
電源装置320は、多チャンネルのスイッチング電源であり、チャンネルごと必要に応じて、電池電圧Vbatを降圧、または昇圧する複数のスイッチングレギュレータやリニアレギュレータを備え、アナログ回路330、デジタル回路340、マイクロプロセッサ350、LED360に対して適切な電源電圧を供給する。
本実施の形態に係る図1の降圧型スイッチングレギュレータ200は、図2の電源装置320の1つのチャンネルに用いられ、たとえば1.5Vで動作するマイクロプロセッサ350のように、消費電流が動作状態に応じて変化する負荷に対して、安定な電圧を駆動する用途に好適に用いられる。以下、図1に戻り、本実施の形態に係る降圧型スイッチングレギュレータ200の構成について詳細に説明する。
降圧型スイッチングレギュレータ200は、同期整流方式の降圧型スイッチングレギュレータであり、制御回路100、スイッチングレギュレータ出力回路120を含む。制御回路100は、ひとつの半導体基板に集積化されたLSIチップであり、スイッチング素子として機能するスイッチングトランジスタM1、同期整流用トランジスタM2は、この制御回路100に内蔵される。
スイッチングレギュレータ出力回路120は、出力インダクタL1および出力キャパシタC1を含む。出力キャパシタC1は一端が接地され、他端が出力インダクタL1の一端に接続される。出力インダクタL1の他端は、制御回路100と接続される。この降圧型スイッチングレギュレータ200は、制御回路100によって出力インダクタL1に流れる電流を制御してエネルギ変換を行い、入力電圧Vinを降圧する。降圧された電圧は、出力キャパシタC1により平滑化され、出力端子204に接続される負荷(図示せず)に出力電圧Voutとして供給される。以下、負荷に流れる電流を負荷電流Ioという。本実施の形態において、負荷は、図2のマイクロプロセッサ350に相当する。
制御回路100は、入力・出力端子として、入力端子102、スイッチング端子104、電圧帰還端子106を備える。入力端子102には電池310が接続され、入力電圧Vinとして電池電圧Vbatが入力される。また、スイッチング端子104は、出力インダクタL1に接続され、制御回路100の内部で生成したスイッチング電圧Vswを出力する。また、電圧帰還端子106は、負荷に印加される出力電圧Voutが帰還される端子である。
制御回路100は、パルス信号生成回路10、ドライバ回路20、スイッチングトランジスタM1、同期整流用トランジスタM2を含む出力段30、負荷監視回路40を備える。
パルス信号生成回路10には、降圧型スイッチングレギュレータ200の出力電圧Voutが、電圧帰還端子106を介して入力される。パルス信号生成回路10は、出力電圧Voutが所望の目標電圧Vsetに近づくようにデューティ比が変化するパルス信号SIG10を出力する。パルス信号生成回路10の構成は、一般的に知られた技術を用いることができるため説明を省略する。パルス信号生成回路10によるパルス信号SIG10の生成方法としては、上述した出力電圧Voutをモニタする電圧モード制御や、出力インダクタL1に流れる電流をモニタする電流モード制御などが知られており、これらの中から設計仕様を満たす方式を適宜選択して構成すればよい。
スイッチングトランジスタM1、同期整流用トランジスタM2は、入力電圧Vinが印加される入力端子102と接地端子108間に直列に接続されており、2つのトランジスタの接続点の電圧を、スイッチング電圧Vswとして本制御回路100の外部にスイッチング端子104を介して接続される出力インダクタL1の一端に印加する。スイッチングトランジスタM1は、第1ゲート電圧Vpがローレベルのときがオンし、ハイレベルのときオフする。また、同期整流用トランジスタM2は、第2ゲート電圧Vnがハイレベルのときオンし、ローレベルのときオフする。
スイッチングトランジスタM1は、PチャンネルMOSトランジスタであって、ソースは入力端子102に接続され、ドレインはスイッチング端子104に接続される。スイッチングトランジスタM1のバックゲートは入力端子102と接続される。図1に示すように、スイッチングトランジスタM1は、それぞれオンオフが独立に制御可能なm=2個のセグメントPMOS1、PMOS2に分割して形成される。
同期整流用トランジスタM2は、NチャンネルMOSトランジスタであって、ソースは接地端子108を介して接地され、ドレインはスイッチングトランジスタM1のドレインおよびスイッチング端子104と接続される。また、同期整流用トランジスタM2のバックゲートは接地されている。同期整流用トランジスタM2も、スイッチングトランジスタM1と同様に、それぞれのオンオフが独立に制御可能なn=2個のセグメントNMOS1、NMOS2に分割して形成される。
セグメントPMOS1とセグメントNMOS1は、一組のインバータ(以下、第1インバータともいう)を構成しており、セグメントPMOS2とセグメントNMOS2も一組のインバータ(以下、第2インバータともいう)を構成する。スイッチングトランジスタM1の各セグメントPMOS1、PMOSのサイズをSp1、Sp2とし、同期整流用トランジスタM2の各セグメントNMOS1、NMOS2のサイズをSn1、Sn2とすると、Sp1:Sp2=Sn1:Sn2が成り立つように設計することが望ましい。
第1インバータと第2インバータの電流能力は、等しくなるように設計してもよいし、異なる電流能力を有するよう、たとえば電流能力が1:3程度となるように設計してもよい。以下、第1インバータ、第2インバータの電流能力は1:3に設計されるものとして説明する。
負荷監視回路40は、降圧型スイッチングレギュレータ200の負荷状態を監視する。負荷状態の監視方法としては、出力インダクタL1と直列に抵抗素子を設け、その電圧降下にもとづき、出力インダクタL1に流れる電流を検出する方法がある。また、電流モードによってパルス信号SIG10を生成するような場合には、パルス信号SIG10の周波数をモニタすることによって負荷電流を検出することができる。いずれの方法も、公知の技術を用いることにより当業者は容易に実装することができるため、ここでは詳細な説明は省略する。負荷監視回路40は、監視結果を負荷監視信号SIG12としてドライバ回路20へと出力する。
ドライバ回路20は、パルス信号生成回路10から出力されるパルス信号SIG10および負荷監視回路40から出力される負荷監視信号SIG12にもとづき、スイッチングトランジスタM1のセグメントPMOS1、PMOS2のゲートに印加すべき第1ゲート電圧Vp1、Vp2と、同期整流用トランジスタM2のセグメントNMOS1、NMOS2のゲートに印加すべき第2ゲート電圧Vn1、Vn2と、を生成する。ドライバ回路20は、負荷監視信号SIG12に応じて、スイッチングトランジスタM1および同期整流用トランジスタM2の駆動するセグメント数を適応的に変化させる。
以上のように構成された降圧型スイッチングレギュレータ200の動作について説明する。
負荷としてマイクロプロセッサが接続されるような場合、負荷電流は、演算処理を行わない待機状態において、最も小さな状態となる。このとき、ドライバ回路20は、セグメントPMOS1およびセグメントNMOS1を含む第1インバータのみをアクティブとしてスイッチング動作させ、セグメントPMOS2およびセグメントNMOS2を含む第2インバータを非アクティブとしてスイッチング動作を停止する。マイクロプロセッサが演算処理を開始して負荷電流が少し大きくなると、ドライバ回路20は、第1インバータを非アクティブとする一方、第2インバータをアクティブに切り替える。さらにマイクロプロセッサの演算量が増え、負荷電流が増加すると、第1インバータ、第2インバータの両方をアクティブとして出力インダクタL1に電流を供給する。
このように、本実施の形態に係る降圧型スイッチングレギュレータ200によれば、トランジスタを複数のセグメントに分割することにより、負荷の種類、負荷の状態などに応じて、いずれのセグメントをスイッチング動作させるかを切り替えることができ、トランジスタサイズを制御することができる。上述のように、重負荷時にスイッチング動作を行うセグメント数を増加させた場合、オン抵抗が小さくなるため、電力損失が減少する。また、軽負荷時にスイッチング動作を行うセグメント数を減少させることによりゲート容量が小さくなり、必要なゲートドライブ電流が小さくなるため、回路電流を低減して高効率化を図ることができる。
なお、図1の降圧型スイッチングレギュレータ200では、負荷状態を判定するために負荷監視回路40を設ける場合について説明したが、降圧型スイッチングレギュレータ200が搭載される電子機器300の設計段階において、負荷として接続される回路の消費電流があらかじめ分かっている場合、その消費電流に応じていずれのインバータをアクティブとするかをドライバ回路20に設定しておいてもよい。この場合、負荷監視回路40を設けなくてよい分、回路面積を小さくすることができる。
図3は、図1のスイッチングトランジスタM1、同期整流用トランジスタM2を含む出力段30の変形例を示す回路図である。図3の出力段30は、スイッチングトランジスタM1が大きく2つの領域PMOS1、PMOS2に分割されており、2つの領域がそれぞれ、さらに2つのセグメントPMOS1a、PMOS1b、およびPMOS2a、PMOS2bに分割されている。また、同期整流用トランジスタM2は、2つのセグメントNMOS1、NMOS2に分割される。
すなわち、同期整流用トランジスタM2のセグメント数nと、スイッチングトランジスタM1のセグメント数mには、m=2×nの関係が成り立っている。
スイッチングトランジスタM1のセグメントPMOS1a、PMOS1bおよび同期整流用トランジスタM2のセグメントNMOS1は、第1インバータINV1を構成する。また、スイッチングトランジスタM1のセグメントPMOS2a、PMOS2bおよび同期整流用トランジスタM2のセグメントNMOS2は、第2インバータINV2を構成する。スイッチング端子104a、104bは、いずれもボンディングワイヤなどを介して出力インダクタL1に接続される。
図4は、図3の出力段30の半導体基板110上のレイアウト図である。図3の各端子に対応した電極パッド102a、102b、104a、104b、108は、図4に示すように、半導体基板110の一辺に沿って配置される。スイッチングトランジスタM1は、それぞれがn=2個のセグメントを含む2つの領域M1a、M1bに分割される。分割された2つの領域M1a、M1bは、同期整流用トランジスタM2を挟むように隣接して配置される。さらに、スイッチングトランジスタM1の分割された2つの領域M1a、M1bおよび同期整流用トランジスタM2はそれぞれ、隣接する方向(図面横方向)に対して垂直方向(図面縦方向)にn=2個のセグメントに分割される。
スイッチングトランジスタM1、同期整流用トランジスタM2の上面には、各素子を接続するためのアルミ配線AL1〜AL5が敷設される。アルミ配線AL1は、同期整流用トランジスタM2のセグメントNMOS1とセグメントNMOS2のソース同士を接続し、接地端子108を介して接地する。アルミ配線AL2は、同期整流用トランジスタM2とスイッチングトランジスタM1の領域M1aのドレイン同士を接続し、スイッチング端子104aに対応する電極パッドの位置までスイッチング電圧Vswを導く。アルミ配線AL3は、アルミ配線AL2と同様に、同期整流用トランジスタM2とスイッチングトランジスタM1の領域M1bのドレイン同士を接続し、スイッチング端子104bに対応する電極パッドの位置までスイッチング電圧Vswを導く。アルミ配線AL4は、スイッチングトランジスタM1の領域M1aのセグメントPMOS1a、PMOS2aのソース同士を接続し、入力端子102aに接続する。同様に、アルミ配線AL5は、スイッチングトランジスタM1の領域M1bのセグメントPMOS1b、PMOS2bのソース同士を接続し、入力端子102bに接続する。
一般的なシリコンの半導体プロセスにおいて、PチャンネルMOSFETのドライブ能力は、NチャンネルMOSFETのそれに劣る。したがって、2つのトランジスタのドライブ能力を同等とするためには、PチャンネルMOSFETのトランジスタサイズをNチャンネルMOSFETの二倍程度の面積に設計する必要がある。
そこで、図4に示すように、面積の大きなPチャンネルMOSFETで構成されるスイッチングトランジスタを2つの領域M1a、M1bに2分割して上述の配置とすることにより、配線のインピーダンスを低下させることができ、オン抵抗を好適に下げることができる。
さらに、図3のように出力段30を構成することにより、図1の構成とした場合と同様に、いずれのセグメントをアクティブとするかを、負荷電流に応じて適応的に変化させることができ、重負荷時のオン抵抗の低減と、軽負荷時のゲートドライブ電流の低減を両立することができる。
上記実施の形態は例示であり、それらの各構成要素や各処理プロセスの組合せにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。
実施の形態では、スイッチングトランジスタM1、同期整流用トランジスタM2を2つあるいは4つのセグメントに分割した場合について説明したが、これには限定されず、より多くのセグメントに分割してもよい。この場合、負荷電流に応じてきめ細かなトランジスタサイズの設定を行うことができる。
実施の形態では、スイッチングトランジスタM1としてPチャンネルMOSFETを用いる場合について説明したがこれには限定されない。制御回路100の電源電圧としてある程度高い電圧が供給される場合には、NチャンネルMOSFETを用いてもよい。
実施の形態では、制御回路100がひとつのLSIに一体集積化される場合について説明したが、これには限定されず、一部の構成要素がLSIの外部にディスクリート素子あるいはチップ部品として設けられ、あるいは複数のLSIにより構成されてもよい。スイッチングトランジスタM1、同期整流用トランジスタM2をでディスクリート部品で構成した場合、図1や図3のセグメントに対応させた複数のMOSFETを並列に設けることにより、同等の機能を実現することができる。
実施の形態に係る降圧型スイッチングレギュレータの構成を示す回路図である。 図1の降圧型スイッチングレギュレータを搭載した電子機器の構成を示すブロック図である。 図1のスイッチングトランジスタ、同期整流用トランジスタを含む出力段の変形例を示す回路図である。 図3の出力段の半導体基板上のレイアウト図である。
符号の説明
M1 スイッチングトランジスタ、 M1a 領域、 M1b 領域、 NMOS1 セグメント、 PMOS1 セグメント、 L1 出力インダクタ、 C1 出力キャパシタ、 M2 同期整流用トランジスタ、 NMOS2 セグメント、 PMOS2 セグメント、 20 ドライバ回路、 40 負荷監視回路、 100 制御回路、 120 スイッチングレギュレータ出力回路、 200 降圧型スイッチングレギュレータ、 300 電子機器、 310 電池。

Claims (6)

  1. 同期整流方式の降圧型スイッチングレギュレータの制御回路であって、
    出力インダクタおよび出力キャパシタを含むスイッチングレギュレータ出力回路にスイッチング電圧を供給するPチャンネルMOSFETであるスイッチングトランジスタおよびNチャンネルMOSFETである同期整流用トランジスタと、
    前記スイッチングトランジスタおよび前記同期整流用トランジスタを相補的にオンオフするドライバ回路と、を備え、
    前記同期整流用トランジスタを、それぞれのオンオフが独立に制御可能なn個(nは2以上の整数)のユニットに分割して形成し、前記スイッチングトランジスタを、それぞれのオンオフが独立に制御可能な2×n個のユニットに分割して形成したことを特徴とする制御回路。
  2. 前記降圧型スイッチングレギュレータの負荷状態を監視する負荷監視回路をさらに備え、
    前記ドライバ回路は、軽負荷状態になるに従い、前記スイッチングトランジスタおよび前記同期整流用トランジスタの駆動するユニット数を減少させることを特徴とする請求項1に記載の制御回路。
  3. 前記スイッチングトランジスタおよび前記同期整流用トランジスタを1つの半導体基板上に一体集積化し、
    前記スイッチングトランジスタのn個のユニットが形成される領域と前記スイッチングトランジスタの残りのn個のユニットが形成される領域に挟まれた領域に、前記同期整流用トランジスタのn個のユニットが形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の制御回路。
  4. 前記スイッチングトランジスタのn個のユニットが形成される領域、前記同期整流用トランジスタのn個のユニットが形成される領域、前記スイッチングトランジスタの残りのn個のユニットが形成される領域は、第1の方向に隣接して形成され、
    各領域内において、n個のユニットは、前記第1の方向と垂直な第2の方向に隣接して配置されることを特徴とする請求項3に記載の制御回路。
  5. 一端が接地された出力キャパシタおよび前記出力キャパシタの他端にその一端が接続された出力インダクタを含むスイッチングレギュレータ出力回路と、
    前記スイッチングレギュレータ出力回路に、前記スイッチング電圧を供給する請求項1からのいずれかに記載の制御回路と、
    を備え、前記出力キャパシタの他端の電圧を出力することを特徴とする降圧型スイッチングレギュレータ。
  6. 電池と、
    前記電池から出力される電池電圧を降圧して負荷に供給する請求項に記載の降圧型スイッチングレギュレータと、
    を備えることを特徴とする電子機器。
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