JP4797687B2 - めっき装置 - Google Patents
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Description
本発明は、上述の課題に鑑みてなされ、その目的は、装置構成を簡単にして、良好なめっきを行うことができるめっき装置を提供することにある。
請求項4に記載の発明は、請求項1〜3のいずれか1つに記載のめっき装置において、前記拡散流体は、超臨界流体又は亜臨界流体であることを要旨とする。
請求項6に記載の発明は、請求項1〜5のいずれか1つに記載のめっき装置において、前記分散促進剤がフッ素系化合物であることを要旨とする。
請求項1に記載の発明によれば、めっき処理中において、めっき液の分散状態が良好なめっき分散体を、めっき槽に継続して注入することができる。従って、めっき槽内では、拡散流体に対するめっき液の分散状態が良好であり、かつ拡散流体によってめっき液の拡散力が高められためっき分散体によって、めっきが行われるため、付き回りがよい良好なめっき皮膜を形成することができる。このため、めっき分散体の分散安定性が維持される時間が短い場合であっても、めっき液の分散状態が良好なめっき分散体を、めっき槽に継続して注入することができるため、良好なめっきを行うことができる。
請求項5に記載の発明によれば、拡散流体は、二酸化炭素である。従って、拡散流体として用いるCO2は、めっきの副反応によって発生した水素を溶解するので、ピンホールの発生を更に抑えることができる。
図1に示すように、本実施形態のめっき装置は、液体のCO2を収容したCO2タンク21を有している。本実施形態では、このCO2タンク21が第2供給手段に相当する。このCO2タンク21は、CO2供給管を介して、混合分散手段としての後述する混合分散部60に接続されている。このCO2供給管には、液ポンプ22、加熱部23及び供給弁24が設けられている。液ポンプ22はCO2を加圧するために用いられる。加熱部23は、CO2を加熱するために用いられる。供給弁24は、開閉制御されることにより、CO2タンク21と混合分散部60との連通・遮断を行い、混合分散部60へのCO2の供給又は供給停止を制御する。
本実施形態の混合分散部60は、混合器60aと分散機60bとを有する。混合器60aは、CO2、分散促進剤及びめっき液を混合し、分散機60bは、混合したこれらを拡散させて、CO2とめっき液とを分散させためっき分散体を形成する。
まず、遮断弁601及び遮断弁602を閉じた状態で、めっき装置に、被めっき材Wを挿入しためっき槽61を取り付ける。そして、めっき槽61に配設された一対の電極の一方を、挿入した被めっき材Wに取り付ける。この取り付けの完了後、遮断弁601と遮断弁602とを開く。
本実施形態では、めっき処理を行なっている間、各ポンプを駆動し続け、混合分散部60において混合分散されためっき分散体をめっき槽61に供給しながら、めっきを行う。これにより、めっき処理によりめっき分散体中に溶解した水素ガスや被めっき材Wの表面から剥離した不純物は速やかにめっき槽61から排出される。
・ 本実施形態では、CO2、分散促進剤及びめっき液が混合分散部60の混合器60aにおいて混合され、混合分散部60の分散機60bで攪拌されて、めっき分散体となった後に、めっき槽61に供給される。めっき槽61では、電極に電圧を印加して、めっきを行う。本実施形態では、めっき分散体には、超臨界状態のCO2が混在しているため、この超臨界状態のCO2の拡散力により、めっき皮膜の付き回りがよくなる。
○ 本実施形態では、めっき槽61はめっき装置から着脱可能である。このため、例えば、めっき処理を行った被めっき材Wのめっき槽61を離脱させ、この代わりに、まだめっきを行っていない被めっき材Wのめっき槽61を取り付けて、めっきを行うようにしてもよい。すなわち、めっき槽61は、被めっき材Wを治具で固定し、めっき分散体を連続で流しながらめっき可能なカートリッジ構造にすることができるので、被めっき材Wの大きさに合わせてデッドボリュームの小さいめっき槽61にすることができる。従って、めっき槽61を小さくできる。また、電解めっきの場合には、このカートリッジ構造に通電を行なう手段を設ければよい。
(a)前記めっき槽から排出されためっき分散体から、前記拡散流体を分離する分離槽を設け、この分離槽で分離しためっき液を再生して前記第1供給手段に供給するとともに、この分離槽で分離した拡散流体を再生して前記第2供給手段に供給することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載のめっき装置。
(実施例1)
図1に示されるめっき装置を用いるとともに、陰極に真鍮板、陽極に白金がコーティングされたチタン板を用いて金めっきを行った。拡散流体にはCO2、めっき液には市販の酸性金めっき浴((株)高純度化学研究所 Auメッキ液 K−24EA10)を用いた。フッ素系化合物としては、ペルフルオロポリエーテル系界面活性剤(F(CF(CF3)CF2O)3 CF(CF3)COOCH2CH2OCH3)を用い、CO2に対して0.5重量%の濃度になるように加えた。分散機60bの内部及びめっき槽61の内部の温度を50℃、圧力を10MPaに設定し、電流密度0.5A/dm2で200秒間通電することにより、めっき処理を完了した。この結果、真鍮板に形成された金めっき皮膜の厚さは、約1μmであった。
陰極に真鍮板、陽極に白金がコーティングされたチタン板を用い、通常の金めっきを行った。金めっき液には、市販のめっき浴((株)高純度化学研究所 Auメッキ液 K−24EA10)を用いた。このめっき浴の温度を50℃に設定し、電流密度0.5A/dm2で200秒間通電することにより、めっき処理を完了した。この結果、真鍮板に形成された金めっき皮膜の厚さは、約1μmであった。
Claims (6)
- めっき液を供給する第1供給手段と、
前記めっき液に混合され、このめっき液の拡散力を高める拡散流体を供給する第2供給手段と、
前記第1供給手段及び前記第2供給手段に接続され、前記拡散流体と前記めっき液と該めっき液の分散を促進する分散促進剤とを含有するめっき分散体を形成するための混合分散手段と、
前記混合分散手段から供給されるめっき分散体を用いて、被めっき材にめっきを行うためのめっき槽と、
めっき処理中に継続して、前記めっき槽に前記めっき分散体を供給する注入手段と、
めっき処理中に継続して、前記めっき槽から前記めっき分散体を排出する排出手段と
を備えていることを特徴とするめっき装置。 - 前記めっき分散体が、分散状態を維持可能な時間内で前記めっき槽を通過するように、前記めっき分散体の流速を調整するために前記注入手段、前記排出手段を制御する制御手段を設けたことを特徴とする請求項1に記載のめっき装置。
- 前記めっき槽が、着脱可能であることを特徴とする請求項1又は2に記載のめっき装置。
- 前記拡散流体は、超臨界流体又は亜臨界流体であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のめっき装置。
- 前記拡散流体は、二酸化炭素であることを特徴とする請求項4に記載のめっき装置。
- 前記分散促進剤がフッ素系化合物であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載のめっき装置。
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