JP4404884B2 - 被処理物の表面処理装置 - Google Patents
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したがって、複数の浴槽とその作業スペ−スを要して設備費が高価になるとともに、処理液の飛散や有害なガスが発生する状況下での作業を強いられて作業環境が悪く、しかも前記浸漬に長時間を要して生産性が悪い、という問題があった。
請求項5の発明は、前記チャンバに、横断面形状が円形の大小異径の複数の被処理物収納容器を前記電極を中心に互いに同心円状に配置し、槽本体と被処理物収納容器の製作の合理化とコンパクト化を図るとともに、多数の被処理物を効率良く収容かつ処理可能にし、その量産化を図るとともに、表面処理流体や処理溶液等の攪拌を精度良く行なえるようにしている。
請求項5の発明は、前記チャンバに、横断面形状が円形の大小異径の複数の被処理物収納容器を前記電極を中心に互いに同心円状に配置したから、槽本体と被処理物収納容器の製作の合理化とコンパクト化を図れるとともに、多数の被処理物を効率良く収容かつ処理可能にし、その量産化を図れるとともに、表面処理流体や処理溶液等の攪拌を精度良く行なうことができる。
前記反応槽4の後方直下に分離槽である耐圧性の処理液回収槽11が設けられ、該処理液回収槽11は前記反応槽4と略同一の容積と耐圧能力を備え、前記反応槽4内の処理後の処理液を重力作用によって流下し、これを加熱して、二酸化炭素と処理液を分離可能にしている。
前記反応槽4の下流側に耐圧性の分離槽14が設けられ、該分離槽14は前記処理液回収槽11と同形かつ同様に構成されていて、その減圧かつ加熱作用を介して、処理ガス中の油脂分を分離し除去可能にしている。
この他、19は種々の電気機器を内蔵した制御盤、20は整流器、21はリレ−ボックス、22はトランス、23は油槽、24は脱水装置である脱水カラムである。
前記槽本体25の上部外周面に縮径状のクランプシ−ル部28が設けられ、該シ−ル部28の中高部周面に舌片状の複数のクランプ爪29が形成されている。
このうち、前記環状溝31に前記クランプ爪29が係合し、該溝31の直下に舌片状の複数のクランプ爪33が形成され、該クランプ爪33を前記クランプ爪29に係合可能にしている。
前記蓋体6は大小複数段の円板状に形成され、その最大径部周面に複数のクランプ爪35が形成され、該クランプ爪35が前記クランプ爪34と係脱可能にされていて、蓋体6を着脱可能にしている。
また、大径側の前記貫通孔41,41に同様な電極棒45,46が挿入され、これらに正電位と負電位が印加されている。
前記電極管48は、カ−ボンやフェライト等の不溶性電極部材で構成され、電解溶液に晒され、かつ電界内に置かれても溶出不可能にされている。
また、負電位を印加した電極棒46の下端部にカ−ボン等の導電部材(図示略)の一端が取り付けられ、この他端が前記被処理物収納容器5の上端部に通電可能に接続されている。
前記加熱器57はヒ−タと撹拌器を備え、前記二酸化炭素を超臨界または亜臨界状態に形成可能な温度に加熱し、これを導管58および導入弁59を介して反応槽4へ供給可能にしている。
なお、第1および第2処理槽7,8 にはヒ−タと攪拌器が装備されている。
前記ガス回収弁65は、脱脂洗浄工程および乾燥工程の際に開弁され、酸洗い工程とメッキ処理工程時に閉弁可能にされている。
また、前記調圧弁66は、該弁66より下流側の管路、つまり処理ガス導管64の圧力を低圧、実施形態では6MPaに設定可能にしている。
前記処理液回収管69は、精製部を介して第1および第2処理液槽7,8に連通し、該管69に調圧弁70と遮断弁71が介挿され、前記調圧弁70によって処理液の圧力を略大気圧に調圧可能にしている。
前記遮断弁73は、前記処理液回収槽11に排出した酸洗い溶液やメッキ液の処理過程で、分離した二酸化炭素とバイパス管72へ導き、これをガス回収管64へ移動可能にしている。
図中、74,75,76は反応槽4および処理液回収槽11、分離槽14に設けたヒ−タである。
前記反応器78は、略筒状の容器に鉄とクロムとアルミニウムの金属を基体組成とする触媒を内蔵し、該触媒に処理ガスを通過させて接触させ、反応槽4での酸洗いやメッキ処理過程で発生した水素と酸素を燃焼して水を生成し、水素と酸素を除去するとともに、前記生成した水を前記脱水カラム24,24に吸収可能にしている。
前記凝縮回収槽17の出口に注入管81の一端が接続され、この他端が前記導管56の中流部に接続されている。前記注入管81にク−ラ−82と加圧ポンプ16とが介挿され、前記凝縮回収槽17から流出した気液混合の二酸化炭素を確実に液化し、これを加圧して加熱器57へ供給可能にしている。
しかも、使用後の二酸化炭素や処理液を一次的に収容する貯留槽を実質的に廃したから、その分設備のコンパクト化と低廉化を図れ、また処理液等の再生および循環を速やかに行なえる。
しかも、使用後の酸洗い溶液やメッキ液等を系外に排出せず、再生して使用しているから、これらの消費を最小限に抑制し、メッキコストの低減を図れる。
したがって、被処理物に対する多層メッキを確実に実現することができる。
このうち、処理液回収槽11と分離槽14は略同形同大で開閉かつ気密可能に構成され、適当な加熱装置を備えている。
また、反応槽4は、図6のように槽本体25と蓋体6とクランプリング27を有し、該クランプリング27を適当なアクチュエ−タ(図示略)介して、回動可能にしている。
したがって、これらと蓋体6とは一体に組み付けられ、後述のようにチャンバ36からの出し入れを容易かつ速やかに行なえるとともに、これらを反応槽4から取り出せることで、これらと反応槽4のメンテナンスを容易に行なえる。
その際、被処理物収納容器5の中央に、撹拌軸42とその周面に電極管48を位置付け、また一方の電極棒45の下端に導電部材47の一端を取り付け、この他端を前記電極管48に電気的に接続する。
前記槽本体25の開口部外周に予めクランプリング27が装着され、該リング27の複数のクランプ爪34間に、蓋体6の複数のクランプ爪35を嵌合する。
このようにすると、ガスボンベ54に充填した液化二酸化炭素が噴出して気化し、この気化した二酸化炭素が導管56に導かれて凝縮回収槽17へ移動し、該回収槽17で冷却液化して気液混合状態になる。
前記液化した二酸化炭素は、加圧ポンプ16へ導かれて略10MPa、密度0.4以上に加圧され、更に加熱装置57で略50℃に加熱されて、超臨界状または亜臨界態に達し、この状態で導管58から反応槽4へ流入する。
また、前記二酸化炭素の一部は、反応槽4から処理液排出管12を経て処理液回収槽11へ流入し、該槽11を昇圧するとともに、バイパス管72に導かれて前記ガス回収管64に合流し、これらの管路を昇圧する。
しかも、従来のエマルジョン洗浄のような水、溶液の使用を廃しているから、その分被処理物等の後述の乾燥を促す。
前記回収後、前記処理ガスは反応器78へ導かれ、該反応器78に内蔵した金属触媒に接触して、処理ガス中の酸素と水素が燃焼し、それらが除去されるとともに、水が生成される。
この後、前記処理ガスは、調圧弁85で更に減圧されて脱水カラム24へ移動し、該カラム24で前記生成した水分が吸収されて再生され、この再生ガスがリタ−ンパイプ79を下流側へ移動する。
また、前記二酸化炭素は、系内を循環する間に脱脂洗浄と汚染物の分離を行なった後に再生され、その有効利用を図っている。
そして、その間、二酸化炭素は系外へ一切排出されないから、二酸化炭素の消耗ないし消費が極めて少なく、その消耗分だけガスボンベ54から補給される。
なお、反応槽4の超臨界状態形成後、処理液排出弁13を閉弁して脱脂洗浄を行なってもよい。
この酸洗いに際しては、反応槽4の密閉状態や被処理物収納容器5の収納状態、被処理物の収納状態はそのまま維持され、この状況の下で、例えば加圧ポンプ16とモ−タ44の駆動を一旦停止し、凝縮回収槽出入口弁80、導入弁59、処理液排出弁13、ガス回収弁65等を閉弁する。
すなわち、反応槽4を周辺の管路から遮断し、代わりに酸洗い溶液収納タンク15の開閉弁(図示略)を開弁して、その送液ポンプ(図示略)を駆動し、加温した酸洗い溶液を反応槽4へ供給する。
また、前記反応槽4は、前記脱脂洗浄時と同様に密閉されて高圧状態を維持し、ヒ−タ74が加熱されて超臨界状態を維持している。
この場合、酸溶液に適当な界面活性剤を添加して乳濁すれば、酸化皮膜が均一かつ効率良く除去され、酸洗い能率が向上する。
そして、所定時間酸洗い後、処理液排出弁13とガス回収弁65を開弁する。
このうち、密度の低い二酸化炭素がガス回収管64側へ流出し、密度の大きい使用後の酸洗い液が、酸化被膜と一緒に処理液排出管12に導かれ、処理液回収槽11へ流下する
また、処理液回収槽11はバイパス管72を介してガス回収管64に連通しているから、前記酸洗い液の流入圧力を吸収し緩衝する。
また、前記酸洗い時は、反応槽4を周辺の管路から遮断して行なっているから、系内、特にガス回収管64、リタ−ンパイプ79側への酸洗い液の流出を防止し、酸洗い液による腐食を防止できる。
この場合は、前記脱脂洗浄後に閉弁した凝縮回収槽出入口弁80、ガス導入弁59、ガス回収弁65を開弁し、かつ加圧ポンプ16を駆動して、加圧二酸化炭素を反応槽4内へ供給ないし補給し、反応槽4内の超臨界状態を維持形成するとともに、前記二酸化炭素を系内に循環移動する。
その際、前記ファン43の回転によって、前記乳濁物質を撹拌し、前記電解ニッケルイオンを均一に分布させて、該イオンを被処理物の表面に緻密に付着させる。
したがって、電解質溶液中で陽極物質を電解し析出、付着する従来のメッキ法に比べて、いわゆるメッキのつき廻りが非常に良く、被処理物の表面および裏面に均一かつ緻密なメッキ状態を得られ、良好な仕上がり面を得られる。
また、電極管48を不溶性部材で構成し、電解液および電界中に置かれても溶出しないから、従来のように電極が消耗し取り換える面倒がない。
このようにすると、反応槽4内が減圧され、超臨界二酸化炭素が減圧されて急激に気化または液化し、これがメッキ液ないし界面活性剤と二層状態を形成する。
このうち、密度の小さな二酸化炭素がガス回収管64に押し出され、密度の大きなメッキ液ないし界面活性剤が処理液排出管12へ押し出され、処理液回収槽11へ流下する。
また、メッキ液ないし界面活性剤は、調圧弁70を介し略大気圧に降圧して精製部(図示略)へ移動し、これを精製後に第1若しくは第2処理槽7,8へ流下させる。
このようにこの実施形態は、使用後のメッキ液と界面活性剤を元の第1若しくは第2処理槽7,8へ戻して再利用を図っている。
この場合は、前記加圧ポンプ16の運転を続行し、超臨界二酸化炭素を反応槽4内へ供給ないし補給し、被処理物や電極管48、被処理物収納容器5、導電部材47等に付着したメッキ液等と接触し、これを高速に拡散してガス回収管64へ押し出す。
そして、位置決めピン(図示略)を抜き取り、アクチュエ−タを介してクランプリング27を開回動し、該リング27のクランプ爪34と蓋体6のクランプ爪35との係合を解除する。この状況は図8のようである。
この後、ボルト39を取り外し、被処理物収納容器5を蓋体6から取り外し、内部の被処理物を取り外せば一連のメッキ作業が終了する。
したがって、従来の重ねメッキのように、メッキ終了毎に被処理物を反応槽からいちいち取り出し、これを各槽へ移動して前処理を行なう面倒がなく、それだけ生産性が向上するとともに、二酸化炭素等の放出による消費を防止できる。
しかも、従来のように被処理物を反応槽から取り出す際の外気との接触の不安を解消しているから、被処理物表面の活性処理面を確実かつ安全に維持でき、前記重ねメッキに有効な利点がある。
このうち、図10は本発明の第2の実施形態を示し、この実施形態は、電極棒45,46の極性を整流器20の単純な切り換え操作で実現している。
しかも、その際の電気力線は、被処理物収納容器5から内側の電極管48に向かって放射状に形成され、前述と同様な作用効果を得られる。
この場合、被処理物収納容器5,5a,5bを同心円状に配置しているが、両者を平行に対向配置する従来のメッキ法や、略矩形断面の反応槽にも適応することができる。
また、反応槽に電解物質と電極物質を収容し、一方の電極物質を電解し、これを他方の電極物質側で採集する電解法にも、本発明を適用することが可能であり、そのようにすることで、例えば金属の電解精製、電解抽出、電解研磨等に適用することができ、前述と同様な効果を得られる。
5 治具(被処理物収納容器)
6 蓋体
11 分離槽(処理液回収槽)
14 分離槽
24 脱水装置(脱水カラム)
36 チャンバ
42 撹拌軸
43 撹拌手段(ファン)
45,46 電極(電極棒)
48 電極(電極管)
78 反応器
Claims (6)
- 被処理物を着脱可能に装着する被処理物収納容器をチャンバに収容可能な槽本体と、該槽本体の開口部を密閉可能な蓋体とを有する反応槽とを備え、前記チャンバに表面処理流体を給排可能にするとともに、前記蓋体に前記被処理物収納容器を着脱可能に装着し、該被処理物収納容器を蓋体と一体に前記チャンバに出し入れ可能にした表面処理装置において、前記蓋体の周面に複数のクランプ爪を突設するとともに、槽本体の上部周面に縮径状のクランプシ−ル部を形成し、該クランプシ−ル部の中間部に複数のクランプ爪を突設し、前記蓋体と槽本体の接合部周面に亘ってクランプリングを回動かつ係脱可能に装着し、該クランプリング内面の中間部の上下位置に前記蓋体と槽本体の各クランプ爪に係合可能な環状溝を形成し、該環状溝の間に前記各クランプ爪に係合可能なリング状の係止部を形成し、かつクランプリング内面の上端部に前記蓋体のクランプ爪と係合可能な複数のクランプ爪を突設するとともに、クランプリング内面の下端部をクランプシ−ル部の段部に係合可能に配置したことを特徴とする被処理物の表面処理装置。
- 前記チャンバに、超臨界若しくは亜臨界二酸化炭素、または超臨界若しくは亜臨界二酸化炭素と酸洗い液と界面活性剤、超臨界若しくは亜臨界二酸化炭素と電解液と界面活性剤とを、選択的に給排可能にした請求項1記載の被処理物の表面処理装置。
- 前記蓋体に複数の棒状の電極を取り付け、該電極と前記蓋体と被処理物収納容器とを一体に移動可能に設けた請求項1記載の被処理物の表面処理装置。
- 前記チャンバの中心に前記一つの電極を配置した請求項3記載の被処理物の表面処理装置。
- 前記チャンバに、横断面形状が円形の大小異径の複数の被処理物収納容器を前記電極を中心に互いに同心円状に配置した請求項4記載の被処理物の表面処理装置。
- 前記被処理物収納容器を縦方向に二つ割りに形成し、それらの基端部を回動可能に連結し、その他端部をクリップ手段で連結した請求項1記載の被処理物の表面処理装置。
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