JP4791491B2 - ポンプダウン性能を改良したバルブ組立体 - Google Patents

Description

本開示は、全体としてバルブ組立体に関し、更に詳細には、圧力を解放し且つ改良されたポンプダウン性能すなわち圧力を低減させる性能を提供する通路を持つ摺動板を含む、新規であり且つ改良されたバルブ組立体に関する。

滑り弁組立体及びゲート弁組立体は、全体として、入口と出口との間を延びる流路を形成するハウジングを含む。滑り弁組立体は、例えば、半導体製造工程、又は例えば１トル（１．３３３ｈＰａ）又はそれ以下の非常に低い圧力（高真空）で実施される他の薄膜コーティング工程で使用されるような、高純度ガス送出システムの一部を形成するため、処理チャンバと真空ポンプとの間を連結できる。このような場合には、バルブ組立体の入口のフランジは、処理チャンバに固定され、バルブ組立体の出口のフランジは、真空ポンプに固定される。

滑り弁組立体は、バルブ組立体の流路の軸線に関して、開放位置と閉鎖位置との間で横方向に移動する摺動板を含む。振り子型滑り弁組立体では、摺動板は、枢動アームによって回転自在のシャフトに連結されている。完全に開放した位置では、摺動板は、ハウジングの流路の外に移動しており、そのため流体は流路に自由に出入りできるが、閉鎖位置では、摺動板は、弁座又はバルブ組立体の出口を取り囲む環状面とぴったりと接触した状態に移動しており、そのため、流路を通る導通性（ｃｏｎｄｕｃｔａｎｃｅ）が制限される。摺動板を移動させるには、通常は、完全開放位置（即ち、第１開放位置）と、中間位置（即ち、第２開放位置）との間での回転（即ち、枢動又は横方向移動）移動を必要とし、次いで、中間位置から、摺動板が出口の弁座とぴったりと接触した閉鎖位置まで、少なくとも或る程度の長さ方向（即ち、並進移動、線型移動、又は軸線方向移動）移動が必要とされる。

オルムステッドに付与された、本開示の譲受人に譲渡された米国特許第６，０８９，５３７号には、完全開放位置と完全閉鎖位置との間の摺動板の回転移動及び長さ方向移動を正確に制御する簡単な回転カム機構を使用する、振り子型バルブ組立体が開示されている。同特許に触れたことにより、この特許に開示された内容は本明細書中に含まれたものとする。このカム機構は、更に、摺動板を出口の弁座から遠ざかる方向に押圧するように作用するばねを含む。

幾つかの現存の振り子型バルブは、更に、シールリングを摺動板に対して独立して作動する場合に完全なシール（遮断）を提供するシールリングを含む。ブリダに付与された米国特許第５，５７７，７０７号には、例えば、摺動板を閉鎖位置に枢動するとき、摺動板に向かって、及びこれから遠ざかるように移動できるシールリングを含む振り子型滑り弁が開示されている。摺動板が閉鎖位置にあるとき、シールリングは、摺動板を弁座に対してぴったりと閉鎖するため、及び摺動板とシールリングとの間にシールを形成するため、ばね又は圧縮空気を使用して摺動板に押し付けられる。

シールリングは、代表的には、バルブ組立体に対して遮断機能を提供し、導通性の制御には使用されない。通常は、シールリングは、定置状態に保持されており、摺動板が移動して導通性を制御する。しかしながら、２００３年９月２９日に出願された、本開示の譲受人に譲渡された現在継続中の米国特許出願第１０／６７３，９８９号には、バルブの初期開放中の導通性の制御を改善するようになったシールリングを持つ、振り子型バルブ組立体が開示されている。同特許出願に触れたことにより、この特許出願に開示された内容は本明細書中に含まれたものとする。

処理チャンバと真空ポンプとの間のバルブ組立体の作動は、通常は、遮断、ポンプダウン（すなわち圧力低減、以下ポンプダウンと呼ぶ）及び絞り（ｔｈｒｏｔｔｌｉｎｇ）の三つの段階を含む。遮断段階中、シールリングは遮断機能を提供し、バルブ組立体の入口と出口との間の圧力差が大きい。ポンプダウン段階中、シールリングが摺動板から遠ざかる方向に移動し、摺動板と出口の弁座との間で導通性が徐々に増大し、バルブ組立体の入口と出口との間の圧力差が減少する。絞り段階中、摺動板と出口の弁座との間で導通性は所定の一定レベルに維持され、バルブ組立体の入口と出口との間の圧力差は比較的低いが一定のままである。絞り手順は、半導体デバイスの加工中、取り付けられた処理チャンバ内に所望の低い圧力（即ちプロセス圧力）を維持するのに使用される。

幾つかの現存のゲート弁又は振り子型バルブの一つの欠点は、バルブのチャンバ側とポンプ側との間に大きな圧力差が存在する場合、摺動板を初期移動してバルブを開放するのに大きな力が必要とされるということである。このような大きな力は、大きな駆動機構を必要とし、このような大きな駆動機構は、バルブ組立体を大きくし且つその費用を追加する。別の態様では、振り子型バルブのチャンバ側に別体のバイパスバルブを連結してもよい。摺動板の初期移動に大きな駆動機構が必要とされないように、振り子型バルブの開放前にこのバイパスバルブを作動して振り子型バルブのチャンバ側の圧力を下げる。しかしながら、この場合も、バルブ組立体を大きくし且つその費用を追加する。

大きな駆動機構や別体のバイパスバルブを使用しない場合には、ポンプダウン手順は、摺動板と弁座との間に導通性を発生するのに、及び圧力差を所望のレベルまで低下するのに長い期間を要する。しかしながら、長いポンプダウン期間は、半導体デバイスの加工において望ましくない。これは、このような長い期間が、最終的には、加工した半導体デバイスの生産量を低下してしまうためである。
米国特許第６，０８９，５３７号 米国特許第５，５７７，７０７号 米国特許出願第１０／６７３，９８９号

新規であり且つ改善されたバルブ組立体が未だ所望とされている。好ましくは、新規であり且つ改善されたバルブ組立体は、摺動板の開放前に、バルブ組立体のチャンバ側（即ち、バルブ組立体の入口）とポンプ側（即ち、出口）との間の高い圧力差を自動的に減少し、その結果、ポンプダウン手順中に摺動板を最初に移動してバルブを開放する上で、大きな駆動機構や別体のバイパスバルブを必要としないようになっている。更に、高い圧力差を自動的に減少することにより、好ましくは、半導体デバイスの加工中のポンプダウン期間を短くする。

本開示は、バルブ組立体の摺動板の開放前に、バルブ組立体の入口と出口との間の圧力を自動的に減少するようになった、新規であり且つ改良されたバルブ組立体を提供する。従って、摺動板を最初に移動してバルブを開放するのに大きな力を必要としない。大きな駆動力が必要とされないため、バルブ組立体を大きくし且つその費用を追加する大きな駆動機構もまた、必要とされない。更に、高い圧力差の自動的減少は、バルブ組立体を大きくし且つその費用を追加する別体のバイパスバルブを使用せずに行われる。更に、新規であり且つ改良されたバルブ組立体により、大きな駆動機構や別体のバイパスバルブを使用せずに、ポンプダウン手順を比較的迅速に行うことができる。

一つの例示の実施例によれば、バルブ組立体は、出口まで延びる流路と、流路内及び出口の周囲の弁座とを持つハウジングを含む。摺動板がハウジング内に配置されている。この摺動板は、弁座と接触し、流路を通る流れを遮断する閉鎖位置と、流路を通る流れを許容する開放位置との間で、流路の長さ方向軸線方向に対して横方向に移動自在である。摺動板が閉鎖位置にあるときに摺動板と弁座との間に所定量の導通性を提供するため、摺動板及び弁座のうちの少なくとも一方に、少なくとも一つの通路が設けられている。通路により、ポンプダウン手順中に摺動板を開放位置に移動する前に、バルブ組立体の入口と出口との間で圧力を低下できる。

別の例示の実施例によれば、バルブ組立体の流路は、入口から出口まで延びており、流路内及び入口の周囲に弁座を形成する。組立体は、更に、入口の弁座と摺動板との間の流路内に同軸に位置決めされたシールリングを含む。シールリングは、摺動板と入口の弁座との間にシールを形成するため、流路内で摺動板に向かって軸線方向に移動自在である。

別の例示の実施例によれば、摺動板及びシールリングの少なくとも一方が、シールリングの移動中に摺動板とシールリングとの間の導通性を向上するための少なくとも一つの通路を備えている。

本開示のこの他の特徴及び利点は、本開示を実施する上で最良と考えられる態様の単なる例示である本発明の例示の実施例を図示し且つ説明する以下の詳細な説明を読むことにより、当業者に明らかになるであろう。わかるように、本開示は、この他の及び異なる実施例が可能であり、その幾つかの詳細を、様々な明らかな特徴について、本開示を逸脱することなく、変更できる。従って、添付図面及び以下の説明は、例示であると考えられるべきであって、制限であると考えられるべきではない。

添付図面を参照すると、同じ参照番号を付したエレメントは、全図に亘り、同じエレメントを示す。

次に、図１及び図２を参照すると、本開示に従って形成された振り子型バルブ組立体１０の例示の実施例は、全体として、入口１８と出口２０との間を延びる流路１４を形成するハウジング１２を含む。弁座２２、２４が、ハウジング１２の流路１４に、開口部１８、２０の縁部に亘って設けられている。図示のように、組立体は、ハウジング内に作動的に取り付けられた振り子型バルブ１６を含む。この振り子型バルブ１６は、流路１４から完全に外れた第１開放位置と、図２に示すように流路１４内にある第２開放位置との間で枢動自在の摺動板２６を有する。摺動板２６が流路１４内の第２開放位置にある場合、摺動板２６により、出口２０を通る流体流れを減少できる。摺動板２６は、更に、流路１４の内側の第２開放位置から、出口２０の弁座２４に当たり、出口２０を通る流体流れを実質的に阻止する、制御可能な導通性（ｃｏｎｄｕｃｔａｎｃｅ）が最小の位置（即ち実質的に閉鎖された位置）まで軸線方向に移動できる。この実質的に閉鎖された位置では、摺動板２６は、出口２０の弁座２４と物理的に接触していてもよいし接触していなくてもよく、小さな隙間があってもよい。

図示していないけれども、振り子型バルブ組立体１０の入口１８は、例えば、処理チャンバに連結でき、出口２０は、１トル（１．３３３ｈＰａ）又はそれ以下のオーダーの圧力等の非常に低い圧力（高度の真空）で実施される半導体製造工程及び他の薄膜コーティング工程で使用されるような真空ポンプに連結でき、高純度ガス送出装置の一部を形成する。一般的には、半導体ウェーハ等の加工物をチャンバ内に置き、処理用ガスをチャンバに導入して加工物と所定の方法で化学的に反応させる。

振り子型バルブ組立体１０は、摺動板２６が流路１４の完全に外に配置された第１開放位置と、図２に示すように流路１４の内側に配置された第２開放位置と、出口２０の弁座２４に当たった実質的に閉鎖された位置との間で、処理チャンバと真空ポンプとの間の導通性の制御を補助する。これによって、振り子型バルブ組立体１０は、導通性を制御することによって、処理チャンバ内の圧力を制御するのに使用できる。処理チャンバと真空チャンバとの間の距離は、好ましくは、振り子型バルブ組立体１０の入口１８と出口２０との間の距離（即ちフランジ−フランジ寸法）が最小になるように、できるだけ小さくされるということに着目されるべきである。

図１及び図２を更に参照すると、バルブ組立体１０は、流路１４を同軸に取り囲むシールリング３０を更に含む。シールリング３０は、ハウジング１２の入口１８に、摺動板２６と入口１８の弁座２２との間に位置決めされる。図２に最もよく示すように、シールリング３０は、入口１８に面する第１面３８と、出口２０及び摺動板２６に面する第２面４０と、第１面３８から入口１８内に延びるニップル３２とを有する。入口１８の内面１９と入口１８の弁座２２との間に、ニップル３２を受け入れるための肩部２１が形成される。図示の例示の実施例では、シールリング３０は、エラストマー材料製の二つのＯ−リング３４、３６を支持する。これらのＯ−リング３４、３６は、シールリング３０に形成された溝に夫々配置される。Ｏ−リング３４は、第２面の溝内に、シールリング３０と摺動板２６との間に位置決めされるのに対し、Ｏ−リング３６は、ニップル３２の溝内に、ニップル３２と入口１８の肩部との間に位置決めされる。

図示していないけれども、シールリング３０は、周方向に順次配置された複数の穴を、摺動板２６から遠隔の第１面３８上に有する。これらの穴は、夫々、弁座２２に形成された穴と軸心が合っている。弁座２２の穴は、流路１４を同軸に取り囲む環状チャンバ５２まで延びている。複数のファスナ（図示せず）が弁座２２の穴を通って延びており、シールリング３０の対応する穴に固定される。Ｏ−リングを備えた環状ピストン５４がチャンバ５２内に配置され、ファスナに固定される。チャンバ５２は入口導管を備えている。この入口導管は、ピストン５４に対し、入口導管を通って流れる圧縮空気等の流体が、ファスナに固定されたプレート５４の第１側にだけ作用するように配置されている。更に、ファスナから遠方の環状ピストン５４の反対側に作用する複数のばね５８が設けられている（別の態様では、ばねをなくすため、流体圧力が環状ピストン５４の反対側に作用するように、環状チャンバ５２内に開放した二つの入口導管を設けてもよい）。このような構成の一例は、現在の米国特許公開第２００４／０１６４２６４Ａ１号である、２００３年２月２０日に出願された「振り子型バルブ組立体用シールリング」という表題の米国特許出願第１０／３６９，９５４号に詳細に説明されている。これは、本開示の譲受人に譲渡されている。同特許文献に触れたことにより、この特許文献に開示された内容は本明細書中に含まれたものとする。

摺動板２６を流路１４内に枢動させたが、図２に示すように開放位置にとどまっている場合には、シールリング３０は、入口１８の弁座２２に当たった位置のままである。シールリング３０がこの位置にある場合には、圧力媒体は環状チャンバ５２に流入し、そのため環状ピストン５４は、ばね５８の押圧力に抗して、シールリング３０とともに変位する。摺動板２６が弁座２４に当たった（又はこの弁座に非常に近い）、制御可能なその最小導通位置、即ち「軟」閉鎖位置にある場合、シールリング３０は、弁座２２に当たった位置のままである。しかしながら、閉鎖した摺動板２６を完全にシールするため、環状チャンバ５２から圧力流体を排除する。その結果、ばね５８が環状ピストン５４を、取り付けられたファスナ６０及びシールリング３０とともに、摺動板２６に押し付け、摺動板２６は弁座２４に押し付けられ、「硬」閉鎖位置を提供する。閉鎖した摺動板２６はシールリング３０によって完全にシールされ、遮断機能を果たし、バルブ組立体の入口１８と出口２０との間の圧力差が最大である。

摺動板２６の開放は逆の手順で行われる。圧力流体を環状チャンバ５２に供給すると、環状ピストン５４がファスナとともに摺動板２６から遠ざかるように移動し、シールリング３０を摺動板２６から遠ざかるように移動する。次いで、ポンプダウン手順中、摺動板２６と出口２０の弁座２４との間の導通性が徐々に増大し、バルブ組立体の入口１８と出口２０との間の圧力差が減少する。絞り手順中、摺動板２６と出口２０の弁座２４との間の導通性は所定レベルに維持され、バルブ組立体の入口と出口との間の圧力差は、比較的低いが一定のレベルを保つ。絞り手順は、半導体デバイスの加工中、取り付けられた処理チャンバ内に所望の圧力（即ちプロセス圧力）を維持するのに使用される。

図１に示すように、組立体１０は、完全開放位置と完全閉鎖位置との間での摺動板２６の回転移動及び長さ方向移動を正確に制御する回転カム機構６２を備えていてもよい。適当な回転カム機構の一例が、本開示の譲受人に譲渡された米国特許第６，０８９，５３７号に示されている。同特許に触れたことにより、この特許に開示された内容は本明細書中に含まれたものとする。回転カム機構６２は、有利には、摺動板２６の閉鎖位置近くで、導通性を精密に制御する。回転カム機構６２は、摺動板２６を出口２０の弁座２４から遠ざかる方向に常に押圧する少なくとも一つのばね６４を含む。ポンプダウン手順中、ばね６４が提供する力は、最終的には、入口側圧力が低下するに従って、入口側圧力に打ち勝ち、摺動板２６を移動して出口２０の弁座２４から遠ざける。

次に図２、図３、及び図４を参照すると、摺動板２６は、出口２０から遠方の第１面７０と、出口に面する第２面７２と、流路１４とほぼ平行に延びる半径方向外方に面する側壁７４とを有する。摺動板２６と、出口２０の弁座２４のうちの少なくとも一方が、少なくとも一つの通路７６を含む。この通路７６は、摺動板２６が閉鎖位置にあるとき、摺動板２６と弁座２４との間に所定量の導通性を提供する。

図２、図３、及び図４に示す例示の実施例において、摺動板２６には、単一の通路７６が設けられている。しかしながら、別の態様では、出口２０の弁座２４に通路を設けてもよく、又は出口２０の弁座２４及び摺動板２６の両方に通路を設けてもよい。

通路７６は、シールリング３０を摺動板２６から遠ざかるように移動した後、及び回転カム機構６２のばね６４の力によって摺動板２６を出口２０の弁座２４から押し離す前に、バルブ組立体１０の入口１８と出口２０との間の圧力を自動的に低下させる。従って、摺動板２６を出口２０から遠ざかる方向に移動し始めるのに大きな力を必要としない。大きな駆動力が必要とされないため、バルブ組立体１０を大きくし且つその費用を追加する大きな駆動機構もまた、必要とされない。更に、大きな圧力差を自動的に減少することは、バルブ組立体１０を大きくし且つその費用を追加する別体のバイパスバルブを使用することによっては達成されるものではない。更に、新規なバルブ組立体１０により、ポンプダウン手順を、大型の駆動機構や別体のバイパスバルブを使用せずに、比較的迅速に行うことができる。

図２、図３、及び図４に示す例示の実施例では、一つの通路は、摺動板２６の側壁７４まで延びる、第２面７２に形成された溝７６を含む。この比較的小さな溝７６は、比較的小さな処理チャンバ（例えば、１００リットルよりも小さい）で使用される。

図５及び図６は、図１の振り子型バルブ組立体１０で使用するための、本開示に従って形成された摺動板１２６の追加の例示の実施例を示す。摺動板１２６は、図１乃至図４の摺動板２６と同様であり、同様のエレメントに、頭に「１」を付けた同じ参照番号が付してある。図５及び図６の摺動板１２６は、多数の通路１７６を含む。図示の例示の実施例では、各通路は、摺動板１２６の側壁１７４まで延びる、第２面１７２に形成された溝１７６を含む。比較的大きいこれらの溝１７６は、比較的大きな処理チャンバ（例えば、５００リットルよりも大きい）で使用され、ポンプダウン期間を短くする。例えば、図５及び図６の実施例を使用した場合のポンプダウン期間は、１７００リットルのチャンバについて約１０分で終了するが、図１乃至図４の実施例を使用した場合のポンプダウン期間は、１７００リットルのチャンバについて約２００分で終了する。

図７、図８、及び図９は、図１の振り子型バルブ組立体１０で使用するための、本開示に従って形成された摺動板２２６の追加の例示の実施例を示す。摺動板２２６は、図１乃至図４の摺動板２６と同様であり、同様のエレメントに、頭に「２」を付けた同じ参照番号が付してある。図７、図８、及び図９の摺動板２２６は、単一の通路２７６を含む。この通路は、第２面２７２から摺動板２２６の側壁２７４まで延びる穴２７６を有し、この穴２７６の入口２７８が側壁２７４に形成されており、穴２７６の出口２８０は第２面２７２に形成されている。図９に最もよく示すように、移動自在のドア２８２が穴２７６の出口２８０を覆うように位置決めされており、摺動板２２６の両側の圧力差が十分に高い場合に開放するようになっている。図示の例示の実施例では、移動自在のドアは、弾性的に撓むことができる常閉に押圧されたばね板２８２を有する。ばね板２８２は、穴２７６の出口２８０に亘って延びており、摺動板２２６に例えばねじで固定されている。図８にねじ穴２８４を示す。

図７、図８、及び図９の摺動板２２６は、図１乃至図４の摺動板２６の利点と、図５及び図６の摺動板１２６の利点を併せ持つ。即ち、図７、図８、及び図９の摺動板２２６は、図１乃至図４の実施例２６と全く同様に、通常の作動モード中、閉鎖時の導通性に及ぼされる作用が小さく、図５及び図６の実施例１２６と全く同様に、ポンプダウン中に高い導通性を提供するのである。

図示していないけれども、本開示に従って形成された改良振り子型バルブ組立体１０は、更に、シールリングの移動中の摺動板とシールリングとの間の導通性を向上するため、摺動板２６の第１面７０及びシールリング３０のうちの一方に少なくとも一つの通路を備えていてもよい。シールリング３０の移動中にシールリング３０により改良された導通性制御を提供できる、このような通路の実施例は、本開示の譲受人に譲渡された、２００３年９月２９日に出願された現在継続中の米国特許出願第１０／６７３，９８９号に開示されている。同特許出願に触れたことにより、この特許出願に開示された内容は本明細書中に含まれたものとする。

かくして、本開示に従って形成された、新規であり且つ改良された振り子型バルブ組立体１０を説明した。本明細書中で説明した例示の実施例は、限定でなく例示として提供したものであって、当業者は、特許請求の範囲に記載した、本開示の最も広い特徴において、本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、様々な変形、組み合わせ、及び代替を行うことができる。例えば、本開示は、振り子型滑り弁に限定されず、直線的に変位できる摺動板又はゲート弁にも適用できる。

本明細書中に開示した本開示のバルブ組立体１０、及びその全てのエレメントは、特許請求の範囲のうちの少なくとも一つの範囲内に含まれる。ここに開示したバルブ組立体の構成要素のうち、権利を放棄しようとするものはない。

バルブ組立体の摺動板及びシールリングを示す、本開示に従って形成されたバルブ組立体の例示の実施例の一部を下方から見た斜視図である。 バルブ組立体の出口の弁座から間隔が隔てられており且つシールリングが摺動板から遠ざかる方向に押圧された部分開放位置でバルブ組立体の摺動板を示す、図１のバルブ組立体の一部を上方から見た部分断面拡大斜視図である。 図１の振り子型バルブ組立体の摺動板を下方から見た斜視図である。 図３の円「４」で囲んだ摺動板の一部を下方から見た拡大斜視図である。 図１の振り子型バルブ組立体で使用するための、本開示に従って形成された摺動板の別の例示の実施例を下方から見た斜視図である。 図５の円「６」で囲んだ摺動板の一部を下方から見た拡大斜視図である。 図１の振り子型バルブ組立体で使用するための、本開示に従って形成された摺動板の更に別の例示の実施例を下方から見た斜視図である。 図７の円「８」で囲んだ摺動板の一部を下方から見た拡大斜視図である。 摺動板のドアが開放状態及び閉鎖状態で示してある、図７の円「８」で囲んだ摺動板の一部を下方から見た拡大斜視図である。

符号の説明

１０ 振り子型バルブ組立体
１２ ハウジング
１４ 流路
１６ 振り子型バルブ
１８ 入口
２０ 出口
２２、２４ 弁座
２６ 摺動板
３０ シールリング

Claims (13)

1. バルブ組立体において、
   出口まで延びる流路を持ち、前記流路内及び前記出口の周囲に弁座を形成するハウジングと、
   前記ハウジング内に配置された摺動板であって、前記弁座と接触し、前記流路を通る流れを遮断する閉鎖位置と、前記流路を通る流れを許容する開放位置との間で、前記流路の長さ方向軸線方向に対して横方向に移動自在の摺動板とを含み、
   前記摺動板には、前記摺動板が閉鎖位置にあるが前記流路が完全に閉鎖されていないとき、前記摺動板と前記弁座との間に所定量の導通性を提供するための少なくとも一つの通路が形成され、
   前記摺動板は、前記出口から遠ざかる方に向いた第１面と、前記出口に向かって面する第２面と、前記流路とほぼ平行に延びる半径方向外方に面する側壁とを有し、
   前記摺動板と前記弁座との間に所定量の導通性を提供するための前記通路は、前記摺動板の前記第２面及び前記側壁に形成され、且つ前記摺動板の前記第２面から前記側壁まで延びる穴を有し、前記穴の入口が前記側壁に形成されるのに対し、前記穴の出口は前記第２面に形成され、
   前記穴の前記出口に亘って位置決めされた移動自在のドアを含み、前記移動自在のドアは弾性的に撓むことができる閉鎖状態に押圧されたばね板を含む、バルブ組立体。
2. 請求項１に記載のバルブ組立体において、
   前記通路は、前記第２面に形成された、前記摺動板の前記側壁まで延びる溝を含む、バルブ組立体。
3. 請求項１に記載のバルブ組立体において、
   前記通路は、前記第２面に形成された、前記摺動板の前記側壁まで延びる多数の溝を含む、バルブ組立体。
4. 請求項１に記載のバルブ組立体において、
   前記摺動板は、前記流路内で枢動自在である、バルブ組立体。
5. 請求項４に記載のバルブ組立体において、
   前記摺動板は、前記流路から外れた第１開放位置と、前記摺動板が前記流路内に枢動してあるが前記出口の前記弁座から軸線方向に間隔が隔てられた第２開放位置との間で枢動自在であり、次いで、前記出口の前記弁座と接触した実質的に閉鎖された位置まで前記流路内で軸線方向に移動自在である、バルブ組立体。
6. 請求項５に記載のバルブ組立体において、更に、
   前記摺動板に連結されたシャフトを含み、この連結は、前記シャフトから横方向に延びるアームを介して行われ、前記シャフトは、前記シャフトの長さ方向軸線を中心として回転するように前記ハウジング内に少なくとも部分的に取り付けられており、これにより、前記摺動板を前記流路内に前記第２開放位置まで回転させることができ、更に、前記流路の前記軸線と実質的に平行に移動させ、前記摺動板を前記流路内で軸線方向に、前記出口の前記弁座と接触した実質的に閉鎖された位置まで移動させることができる、バルブ組立体。
7. 請求項６に記載のバルブ組立体において、更に、
   前記シャフトの回転移動と平行移動の組み合わせを提供するため、前記シャフトと前記ハウジングとの間に連結されたカム機構を含む、バルブ組立体。
8. 請求項７に記載のバルブ組立体において、
   前記カム機構は、
   前記ハウジングが形成するカム面と、
   前記シャフトに固定されており、前記ハウジングの前記カム面と係合するカム従動体とを含む、バルブ組立体。
9. 請求項７に記載のバルブ組立体において、
   前記カム機構は、前記シャフトの平行移動を提供し、前記摺動板を前記出口の前記弁座から遠ざかる方向に常に押圧するためのばねを含む、バルブ組立体。
10. 請求項１に記載のバルブ組立体において、
    前記流路は、前記入口から前記出口まで延び、前記流路内に及び前記入口の周囲に弁座を形成し、前記組立体は、更に、
    前記流路内に、前記入口の前記弁座と前記摺動板との間に同軸に位置決めされたシールリングを含み、該シールリングは、前記摺動板と前記入口の前記弁座との間にシールを提供するため、前記流路内で前記摺動板に向かって軸線方向に移動自在である、バルブ組立体。
11. 請求項１に記載のバルブ組立体において、更に、前記摺動板を前記出口の前記弁座から遠ざかる方向に常に押圧するばねを含む、バルブ組立体。
12. 請求項１に記載のバルブ組立体を備えた、高純度ガス送出装置において、更に、
    前記バルブ組立体を通して真空ポンプに連結された処理チャンバを含む、高純度ガス送出装置。
13. 請求項５に記載のバルブ組立体において、
    前記摺動板と前記弁座との間に所定量の導通性を提供するための通路が、前記摺動板及び前記弁座の両方に形成されている、バルブ組立体。

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