JP4787673B2 - パターン検査装置および方法 - Google Patents

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11347153B2 (en) * 2018-06-14 2022-05-31 Canon Kabushiki Kaisha Error detection and correction in lithography processing

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5273697B2 (ja) 2006-08-01 2013-08-28 東京エレクトロン株式会社 サーバ装置およびプログラム
JP5081590B2 (ja) * 2007-11-14 2012-11-28 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥観察分類方法及びその装置
JP5065943B2 (ja) * 2008-02-29 2012-11-07 株式会社日立ハイテクノロジーズ 製造プロセスモニタリングシステム
JP5114302B2 (ja) 2008-06-12 2013-01-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン検査方法，パターン検査装置及びパターン処理装置
JP5276385B2 (ja) * 2008-08-29 2013-08-28 株式会社日立ハイテクノロジーズ 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
JP5081276B2 (ja) * 2010-06-02 2012-11-28 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン計測装置、パターン計測方法、およびプログラム
JP5543872B2 (ja) * 2010-07-27 2014-07-09 株式会社東芝 パターン検査方法およびパターン検査装置
RU2487340C1 (ru) * 2012-01-25 2013-07-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тамбовский государственный технический университет" (ФГБОУ ВПО ТГТУ) Способ определения качества смешивания сыпучих материалов
JP2015118351A (ja) * 2013-12-20 2015-06-25 Ntn株式会社 パターン加工方法
JP2017096625A (ja) 2014-02-21 2017-06-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン測定装置、及びコンピュータープログラム
JP6608299B2 (ja) * 2015-03-30 2019-11-20 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基準位置取得方法、基準位置取得装置、パターン描画方法、パターン描画装置およびプログラム
JP6759034B2 (ja) * 2016-09-29 2020-09-23 株式会社日立ハイテク パターン評価装置及びコンピュータープログラム
JP6233824B1 (ja) * 2017-04-25 2017-11-22 合同会社ウイングビジョン 画像検査装置、生産システム、画像検査方法、プログラム及び記憶媒体
US10957033B2 (en) * 2017-07-10 2021-03-23 Kla-Tencor Corporation Repeater defect detection
JP2019020292A (ja) * 2017-07-19 2019-02-07 株式会社ニューフレアテクノロジー パターン検査装置及びパターン検査方法
US10359706B1 (en) * 2018-06-11 2019-07-23 Kla-Tencor Corporation Integrated scanning electron microscopy and optical analysis techniques for advanced process control
CN110647013B (zh) * 2019-08-30 2022-01-07 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 一种基于gdsii格式的直写式光刻机并行数据处理方法
CN111444629B (zh) * 2020-04-15 2023-07-18 中国二冶集团有限公司 一种基于支持向量机的钢筋锈蚀参数预测方法
JP7303155B2 (ja) * 2020-05-20 2023-07-04 東レエンジニアリング先端半導体Ｍｉテクノロジー株式会社 パターン測定方法
JP7578427B2 (ja) * 2020-07-13 2024-11-06 株式会社ニューフレアテクノロジー パターン検査装置及びパターン検査方法
KR20240024097A (ko) * 2021-06-18 2024-02-23 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 검사 데이터 필터링 시스템 및 방법
KR102845916B1 (ko) * 2022-03-08 2025-08-13 주식회사 크레셈 기판 검사 방법
KR102799853B1 (ko) * 2023-01-28 2025-04-25 서울대학교산학협력단 미세구조 분석 방법
CN119987121B (zh) * 2025-04-17 2025-08-01 华芯程(杭州)科技有限公司 一种掩膜版图的生成方法、装置、设备及存储介质
CN121095267B (zh) * 2025-09-05 2026-04-14 广州国家实验室 一种粒子截图方法和相关设备
CN120953923B (zh) * 2025-10-16 2025-12-30 陕西金鑫电器有限公司 一种球罐连接壳体拉拔成型过程智能监控方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3602646B2 (ja) * 1996-05-21 2004-12-15 株式会社日立製作所 試料の寸法測定装置
US6408219B2 (en) * 1998-05-11 2002-06-18 Applied Materials, Inc. FAB yield enhancement system
JP2000010259A (ja) * 1998-06-25 2000-01-14 Nikon Corp マスクパターンの検査方法
JP3524853B2 (ja) * 1999-08-26 2004-05-10 株式会社ナノジオメトリ研究所 パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体
JP3386025B2 (ja) * 1999-12-15 2003-03-10 株式会社ニコン 画像特徴抽出装置、画像特徴抽出方法、監視検査システム、半導体露光システム、およびインターフェースシステム
JP2001266126A (ja) * 2000-03-21 2001-09-28 Toshiba Corp 欠陥検出方法及びその装置並びにマスクの製造方法
DE10044257A1 (de) * 2000-09-07 2002-04-11 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Erzeugen von Masken-Layout-Daten für die Lithografiesimulation und von optimierten Masken-Layout-Daten sowie zugehörige Vorrichtung und Programme
JP4122735B2 (ja) * 2001-07-24 2008-07-23 株式会社日立製作所 半導体デバイスの検査方法および検査条件設定方法
JP3870052B2 (ja) * 2001-09-20 2007-01-17 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法及び欠陥検査データ処理方法
JP2004294358A (ja) * 2003-03-28 2004-10-21 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥検査方法および装置
JP4771714B2 (ja) * 2004-02-23 2011-09-14 株式会社Ｎｇｒ パターン検査装置および方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11347153B2 (en) * 2018-06-14 2022-05-31 Canon Kabushiki Kaisha Error detection and correction in lithography processing

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