JP4775897B2 - LAMINATED SHEET MANUFACTURING METHOD AND LAMINATED SHEET - Google Patents
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Description
本発明はレンズ、反射ミラー等の光学材料、シリコンウエハ等の半導体ウエハ、ガラス基板、金属基板、及びディスクなどの表面を研磨する際に、これらを研磨ヘッドに保持固定するために使用する積層シート(保持シート、バッキングシート)、半導体ウエハ等の半導体製品や光学系製品等を精密加工する工程において、製品を保持または保護するために使用する積層シート(粘着シート)及びその製造方法に関する。 The present invention is a laminated sheet used for holding and fixing a surface of a lens, an optical material such as a reflection mirror, a semiconductor wafer such as a silicon wafer, a glass substrate, a metal substrate, and a disk, to a polishing head. The present invention relates to a laminated sheet (adhesive sheet) used for holding or protecting a product in a process of precisely processing a semiconductor product such as a (holding sheet, backing sheet) or a semiconductor wafer, or an optical system product, and a method for manufacturing the same.
高度の表面平坦性を要求される材料の代表的なものとしては、半導体集積回路(IC、LSI)を製造するシリコンウエハと呼ばれる単結晶シリコンの円盤があげられる。シリコンウエハは、IC、LSI等の製造工程において、回路形成に使用する各種薄膜の信頼できる半導体接合を形成するために、酸化物層や金属層を積層・形成する各工程において、表面を高精度に平坦に仕上げることが要求される。このような研磨仕上げ工程においては、一般的に研磨パッドはプラテンと呼ばれる回転可能な支持円盤に固着され、シリコンウエハ等の被研磨材は研磨ヘッドに固着される。 A typical material that requires high surface flatness is a single crystal silicon disk called a silicon wafer for manufacturing a semiconductor integrated circuit (IC, LSI). Silicon wafers have a highly accurate surface in each process of stacking and forming oxide layers and metal layers in order to form reliable semiconductor junctions of various thin films used for circuit formation in IC, LSI, and other manufacturing processes. It is required to finish flat. In such a polishing finishing process, a polishing pad is generally fixed to a rotatable support disk called a platen, and a material to be polished such as a silicon wafer is fixed to a polishing head.
従来、シリコンウエハやガラス等の被研磨材を研磨ヘッドに固定する方法としては、(1)ワックスを介して研磨ヘッドと被研磨材を固定するワックス・マウンティング法、(2)吸引することにより被研磨材を研磨ヘッドに固定するバキューム・チャック法、又は(3)研磨ヘッドに貼付けた人工皮革や高分子発泡シートにより被研磨材を固定するノーワックス・マウンティング法が採用されている。 Conventionally, as a method of fixing a material to be polished such as a silicon wafer or glass to a polishing head, (1) a wax mounting method in which the polishing head and the material to be polished are fixed via a wax, and (2) a method for fixing the material by suction. A vacuum chuck method in which the abrasive is fixed to the polishing head, or (3) a no-wax mounting method in which the material to be polished is fixed with artificial leather or a polymer foam sheet attached to the polishing head.
ワックス・マウンティング法は、ワックスを使用しているため、被研磨材の着脱に手間がかかったり、研磨後に被研磨材を洗浄してワックスを除去する必要があり、作業工程が煩雑であるという問題を有している。 Since the wax mounting method uses wax, it takes time to attach and detach the material to be polished, or it is necessary to clean the material after polishing to remove the wax, and the work process is complicated. have.
バキューム・チャック法は、吸引口部分で被研磨材が変形し、それにより研磨後の被研磨材の表面精度が悪くなるという問題を有している。 The vacuum chuck method has a problem that the material to be polished is deformed at the suction port portion, and the surface accuracy of the material to be polished after polishing is thereby deteriorated.
ノーワックス・マウンティング法は、被研磨材の着脱が容易であり、生産効率に優れるという利点があるが、人工皮革や高分子発泡シートの保持面の表面精度が悪い場合には、研磨後の被研磨材の表面平滑性も悪くなるという問題があった。 The no-wax mounting method has the advantage that the material to be polished is easy to attach and detach and has excellent production efficiency. However, if the surface accuracy of the holding surface of artificial leather or polymer foam sheet is poor, the coated material after polishing will be removed. There was a problem that the surface smoothness of the abrasive was also deteriorated.
上記ノーワックス・マウンティング法の問題点を解決する方法として、発泡層の表面に樹脂よりなる粘着性樹脂層を設けたバッキング材を用いることが提案されている(特許文献1)。また、細長い形状であり、かつ発泡層表面に向かって直径が大きくなる独立気泡を発泡層に設けたことを特徴とするシート状弾性発泡体が提案されている(特許文献2)。 As a method for solving the problems of the no-wax mounting method, it has been proposed to use a backing material in which an adhesive resin layer made of a resin is provided on the surface of a foamed layer (Patent Document 1). In addition, a sheet-like elastic foam characterized in that closed cells having an elongated shape and a diameter increasing toward the surface of the foam layer is provided in the foam layer (Patent Document 2).
しかし、特許文献1のバッキング材の製造方法は、粘着性樹脂層を別途設ける必要があり、また弾性層を湿式凝固させることにより製造しているため作業工程が煩雑である。また、溶剤を使用しなければならないため環境負荷が大きく、溶剤の抽出に多量の水が必要になる等の製造上の問題がある。また、特許文献2では、上記のような気泡を形成することが困難であり、しかも発泡層表面の空隙率が大きいため発泡層の変形が大きくなり、その結果、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなると考えられる。 However, the manufacturing method of the backing material of Patent Document 1 requires a separate adhesive resin layer, and the manufacturing process is complicated because the elastic layer is manufactured by wet coagulation. In addition, since a solvent must be used, there is a large environmental load, and there are manufacturing problems such that a large amount of water is required for solvent extraction. Further, in Patent Document 2, it is difficult to form bubbles as described above, and since the porosity of the foam layer surface is large, deformation of the foam layer increases, and as a result, the surface of the material to be polished after polishing is obtained. It is thought that the smoothness becomes worse.
本発明は、保持面の表面精度が高い積層シートを極めて容易に製造する方法を提供することを目的とする。また、該製造方法によって得られる積層シートを提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the method of manufacturing a lamination sheet with the high surface precision of a holding surface very easily. Moreover, it aims at providing the lamination sheet obtained by this manufacturing method.
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す製造方法により上記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above object can be achieved by the production method shown below, and have completed the present invention.
すなわち、本発明は、機械発泡法により気泡分散ウレタン組成物を調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させてポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する工程を含む積層シートの製造方法、に関する。 That is, the present invention includes a step of preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method, a step of applying a cell-dispersed urethane composition on a base sheet, and a foamed polyurethane layer by curing the cell-dispersed urethane composition. It is related with the manufacturing method of the lamination sheet including the process and the process of adjusting the thickness of a polyurethane foam layer uniformly.
また、別の本発明は、機械発泡法により気泡分散ウレタン組成物を調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物上に離型シートを積層する工程、押圧手段により厚さを均一にしつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させてポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離する工程を含む積層シートの製造方法、に関する。 Another aspect of the present invention is a step of preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method, a step of applying a cell-dispersed urethane composition on a base sheet, and a release sheet laminated on the cell-dispersed urethane composition. The present invention relates to a method for producing a laminated sheet, comprising a step, a step of curing a cell-dispersed urethane composition with a uniform thickness by a pressing means to form a polyurethane foam layer, and a step of peeling a release sheet on the polyurethane foam layer. .
上記のように、機械発泡法により空気等の気体を微細気泡として原料中に分散させて気泡分散ウレタン組成物を調製し、該気泡分散ウレタン組成物を硬化させることにより気泡径が極めて小さく、かつ球状(略球状ものを含む)の気泡を有するポリウレタン発泡層を極めて容易に形成することができる。また、本発明の機械発泡法では、空気等の気体は原料中に溶解させずに分散させているため、ポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する工程の後に新たな気泡が発生すること(後発泡現象)を抑制することができ、厚み精度や比重をコントロールしやすいという利点がある。また、溶剤を使用する必要がないため、コスト面で優れるだけでなく、環境面からも好ましい。そして、このポリウレタン発泡層は、被研磨材を保持する保持面の表面精度が極めて高いため、該発泡層を有する積層シートを用いて被研磨材を保持した場合には、研磨後の被研磨材の表面平滑性が極めて優れたものとなる。また、上記ポリウレタン発泡層は、球状の気泡を有しているため耐久性に優れている。そのため、該発泡層を有する積層シートを用いて被研磨材を研磨した場合には、研磨速度の安定性が向上する。 As described above, a gas such as air is dispersed as fine bubbles in a raw material by a mechanical foaming method to prepare a cell-dispersed urethane composition, and the cell diameter is extremely small by curing the cell-dispersed urethane composition, and A polyurethane foam layer having spherical (including substantially spherical) cells can be formed very easily. Further, in the mechanical foaming method of the present invention, since gas such as air is dispersed without being dissolved in the raw material, new bubbles are generated after the step of uniformly adjusting the thickness of the polyurethane foam layer ( There is an advantage that the post-foaming phenomenon) can be suppressed and the thickness accuracy and specific gravity can be easily controlled. Moreover, since it is not necessary to use a solvent, it is not only excellent in cost but also preferable from the environmental viewpoint. And since this polyurethane foam layer has extremely high surface accuracy of the holding surface for holding the material to be polished, when the material to be polished is held using a laminated sheet having the foam layer, the material to be polished after polishing is used. The surface smoothness is extremely excellent. Moreover, since the said polyurethane foam layer has a spherical cell, it is excellent in durability. Therefore, when the material to be polished is polished using the laminated sheet having the foam layer, the stability of the polishing rate is improved.
本発明の積層シートは、前記製造方法によって得られるものである。 The laminated sheet of the present invention is obtained by the production method.
前記ポリウレタン発泡層は、平均気泡径20〜300μmの球状の微細気泡を有することが好ましい。 The polyurethane foam layer preferably has spherical fine bubbles having an average cell diameter of 20 to 300 μm.
また、ポリウレタン発泡層は、厚み方向における平均気泡径差(平均気泡径最大値−平均気泡径最小値)が50μm以下であることが好ましい。ポリウレタン発泡層の厚み方向において気泡径のバラツキが大きい場合には、樹脂密度の低い領域の耐久性が他の領域よりも劣るため、その部分で厚み変化(へたり現象)を起こしやすくなる。その結果、被研磨材を保持する保持面の表面精度が低下し、研磨後の被研磨材の表面平滑性も低下する傾向にある。また、研磨速度の安定性が悪くなる傾向にある。厚み方向における平均気泡径差が50μm以下であれば、ポリウレタン発泡層の厚み変化を効果的に抑制することができる。 The polyurethane foam layer preferably has an average cell diameter difference in the thickness direction (average cell diameter maximum value−average cell diameter minimum value) of 50 μm or less. When the variation in the cell diameter is large in the thickness direction of the polyurethane foam layer, the durability of the region having a low resin density is inferior to that of the other regions, so that a thickness change (sagging phenomenon) is likely to occur in that portion. As a result, the surface accuracy of the holding surface for holding the material to be polished tends to decrease, and the surface smoothness of the material to be polished after polishing tends to decrease. Further, the stability of the polishing rate tends to deteriorate. If the average bubble diameter difference in the thickness direction is 50 μm or less, the thickness change of the polyurethane foam layer can be effectively suppressed.
また、ポリウレタン発泡層の比重は0.2〜0.5であることが好ましい。また、ポリウレタン発泡層のアスカーC硬度は10〜50度であることが好ましい。さらに、ポリウレタン発泡層の圧縮率は2〜10%であることが好ましい。 The specific gravity of the polyurethane foam layer is preferably 0.2 to 0.5. The Asker C hardness of the polyurethane foam layer is preferably 10 to 50 degrees. Furthermore, the compression ratio of the polyurethane foam layer is preferably 2 to 10%.
本発明の積層シートの製造方法は、機械発泡法により気泡分散ウレタン組成物を調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物を硬化させてポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する工程を含む。 The method for producing a laminated sheet of the present invention includes a step of preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method, a step of applying a cell-dispersed urethane composition on a base sheet, and a polyurethane foam by curing the cell-dispersed urethane composition. Forming the layer and uniformly adjusting the thickness of the polyurethane foam layer.
本発明の別の積層シートの製造方法は、機械発泡法により気泡分散ウレタン組成物を調製する工程、基材シート上に気泡分散ウレタン組成物を塗布する工程、気泡分散ウレタン組成物上に離型シートを積層する工程、押圧手段により厚さを均一にしつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させてポリウレタン発泡層を形成する工程、及びポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離する工程を含む。 Another method for producing a laminated sheet of the present invention includes a step of preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method, a step of applying a cell-dispersed urethane composition on a substrate sheet, and a mold release on the cell-dispersed urethane composition. A step of laminating sheets, a step of curing the cell-dispersed urethane composition with a uniform thickness by a pressing means to form a polyurethane foam layer, and a step of peeling the release sheet on the polyurethane foam layer.
前記気泡分散ウレタン組成物は、機械発泡法(メカニカルフロス法を含む)により調製されればよく、その他は特に制限されない。例えば、気泡分散ウレタン組成物は、以下の方法により調製される。 The cell-dispersed urethane composition may be prepared by a mechanical foaming method (including a mechanical floss method), and the others are not particularly limited. For example, the cell-dispersed urethane composition is prepared by the following method.
(1)イソシアネート成分及び高分子量ポリオールなどを反応させてなるイソシアネート末端プレポリマーにシリコン系界面活性剤を添加した第1成分を、非反応性気体の存在下で機械撹拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。そして、該気泡分散液に高分子量ポリオールや低分子量ポリオールなどの活性水素含有化合物を含む第2成分を添加し、混合して気泡分散ウレタン組成物を調製する。第2成分には、適宜触媒、カーボンブラックなどのフィラーを添加してもよい。 (1) The first component obtained by adding a silicon surfactant to an isocyanate-terminated prepolymer obtained by reacting an isocyanate component and a high molecular weight polyol is mechanically stirred in the presence of a non-reactive gas, and the non-reactive gas is removed. Disperse as fine bubbles to obtain a cell dispersion. Then, a second component containing an active hydrogen-containing compound such as a high molecular weight polyol or a low molecular weight polyol is added to the cell dispersion and mixed to prepare a cell dispersed urethane composition. A filler such as a catalyst and carbon black may be appropriately added to the second component.
(2)イソシアネート成分(又はイソシアネート末端プレポリマー)を含む第1成分、及び活性水素含有化合物を含む第2成分の少なくとも一方にシリコン系界面活性剤を添加し、シリコン系界面活性剤を添加した成分を非反応性気体の存在下で機械攪拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。そして、該気泡分散液に残りの成分を添加し、混合して気泡分散ウレタン組成物を調製する。 (2) A component in which a silicon-based surfactant is added to at least one of a first component containing an isocyanate component (or an isocyanate-terminated prepolymer) and a second component containing an active hydrogen-containing compound, and a silicon-based surfactant is added Is mechanically stirred in the presence of a non-reactive gas to disperse the non-reactive gas as fine bubbles to obtain a bubble dispersion. Then, the remaining components are added to the cell dispersion and mixed to prepare a cell-dispersed urethane composition.
(3)イソシアネート成分(又はイソシアネート末端プレポリマー)を含む第1成分、及び活性水素含有化合物を含む第2成分の少なくとも一方にシリコン系界面活性剤を添加し、前記第1成分及び第2成分を非反応性気体の存在下で機械攪拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散ウレタン組成物を調製する。 (3) A silicon-based surfactant is added to at least one of the first component containing the isocyanate component (or isocyanate-terminated prepolymer) and the second component containing the active hydrogen-containing compound, and the first component and the second component are added. A foam-dispersed urethane composition is prepared by mechanically stirring in the presence of a non-reactive gas and dispersing the non-reactive gas as fine bubbles.
ポリウレタンは、機械発泡法により球状の微細気泡を容易に形成することができるため積層シートの発泡層の形成材料として好ましい。 Polyurethane is preferable as a material for forming the foamed layer of the laminated sheet because spherical fine bubbles can be easily formed by a mechanical foaming method.
イソシアネート成分としては、ポリウレタンの分野において公知の化合物を特に限定なく使用できる。例えば、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、2,2’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメリックMDI、カルボジイミド変性MDI(例えば、商品名ミリオネートMTL、日本ポリウレタン工業製)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、4,4’−ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネートが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 As the isocyanate component, a known compound in the field of polyurethane can be used without particular limitation. For example, 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, 2,2′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, polymeric MDI, carbodiimide-modified MDI (for example, commercial products) Name Millionate MTL, manufactured by Nippon Polyurethane Industry), 1,5-naphthalene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate and other aromatic diisocyanates, ethylene diisocyanate, 2,2 1,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, aliphatic diisocyanates such as 1,6-hexamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane San diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, 4,4'-dicyclohexyl methane diisocyanate, isophorone diisocyanate, and cycloaliphatic diisocyanates such as norbornane diisocyanate. These may be used alone or in combination of two or more.
イソシアネート成分としては、上記ジイソシアネート化合物の他に、3官能以上の多官能ポリイソシアネート化合物も使用可能である。多官能のイソシアネート化合物としては、デスモジュール−N(バイエル社製)や商品名デュラネート(旭化成工業社製)として一連のジイソシアネートアダクト体化合物が市販されている。 As the isocyanate component, a trifunctional or higher polyfunctional polyisocyanate compound can be used in addition to the diisocyanate compound. As a polyfunctional isocyanate compound, a series of diisocyanate adduct compounds are commercially available as Desmodur-N (manufactured by Bayer) or trade name Duranate (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.).
上記のイソシアネート成分のうち、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート又はカルボジイミド変性MDIを用いることが好ましい。 Of the above isocyanate components, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate or carbodiimide-modified MDI is preferably used.
高分子量ポリオールとしては、ポリウレタンの技術分野において、通常用いられるものを挙げることができる。例えば、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレングリコール等に代表されるポリエーテルポリオール、ポリブチレンアジペートに代表されるポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリカプロラクトンのようなポリエステルグリコールとアルキレンカーボネートとの反応物などで例示されるポリエステルポリカーボネートポリオール、エチレンカーボネートを多価アルコールと反応させ、次いでえられた反応混合物を有機ジカルボン酸と反応させたポリエステルポリカーボネートポリオール、ポリヒドロキシル化合物とアリールカーボネートとのエステル交換反応により得られるポリカーボネートポリオール、ポリマー粒子を分散させたポリエーテルポリオールであるポリマーポリオールなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。ポリウレタン発泡層を独立気泡構造にする場合には、ポリエーテルポリオールのみを用いることが好ましい。 Examples of the high molecular weight polyol include those usually used in the technical field of polyurethane. Examples include polyether polyols typified by polytetramethylene ether glycol, polyethylene glycol, etc., polyester polyols typified by polybutylene adipate, polycaprolactone polyols, reactants of polyester glycols such as polycaprolactone and alkylene carbonate, etc. Polyester polycarbonate polyol obtained by reacting ethylene carbonate with polyhydric alcohol and then reacting the obtained reaction mixture with organic dicarboxylic acid, polycarbonate polyol obtained by transesterification of polyhydroxyl compound and aryl carbonate And polymer polyol which is a polyether polyol in which polymer particles are dispersed.These may be used alone or in combination of two or more. When the polyurethane foam layer has a closed cell structure, it is preferable to use only polyether polyol.
一方、ポリウレタン発泡層を連続気泡構造にする場合には、ポリマーポリオールを用いることが好ましく、特にアクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を分散させたポリマーポリオールを用いることが好ましい。該ポリマーポリオールは、使用する全高分子量ポリオール中に20〜100重量%含有させることが好ましく、より好ましくは30〜60重量%である。前記ポリマーポリオールは、活性水素含有化合物中に60〜85重量%含有させることが好ましく、より好ましくは70〜80重量%である。前記ポリマーポリオールを特定量用いることにより気泡膜が破れやすくなり、連続気泡構造を形成しやすくなる。 On the other hand, when the polyurethane foam layer has an open cell structure, it is preferable to use a polymer polyol, and it is particularly preferable to use a polymer polyol in which polymer particles made of acrylonitrile and / or a styrene-acrylonitrile copolymer are dispersed. The polymer polyol is preferably contained in the total high molecular weight polyol to be used in an amount of 20 to 100% by weight, more preferably 30 to 60% by weight. The polymer polyol is preferably contained in the active hydrogen-containing compound in an amount of 60 to 85% by weight, more preferably 70 to 80% by weight. By using a specific amount of the polymer polyol, the cell membrane is easily broken, and an open cell structure is easily formed.
高分子量ポリオールの数平均分子量は特に限定されるものではないが、得られるポリウレタンの弾性特性等の観点から1500〜6000であることが好ましい。数平均分子量が1500未満であると、これを用いたポリウレタンは十分な弾性特性を有さず、脆いポリマーとなりやすい。そのためこのポリウレタンからなる発泡層は硬くなりすぎ、ウエハやガラスの保持性が悪くなる傾向にある。一方、数平均分子量が6000を超えると、これを用いたポリウレタン樹脂は軟らかくなりすぎるため、このポリウレタンからなる発泡層は耐久性が悪くなる傾向にある。 The number average molecular weight of the high molecular weight polyol is not particularly limited, but is preferably 1500 to 6000 from the viewpoint of the elastic properties of the resulting polyurethane. If the number average molecular weight is less than 1500, polyurethane using the same does not have sufficient elastic properties and tends to be a brittle polymer. For this reason, the foamed layer made of polyurethane is too hard, and the retention of the wafer and glass tends to deteriorate. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 6000, a polyurethane resin using the number average molecular weight becomes too soft, and the foamed layer made of this polyurethane tends to have poor durability.
高分子量ポリオールと共に、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン等の低分子量ポリオールを用いてもよい。また、エチレンジアミン、トリレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン、ジエチレントリアミン等の低分子量ポリアミンを併用してもよい。また、上記低分子量ポリオール又は低分子量ポリアミンにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加させたポリオールを併用してもよい。 Along with a high molecular weight polyol, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 3- Low molecular weight polyols such as methyl-1,5-pentanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, and 1,4-bis (2-hydroxyethoxy) benzene may be used. Moreover, you may use together low molecular weight polyamines, such as ethylenediamine, tolylenediamine, diphenylmethanediamine, and diethylenetriamine. Moreover, you may use together the polyol which added alkylene oxides, such as ethylene oxide and a propylene oxide, to the said low molecular weight polyol or low molecular weight polyamine.
高分子量ポリオールと低分子量ポリオール等の比は、これらから製造されるポリウレタン発泡層に要求される特性により決められる。 The ratio between the high molecular weight polyol and the low molecular weight polyol is determined by the properties required for the polyurethane foam layer produced therefrom.
ポリウレタン発泡層を連続気泡構造にする場合には、これら低分子量ポリオール及び/又は低分子量ポリアミンは、活性水素含有化合物中に2〜15重量%含有させることが好ましく、より好ましくは5〜10重量%である。上記低分子量ポリオール及び/又は低分子量ポリアミンを特定量用いることにより気泡膜が破れやすくなり、連続気泡を形成しやすくなるだけでなく、ポリウレタン発泡層の機械的特性が良好になる。 When the polyurethane foam layer has an open-cell structure, the low molecular weight polyol and / or the low molecular weight polyamine is preferably contained in the active hydrogen-containing compound in an amount of 2 to 15% by weight, more preferably 5 to 10% by weight. It is. By using a specific amount of the low molecular weight polyol and / or the low molecular weight polyamine, the cell membrane is easily broken and not only is easy to form open cells, but also the mechanical properties of the polyurethane foam layer are improved.
ポリウレタンをプレポリマー法により製造する場合において、イソシアネート末端プレポリマーの硬化には鎖延長剤を使用する。鎖延長剤は、少なくとも2個以上の活性水素基を有する有機化合物であり、活性水素基としては、水酸基、第1級もしくは第2級アミノ基、チオール基(SH)等が例示できる。具体的には、4,4’−メチレンビス(o−クロロアニリン)(MOCA)、2,6−ジクロロ−p−フェニレンジアミン、4,4’−メチレンビス(2,3−ジクロロアニリン)、3,5−ビス(メチルチオ)−2,4−トルエンジアミン、3,5−ビス(メチルチオ)−2,6−トルエンジアミン、3,5−ジエチルトルエン−2,4−ジアミン、3,5−ジエチルトルエン−2,6−ジアミン、トリメチレングリコール−ジ−p−アミノベンゾエート、1,2−ビス(2−アミノフェニルチオ)エタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチル−5,5’−ジメチルジフェニルメタン、N,N’−ジ−sec−ブチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、m−キシリレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、及びp−キシリレンジアミン等に例示されるポリアミン類、あるいは、上述した低分子量ポリオールや低分子量ポリアミンを挙げることができる。これらは1種で用いても、2種以上を混合しても差し支えない。 In the case of producing polyurethane by a prepolymer method, a chain extender is used for curing the isocyanate-terminated prepolymer. The chain extender is an organic compound having at least two active hydrogen groups, and examples of the active hydrogen group include a hydroxyl group, a primary or secondary amino group, and a thiol group (SH). Specifically, 4,4′-methylenebis (o-chloroaniline) (MOCA), 2,6-dichloro-p-phenylenediamine, 4,4′-methylenebis (2,3-dichloroaniline), 3,5 -Bis (methylthio) -2,4-toluenediamine, 3,5-bis (methylthio) -2,6-toluenediamine, 3,5-diethyltoluene-2,4-diamine, 3,5-diethyltoluene-2 , 6-diamine, trimethylene glycol-di-p-aminobenzoate, 1,2-bis (2-aminophenylthio) ethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyl-5,5′-dimethyl Diphenylmethane, N, N′-di-sec-butyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, m-xyl And polyamines exemplified by N, N'-di-sec-butyl-p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, and p-xylylenediamine, or the above-mentioned low molecular weight polyols and low molecular weight polyamines. be able to. These may be used alone or in combination of two or more.
イソシアネート成分、ポリオール、及び鎖延長剤の比は、各々の分子量やポリウレタン発泡層の所望物性などにより種々変え得る。所望する特性を有する発泡層を得るためには、ポリオールと鎖延長剤の合計活性水素基(水酸基+アミノ基)数に対するイソシアネート成分のイソシアネート基数は、0.80〜1.20であることが好ましく、さらに好ましくは0.99〜1.15である。イソシアネート基数が前記範囲外の場合には、硬化不良が生じて要求される比重、硬度、及び圧縮率などが得られない傾向にある。 The ratio of the isocyanate component, the polyol, and the chain extender can be variously changed depending on the molecular weight of each, the desired physical properties of the polyurethane foam layer, and the like. In order to obtain a foamed layer having desired characteristics, the number of isocyanate groups of the isocyanate component relative to the total number of active hydrogen groups (hydroxyl group + amino group) of the polyol and the chain extender is preferably 0.80 to 1.20. More preferably, it is 0.99 to 1.15. When the number of isocyanate groups is outside the above range, curing failure occurs and the required specific gravity, hardness, compression ratio, etc. tend not to be obtained.
なお、イソシアネート末端プレポリマーは、分子量が800〜5000程度のものが加工性、物理的特性等が優れており好適である。また、プレポリマーが常温で固体の場合には適宜の温度に予熱し溶融して使用する。 As the isocyanate-terminated prepolymer, those having a molecular weight of about 800 to 5000 are preferable because of excellent processability and physical characteristics. Further, when the prepolymer is solid at normal temperature, it is preheated to an appropriate temperature and melted before use.
シリコン系界面活性剤としては、例えば、ポリアルキルシロキサンとポリエーテルの共重合体を含有するものが挙げられる。かかるシリコン系界面活性剤としては、SH−192及びL5340(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)等が好適な化合物として例示される。 Examples of the silicon-based surfactant include those containing a copolymer of polyalkylsiloxane and polyether. Examples of suitable silicon surfactants include SH-192 and L5340 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone).
なお、必要に応じて、酸化防止剤等の安定剤、滑剤、顔料、充填剤、帯電防止剤、その他の添加剤を加えてもよい。 In addition, you may add stabilizers, such as antioxidant, a lubricant, a pigment, a filler, an antistatic agent, and another additive as needed.
前記微細気泡を形成するために使用される非反応性気体としては、可燃性でないものが好ましく、具体的には窒素、酸素、炭酸ガス、ヘリウムやアルゴン等の希ガスやこれらの混合気体が例示され、乾燥して水分を除去した空気の使用がコスト的にも最も好ましい。 As the non-reactive gas used to form the fine bubbles, non-flammable gases are preferable, and specific examples include nitrogen, oxygen, carbon dioxide, rare gases such as helium and argon, and mixed gases thereof. In view of cost, it is most preferable to use air that has been dried to remove moisture.
非反応性気体を微細気泡状にして分散させる撹拌装置としては、公知の撹拌装置を特に限定なく使用可能であり、具体的にはホモジナイザー、ディゾルバー、2軸遊星型ミキサー(プラネタリーミキサー)、メカニカルフロス発泡機などが例示される。撹拌装置の撹拌翼の形状も特に限定されないが、ホイッパー型の撹拌翼の使用にて微細気泡が得られ好ましい。目的とするポリウレタン発泡層を得るためには、撹拌翼の回転数は500〜2000rpmであることが好ましく、より好ましくは800〜1500rpmである。また、撹拌時間は目的とする密度に応じて適宜調整する。 As the stirring device for dispersing the non-reactive gas in the form of fine bubbles, a known stirring device can be used without any particular limitation. Specifically, a homogenizer, a dissolver, a two-axis planetary mixer (planetary mixer), a mechanical A floss foaming machine etc. are illustrated. The shape of the stirring blade of the stirring device is not particularly limited, but it is preferable to use a whipper type stirring blade because fine bubbles can be obtained. In order to obtain the target polyurethane foam layer, the rotational speed of the stirring blade is preferably 500 to 2000 rpm, more preferably 800 to 1500 rpm. The stirring time is appropriately adjusted according to the target density.
なお、発泡工程において気泡分散液を調製する撹拌と、第1成分と第2成分を混合する撹拌は、異なる撹拌装置を使用することも好ましい態様である。混合工程における撹拌は気泡を形成する撹拌でなくてもよく、大きな気泡を巻き込まない撹拌装置の使用が好ましい。このような撹拌装置としては、遊星型ミキサーが好適である。気泡分散液を調製する発泡工程と各成分を混合する混合工程の撹拌装置を同一の撹拌装置を使用しても支障はなく、必要に応じて撹拌翼の回転速度を調整する等の撹拌条件の調整を行って使用することも好適である。 In addition, it is also a preferable aspect that stirring for preparing the cell dispersion in the foaming step and stirring for mixing the first component and the second component use different stirring devices. The agitation in the mixing step may not be agitation that forms bubbles, and it is preferable to use an agitation device that does not involve large bubbles. As such an agitator, a planetary mixer is suitable. There is no problem even if the same stirring device is used as the stirring device for the foaming step for preparing the bubble dispersion and the mixing step for mixing each component, and the stirring conditions such as adjusting the rotation speed of the stirring blades are adjusted as necessary. It is also suitable to use after adjustment.
そして、上記方法で調製した気泡分散ウレタン組成物を基材シート上に塗布し、該気泡分散ウレタン組成物を硬化させてポリウレタン発泡層を形成する。 And the cell dispersion | distribution urethane composition prepared by the said method is apply | coated on a base material sheet, this cell dispersion | distribution urethane composition is hardened, and a polyurethane foam layer is formed.
基材シートの形成材料は特に制限されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフルオロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。 The material for forming the base sheet is not particularly limited, and examples thereof include fluorine-containing resins such as polyethylene terephthalate, polyester, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyimide, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, and polyfluoroethylene, nylon, and cellulose. Can do.
基材シートの厚さは特に制限されないが、強度、可とう性等の観点から0.05〜0.3mm程度であることが好ましい。 The thickness of the base sheet is not particularly limited, but is preferably about 0.05 to 0.3 mm from the viewpoints of strength, flexibility and the like.
気泡分散ウレタン組成物を基材シート上に塗布する方法としては、例えば、グラビア、キス、コンマなどのロールコーター、スロット、ファンテンなどのダイコーター、スクイズコーター、カーテンコーターなどの塗布方法を採用することができるが、基材シート上に均一な塗膜を形成できればいかなる方法でもよい。 As a method for applying the cell-dispersed urethane composition onto the base sheet, for example, a roll coater such as gravure, kiss, or comma, a die coater such as slot or phanten, a squeeze coater, or a curtain coater is adopted. Any method may be used as long as a uniform coating film can be formed on the base sheet.
気泡分散ウレタン組成物を基材シート上に塗布して流動しなくなるまで反応したポリウレタン発泡体を加熱し、ポストキュアすることは、ポリウレタン発泡体の物理的特性を向上させる効果があり、極めて好適である。ポストキュアは、40〜70℃で10〜60分間行うことが好ましく、また常圧で行うと気泡形状が安定するため好ましい。 Heating and post-curing the polyurethane foam that has reacted until the cell-dispersed urethane composition is applied to the base sheet and no longer flows is effective in improving the physical properties of the polyurethane foam. is there. Post-cure is preferably performed at 40 to 70 ° C. for 10 to 60 minutes, and it is preferable to perform at normal pressure because the bubble shape becomes stable.
ポリウレタン発泡層の製造において、第3級アミン系等の公知のポリウレタン反応を促進する触媒を使用してもかまわない。触媒の種類や添加量は、各成分の混合工程後、基材シート上に塗布するための流動時間を考慮して選択する。 In the production of the polyurethane foam layer, a known catalyst that promotes a polyurethane reaction, such as a tertiary amine, may be used. The kind and addition amount of the catalyst are selected in consideration of the flow time for application on the base sheet after the mixing step of each component.
ポリウレタン発泡層の製造は、各成分を計量して容器に投入し、機械撹拌するバッチ方式であってもよく、また撹拌装置に各成分と非反応性気体を連続して供給して機械撹拌し、気泡分散ウレタン組成物を送り出して成形品を製造する連続生産方式であってもよい。 The polyurethane foam layer may be produced by a batch method in which each component is weighed and put into a container and mechanically stirred. In addition, each component and a non-reactive gas are continuously supplied to a stirrer and mechanically stirred. Further, a continuous production method in which a cell-dispersed urethane composition is sent out to produce a molded product may be used.
本発明の積層シートの製造方法においては、基材シート上にポリウレタン発泡層を形成した後又はポリウレタン発泡層を形成するのと同時に、ポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整することが必要である。ポリウレタン発泡層の厚さを均一に調整する方法は特に制限されないが、例えば、研磨材でバフがけする方法、プレス板でプレスする方法などが挙げられる。バフがけした場合には、ポリウレタン発泡層の表面にスキン層を有さない積層シートが得られ、プレスした場合には、ポリウレタン発泡層の表面にスキン層を有する積層シートが得られる。プレスする際の条件は特に制限されないが、ガラス転移点以上に温度調節することが好ましい。 In the method for producing a laminated sheet of the present invention, it is necessary to uniformly adjust the thickness of the polyurethane foam layer after forming the polyurethane foam layer on the base sheet or simultaneously with forming the polyurethane foam layer. . A method for uniformly adjusting the thickness of the polyurethane foam layer is not particularly limited, and examples thereof include a method of buffing with an abrasive and a method of pressing with a press plate. When buffing is performed, a laminated sheet having no skin layer on the surface of the polyurethane foam layer is obtained, and when pressed, a laminated sheet having a skin layer on the surface of the polyurethane foam layer is obtained. The conditions for pressing are not particularly limited, but it is preferable to adjust the temperature above the glass transition point.
一方、上記方法で調製した気泡分散ウレタン組成物を基材シート上に塗布し、該気泡分散ウレタン組成物上に離型シートを積層する。その後、押圧手段により厚さを均一にしつつ気泡分散ウレタン組成物を硬化させてポリウレタン発泡層を形成してもよい。該方法は、積層シートの厚さを極めて均一に制御することができるため特に好ましい方法である。 On the other hand, the cell-dispersed urethane composition prepared by the above method is applied onto a substrate sheet, and a release sheet is laminated on the cell-dispersed urethane composition. Thereafter, the foam-dispersed urethane composition may be cured by making the thickness uniform with a pressing means to form a polyurethane foam layer. This method is a particularly preferable method because the thickness of the laminated sheet can be controlled extremely uniformly.
離型シートの形成材料は特に制限されず、前記基材シートと同様の樹脂や紙などを挙げることができる。離型シートは、熱による寸法変化が小さいものが好ましい。なお、離型シートの表面は離型処理が施されていてもよい。 The material for forming the release sheet is not particularly limited, and examples thereof include the same resin and paper as those for the base sheet. The release sheet preferably has a small dimensional change due to heat. The surface of the release sheet may be subjected to a release treatment.
基材シート、気泡分散ウレタン組成物(気泡分散ウレタン層)、及び離型シートからなるサンドイッチシートの厚さを均一にする押圧手段は特に制限されないが、例えば、コーターロール、ニップロールなどにより一定厚さに圧縮する方法が挙げられる。圧縮後に発泡層中の気泡が1.2〜2倍程度大きくなることを考慮して、圧縮に際しては、(コーター又はニップのクリアランス)−(基材シート及び離型シートの厚み)=(硬化後のポリウレタン発泡層の厚みの50〜85%)とすることが好ましい。また、比重が0.2〜0.5のポリウレタン発泡層を得るためには、ロールを通過する前の気泡分散ウレタン組成物の比重は0.24〜1であることが好ましい。 The pressing means for making the thickness of the sandwich sheet composed of the base material sheet, the cell-dispersed urethane composition (cell-dispersed urethane layer), and the release sheet is not particularly limited. For example, the thickness may be constant by a coater roll, a nip roll, or the like. The method of compressing is mentioned. In consideration of the fact that the bubbles in the foamed layer become about 1.2 to 2 times larger after compression, during the compression, (coater or nip clearance)-(base sheet and release sheet thickness) = (after curing) The thickness of the polyurethane foam layer is preferably 50 to 85%. In order to obtain a polyurethane foam layer having a specific gravity of 0.2 to 0.5, the specific gravity of the cell-dispersed urethane composition before passing through the roll is preferably 0.24 to 1.
そして、前記サンドイッチシートの厚さを均一にした後に、流動しなくなるまで反応したポリウレタン発泡体を加熱し、ポストキュアしてポリウレタン発泡層を形成する。ポストキュアの条件は前記と同様である。 Then, after the thickness of the sandwich sheet is made uniform, the reacted polyurethane foam is heated until it does not flow, and post-cured to form a polyurethane foam layer. Post cure conditions are the same as described above.
その後、ポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離して積層シートを得る。この場合、ポリウレタン発泡層上にはスキン層が形成されている。なお、離型シートを剥離した後にポリウレタン発泡層をバフがけ等することによりスキン層を除去してもよい。 Thereafter, the release sheet on the polyurethane foam layer is peeled off to obtain a laminated sheet. In this case, a skin layer is formed on the polyurethane foam layer. Note that the skin layer may be removed by buffing the polyurethane foam layer after the release sheet is peeled off.
ポリウレタン発泡層の厚さは特に制限されないが、0.2〜1.2mmであることが好ましく、より好ましくは0.6〜1mmである。 The thickness of the polyurethane foam layer is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 1.2 mm, and more preferably 0.6 to 1 mm.
ポリウレタン発泡層中の気泡は、独立気泡であってもよく連続気泡であってもよい。 The air bubbles in the polyurethane foam layer may be closed cells or open cells.
ポリウレタン発泡層中の気泡の平均気泡径は、20〜300μmであることが好ましく、より好ましくは50〜150μmである。この範囲から逸脱する場合は、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。 The average cell diameter of the bubbles in the polyurethane foam layer is preferably 20 to 300 μm, more preferably 50 to 150 μm. When deviating from this range, the surface smoothness of the polished material after polishing tends to deteriorate.
ポリウレタン発泡層は、厚み方向における平均気泡径差(平均気泡径最大値−平均気泡径最小値)が50μm以下であることが好ましく、より好ましくは30μm以下である。平均気泡径差の算出方法は、詳しくは実施例の記載による。 The polyurethane foam layer preferably has an average cell diameter difference in the thickness direction (average cell diameter maximum value−average cell diameter minimum value) of 50 μm or less, more preferably 30 μm or less. The calculation method of the average bubble diameter difference is described in detail in the examples.
ポリウレタン発泡層の比重は、0.2〜0.5であることが好ましく、より好ましくは0.25〜0.4である。比重が0.2未満の場合には、気泡率が高くなりすぎて耐久性が悪くなる傾向にある。一方、比重が0.5を超える場合には、ある一定の弾性率にするために材料を低架橋密度にする必要がある。その場合、永久ひずみが増大し、耐久性が悪くなる傾向にある。 The specific gravity of the polyurethane foam layer is preferably 0.2 to 0.5, more preferably 0.25 to 0.4. When the specific gravity is less than 0.2, the bubble rate becomes too high and the durability tends to deteriorate. On the other hand, when the specific gravity exceeds 0.5, it is necessary to make the material have a low crosslinking density in order to obtain a certain elastic modulus. In that case, permanent set increases and durability tends to deteriorate.
ポリウレタン発泡層の硬度は、アスカーC硬度にて10〜50度であることが好ましく、より好ましくは15〜35度である。アスカーC硬度が10度未満の場合には、耐久性が低下したり、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。一方、50度を超える場合には、被研磨材の保持性が悪くなる傾向にある。 The hardness of the polyurethane foam layer is preferably 10 to 50 degrees in terms of Asker C hardness, more preferably 15 to 35 degrees. When the Asker C hardness is less than 10 degrees, the durability tends to decrease or the surface smoothness of the polished material after polishing tends to deteriorate. On the other hand, when it exceeds 50 degrees, the retainability of the material to be polished tends to deteriorate.
ポリウレタン発泡層の圧縮率は、2〜10%であることが好ましく、より好ましくは4〜8%である。圧縮率が2%未満の場合には、被研磨材の保持性が悪くなり、圧縮率が10%を超える場合には、耐久性や研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。 The compression ratio of the polyurethane foam layer is preferably 2 to 10%, more preferably 4 to 8%. When the compression rate is less than 2%, the retention of the material to be polished is deteriorated, and when the compression rate exceeds 10%, the durability and the surface smoothness of the material to be polished after polishing tend to be deteriorated. is there.
ポリウレタン発泡層の厚みバラツキは、100μm以下であることが好ましく、より好ましくは60μm以下である。厚みバラツキが100μmを越えるものは、積層シートが大きなうねりを持ったものとなる。その結果、研磨後の被研磨材の表面平滑性が悪くなる傾向にある。 The thickness variation of the polyurethane foam layer is preferably 100 μm or less, more preferably 60 μm or less. When the thickness variation exceeds 100 μm, the laminated sheet has large undulations. As a result, the surface smoothness of the polished material after polishing tends to deteriorate.
本発明のポリウレタン発泡層上にスキン層を有する積層シートは、保持面の表面精度が高く、スキン層自体が粘着性を有するため被研磨材を十分保持することができるが、別途粘着層を設けてもよい。 The laminated sheet having a skin layer on the polyurethane foam layer of the present invention has a high surface accuracy of the holding surface, and the skin layer itself has adhesiveness so that the material to be polished can be sufficiently retained. May be.
一方、本発明のポリウレタン発泡層上にスキン層を有しない積層シートは、保持面の表面精度が高く、保持面を水等で湿らせることにより被研磨材を十分保持することができるが、別途粘着層を設けてもよい。 On the other hand, the laminated sheet having no skin layer on the polyurethane foam layer of the present invention has a high surface accuracy of the holding surface and can sufficiently hold the material to be polished by moistening the holding surface with water or the like. An adhesive layer may be provided.
積層シートの基材シート表面には、研磨ヘッドに貼り付けるための両面テープが設けられていてもよい。両面テープは、不織布やフィルム等の基材の両面に接着層を設けた一般的な構成を有するものである。接着層の組成としては、例えば、ゴム系接着剤やアクリル系接着剤等が挙げられる。 A double-sided tape for attaching to the polishing head may be provided on the surface of the base sheet of the laminated sheet. The double-sided tape has a general configuration in which adhesive layers are provided on both sides of a substrate such as a nonwoven fabric or a film. Examples of the composition of the adhesive layer include rubber adhesives and acrylic adhesives.
以下、本発明を実施例を上げて説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[測定、評価方法]
(平均気泡径の測定)
作製したポリウレタン発泡層を厚み1mm以下になるべく薄くカミソリ刃で平行に切り出したものをサンプルとした。サンプルをスライドガラス上に固定し、SEM(S−3500N、日立サイエンスシステムズ(株))を用いて100倍で観察した。得られた画像を画像解析ソフト(WinRoof、三谷商事(株))を用いて、任意範囲の全気泡径を測定し、平均気泡径を算出した。
[Measurement and evaluation methods]
(Measurement of average bubble diameter)
A sample obtained by cutting the produced polyurethane foam layer in parallel with a razor blade as thin as possible to a thickness of 1 mm or less was used as a sample. The sample was fixed on a glass slide and observed at 100 times using SEM (S-3500N, Hitachi Science Systems, Ltd.). Using the image analysis software (WinRoof, Mitani Shoji Co., Ltd.) for the obtained image, the total bubble diameter in an arbitrary range was measured, and the average bubble diameter was calculated.
(平均気泡径差の測定)
作製したポリウレタン発泡層の断面をSEMを用いて65倍で観察した。ポリウレタン発泡層を厚み方向に4等分する3本の直線を得られた画像上に引いた。該直線の任意2mm間において、気泡と交わる直線の線分長さの平均値を求め、これを平均気泡径とした。3本の直線についてそれぞれ平均気泡径を求め、得られた平均気泡径の最大値と最小値から厚み方向における平均気泡径差(最大値−最小値)を求めた。
(Measurement of average bubble diameter difference)
The cross section of the produced polyurethane foam layer was observed 65 times using SEM. Three straight lines dividing the polyurethane foam layer into four equal parts in the thickness direction were drawn on the obtained image. The average value of the length of the line segment of the straight line intersecting with the bubbles was determined between any 2 mm of the straight line, and this was taken as the average bubble diameter. The average bubble diameter was determined for each of the three straight lines, and the average bubble diameter difference (maximum value−minimum value) in the thickness direction was determined from the maximum and minimum values of the average bubble diameter obtained.
(比重の測定)
JIS Z8807−1976に準拠して行った。作製したポリウレタン発泡層を4cm×8.5cmの短冊状(厚み:任意)に切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定には比重計(ザルトリウス社製)を用い、比重を測定した。
(Measurement of specific gravity)
This was performed according to JIS Z8807-1976. The produced polyurethane foam layer was cut into a 4 cm × 8.5 cm strip (thickness: arbitrary) and used as a sample, and allowed to stand for 16 hours in an environment of temperature 23 ° C. ± 2 ° C. and humidity 50% ± 5%. The specific gravity was measured using a hydrometer (manufactured by Sartorius).
(硬度の測定)
JIS K−7312に準拠して行った。作製したポリウレタン発泡層を5cm×5cm(厚み:任意)の大きさに切り出したものをサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で16時間静置した。測定時には、サンプルを重ね合わせ、厚み10mm以上とした。硬度計(高分子計器社製、アスカーC型硬度計、加圧面高さ:3mm)を用い、加圧面を接触させてから30秒後の硬度を測定した。
(Measurement of hardness)
This was performed according to JIS K-7312. A sample obtained by cutting the produced polyurethane foam layer into a size of 5 cm × 5 cm (thickness: arbitrary) was used as a sample and allowed to stand for 16 hours in an environment of a temperature of 23 ° C. ± 2 ° C. and a humidity of 50% ± 5%. At the time of measurement, the samples were overlapped to have a thickness of 10 mm or more. Using a hardness meter (manufactured by Kobunshi Keiki Co., Ltd., Asker C-type hardness meter, pressure surface height: 3 mm), the hardness 30 seconds after contacting the pressure surface was measured.
(圧縮率の測定)
直径7mmの円(厚み:任意)に切り出したポリウレタン発泡層をサンプルとし、温度23℃±2℃、湿度50%±5%の環境で40時間静置した。測定には熱分析測定器TMA(SEIKO INSTRUMENTS製、SS6000)を用い、圧縮率を測定した。圧縮率の計算式を下記に示す。
圧縮率(%)={(T1―T2)/T1}×100
T1:ポリウレタン発泡層に無負荷状態から4.9KPa (50g/cm2)の応力を負荷して60秒間保持した時のポリウレタン発泡層の厚み。
T2:T1の状態から29.4KPa (300g/cm2)の応力を負荷して60秒間保持した時のポリウレタン発泡層の厚み。
(Measurement of compression rate)
A polyurethane foam layer cut into a 7 mm diameter circle (thickness: arbitrary) was used as a sample and allowed to stand for 40 hours in an environment of a temperature of 23 ° C. ± 2 ° C. and a humidity of 50% ± 5%. For the measurement, a compression ratio was measured using a thermal analysis measuring instrument TMA (manufactured by SEIKO INSTRUMENTS, SS6000). The calculation formula of the compression rate is shown below.
Compression rate (%) = {(T1-T2) / T1} × 100
T1: Thickness of the polyurethane foam layer when a stress of 4.9 KPa (50 g / cm 2 ) is applied to the polyurethane foam layer from an unloaded state and held for 60 seconds.
T2: The thickness of the polyurethane foam layer when a stress of 29.4 KPa (300 g / cm 2 ) is applied from the state of T1 and held for 60 seconds.
(研磨速度安定性の評価)
研磨装置としてSPP600S(岡本工作機械社製)を用いた。作製した積層シートにガラス板を貼りあわせて研磨速度安定性の評価を行った。研磨条件は以下の通りである。
ガラス板:6インチφ、厚さ1.1mm(光学ガラス、BK7)
スラリー:セリアスラリー(CeO2、5wt%)
スラリー量:250ml/min
研磨パッド:MH C14B(ニッタ・ハース製)
研磨加工圧力:20kPa
研磨定盤回転数:45rpm
ガラス板回転数:40rpm
研磨時間:10min/枚
研磨したガラス板枚数:500枚
まず、研磨したガラス板1枚ごとの平均研磨速度(Å/min)を算出する。算出方法は以下の通りである。
平均研磨速度=〔研磨前後のガラス板の重量変化量[g]/(ガラス板密度[g/cm3]×ガラス板の研磨面積[cm2]×研磨時間[min])〕×108
研磨速度安定性(%)は、ガラス板1枚目から処理枚数(100枚、300枚、又は500枚)までにおける最大平均研磨速度、最小平均研磨速度、及び全平均研磨速度(1枚目から処理枚数までの各平均研磨速度の平均値)を求めて、その値を下記式に代入することにより算出する。研磨速度安定性(%)は数値が低いほど、多数のガラス板を研磨しても研磨速度が変化しにくいことを示す。本発明においては、500枚処理した後の研磨速度安定性が10%以内であることが好ましい。
研磨速度安定性(%)={(最大平均研磨速度−最小平均研磨速度)/全平均研磨速度}×100
(Evaluation of polishing rate stability)
SPP600S (Okamoto Machine Tool Co., Ltd.) was used as a polishing device. The glass plate was bonded to the produced laminated sheet, and the polishing rate stability was evaluated. The polishing conditions are as follows.
Glass plate: 6 inches φ, thickness 1.1 mm (optical glass, BK7)
Slurry: Ceria slurry (CeO 2 , 5 wt%)
Slurry amount: 250 ml / min
Polishing pad: MH C14B (made by Nitta Haas)
Polishing pressure: 20kPa
Polishing platen rotation speed: 45rpm
Glass plate rotation speed: 40rpm
Polishing time: 10 min / number of polished glass plates: 500 First, an average polishing rate (Å / min) for each polished glass plate is calculated. The calculation method is as follows.
Average polishing rate = [weight change amount of glass plate before and after polishing [g] / (glass plate density [g / cm 3 ] × polishing area of glass plate [cm 2 ] × polishing time [min])] × 10 8
The polishing rate stability (%) is the maximum average polishing rate, the minimum average polishing rate, and the total average polishing rate (from the first sheet) from the first glass plate to the number of processed sheets (100 sheets, 300 sheets, or 500 sheets). An average value of each average polishing rate up to the number of processed sheets) is calculated and the value is substituted into the following equation. As the polishing rate stability (%) is lower, the polishing rate is less likely to change even when a large number of glass plates are polished. In the present invention, the polishing rate stability after processing 500 sheets is preferably within 10%.
Polishing rate stability (%) = {(maximum average polishing rate−minimum average polishing rate) / total average polishing rate} × 100
実施例1
容器にEP330N(三井武田ケミカル社製)90重量部、ジエチレングリコール10重量部、シリコン系界面活性剤(SH−192、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)5重量部、及び触媒(No.25、花王製)0.2重量部を入れて混合した。そして、撹拌翼を用いて、回転数900rpmで反応系内に気泡を取り込むように約4分間激しく撹拌を行った。その後、ミリオネートMTL(日本ポリウレタン工業製)38.5重量部を添加し、約1分間撹拌して気泡分散ウレタン組成物を調製した。
Example 1
In the container, 90 parts by weight of EP330N (manufactured by Mitsui Takeda Chemical), 10 parts by weight of diethylene glycol, 5 parts by weight of a silicon-based surfactant (SH-192, manufactured by Toray Dow Corning Silicone), and a catalyst (No. 25, Kao) (Product made) 0.2 part by weight was added and mixed. And it stirred vigorously for about 4 minutes so that a bubble might be taken in in a reaction system with the rotation speed of 900 rpm using the stirring blade. Thereafter, 38.5 parts by weight of Millionate MTL (manufactured by Nippon Polyurethane Industry) was added and stirred for about 1 minute to prepare a cell dispersed urethane composition.
調製した気泡分散ウレタン組成物を基材シート(ポリエチレンテレフタレート、厚さ:0.2mm)上に塗布して気泡分散ウレタン層を形成した。そして、該気泡分散ウレタン層上に離型処理した離型シート(ポリエチレンテレフタレート、厚さ:0.2mm)を被せた。ニップロールにて気泡分散ウレタン層を1.0mmの厚さにし、その後70℃で40分間キュアしてポリウレタン発泡層を形成した。その後、ポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離した。次に、バフ機(アミテック社製)を用いてポリウレタン発泡層の表面をバフ処理して厚さを0.8mmにし、厚み精度を調整した。その後、ポリウレタン発泡層のバフ面にテンプレートを貼り付け、さらに基材シート表面にラミ機を使用して両面テープ(ダブルタックテープ、積水化学工業製)を貼りあわせて積層シートを作製した。図1に該ポリウレタン発泡層の断面の顕微鏡写真を示す。ポリウレタン発泡層中に球状の気泡が形成されていることがわかる。 The prepared cell-dispersed urethane composition was applied on a base sheet (polyethylene terephthalate, thickness: 0.2 mm) to form a cell-dispersed urethane layer. Then, a release sheet (polyethylene terephthalate, thickness: 0.2 mm) subjected to a release treatment was put on the cell-dispersed urethane layer. The cell-dispersed urethane layer was made 1.0 mm thick with a nip roll, and then cured at 70 ° C. for 40 minutes to form a polyurethane foam layer. Thereafter, the release sheet on the polyurethane foam layer was peeled off. Next, the surface of the polyurethane foam layer was buffed using a buffing machine (manufactured by Amitech) to make the thickness 0.8 mm, and the thickness accuracy was adjusted. Thereafter, a template was attached to the buff surface of the polyurethane foam layer, and a double-sided tape (double tack tape, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was attached to the surface of the base sheet using a laminator to prepare a laminated sheet. FIG. 1 shows a micrograph of a cross section of the polyurethane foam layer. It can be seen that spherical bubbles are formed in the polyurethane foam layer.
実施例2
実施例1で調製した気泡分散ウレタン組成物を基材シート(ポリエチレンテレフタレート、厚さ:0.2mm)上に塗布して気泡分散ウレタン層を形成した。その後、70℃で40分間キュアしてポリウレタン発泡層を形成した。次に、バフ機(アミテック社製)を用いてポリウレタン発泡層の表面をバフ処理して厚さを0.8mmにし、厚み精度を調整した。その後、ポリウレタン発泡層のバフ面にテンプレートを貼り付け、さらに基材シート表面にラミ機を使用して両面テープ(ダブルタックテープ、積水化学工業製)を貼りあわせて積層シートを作製した。図2に該ポリウレタン発泡層の断面の顕微鏡写真を示す。ポリウレタン発泡層中に球状の気泡が形成されていることがわかる。
Example 2
The cell-dispersed urethane composition prepared in Example 1 was applied on a base sheet (polyethylene terephthalate, thickness: 0.2 mm) to form a cell-dispersed urethane layer. Then, it was cured at 70 ° C. for 40 minutes to form a polyurethane foam layer. Next, the surface of the polyurethane foam layer was buffed using a buffing machine (manufactured by Amitech) to make the thickness 0.8 mm, and the thickness accuracy was adjusted. Thereafter, a template was attached to the buff surface of the polyurethane foam layer, and a double-sided tape (double tack tape, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was attached to the surface of the base sheet using a laminator to prepare a laminated sheet. FIG. 2 shows a micrograph of a cross section of the polyurethane foam layer. It can be seen that spherical bubbles are formed in the polyurethane foam layer.
実施例3
実施例1で調製した気泡分散ウレタン組成物を基材シート(ポリエチレンテレフタレート、厚さ:0.2mm)上に塗布して気泡分散ウレタン層を形成した。そして、該気泡分散ウレタン層上に離型処理した離型シート(ポリエチレンテレフタレート、厚さ:0.2mm)を被せた。ニップロールにて気泡分散ウレタン層を0.8mmの厚さにし、その後70℃で40分間キュアしてポリウレタン発泡層を形成した。その後、ポリウレタン発泡層上の離型シートを剥離した。該ポリウレタン発泡層上にはスキン層が形成されていた。その後、該スキン層上にテンプレートを貼り付け、さらに基材シート表面にラミ機を使用して両面テープ(ダブルタックテープ、積水化学工業製)を貼りあわせて積層シートを作製した。図3に該ポリウレタン発泡層の断面の顕微鏡写真を示す。ポリウレタン発泡層中に球状の気泡が形成されていることがわかる。
Example 3
The cell-dispersed urethane composition prepared in Example 1 was applied on a base sheet (polyethylene terephthalate, thickness: 0.2 mm) to form a cell-dispersed urethane layer. Then, a release sheet (polyethylene terephthalate, thickness: 0.2 mm) subjected to a release treatment was put on the cell-dispersed urethane layer. The cell-dispersed urethane layer was made 0.8 mm thick with a nip roll, and then cured at 70 ° C. for 40 minutes to form a polyurethane foam layer. Thereafter, the release sheet on the polyurethane foam layer was peeled off. A skin layer was formed on the polyurethane foam layer. Thereafter, a template was affixed on the skin layer, and a double-sided tape (double tack tape, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was adhered to the surface of the base material sheet using a laminator to prepare a laminated sheet. FIG. 3 shows a micrograph of a cross section of the polyurethane foam layer. It can be seen that spherical bubbles are formed in the polyurethane foam layer.
比較例1
熱可塑性ウレタン(レザミン7285、大日精化製)10重量部をジメチルホルムアミド90重量部に溶解させてウレタン溶液を調製し、該ウレタン溶液を基材シート(ポリエチレンテレフタレート、厚さ:0.2mm)上に塗布してウレタン膜を形成した。その後、ウレタン膜−基材シートをDMF−水混合液(DMF/水=30/70)に30分間浸漬し、さらに水中に24時間浸漬してジメチルホルムアミドを水で置換してポリウレタン発泡層を形成した。その後、ポリウレタン発泡層の表面にテンプレートを貼り付け、さらに基材シート表面にラミ機を使用して両面テープ(ダブルタックテープ、積水化学工業製)を貼りあわせて積層シートを作製した。図4に該ポリウレタン発泡層の断面の顕微鏡写真を示す。ポリウレタン発泡層中に細長い雫状の気泡が形成されていることがわかる。
A urethane solution is prepared by dissolving 10 parts by weight of thermoplastic urethane (Rezamin 7285, manufactured by Dainichi Seika) in 90 parts by weight of dimethylformamide, and the urethane solution is placed on a base sheet (polyethylene terephthalate, thickness: 0.2 mm). To form a urethane film. Then, the urethane membrane-base sheet is immersed in a DMF-water mixture (DMF / water = 30/70) for 30 minutes, and further immersed in water for 24 hours to replace dimethylformamide with water to form a polyurethane foam layer. did. Thereafter, a template was affixed to the surface of the polyurethane foam layer, and a double-sided tape (double tack tape, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was affixed to the surface of the base material sheet using a laminator to produce a laminated sheet. FIG. 4 shows a micrograph of a cross section of the polyurethane foam layer. It can be seen that elongated cocoon-shaped bubbles are formed in the polyurethane foam layer.
表1から明らかなように、本発明の製造方法により作製された積層シートを用いることにより、多数のウエハを研磨しても研磨速度が変化しにくいことがわかる。 As is apparent from Table 1, it can be understood that the polishing rate hardly changes even when a large number of wafers are polished by using the laminated sheet prepared by the manufacturing method of the present invention.
Claims (11)
前記イソシアネート成分は、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート又はカルボジイミド変性MDIであることを特徴とする請求項1又は2記載の被研磨材保持用積層シートの製造方法。The method for producing a laminated sheet for holding an abrasive according to claim 1 or 2, wherein the isocyanate component is 4,4'-diphenylmethane diisocyanate or carbodiimide-modified MDI.
前記活性水素含有化合物は、高分子量ポリオールを含有し、The active hydrogen-containing compound contains a high molecular weight polyol,
前記高分子量ポリオールは、アクリロニトリル及び/又はスチレン−アクリロニトリル共重合体からなるポリマー粒子を分散させたポリマーポリオールを含み、The high molecular weight polyol includes a polymer polyol in which polymer particles made of acrylonitrile and / or a styrene-acrylonitrile copolymer are dispersed,
前記ポリマーポリオールは、前記高分子量ポリオールに20〜100重量%かつ、活性水素含有化合物中に60〜85重量%含まれることを特徴とする請求項1、2および9いずれかに記載の被研磨材保持用積層シートの製造方法。10. The material to be polished according to claim 1, wherein the polymer polyol is contained in the high molecular weight polyol in an amount of 20 to 100% by weight and in an active hydrogen-containing compound in an amount of 60 to 85% by weight. A method for producing a laminated sheet for holding.
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