JP4774782B2 - 配向膜の形成方法、配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、配向膜の形成方法、配向膜、電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器に関するものである。

スクリーン上に画像を投影する投射型表示装置が知られている。この投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネルが用いられている。
このような液晶パネルは、通常、液晶分子を一定方向に配向させるため、所定のプレチルト角が発現するように設定された配向膜を有している。これらの配向膜を製造するには、基材上に成膜されたポリイミド等の高分子化合物からなる薄膜を、レーヨン等の布で一方向に擦るラビング処理する方法等が知られている（例えば、特許文献１参照。）。

しかしながら、ポリイミド等の有機材料で構成された配向膜は、使用環境、使用時間等により、光劣化を生じることがあった。このような光劣化が起こると、配向膜、液晶層等の構成材料が分解し、その分解生成物が液晶の性能等に悪影響を及ぼすことがある。
このような問題を解決する目的で、無機材料で構成された配向膜（無機配向膜）を採用する試みがある。無機配向膜は、一般に、斜方蒸着法により形成される。
しかしながら、この無機配向膜は、有機材料で構成された配向膜に比べ、耐光性、耐熱性に優れるものの、液晶分子を配向させる能力が低いという問題がある。

特開平１０−１６１１３３号公報（特許請求の範囲）

本発明の目的は、耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を製造することが可能な配向膜の形成方法を提供すること、前記形成方法により得られる配向膜を提供すること、前記配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供することにある。

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の配向膜の形成方法は、基材上に配向膜を形成する方法であって、
ベンジルトリエトキシシラン、ベンジルジメチルエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシランからなる群から選択される少なくとも１種を含むシラン化合物の加水分解物を調製する工程と、
テトラアルコキシシランの加水分解物を調製する工程と、
前記シラン化合物の加水分解物と、前記テトラアルコキシシランの加水分解物とを混合し、配向膜形成用液体を得る工程と、
前記配向膜形成用液体を用いて、前記基材上に前記配向膜形成用液体で構成された膜を形成する工程と、
前記膜を加熱する加熱工程とを有することを特徴とする。
これにより、耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を提供することができる。

本発明の配向膜の形成方法では、前記配向膜形成用液体中における、前記シラン化合物の加水分解物と、前記テトラアルコキシシランの加水分解物とのモル比は、５：９５〜９５：５であることが好ましい。
これにより、得られる配向膜の配向特性を所望のものとしつつ、光学的により安定な配向膜を形成することができる。

本発明の配向膜の形成方法では、前記テトラアルコキシシランは、テトラエトキシシランであることが好ましい。
これにより、加水分解を容易に行うことができるとともに、最終的に得られる配向膜をより緻密で安定したものとすることができる。
本発明の配向膜の形成方法では、前記加熱工程における加熱温度は、５０〜３００℃であることが好ましい。
これにより、有機基の変質等を効果的に防止しつつ、膜を硬化させることができる。

本発明の配向膜は、本発明の配向膜の形成方法により形成されたことを特徴とする。
これにより、耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を提供することができる。
本発明の配向膜では、配向膜の平均厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましい。
これにより、液晶分子の配向性をより効果的に規制することができる。

本発明の電子デバイス用基板は、基板上に、電極と、
本発明の配向膜とを備えることを特徴とする。
これにより、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れ、かつ、耐光性に優れた電子デバイス用基板を提供することができる。
本発明の液晶パネルは、本発明の配向膜と、液晶層とを備えたことを特徴とする。
これにより、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れ、かつ、耐光性に優れた液晶パネルを提供することができる。
本発明の電子機器は、本発明の液晶パネルを備えたことを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器を提供することができる。

以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
まず、配向膜、配向膜の形成方法の説明に先立ち、本発明の液晶パネルについて説明する。
図１は、本発明の液晶パネルの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
図１に示すように、液晶パネル１Ａは、液晶層２と、配向膜３Ａ、４Ａと、透明導電膜５、６と、偏光膜７Ａ、８Ａと、基板９、１０とを有している。

液晶層２は、主として、液晶材料で構成されている。
液晶層２を構成する液晶材料としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶など配向し得るものであればいかなる液晶材料を用いても構わないが、ＴＮ型液晶パネルの場合、ネマチック液晶を形成させるものが好ましく、例えば、フェニルシクロヘキサン誘導体液晶、ビフェニル誘導体液晶、ビフェニルシクロヘキサン誘導体液晶、テルフェニル誘導体液晶、フェニルエーテル誘導体液晶、フェニルエステル誘導体液晶、ビシクロヘキサン誘導体液晶、アゾメチン誘導体液晶、アゾキシ誘導体液晶、ピリミジン誘導体液晶、ジオキサン誘導体液晶、キュバン誘導体液晶等が挙げられる。さらに、これらネマチック液晶分子にモノフルオロ基、ジフルオロ基、トリフルオロ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基などのフッ素系置換基を導入した液晶分子も含まれる。

液晶層２の両面には、配向膜３Ａ、４Ａが配置されている。
また、配向膜３Ａは、後述するような透明導電膜５と基板９とからなる基材１００上に形成されており、配向膜４Ａは、後述するような透明導電膜６と基板１０とからなる基材１０１上に形成されている。
配向膜３Ａ、４Ａは、液晶層２を構成する液晶材料（液晶分子）の（電圧無印加時における）配向状態を規制する機能を有している。

このような配向膜３Ａ、４Ａは、例えば、後述するような方法（本発明の配向膜の形成方法）により形成され、主として、ケイ素原子と酸素原子とが結合した構造を有しており、ケイ素原子の一部に、後述するような有機基が炭素原子で直接結合してなるものである。
このような材料で構成された配向膜は、ポリイミド等の有機材料で構成された配向膜に比べて、優れた化学的安定性を有しているため、特に優れた耐光性を有するものとなる。

ところで、無機材料で構成された配向膜は、従来の有機材料で構成された配向膜と比べ、優れた耐光性を有しているが、液晶分子との親和性が低く、液晶分子の配向状態を規制するのが困難で、アンカリング力が低いという問題があった。
しかしながら、本発明のように、配向膜として、有機基を有するものを用いることにより、配向膜の液晶分子への規制力が向上するため、液晶分子を規則正しく配置することができる。その結果、所望のプレチルト角に液晶分子を容易に配向させることができ、優れた配向特性（液晶分子の配向状態を規制する機能）を有するものとすることができる。

このような有機基としては、例えば、メチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、ビフェニル基、ナフチル基等の芳香環を有する官能基等が挙げられる。
上述した中でも、特に、配向膜３Ａ、４Ａの構成材料として、有機基として芳香環を含む官能基を有しているものを用いた場合、液晶分子への規制力を向上させるとともに、液晶分子の配向方向をより確実に揃えることができる。
また、有機基として芳香環を含む官能基を有している場合、芳香環が炭素原子を介してケイ素原子に結合しているものを用いるのが好ましい。

配向膜３Ａ、４Ａ中に存在するケイ素原子の数に対する、有機基の割合（モル数）は、５〜２０％であるのが好ましく、５〜１０％であるのがより好ましい。有機基の割合が前記下限値未満であると、有機基の種類等によっては、液晶分子との親和性が十分に得られない場合がある。一方、有機基の割合が前記上限値を超えると、有機基の種類等によっては、後述する透明導電膜との密着性が十分に得られない場合がある。

上記のような配向膜３Ａ、４Ａは、その平均厚さが０．０１〜１０μｍであるのが好ましく、０．０１〜０．１μｍであるのがより好ましく、０．０１〜０．０５μｍであるのがさらに好ましい。平均厚さが前記下限値未満であると、有機基の種類や割合等によっては、配向膜としての機能が十分に発揮されない場合がある。一方、平均厚さが前記上限値を超えると、駆動電圧が高くなり、消費電力が大きくなる可能性がある。

配向膜３Ａの外表面側（液晶層２と対向する面とは反対の面側）には、透明導電膜５が配置されている。同様に、配向膜４Ａの外表面側（液晶層２と対向する面とは反対の面側）には、透明導電膜６が配置されている。
透明導電膜５、６は、これらの間で通電を行うことにより、液晶層２の液晶分子を駆動する（配向を変化させる）機能を有する。

透明導電膜５、６間での通電の制御は、透明導電膜に接続された制御回路（図示せず）から供給する電流を制御することにより行われる。
透明導電膜５、６は、導電性を有しており、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）等で構成されている。
透明導電膜５の外表面側（配向膜３Ａと対向する面とは反対の面側）には、基板９が配置されている。同様に、透明導電膜６の外表面側（無機配向膜４Ａと対向する面とは反対側の面側）には、基板１０が配置されている。

基板９、１０は、前述した液晶層２、配向膜３Ａ、４Ａ、透明導電膜５、６、および後述する偏光膜７Ａ、８Ａを支持する機能を有している。基板９、１０の構成材料は、特に限定されず、例えば、石英ガラス等のガラスやポリエチレンテレフタレート等のプラスチック材料等が挙げられる。この中でも特に、石英ガラス等のガラスで構成されたものであるのが好ましい。これにより、そり、たわみ等の生じにくい、より安定性に優れた液晶パネルを得ることができる。なお、図１では、シール材、配線等の記載は省略した。

基板９の外表面側（透明導電膜５と対向する面とは反対の面側）には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）７Ａが配置されている。同様に、基板１０の外表面側（透明導電膜６と対向する面とは反対の面側）には、偏光膜（偏光板、偏光フィルム）８Ａが配置されている。
偏光膜７Ａ、８Ａの構成材料としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等が挙げられる。また、偏光膜としては、前記材料にヨウ素をドープしたもの等を用いてもよい。

偏光膜としては、例えば、上記材料で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いることができる。
このような偏光膜７Ａ、８Ａに配置することにより、通電量の調節による光の透過率の制御をより確実に行うことができる。
偏光膜７Ａ、８Ａの偏光軸の方向は、通常、配向膜３Ａ、４Ａの配向方向に応じて決定される。

次に、本発明の配向膜の形成方法について説明する。
本実施形態の配向膜の形成方法では、前述したような有機基を有するシラン化合物の加水分解物と、テトラアルコキシシランの加水分解物とを含む配向膜形成用液体を用いて配向膜を形成する。
本実施形態では、シラン化合物の加水分解物と、テトラアルコキシシランの加水分解物とを別々に調製し、混合することにより、配向膜形成用液体を調製するものとして説明する。別々に各加水分解物を調製することにより、それぞれの加水分解の程度をより適度なものに調節することができる。

［シラン化合物の加水分解物の調製］
まず、本実施形態で用いるシラン化合物の加水分解物の調製方法について説明する。
＜１＞
まず、加水分解に供されるシラン化合物を用意する。
このようなシラン化合物としては、有機基を構成する炭素原子が直接ケイ素に結合してなるものを用いる。これにより、加水分解時等において、有機基が離脱するのを防止し、配向膜内に、有機基を確実に残すことができる。
また、シラン化合物は、前述した有機基以外に、加水分解可能な置換基であれば、いかなる置換基を有していてもよく、例えば、アルコキシル基、ハロゲン基等を有していてもよい。

上述した中でも、有機基以外の置換基として、アルコキシル基および／またはハロゲン基を有するシラン化合物を用いるのが好ましい。これにより、シラン化合物の加水分解を容易に行うことができる。
アルコキシル基としては、例えば、メトキシ基（ＯＭｅ）、エトキシ基（ＯＥｔ）、プロポキシ基（ＯＰｒ）、ブトキシ基（ＯＢｕ）等が挙げられる。
また、ハロゲン基としては、例えば、フッ素基（Ｆ）、塩素基（Ｃｌ）、臭素基（Ｂｒ）等が挙げられる。

このようなシラン化合物は、一般式Ｒ_ｍＳｉＸ_{（４−ｍ）}（３≧ｍ≧１、Ｒはメチル基（Ｍｅ）、エチル基（Ｅｔ）、フェニル基（Ｐｈ）、ベンジル基（Ｂｚ）等の有機基、Ｘは、アルコキシル基、ハロゲン基等）で表される。
このようなシラン化合物は、具体的には、例えば、ベンジルトリエトキシシラン（ＢｚＳｉ（ＯＥｔ）_３）、ベンジルトリエメトキシシラン（ＢｚＳｉ（ＯＭｅ）_３）、ベンジルメチルジエトキシシラン（ＢｚＭｅＳｉ（ＯＥｔ）_２）、ベンジルジメチルエトキシシラン（ＢｚＭｅ_２ＳｉＯＥｔ）、フェニルトリエトキシシラン（ＰｈＳｉ（ＯＥｔ）_３）、フェニルトリメトキシシラン（ＰｈＳｉ（ＯＭｅ）_３）、フェニルメチルジエトキシシラン（ＰｈＭｅＳｉ（ＯＥｔ）_２）、フェニルトリクロロシラン（ＰｈＳｉＣｌ_３）、フェニルメチルジクロロシラン（ＰｈＭｅＳｉＣｌ_２）、フェニルエチルトリクロロシラン（ＰｈＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３）、４−フェニルブチルトリクロロシラン（Ｐｈ（ＣＨ_２）_４ＳｉＣｌ_３）、４−フェニルブチルメチルジクロロシラン（Ｐｈ（ＣＨ_２）_４ＭｅＳｉＣｌ_２）、４−フェニルブチルジメチルクロロシラン（Ｐｈ（ＣＨ_２）_４Ｍｅ_２ＳｉＣｌ）等が挙げられる。シラン化合物の選定は、使用される液晶組成などとの組合せにより選定される。

＜２＞
次に、上述したようなシラン化合物と、希釈溶剤とを所定の割合で混合し、混合液を得る。希釈溶剤としては、シラン化合物およびその加水分解物が可溶であれば特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどのエステル類、テトラヒドロキシフラン（ＴＨＦ）、ジオキサンなどの環状エーテル類、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族類が用いられる。

＜３＞
次に、得られた混合液に、撹拌しつつ、水を添加する。この時、酸触媒、塩基触媒等の加水分解触媒を同時に添加してもよい。
酸触媒（固体酸触媒を含む）としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸、有機スルホン酸（例えば、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等）等の有機酸等が挙げられ、塩基触媒としては、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、第三アミン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、ピリジン等）等の有機塩基等が挙げられる。
その後、０〜８０℃程度の温度で１分〜２日程度撹拌することにより、シラン化合物の加水分解物が得られる。

［テトラアルコキシシランの加水分解物の調製］
次に、テトラアルコキシシランの加水分解物の調製方法について説明する。
＜１＞
まず、加水分解に供されるテトラアルコキシシランを用意する。
テトラアルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。

＜２＞
次に、上述したようなテトラアルコキシシランと、希釈溶剤とを所定の割合で混合し、混合液を得る。希釈溶剤としては、シラン化合物及びその加水分解物が可溶であれば特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどのエステル類、テトラヒドロキシフラン（ＴＨＦ）、ジオキサンなどの環状エーテル類、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族類が用いられる。
＜３＞
次に得られた混合液を、上記シラン化合物と同様にして加水分解し、テトラアルコキシシランの加水分解物が得られる。

［配向膜形成用液体の調製］
次に、上述のようにして得られたシラン化合物の加水分解物と、テトラアルコキシシランの加水分解物とを、最終的に得られる配向膜中における有機基の割合が所望のものとなるように、所定割合で混合し、所定温度で所定時間撹拌することにより、配向膜形成用液体が得られる。

混合温度は、０〜８０℃程度であるのが好ましく、１０〜５０℃程度であるのがより好ましい。
また、混合時間は、１分〜２日程度であるのが好ましく、１分〜５時間程度であるのがより好ましい。
なお、必要に応じて、水や追加溶剤を添加してもよい。
配向膜形成用液体中における、シラン化合物の加水分解物と、テトラアルコキシシランの加水分解物とのモル比は、５：９５〜９５：５であるのが好ましい。これにより、得られる配向膜の配向特性を所望のものとしつつ、光学的により安定な配向膜を形成することができる。

［加熱工程］
次に、上記工程で得られた配向膜形成用液体を、基材（基材１００、基材１０１）上に塗布し、配向膜形成用液体で構成された塗膜を形成する。
配向膜形成用液体を塗布する方法としては、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法等が挙げられる。

次に、形成された塗膜に加熱処理を施すことにより、塗膜を硬化させ、配向膜（配向膜３Ａ、配向膜４Ａ）を形成する（加熱工程）。
加熱工程における加熱温度は、５０〜３００℃であるのが好ましい。加熱の温度が前記下限値未満であると、配向膜形成用液体の組成等によっては、塗膜を十分に硬化するのが困難となる場合がある。一方、加熱の温度が前記上限値を超えると、配向膜形成用液体の組成等によっては、有機基が変質してしまう可能性がある。

なお、塗膜の硬化は、塗膜を構成する配向膜形成用液体中に含まれる水分や溶媒等を除去した後（塗膜に対して乾燥処理を施した後）に行うのが好ましい。これにより、膜厚の安定した配向膜を効率良く形成することができる。
なお、塗膜を硬化させた後に、ラビング処理を施してもよい。これにより、得られる配向膜の配向特性をより優れたものとすることができる。
以上のようにして、基材（基材１００、１０１）上に、配向膜（配向膜３Ａ、４Ａ）が形成される。これにより、基材上に配向膜が形成された基板（本発明の電子デバイス用基板）が得られる。

ところで、有機基を含む材料で構成された配向膜は、例えば、基材上に、酸化ケイ素で構成されたＳｉＯ_２膜を形成した後に、ＳｉＯ_２膜に対して、シラン系の界面活性剤等を用いて表面処理を施すことにより得ることも考えられるが、このような方法を用いると、表面処理を施す際に、基材等に損傷等が生じてしまう可能性がある。また、このような方法を用いた場合、有機基の数を制御するのが困難である。また、基材への影響を考慮して、配向膜の厚さを薄くするのが困難である。しかしながら、上述した本発明の方法を用いることにより、基材等に損傷等を与えることなく、容易に上記のような配向膜を形成することができる。また、有機基の数を容易に制御することができる。また、表面処理では、導入するのが困難な有機基を容易に導入することができる。

次に、本発明の液晶パネルの第２実施形態について説明する。
図２は、本発明の液晶パネルの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。以下、図２に示す液晶パネル１Ｂについて、前記第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図２に示すように、液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１Ｂは、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された配向膜３Ｂと、液晶パネル用対向基板１２と、液晶パネル用対向基板１２に接合された配向膜４Ｂと、配向膜３Ｂと配向膜４Ｂとの空隙に封入された液晶よりなる液晶層２と、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７の外表面側（配向膜４Ｂと対向する面とは反対の面側）に接合された偏光膜７Ｂと、液晶パネル用対向基板１２の外表面側（配向膜４Ｂと対向する面とは反対の面側）に接合された偏光膜８Ｂとを有している。配向膜３Ｂ、４Ｂは、前記第１実施形態で説明した配向膜３Ａ、４Ａと同様の方法（本発明の配向膜の形成方法）で形成されたものであり、偏光膜７Ｂ、８Ｂは、前記第１実施形態で説明した偏光膜７Ａ、８Ａと同様なものである。

液晶パネル用対向基板１２は、マイクロレンズ基板１１と、かかるマイクロレンズ基板１１の表層１１４上に設けられ、開口１３１が形成されたブラックマトリックス１３と、表層１１４上にブラックマトリックス１３を覆うように設けられた透明導電膜（共通電極）１４とを有している。
マイクロレンズ基板１１は、凹曲面を有する複数（多数）の凹部（マイクロレンズ用凹部）１１２が設けられたマイクロレンズ用凹部付き基板（第１の基板）１１１と、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板１１１の凹部１１２が設けられた面に樹脂層（接着剤層）１１５を介して接合された表層（第２の基板）１１４とを有しており、また、樹脂層１１５では、凹部１１２内に充填された樹脂によりマイクロレンズ１１３が形成されている。

マイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、平板状の母材（透明基板）より製造され、その表面には、複数（多数）の凹部１１２が形成されている。凹部１１２は、例えば、マスクを用いた、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等により形成することができる。
このマイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、例えば、ガラス等で構成されている。

前記母材の熱膨張係数は、ガラス基板１７１の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）であることが好ましい。これにより、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
かかる観点からは、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と、ガラス基板１７１とは、同種類の材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ、剥離等が効果的に防止される。

特に、マイクロレンズ基板１１を高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルに用いる場合には、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。

マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の上面には、凹部１１２を覆う樹脂層（接着剤層）１１５が設けられている。
凹部１１２内には、樹脂層１１５の構成材料が充填されることにより、マイクロレンズ１１３が形成されている。
樹脂層１１５は、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の構成材料の屈折率よりも高い屈折率の樹脂（接着剤）で構成することができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリルエポキシ系のような紫外線硬化樹脂等で好適に構成することができる。

樹脂層１１５の上面には、平板状の表層１１４が設けられている。
表層（ガラス層）１１４は、例えばガラスで構成することができる。この場合、表層１１４の熱膨張係数は、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１の熱膨張係数とほぼ等しいもの（例えば両者の熱膨張係数の比が１／１０〜１０程度）とすることが好ましい。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と表層１１４の熱膨張係数の相違により生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。このような効果は、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１と表層１１４とを同種類の材料で構成すると、より効果的に得られる。

表層１１４の厚さは、マイクロレンズ基板１１が液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、５〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは１０〜１５０μｍ程度とされる。
なお、表層（バリア層）１１４は、例えばセラミックスで構成することもできる。なお、セラミックスとしては、例えば、ＡｌＮ、ＳｉＮ、ＴｉＮ、ＢＮ等の窒化物系セラミックス、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等の酸化物系セラミックス、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、ＴａＣ等の炭化物系セラミックスなどが挙げられる。表層１１４をセラミックスで構成する場合、表層１１４の厚さは、特に限定されないが、２０ｎｍ〜２０μｍ程度とすることが好ましく、４０ｎｍ〜１μｍ程度とすることがより好ましい。
なお、このような表層１１４は、必要に応じて省略することができる。

ブラックマトリックス１３は、遮光機能を有し、例えば、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂等で構成されている。
透明導電膜１４は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）等で構成されている。
ＴＦＴ基板１７は、液晶層２の液晶を駆動する基板であり、ガラス基板１７１と、かかるガラス基板１７１上に設けられ、マトリックス状（行列状）に配設された複数（多数）の画素電極１７２と、各画素電極１７２に対応する複数（多数）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７３とを有している。なお、図２では、シール材、配線等の記載は省略した。

ガラス基板１７１は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
画素電極１７２は、透明導電膜（共通電極）１４との間で充放電を行うことにより、液晶層２の液晶を駆動する。この画素電極１７２は、例えば、前述した透明導電膜１４と同様の材料で構成されている。

薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応する画素電極１７２に接続されている。また、薄膜トランジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、画素電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極１７２の充放電が制御される。
配向膜３Ｂは、ＴＦＴ基板１７の画素電極１７２と接合しており、配向膜４Ｂは、液晶パネル用対向基板１２の透明導電膜１４と接合している。
液晶層２は液晶材料（液晶分子）で構成されており、画素電極１７２の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
このような液晶パネル１Ｂでは、通常、１個のマイクロレンズ１１３と、かかるマイクロレンズ１１３の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス１３の１個の開口１３１と、１個の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２に接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素に対応している。

液晶パネル用対向基板１２側から入射した入射光Ｌは、マイクロレンズ用凹部付き基板１１１を通り、マイクロレンズ１１３を通過する際に集光されつつ、樹脂層１１５、表層１１４、ブラックマトリックス１３の開口１３１、透明導電膜１４、液晶層２、画素電極１７２、ガラス基板１７１を透過する。このとき、マイクロレンズ基板１１の入射側に偏光膜８Ｂが設けられているため、入射光Ｌが液晶層２を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層２の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１Ｂを透過した入射光Ｌを偏光膜７Ｂに透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。

このように、液晶パネル１Ｂは、マイクロレンズ１１３を有しており、しかも、マイクロレンズ１１３を通過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１３の開口１３１を通過する。一方、ブラックマトリックス１３の開口１３１が形成されていない部分では、入射光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１Ｂでは、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。このため、液晶パネル１Ｂは、画素部で高い光の透過率を有する。

この液晶パネル１Ｂは、例えば、公知の方法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１２とに、それぞれ、配向膜３Ｂ、４Ｂを形成し、その後、シール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）から液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。

なお、上記液晶パネル１Ｂでは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦＴ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、ＳＴＮ基板などを用いてもよい。
また、上述したような配向膜を備える液晶パネルは、光源の強いものや、屋外で用いられるものに好適に用いることができる。

次に、前述したような液晶パネル１Ａを備える本発明の電子機器（液晶表示装置）について、図３〜図５に示す実施形態に基づき、詳細に説明する。
図３は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００においては、表示ユニット１１０６が、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。バックライトからの光を液晶パネル１Ａに透過させることにより画像（情報）を表示し得るものである。

図４は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとを備えている。

図５は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。

ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、前述の液晶パネル１Ａと、図示しないバックライトとが設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、液晶パネル１Ａは、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。

また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が液晶パネル１Ａに表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。

また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。

次に、本発明の電子機器の一例として、上記液晶パネル１Ｂを用いた電子機器（液晶プロジェクター）について説明する。
図６は、本発明の電子機器（投射型表示装置）の光学系を模式的に示す図である。
同図に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２２とを有している。

また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。

液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パネル１Ｂを備えている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライトバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネル１Ｂは、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロック２０が構成されている。また、この光学ブロック２０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、表示ユニット２３が構成されている。

以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。光源３０１から出射される白色光は、その光強度が比較的大きいものであるのが好ましい。これにより、スクリーン３２０上に形成される画像をより鮮明なものとすることができる。また、投射型表示装置３００では、耐光性に優れた液晶パネル１Ｂを用いているため、光源３０１から出射される光の強度が大きい場合であっても、優れた長期安定性が得られる。

インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図６中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図６中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図６中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ２４に入射する。

ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図６中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ２５に入射する。
また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図６中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図６中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ２６に入射する。

このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
この際、液晶ライトバルブ２４が有する液晶パネル１Ｂの各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれに接続された画素電極１７２）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。

同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞれの液晶パネル１Ｂで変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ２５が有する液晶パネル１Ｂの各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パネル１Ｂの各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。

前記液晶ライトバルブ２４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図６中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出射面２１６から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ２５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ２６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図６中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過して、出射面２１６から出射する。

このように、前記液晶ライトバルブ２４、２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。

なお、本発明の電子機器は、図３のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図４の携帯電話機、図５のディジタルスチルカメラ、図６の投射型表示装置の他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータなどが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部、モニタ部として、前述した本発明の液晶パネルが適用可能なことは言うまでもない。

以上、本発明を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、本発明の配向膜の形成方法では、任意の目的の工程が１または２以上追加されてもよい。また、例えば、本発明の電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。

また、前述した実施形態では、投射型表示装置（電子機器）は、３個の液晶パネルを有するものであり、これらの全てに本発明の液晶パネルを適用したものについて説明したが、少なくともこれらのうち１個が、本発明の液晶パネルであればよい。この場合、少なくとも、青色用の液晶ライトバルブに用いられる液晶パネルに本発明を適用するのが好ましい。

また、前述した実施形態では、シラン化合物の加水分解物とテトラアルコキシシランの加水分解物とを混合することにより、配向膜形成用液体を調製するものとして説明したが、これに限定されず、例えば、シラン化合物とテトラアルコキシシランとを混合した後、この混合物に対して加水分解処理を施すことにより、配向膜形成用液体を調製してもよく、シラン化合物とテトラアルコキシシランの混合物を加水分解して調製する場合も同様な手法により調製される。

［液晶パネルの製造］
以下のようにして、図２に示すような液晶パネルを製造した。
（実施例１）
まず、以下のようにして、マイクロレンズ基板を製造した。
厚さ約１．２ｍｍの未加工の石英ガラス基板（透明基板）を母材として用意し、これを８５℃の洗浄液（硫酸と過酸化水素水との混合液）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
その後、この石英ガラス基板の表面および裏面に、ＣＶＤ法により、厚さ０．４μｍの多結晶シリコンの膜を形成した。

次に、形成した多結晶シリコン膜に、形成する凹部に対応した開口を形成した。
これは、次のようにして行った。まず、多結晶シリコン膜上に、形成する凹部のパターンを有するレジスト層を形成した。次に、多結晶シリコン膜に対してＣＦガスによるドライエッチングを行い、開口を形成した。次に、前記レジスト層を除去した。
次に、石英ガラス基板をエッチング液（１０ｗｔ％フッ酸＋１０ｗｔ％グリセリンの混合水溶液）に１２０分間浸漬してウェットエッチング（エッチング温度３０℃）を行い、石英ガラス基板上に凹部を形成した。
その後、石英ガラス基板を、１５ｗｔ％テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に５分間浸漬して、表面および裏面に形成した多結晶シリコン膜を除去することにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を得た。

次に、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された面に、紫外線（ＵＶ）硬化型アクリル系の光学接着剤（屈折率１．６０）を気泡なく塗布し、次いで、かかる光学接着剤に石英ガラス製のカバーガラス（表層）を接合し、次いで、かかる光学接着剤に紫外線を照射して光学接着剤を硬化させ、積層体を得た。
その後、カバーガラスを厚さ５０μｍに研削、研磨して、マイクロレンズ基板を得た。
なお、得られたマイクロレンズ基板では、樹脂層の厚みは１２μｍであった。

以上のようにして得られたマイクロレンズ基板について、スパッタリング法およびフォトリソグラフィー法を用いて、カバーガラスのマイクロレンズに対応した位置に開口が設けられた厚さ０．１６μｍの遮光膜（Ｃｒ膜）、すなわち、ブラックマトリックスを形成した。さらに、ブラックマトリックス上に厚さ０．１５μｍのＩＴＯ膜（透明導電膜）をスパッタリング法により形成し、液晶パネル用対向基板を製造した。
このようにして得られた液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に配向膜を以下のようにして形成した。

まず、ベンジルトリエトキシシラン：１００重量部と、０．１Ｎ塩酸：１０重量部と、２−メトキシエタノール：７５重量部とを用意した。
ベンジルトリエトキシシランとエタノールを、１Ｌ３つ口フラスコに投入した後、撹拌しながら０．１Ｎ塩酸を添加し、室温にて３０分撹拌した。これにより、ベンジルトリエトキシシラン（シラン化合物）の加水分解物を含む混合液１が得られた。

一方、テトラエトキシシラン：１００重量部と、１Ｎ塩酸：１重量部と、エタノール：４４重量部とを用意した。
テトラエトキシシランとエタノールを、１Ｌ３つ口フラスコに投入した後、１Ｎ塩酸を添加し、室温にて２４時間撹拌した。これにより、テトラエトキシシラン（テトラアルコキシシラン）の加水分解物を含む混合液２が得られた。

次に、配向膜形成用液体中におけるシラン化合物の加水分解物とテトラアルコキシシランの加水分解物のモル比が表１に示した組成となるように、得られた混合液１と混合液２とを所定の割合で混合し、室温にて２０時間撹拌した。
これにより、配向膜形成用液体が得られた。
次に、得られた配向膜形成用液体を、スピンコーターを用いて、液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に塗布し、塗膜を形成した。
得られた塗膜を、１８０℃に加熱したホットプレートを用いて、５分間乾燥した。
次に、２００℃１時間加熱し、塗膜を硬化させた。

その後、ラビング処理を施すことにより、配向膜を形成した。
なお、形成された配向膜の膜厚は、０．１μｍであった。また、配向膜中に存在するケイ素原子の数に対するベンジル基の割合は、２．５％であった。
また、別途用意したＴＦＴ基板（石英ガラス製）の表面にも、上記と同様にして、配向膜を形成した。
配向膜が形成された液晶パネル用対向基板と、配向膜が形成されたＴＦＴ基板とを、シール材を介して接合した。この接合は、液晶層を構成する液晶分子が左ツイストするように配向膜の配向方向が９０°ずれるように行った。

次に、配向膜−配向膜間に形成された空隙部の封入孔から液晶（ＴＮ型）を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞いだ。形成された液晶層の厚さは、約３μｍであった。
その後、液晶パネル用対向基板の外表面側と、ＴＦＴ基板の外表面側とに、それぞれ、偏光膜８Ｂ、偏光膜７Ｂを接合することにより、図２に示すような構造のＴＦＴ液晶パネルを製造した。偏光膜としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いた。なお、偏光膜７Ｂ、偏光膜８Ｂの接合方向は、それぞれ、配向膜３Ｂ、配向膜４Ｂの配向方向に基づき決定した。すなわち、電圧印加時には入射光が透過せず、電圧無印加時には入射光が透過するように、偏光膜７Ｂ、偏光膜８Ｂを接合した。
なお、製造された液晶パネルのプレチルト角は、３°であった。

（実施例２、３）
配向膜形成用液体中におけるシラン化合物の加水分解物とテトラアルコキシシランの加水分解物とのモル比が表１に示すように混合液１および２の混合比を調節した以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
（実施例４）
アルコキシシランとしてベンジルジメチルエトキシシランを用いた以外は、前記実施例２と同様にして液晶パネルを製造した。
（実施例５）
アルコキシシランとしてフェニルメチルジエトキシシランを用いた以外は、前記実施例２と同様にして液晶パネルを製造した。

（比較例１）
ポリイミド系樹脂（ＰＩ）の溶液（日本合成ゴム株式会社製：AL6256）を用意し、スピンコート法により、液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に平均厚さ０．１μｍの膜を形成し、プレチルト角が３°となるように、ラビング処理を施して、配向膜とした以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。
（比較例２）
シラン化合物の加水分解物を用いずに、テトラアルコキシシランの加水分解物のみを用いて、配向膜を形成した以外は、前記実施例１と同様にして液晶パネルを製造した。

［液晶パネルの評価］
上記各実施例および各比較例で製造した液晶パネルについて、光透過率を連続的に測定した。光透過率の測定は、各液晶パネルを５０℃の温度下に置き、電圧無印加の状態で、１５ｌｍ／ｍｍ^２の光束密度の白色光を照射することにより行った。
なお、液晶パネルの評価としては、比較例１で製造した液晶パネルの白色光の照射開始から光透過率が初期の光透過率と比較して、５０％低下するまでの時間（耐光時間）を基準として、以下のように４段階で評価を行った。
◎：耐光時間が比較例１よりも５倍以上。
○：耐光時間が比較例１よりも２倍以上５倍未満。
△：耐光時間が比較例１よりも１倍以上２倍未満。
×：耐光時間が比較例１よりも劣る。

表１には、配向膜の形成に用いたシラン化合物の種類、配向膜形成用液体中におけるシラン化合物の加水分解物とテトラアルコキシシランの加水分解物とのモル比、配向膜の平均厚さ、各液晶パネルでのプレチルト角度、液晶パネルの評価結果をまとめて示した。なお、表中、シラン化合物として、ベンジルトリエトキシシランをＢＴＥ、ベンジルジメチルエトキシシランをＢＤＭＥ、フェニルメチルジエトキシシランをＰＭＤＥ、テトラアルコキシシランの加水分解物をＴＥＯＳと示した。

表１から明らかなように、本発明の液晶パネルにおいては、比較例１の液晶パネルと比較して、優れた耐光性を示した。また、本発明の液晶パネルでは、十分なプレチルト角が得られ、液晶分子の配向状態を確実に規制することができたが、比較例２の液晶パネルでは、十分なプレチルト角が得られず、液晶分子の配向状態を規制するのが困難であった。

［液晶プロジェクター（電子機器）の評価］
上記各実施例および各比較例で製造したＴＦＴ液晶パネルを用いて、図６に示すような構造の液晶プロジェクター（電子機器）を組み立て、この液晶プロジェクターを５０００時間連続駆動させた。
なお、液晶プロジェクターの評価としては、駆動直後の投射画像と駆動後５０００時間の投射画像とを観察し、以下のように４段階で鮮明度の評価を行った。

◎：鮮明な投射画像が観察された。
○：ほぼ鮮明な投射画像が観察された。
△：やや鮮明さに劣る投射画像が観察された。
×：鮮明でない投射画像が確認された。
この結果を表２に示した。

表２から明らかなように、本発明の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクター（電子機器）は、長時間連続して駆動させた場合であっても、鮮明な投射画像が得られた。
これに対し、比較例１の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクターでは、駆動時間に伴い、投射画像の鮮明度が明らかに低下した。これは、初期の段階では、液晶分子の配向が揃っているが、長期駆動により、配向膜が劣化し、液晶分子の配向性が低下したためであると考えられる。なお、比較例２の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクターでは、駆動当初から、鮮明な投射画像を得られるものではなかった。これは、配向膜の配向性がもともと低いためであると考えられる。
また、本発明の液晶パネルを備えたパーソナルコンピュータ、携帯電話機、ディジタルスチルカメラを作製して、同様の評価を行ったところ、同様の結果が得られた。
これらの結果から、本発明の液晶パネル、電子機器は、耐光性に優れ、長期間使用しても安定した特性が得られるものであることが分かる。

本発明の液晶パネルの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。 本発明の液晶パネルの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。 本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。 本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。 本発明の電子機器を適用した投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。

符号の説明

１Ａ、１Ｂ…液晶パネル ２…液晶層 ３Ａ、３Ｂ…配向膜 ４Ａ、４Ｂ…配向膜 ５…透明導電膜 ６…透明導電膜 ７Ａ、７Ｂ…偏光膜 ８Ａ、８Ｂ…偏光膜 ９…基板 １０…基板 １００…基材 １０１…基材 １１…マイクロレンズ基板 １１１…マイクロレンズ用凹部付き基板 １１２…凹部 １１３…マイクロレンズ １１４…表層 １１５…樹脂層 １２…液晶パネル用対向基板 １３…ブラックマトリックス １３１…開口 １４…透明導電膜 １７…ＴＦＴ基板 １７１…ガラス基板 １７２…画素電極 １７３…薄膜トランジスタ １１００…パーソナルコンピュータ １１０２…キーボード １１０４…本体部 １１０６…表示ユニット １２００…携帯電話機 １２０２…操作ボタン １２０４…受話口 １２０６…送話口 １３００…ディジタルスチルカメラ １３０２…ケース（ボディー） １３０４…受光ユニット １３０６…シャッタボタン １３０８…回路基板 １３１２…ビデオ信号出力端子 １３１４…データ通信用の入出力端子 １４３０…テレビモニタ １４４０…パーソナルコンピュータ ３００…投射型表示装置 ３０１…光源 ３０２、３０３…インテグレータレンズ ３０４、３０６、３０９…ミラー ３０５、３０７、３０８…ダイクロイックミラー ３１０〜３１４…集光レンズ ３２０…スクリーン ２０…光学ブロック ２１…ダイクロイックプリズム ２１１、２１２…ダイクロイックミラー面 ２１３〜２１５…面 ２１６…出射面 ２２…投射レンズ ２３…表示ユニット ２４〜２６…液晶ライトバルブ

Claims (9)

1. 基材上に配向膜を形成する方法であって、
   ベンジルトリエトキシシラン、ベンジルジメチルエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシランからなる群から選択される少なくとも１種を含むシラン化合物の加水分解物を調製する工程と、
   テトラアルコキシシランの加水分解物を調製する工程と、
   前記シラン化合物の加水分解物と、前記テトラアルコキシシランの加水分解物とを混合し、配向膜形成用液体を得る工程と、
   前記配向膜形成用液体を用いて、前記基材上に前記配向膜形成用液体で構成された膜を形成する工程と、
   前記膜を加熱する加熱工程とを有することを特徴とする配向膜の形成方法。
2. 前記配向膜形成用液体中における、前記シラン化合物の加水分解物と、前記テトラアルコキシシランの加水分解物とのモル比は、５：９５〜９５：５である請求項１に記載の配向膜の形成方法。
3. 前記テトラアルコキシシランは、テトラエトキシシランである請求項１または２に記載の配向膜の形成方法。
4. 前記加熱工程における加熱温度は、５０〜３００℃である請求項１ないし３のいずれかに記載の配向膜の形成方法。
5. 請求項１ないし４のいずれかに記載の配向膜の形成方法により形成されたことを特徴とする配向膜。
6. 配向膜の平均厚さは、０．０１〜１０μｍである請求項５に記載の配向膜。
7. 基板上に、電極と、
   請求項５または６に記載の配向膜とを備えることを特徴とする電子デバイス用基板。
8. 請求項５または６に記載の配向膜と、液晶層とを備えたことを特徴とする液晶パネル。
9. 請求項８に記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする電子機器。

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