JP4758619B2 - 問題工程特定方法および装置 - Google Patents
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- 複数の工程を経て製造される薄膜デバイスの製造工程において、製造過程で実施される製品検査結果に基づき、欠陥の原因となった問題工程を特定する方法であって、
一枚の製品基板の検査工程で得られる欠陥の分布情報または外観情報を含む製品検査情報をロードし、
前記欠陥の分布情報を用いて欠陥分布状態を解析して有意形状パターンを検出し、有意形状パターンが存在する場合に異常ありと判定するか、あるいは、前記欠陥の外観情報を用いて任意の欠陥カテゴリの欠陥数が予め決められた基準値を超えた場合に異常ありと判定することにより異常検知を行い、
異常があった場合、上位データベースより所定の情報をロードし、
前記製品検査情報および前記所定の情報に基づき、共通経路解析によって問題工程を特定するものであり、
前記共通経路解析の方法は、前記上位データベースより前記製品基板と同一検査工程の所定の期間の製品検査情報をロードし、前記所定の期間の製品検査情報の中から前記製品基板との欠陥分布状態あるいは欠陥外観の類似度に基づいて前記製品基板と同一の問題が発生している基板および前記製品基板と同一の問題が発生していない基板をそれぞれ複数検索し、前記製品基板および検索した製品検査情報それぞれに対応する製造経路情報を前記上位データベースよりロードし、前記製品基板および前記問題が発生している基板を共通して着工しかつ前記問題が発生していない基板を着工していない装置を問題装置候補として抽出する方法であり、
前記欠陥分布状態の類似度は、前記欠陥分布状態の画像化によるパターンマッチング、あるいは、前記欠陥分布状態を表す特徴量をそれぞれ算出して特徴量空間での距離を調べることにより算出される値であり、
前記欠陥外観の類似度は、同一カテゴリかつ、予め同一検査工程、同一欠陥カテゴリの欠陥の詳細分類カテゴリへの教示に基づいて、前記欠陥の外観情報に含まれる画像特徴量を用いて算出された、前記詳細分類を行うために最適な特徴量空間においてデータ間の距離の近いほど高く算出される値であることを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項1記載の問題工程特定方法において、
前記所定の期間の製品検査情報の中から前記製品基板と同一の問題が発生している基板および前記製品基板と同一の問題が発生していない基板をそれぞれ複数検索する方法は、前記所定の期間の製品検査情報を時間的に一つずつ遡って順に、前記問題が発生している基板の累積数が所定のしきい値を超えた時点まで検索することを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項1記載の問題工程特定方法において、
前記所定の期間の製品検査情報の中から前記製品基板と同一の問題が発生している基板および前記製品基板と同一の問題が発生していない基板をそれぞれ複数検索する方法は、前記所定の期間の製品検査情報を時間的に一つずつ遡って順に、抽出される問題装置候補を一つに絞り込むことが可能な時点まで検索することを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項1記載の問題工程特定方法において、
前記異常検知の方法は、前記欠陥の外観情報を用いるものであり、
前記共通経路解析は、前記製品基板の検査によって得られる欠陥カテゴリおよび画像特徴量を含む外観情報に基づいて行い、
前記製品基板と同一の問題が発生している基板および前記製品基板と同一の問題が発生していない基板は、前記製品基板と外観の類似度の高い欠陥の個数に基づいて判別されることを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項4記載の問題工程特定方法において、
前記欠陥の詳細分類カテゴリへの教示方法は、オペレータにより指定された同一検査工程、同一欠陥カテゴリの欠陥を一覧表示し、オペレータによる詳細分類カテゴリへの教示を行い、前記教示に基づいて前記詳細分類カテゴリを識別するために最適な特徴量空間を算出し、前記特徴量空間上でのデータ間の距離に基づいて前記同一検査工程、同一欠陥カテゴリの欠陥を分類して結果を一覧表示し、オペレータによる詳細分類カテゴリへの教示を再度行うことを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項4記載の問題工程特定方法において、
前記製品基板と外観の類似度の高い欠陥の個数に基づいて前記製品基板と同一の問題が発生している基板および前記製品基板と同一の問題が発生していない基板を判別する方法は、
前記異常検知において欠陥数が予め決められた基準値を超えた欠陥カテゴリに分類された前記製品基板の欠陥を詳細分類し、欠陥数最多の詳細分類カテゴリを異常を特徴付ける詳細分類カテゴリとして選択し、
前記詳細分類カテゴリに分類される欠陥の個数を基板毎にカウントし、
前記カウントされた欠陥の個数が多いものを前記製品基板と同一の問題が発生している基板とし、前記カウントされた欠陥の個数が少ないものを前記製品基板と同一の問題が発生していない基板とすることを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項4記載の問題工程特定方法において、
前記製品基板と外観の類似度の高い欠陥の個数に基づいて前記製品基板と同一の問題が発生している基板および前記製品基板と同一の問題が発生していない基板を判別する方法は、
前記異常検知において欠陥数が予め決められた基準値を超えた欠陥カテゴリに分類された前記製品基板の欠陥を詳細分類し、欠陥数最多の詳細分類カテゴリに分類された欠陥を異常を特徴付ける欠陥として選択し、
前記選択された欠陥と、前記詳細分類を行うために最適な特徴量空間において所定の距離以内あるいは最も距離の近いものから数えて所定数以内の欠陥を基板毎にカウントし、
前記カウントされた欠陥の個数が多いものを前記製品基板と同一の問題が発生している基板とし、前記カウントされた欠陥の個数が少ないものを前記製品基板と同一の問題が発生していない基板とすることを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項1記載の問題工程特定方法において、
前記共通経路解析の方法と、装置評価情報照合解析、機差解析、装置ログ相関解析のいずれか、あるいはそれらの任意の組み合わせによって問題工程を特定するものであり、
前記装置評価情報照合解析の方法は、前記上位データベースより前記製品基板の着工装置に関する装置評価情報をロードし、前記製品検査情報を各装置評価情報と照合し類似度の高い装置を問題装置とする方法であることを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項8記載の問題工程特定方法において、
前記機差解析の方法は、前記上位データベースより前記製品基板と同一品種、同一検査工程の複数の過去の製品検査情報をロードし、前記複数の過去の製品検査情報の欠陥分布状態あるいは欠陥外観情報を数値化し、前記複数の過去の製品検査情報のそれぞれの製造経路情報を前記上位データベースよりロードし、前記数値化した情報をもとに工程別に分散分析を行い、有意差が現れた工程・装置を問題装置とする方法であることを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項8記載の問題工程特定方法において、
前記装置ログ相関解析の方法は、前記上位データベースより前記製品基板と共通の経路を経て加工された製品基板の製品検査情報および前記製品基板の着工装置の装置ログ情報をロードし、各製品検査情報をもとに欠陥分布状態あるいは欠陥外観情報を数値化し、各着工装置の加工条件データとの相関を算出し、相関の強い着工装置を問題装置とする方法であることを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項1乃至10のいずれか1項に記載の問題工程特定方法において、
さらに、少なくとも異常検知された被検査製品の情報と一つ以上の問題候補装置名を含むリストを表示し、
少なくとも異常検知された被検査製品の情報と一つ以上の問題候補装置名を含むレポートを作成し保存することを特徴とする問題工程特定方法。 - 請求項11記載の問題工程特定方法において、
さらに、異常検知に用いた製品検査情報を問題装置名に関連付けて登録し、
前記製品検査情報、前記被検査製品の情報、前記問題装置名、前記問題装置特定の元となった情報、調査結果詳細、対策内容詳細を含む情報を登録することを特徴とする問題工程特定方法。 - 複数の工程を経て製造される薄膜デバイスの製造工程を対象とした問題工程特定装置であって、
上位データベースおよび検査装置、レビュー装置、製造装置から直接的あるいは間接的に情報取得する情報取得手段と、
一枚の製品基板の検査工程で得られる欠陥の分布情報または外観情報を含む検査情報に基づいて、欠陥の分布情報を用いて欠陥分布状態を解析して有意形状パターンを検出し、有意形状パターンが存在する場合に異常ありと判定するか、あるいは、欠陥の外観情報を用いて任意の欠陥カテゴリの欠陥数が予め決められた基準値を超えた場合に異常ありと判定することにより異常検知する異常検知手段と、
異常検知された検査情報と類似の情報を照合検索する類似情報検索手段と、
異常検知された検査情報と検索された検査情報に関連する製造経路情報に基づいて、前記上位データベースより前記製品基板と同一検査工程の所定の期間の検査情報をロードし、前記所定の期間の検査情報の中から前記製品基板との欠陥分布状態あるいは欠陥外観の類似度に基づいて前記製品基板と同一の問題が発生している基板および前記製品基板と同一の問題が発生していない基板をそれぞれ複数検索し、前記製品基板および検索した検査情報それぞれに対応する製造経路情報を前記上位データベースよりロードし、前記製品基板および前記問題が発生している基板を共通して着工しかつ前記問題が発生していない基板を着工していない装置を問題装置候補として抽出する共通経路解析によって問題候補工程および装置を抽出する問題装置抽出手段と、
少なくとも異常検知された検査情報と問題候補装置名を表示する結果表示手段と、
少なくとも異常検知された検査情報と問題候補装置名を含むレポートを作成して保存する結果保存手段を含むことを特徴とする問題工程特定装置。 - 請求項13記載の問題工程特定装置において、
さらに、オペレータにより互いに類似する検査情報グループへの詳細分類を教示する類似情報教示手段と、
前記教示した詳細分類の識別に最適な特徴量空間を算出しておく特徴量最適化手段とを含むことを特徴とする問題工程特定装置。
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