JP4756103B1

JP4756103B1 - めっき排水からの貴金属イオン回収方法

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Publication number: JP4756103B1
Application number: JP2010243830A
Authority: JP
Inventors: 真司阿部; 孝行鷲尾; 哲也佐藤; 晴子佐々木; 良太郎田所
Original assignee: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Current assignee: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Priority date: 2010-10-29
Filing date: 2010-10-29
Publication date: 2011-08-24
Anticipated expiration: 2030-10-29
Also published as: TW201226632A; KR101267201B1; CN102892931A; HK1180736A1; TWI409365B; WO2012057242A1; KR20120131239A; JP2012097292A; CN102892931B

Abstract

【課題】めっき回収槽及びめっき洗浄槽から排出される、貴金属イオンを含むめっき排水から貴金属イオンを効率良く回収することができ、かつ、めっき被処理物の性能不良を抑制できる方法を提供する。
【解決手段】本発明は、めっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の１０〜５０％の範囲内であって、かつ、めっき回収槽内において、めっき被処理物の浸漬が確保される量とすることにより、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、高い濃度で一定の範囲に維持し、かつ、めっき洗浄槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、低い濃度で一定の範囲に維持する、めっき排水からの貴金属イオン回収方法である。
【選択図】なし

Description

本発明は、めっき排水からの貴金属イオン回収方法に関し、特に、めっき回収槽及びめっき洗浄槽のめっき排水から、貴金属イオンを高い効率で回収することができる、かつ、めっき被処理物の性能不良を抑制できる、めっき排水からの貴金属イオン回収方法に関する。

貴金属は、物性特性、信頼性、美観等に優れているため、工業的に非常に有用な材料であり、めっき材として、電子部品やプリント配線板等の電子機器分野をはじめとして、幅広い分野で利用されている。その一方で、貴金属は希少な存在であり、非常に高価な材料である。そのため、めっき排水に含まれる貴金属を可能な限り回収して再利用することが求められている。

一般に、めっき排水は、めっき槽、めっき回収槽、及びめっき洗浄槽からの排水に分けられる。めっき回収槽は、めっき槽でのめっき処理後の一次洗浄槽としての役割から、めっき回収槽からの排水には、めっき槽の排水よりも低濃度の貴金属イオンが含まれている。また、めっき洗浄槽は、二次あるいは三次洗浄槽としての役割から、めっき洗浄槽からの排水には、めっき回収槽の排水よりも低濃度の貴金属イオンが含まれている。このように、各槽から排出されるめっき排水の貴金属イオン濃度は異なっている。
また、めっき回収槽及びめっき洗浄槽での、めっき被処理物に過剰に付着した貴金属イオンや塩成分の洗い出し、さらにめっき液の成分である有機物によるカビや菌の発生を抑制する、めっき回収槽の槽内の管理が求められている。

めっき排水から貴金属イオンを回収する方法としては、一般に、電解回収法、樹脂回収法、及び活性炭吸着回収法が知られている。電解回収法は、貴金属イオンの濃度が高いめっき排水から貴金属イオンを回収することについては優れているものの、低い濃度のめっき排水であると、電解槽内を循環させても電流密度が上昇せず、貴金属イオンの回収効率が悪くなる。一方、樹脂回収法及び活性炭吸着回収法は、貴金属イオン濃度が低いめっき排水から貴金属イオンを回収することについては優れているものの、高い濃度のめっき排水を通液すると、貴金属イオンが十分に回収されなくなる。そのため、めっき洗浄槽から排水されるときの貴金属イオン濃度を管理する必要がある。

貴金属をさまざまな濃度で含む複数種類の廃液から、貴金属を効率的に回収する方法としては、例えば、貴金属を低濃度で含む低濃度廃液を、キレート系イオン交換樹脂を通過させて貴金属をキレート系イオン交換樹脂に吸着させ、吸着させた貴金属を取出し、貴金属を高濃度で含む高濃度廃液を、電解槽で電解処理して貴金属を電極に析出させ、析出した貴金属を回収する方法が知られている（特許文献１）。

特開２００１−２７９３４３号公報

従来、めっき回収槽から部分的に排水する方法として、定期的にオーバーフローさせる方法やタイマーにより自動設定して定期的に排水する時間管理法、あるいは作業者が手動で定期的に排水する方法が適用されている。このように、めっき回収槽内の収容液の一定量を定期的に排水し、注水することにより、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を定期的に低減させている。

しかし、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度は、常に一定の割合で上昇するとは限らず、場合によっては、急激に上昇することがある。また、めっき被処理物の生産量に応じて、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度は、さまざまに変動する。そのため、比較的低い濃度の貴金属イオンを含むめっき排水のときは、十分な電流密度が得られず、電解回収法による貴金属イオンの回収効率が悪くなる。他方、比較的高い濃度の貴金属イオンを含むめっき排水のときは、自動設定された循環時間では処理しきれないことがあり、このことは貴金属イオンの回収効率を低下させる原因となっている。
さらに、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度が過度に上昇すると、後工程の処理槽であるめっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる貴金属イオン濃度が上昇し、樹脂回収法、活性炭吸着回収法による貴金属イオンの回収が十分に行われなくなるという問題がある。

本発明の目的は、めっき回収槽及びめっき洗浄槽から排出される、貴金属イオンを含むめっき排水から貴金属イオンを効率良く回収することができ、めっき被処理物の性能不良を抑制できる方法を提供することにある。

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意研究した結果、めっき回収槽及びめっき洗浄槽内の収容液の貴金属イオン濃度を所定の範囲に維持させることを見出し、かかる知見に基づき、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、めっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の１０〜５０％の範囲内であって、かつ、めっき回収槽内において、めっき被処理物の浸漬が確保される量とすることにより、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、高い濃度で一定の範囲に維持し、かつ、めっき洗浄槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、低い濃度で一定の範囲に維持することを特徴とする、めっき排水からの貴金属イオン回収方法である。
本発明においては、貴金属イオンの濃度が、高い濃度で一定の範囲に維持された、めっき回収槽からのめっき排水に対しては、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法とを併用させて貴金属イオンを回収し、貴金属イオンの濃度が、低い濃度で一定の範囲に維持された、めっき洗浄槽からのめっき排水に対しては、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法により貴金属イオンを回収することができる。

本発明によれば、めっき被処理物のめっき処理を停止することなく、めっき回収槽及びめっき洗浄槽から排出される、貴金属イオンを含むめっき排水から貴金属イオンを効率良く回収することができ、かつ、めっき被処理物の性能不良を抑制できる。

本発明は、一般的なめっき処理、すなわち、めっき液を収容しためっき槽に被処理物を浸漬してめっきを行う工程、めっき回収槽内の収容液に被処理物を浸漬して、被処理物を最初に洗浄する工程、及び、めっき洗浄槽内の収容液に被処理物を浸漬して、被処理物を最終洗浄する工程を含む処理に適用され、めっき回収槽からのめっき排水に対しては、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法とを併用させて貴金属イオンを回収し、一方、めっき洗浄槽からのめっき排水に対しては、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法により貴金属イオンを回収する。

前記被処理物は、電子部品やプリント配線板等のように、一対のロールで連続的にめっき処理される製品、及びめっき槽等において、浸漬、引き上げ工程が繰り返され、バッチでめっき処理される製品である。また、めっき回収槽及びめっき洗浄槽内の収容液は、通常、イオン交換樹脂により処理したイオン交換水であるが、めっき洗浄槽の収容液から貴金属イオンを回収した後に、活性炭処理及び逆浸透膜処理をした純水も好適に使用できる。

本発明では、めっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の１０〜５０％の範囲内であって、かつ、めっき回収槽内において、めっき被処理物の浸漬が確保される量とすることにより、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、高い濃度で一定の範囲に維持し、かつ、めっき洗浄槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、低い濃度で一定の範囲に維持する。そして、貴金属イオンの濃度が、高い濃度で一定の範囲に維持された、めっき回収槽からのめっき排水に対しては、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法とを併用させて貴金属イオンを回収し、低い濃度で一定の範囲に維持された、めっき洗浄槽からのめっき排水に対しては、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法により貴金属イオンを回収することができる。

めっき回収槽からの１回当たりの排水量は、めっき回収槽の満水量の１０〜５０％の範囲内であって、かつ、めっき回収槽内において、めっき被処理物の浸漬が確保される量とすることが好ましい。１回当たりの排水量が、めっき回収槽の満水量の５０％を超えると、注水によってめっき回収槽中の水温が大幅に変動し、めっき被処理物に付着した過剰の貴金属イオンや塩成分を回収する効率が低下し、さらに、カビや菌等が繁殖しやすくなり、めっき被処理物への付着による性能不良や歩留まりが低下する。
一方、１回当たりの排水量が、満水量の１０％を下回ると、貴金属イオン濃度の管理、及び、めっき回収槽での排水、注水作業が煩雑になる。また、作業の煩雑さから管理不良が生じ、めっき被処理物に付着した過剰の貴金属イオンや塩成分を回収する効率が低下し、めっき被処理物が汚染されるばかりか貴金属イオンの回収効率も低下する場合がある。なお、１回当たりの排水量を、めっき被処理物の浸漬が確保される量とする理由は、めっき処理を停止させないためである。

また、めっき回収槽内の収容液の水温は、３５℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましい。めっき回収槽は積極的に温度調整をするわけではないが、特に水温を下げすぎないことが好ましい。特に水温が３５℃を下回ると、めっき被処理物に付着した過剰な貴金属イオンや塩成分の洗い出し効率が悪くなり、カビや菌等の繁殖を促進することになり、めっき被処理物への貴金属イオンや塩成分の残存やカビや菌の付着により、性能不良及び歩留まり低下を引き起こすことになる。

一般的にめっき槽では、６０〜９０℃程度で加温した状態でめっき処理が施される。そこで加温されためっき被処理物及びめっき被処理物に付着しためっき液が、めっき回収槽に移動することで、めっき回収槽の水温を上昇する原因となっている。もう一つめっき回収槽の水温を上昇する原因となっているのは、めっき槽及びめっき回収槽が連続的に設置されていることから、めっき槽からの輻射熱によるものである。
しかしながら、必ずしも水温上昇がめっき回収槽でめっき被処理物の性能不良や歩留まり低下を招くわけではなく。むしろ、前記記載どおり、めっき回収槽内の収容液の水温は、３５℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましく、特に、水温が高い方が、めっき被処理物に付着した過剰な貴金属イオンや塩成分の洗い出し効率が良く、カビや菌の繁殖が抑制されるという観点で、好ましい。

一般に、めっき被処理物の処理量が少ないときは、従来の時間管理法や、オーバーフロー法及び全量取替え法では、過剰に排水及び注水が行われ、水温低下を引き起こす原因となっていた。
そこで、本発明においては、後述するように、めっき回収槽内に電極を設置して電流値から検量線により貴金属イオン濃度を見積もることで、めっき被処理物の処理量を見積もり、めっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の１０〜５０％の範囲の量とすることが重要となる。例えば、熱量計算により、めっき回収槽の水温５０℃のとき、満水量の５０％を２０℃の注水で置換したとき、水温は１０℃低下させる範囲となり、比較的めっき被処理物の処理量が少ないときでも水温の３５℃を下回らないように管理している。

本発明では、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、高い濃度で一定の範囲で維持する。高い濃度で一定の範囲に維持された排水は、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法とを併用することが好適である。
ここでの高い濃度で一定の範囲で維持するとは、めっき洗浄槽内の収容液の貴金属イオン濃度を低い濃度で一定の範囲に維持することと比較して、高い濃度で維持することを意味する。

また、貴金属イオンの回収における設備設計では、貴金属イオン濃度や単位時間当たりの処理量によって、電解回収装置の設置個数や樹脂及び活性炭の充填量等が好適に選択される。尚、本発明の貴金属イオン回収方法を用いれば、並列に設置された複数のめっき回収槽からのめっき排水であっても同一の貴金属イオンを含むものであれば、それぞれのめっき排水を一つの経路に収集し電解回収を行うことができる。

本発明の実施形態としては、貴金属イオンが高い濃度のときは、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法とを併用することが好適に選択され、一方、低い濃度のときは、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法が好適に選択される。

槽内の収容液の貴金属イオンを高効率で電解回収するためには、回収設備に投入されるときに、貴金属イオン濃度が一定の範囲に維持されていることが好ましい。一般的な電解回収法では、めっき装置の排水時における貴金属イオン濃度や排水の時間単位当たりの処理量によって、電解回収装置の設置個数等の回収設備が設計される。めっき回収槽から排水される収容液を一度貯蔵し、その貯蔵した槽から、一定の処理量を電解回収用槽へ移動し、収容液を電解回収用槽と電解回収装置とを循環させながら、貴金属イオンを電解回収する。電解回収は、循環時間により設定しており、貴金属イオン濃度の変動に対して適宜、循環時間を調整している。そのため、一定の範囲とは貴金属イオンを設計した回収設備の処理性能に適した濃度に維持することであって、一定の範囲を超えると電解回収後の樹脂又は活性炭吸着回収での回収可能容量を超えることになり回収効率が低下することになる。一方、一定の範囲を下回ると、電解回収では低濃度での回収効率が低く、単位時間当たりの回収効率が低下する。
以上のことより、収容液の貴金属イオン濃度を高い濃度で一定の範囲に維持することは、回収設備の回収効率を最大限に活用でき、結果として高収率を実現できる。

また、めっき回収槽からの収容液でも、めっき液の種類によって、十分に電流密度が上昇しない場合があり、電流密度の上昇のために、任意で苛性ソーダ等の電解質を追加添加しても良い。
例えば、本発明で規定する、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオンを高い濃度で一定の範囲に維持する場合、１０〜２００ｍｇ／Ｌの範囲で維持するのが好ましい。めっき回収槽内の収容液の貴金属イオンの濃度が２００ｍｇ／Ｌを超えると、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法とを併用しても、貴金属イオンの回収が不十分となり、また、めっき洗浄槽への過剰な貴金属イオンの流出により、めっき洗浄槽の貴金属イオン濃度が１０ｍｇ／Ｌを超える可能性が高くなり、めっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる貴金属イオンの回収効率を低下させることになる。

一方、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度が、１０ｍｇ／Ｌ未満であると、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法との併用は、過剰設計となり、経済的に不効率となる。また、めっき回収槽内の収容液に含まれる貴金属イオンの濃度が１０ｍｇ／Ｌを下回る管理をすることは、実施形態としては、ほとんど無く、非現実的である。

本発明では、めっき洗浄槽内の収容液の貴金属濃度は、めっき回収槽で貴金属イオン濃度を一定の濃度範囲に維持することで、めっき回収槽より移動するめっき洗浄槽の貴金属イオンは、低い濃度で一定の範囲に維持する。また、めっき回収槽内の収容液を電解回収法により処理した後の収容液も同様に、低い濃度で一定の範囲に維持される。どちらも、低い濃度で一定の範囲に維持されているため、貴金属イオン濃度及び単位時間当たりの処理量により樹脂及び活性炭の充填量等を好適に選択される。
例えば、本発明で規定する、めっき洗浄槽内の収容液の貴金属濃度を低い濃度で一定の範囲に維持する場合、１０ｍｇ／Ｌ以下に維持するのが好ましい。１０ｍｇ／Ｌを超えると、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法による貴金属イオンの回収が不十分となるからである。

前述したように、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度は、最大で２００ｍｇ／Ｌであり、したがって、めっき回収槽から送られるめっき被処理物に付着した過剰な貴金属イオンの最大濃度は２００ｍｇ／Ｌであるから、例えば、めっき洗浄槽で上記付着液を純水により２５〜５０倍に希釈すると、２５倍希釈したときの貴金属イオン濃度は８ｍｇ／Ｌ、５０倍希釈したときは４ｍｇ／Ｌとなり、１０ｍｇ／Ｌ以下で維持される。

本発明において、めっき回収槽からのめっき排水より貴金属イオンを回収する場合は、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法とを併用させて行う。電解回収法単独ではなく、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法と組み合わせることにより、貴金属イオンの回収効率を飛躍的に高めることができる。
電解回収法は、電解槽中にめっき排水を導入し、電気分解により電極上に貴金属イオンを析出させ、回収する方法である。使用する陽極としては、ＰｔめっきＴｉ材、Ｉｒ焼結Ｔｉ材、又はフェライト材からなる電極、陰極としては、Ｔｉ材、ＳＵＳ材、又はフェライト材からなる電極が例示される。本発明において、めっき回収槽のめっき排水から高い電解効率で貴金属を回収する条件としては、めっき液の種類及び貴金属イオン種により、適宜、電極の種類や電流密度が設定される。例えば、シアン系めっき液の排水には、シアンイオンがＰｔを溶解することから、Ｉｒ焼結Ｔｉ材電極が使用される。また、ＰｔやＰｄ等の白金族を含むめっき液の排水には、水の加水分解により発生する水素により析出した白金族を剥離するため、低電流密度で使用される。なお、陰極に析出した貴金属の除去、回収方法は、特に限定されないが、析出した貴金属の除去、回収を王水等により剥離するときは、陰極としてＴｉ材が好適に用いられる。

樹脂回収法は、めっき排水を樹脂に通液させて貴金属イオンを捕集し、該樹脂を焼却して貴金属を回収する方法である。樹脂回収法で用いる樹脂としては、例えば、陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹脂、キレート樹脂、合成吸着材が挙げられ、貴金属イオンを効率よく回収するものが好ましい。具体的には、陰イオン交換樹脂、例えば、第四級アンモニウム塩基（トリメチルアンモニウム塩基、ジメチルエタノールアンモニウム塩基など）を有する強塩基性イオン交換樹脂、第１級、第２級又は第３級アミノ基を有する弱塩基性イオン交換樹脂など；陽イオン交換樹脂、例えば、スルホン酸基を有する強酸性イオン交換樹脂、フッ化アルキルスルホン酸基を有する超強酸性イオン交換樹脂、カルボキシル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基を有する弱酸性イオン交換樹脂など；キレート樹脂、例えば、イミジノ酢酸型キレート樹脂、ポリアミン型キレート樹脂が好適である。

電解回収法と併用させる活性炭吸着回収法は、活性炭を使用して貴金属イオンを捕集し、この活性炭を燃焼させて灰化させ、得られた灰化物から貴金属イオンを回収する方法である。活性炭を使用して貴金属イオンを捕集するには、例えば、めっき排水に活性炭を含浸させたり、カラムに充填した活性炭にめっき排水を通液させて行う。

めっき洗浄槽のめっき排水から貴金属イオンを回収する場合は、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法を用いて行う。樹脂回収法又は活性炭吸着回収法は、前述したとおりである。

めっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の１０〜５０％の範囲とする場合、めっき回収槽の排水及び注水は、一部排水、一部注水により行うことが好ましい。通常、工業的に大量のめっき処理が行われるため、めっき被処理物の製造の妨げにならないように、連続的にめっき回収槽にて処理することが求められているが、全量排水を一度に実施すると、めっき被処理物のめっき処理を停止させることになるため、リードタイムが長くなり、生産性が低下する問題が発生する。さらに、全量排水して、新たに全量注水すると、めっき回収槽の水温を大幅に変動させることになるため、貴金属イオンの回収効率が低下する。

めっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の１０〜５０％の範囲とする方法としては、特に限定されるわけではないが、例えば、めっき回収槽に、二つの電極と、定電圧又は定電流を通電する電源と、排水と注水を作動させる電動弁等とを設け、めっき回収槽に通電を行い、測定される電流値又は電位値により、排水及び注水の電動弁等の作動を制御する。

具体的には、例えば、めっき回収槽に設置した電極間に、定電圧又は定電流にて通電を行って、めっき回収槽内の収容液について、電流値又は電位値と、該収容液内に含まれる貴金属イオン濃度との関係を示す検量線を予め作成しておき、めっき回収槽に設置した電極間に、定電圧又は定電流にて通電を行って、該電極間の電流値又は電位値を測定し、得られた測定値と上記検量線に基づいて、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を定量し、得られた定量値が所定の設定値に達したときに、めっき回収槽の排水及び／又は注水を行うことにより、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、高い濃度で一定の範囲に維持する。

前記電極としては、陽極には電流密度を高めたときに溶出しないＰｔめっきＴｉ材、Ｉｒ焼結Ｔｉ材、又はフェライト材からなる電極が好ましく、陰極にはＴｉ材、ＳＵＳ材、又はフェライト材からなる電極が好ましい。また、該電極の形状は、平板、丸棒、円筒、網状等、適宜選択できるが、装着時の電極対向を考慮すると、丸棒や円筒の形状がより好ましい。

前記検量線を作成する場合、及び、実際にめっき回収槽に通電を行い、電流値又は電位値を測定する場合において、めっき回収槽に設置する電極の電極形状、電極長、電極間距離、及び印加電圧については、めっき回収槽のめっき排水の電導度に合わせて適宜選択する。該めっき排水の電導度は、貴金属イオンその他の電解質等を含んだ、めっき排水全体の電導度であって、貴金属イオン濃度が高ければ、電導度は高くなる。めっき排水の貴金属イオン濃度−電流値曲線の傾きが大きいときは、比較的、低電圧印加、電極直径は小さく、電極を短く、電極間距離を広く取ることができる。一方、傾きが小さいときは、比較的高電圧印加、電極直径は大きく、電極を長く、電極間距離を広く取ることで、傾きの調整が可能である。例えば、印加電圧を１２〜２４Ｖに設定し、貴金属イオン濃度の前記上限値に対応する電流値を２００〜８００ｍＡ、貴金属イオン濃度の前記下限値に対応する電流値を１００〜５００ｍＡとすることができる。貴金属イオン濃度の前記上下値と前記下限値の差分値を、１００〜３００ｍＡの範囲に管理することができる電極条件が好ましく選択される。

めっき回収槽の排水及び／又は注水は、例えば、同時に排水用及び注水用電動弁が作動する方式、排水用電動弁が作動し、排水が完了した後、注水用電動弁が作動する方式、排水中に注水用電動弁が作動する方式等を採用し、制御盤によって自動的に制御して行う。なお、電動弁の代わりに、電磁弁等、同様の機能を有するものが使用できる。

同時に排水用及び注水用電動弁が作動する方式は、めっき回収槽内の収容液の電流値が、設定された上限値に到達すると、排水用及び注水用電動弁が同時に作動し、設定された下限値に到達すると、排水用及び注水用電動弁が停止する。めっき回収槽内の収容液の電流値によって、排水及び注水の時期を制御し、貴金属イオン濃度の上限値及び下限値を管理する。

排水用電動弁が作動し、排水が完了した後、注水用電動弁が作動する方式は、めっき回収槽内の収容液の電流値が、設定された上限値に到達すると、排水用電動弁のみが作動し、下限水位まで排水される。このとき、該収容液の電流値の変動はない。排水が完了すると、引き続いて、注水用電動弁が作動し、注水が満水位に到達すると停止する。めっき回収槽内の収容液の電流値によって、排水の時期を制御して、貴金属イオン濃度の上限値を管理し、排水量及び注水量は水位の測定によって管理して、貴金属イオン濃度の下限値を管理する。

排水中に注水用電動弁が作動する方式は、めっき回収槽内の収容液の電流値が、設定された上限値に到達すると、排水用電動弁が作動し、その排水中に注水用電動弁が作動し、前記電流値が、設定された下限値に到達すると排水用及び注水用電動弁の作動が停止して、注水は終了する。めっき回収槽内の収容液の電流値によって、排水及び注水の時期を制御し、貴金属イオン濃度の上限値及び下限値を管理する。

本発明において、回収の対象となる貴金属イオンの貴金属とは、Ａｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｐｔ又はＲｈである。したがって、めっき被処理物に処理されるめっき液の種類は、Ａｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｐｔ及びＲｈのうち、少なくとも一種以上を含むめっき液であり、上記貴金属とＮｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｚｎ等の非貴金属とを含む合金めっき液であってもよい。また、めっき方法としては、シアン系めっき、ノンシアン系めっき、電解めっき、無電解めっき等が挙げられる。また、めっき槽内に収容されるめっき液は、通常、貴金属イオン濃度が１〜７０ｇ／Ｌのものが使用される。

以下、本発明を実施する場合において、めっき回収槽及びめっき洗浄槽内の収容液の貴金属濃度を維持する実施形態について例を挙げる。

［実施形態１］
Ａｕめっき液（日本エレクトロプレイティング・エンジニヤーズ（ＥＥＪＡ）社製、商品名：テンペレックスＭＬＡ１００；Ａｕ６〜１０ｇ／Ｌ）を使用して、めっき処理を行う際に、めっき回収槽内の収容液の水温を５０℃、該収容液のＡｕイオン濃度の上限値を５０〜５９ｍｇ／Ｌ、下限値を３４〜４３ｍｇ／Ｌに設定した場合、めっき回収槽に設置する電極、電極形状、電極長、電極間距離、及び印加電圧の最適な条件の１例としては、印加電圧を２４Ｖとすると、Ａｕイオン濃度の前記上限値を示す電流値は３５０ｍＡ、前記下限値を示す電流値は２５０ｍＡであり、Ａｕイオン濃度の前記上限値及び前記下限管理値の差分が、電流値で１００ｍＡの範囲で管理される最適な電極としては、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極であって、丸棒形状、電極直径φ１５ｍｍ、電極長２３ｍｍ、極間距離３５ｍｍが例示される。
めっき回収槽の排水と注水を、同時に排水用及び注水用電動弁が作動する方式で実施した場合、前記上限値である３５０ｍＡに到達したところで、排水用及び注水用電動弁が同時に作動し、前記下限値である２５０ｍＡに到達したところで、排水用及び注水用電動弁の作動が停止される。よって、排水されたＡｕイオン濃度は、前記上限濃度の５０〜５９ｍｇ／Ｌと前記下限濃度の３４〜４３ｍｇ／Ｌの範囲であり、めっき回収槽内の収容液の２０％が交換される。めっき回収槽で洗浄しためっき被処理物に付着した付着液のＡｕイオン濃度は最大で５９ｍｇ／Ｌであり、めっき洗浄槽において、この付着液を水で希釈することにより、Ａｕイオン濃度は１０ｍｇ／Ｌ以下の低濃度に維持される。注水の水温は、ほぼ２０℃であり、連続運転中のめっき回収槽の水温は、４４〜４６℃であった。
めっき回収槽からのめっき排水に含まれる高い濃度のＡｕイオンの電解回収は、Ｉｒ焼結Ｔｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極からなる循環処理容量約２００Ｌの電解回収装置（田中貴金属工業社製：ミニリカバセル）を使用して、電解密度１３０〜２００ｍＡ／ｄｍ^２でＡｕイオンの回収を行った。
上記電解回収後の廃液及びめっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる低い濃度のＡｕイオンの樹脂回収は、それぞれ同様の樹脂を使用でき、陰イオン交換樹脂を充填したイオン交換樹脂装置（田中貴金属工業社製：イーグルＲＥ）を使用してＡｕイオンの回収を行った。
本実施形態での回収処理後の残留するＡｕイオン濃度は０．２ｍｇ／Ｌ未満であった。

［実施形態２］
Ａｕめっき液（ＥＥＪＡ社製、商品名：テンペレックス８４００；Ａｕ３〜５ｇ／Ｌ）を使用して、めっき処理を行う際に、めっき回収槽内の収容液の水温を５０℃、該収容液のＡｕイオン濃度の上限値を５０〜６３ｍｇ／Ｌ、下限値を３３〜４２ｍｇ／Ｌに設定した場合、めっき回収槽に設置する電極、電極形状、電極長、電極間距離、及び印加電圧の最適な条件の１例としては、印加電圧を２４Ｖとすると、Ａｕイオン濃度の前記上限値を示す電流値は３７０ｍＡ、前記下限値を示す電流値は２７０ｍＡであり、Ａｕイオン濃度の上限値及び下限値の差分が、電流値で１００ｍＡの範囲で管理される最適な電極としては、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極であって、丸棒形状、電極直径φ１５ｍｍ、電極長２３ｍｍ、極間距離３５ｍｍが例示される。
実施形態１と同様に、めっき回収槽の排水と注水を、同時に排水用及び注水用電動弁が作動する方式で実施した場合、前記上限値である３７０ｍＡに到達したところで、排水用及び注水用電動弁が同時に作動し、前記下限値である２７０ｍＡに到達したところで、排水用及び注水用電動弁の作動が停止される。よって、排水されたＡｕ濃度は、前記上限濃度の５０〜６３ｍｇ／Ｌと前記下限濃度の３３〜４２ｍｇ／Ｌの範囲であり、めっき回収槽内の収容液の２０％が交換される。めっき回収槽で洗浄しためっき被処理物に付着した付着液のＡｕイオン濃度は最大で６３ｍｇ／Ｌであり、めっき洗浄槽において、この付着液を水で希釈することにより、Ａｕイオン濃度は１０ｍｇ／Ｌ以下の低濃度に維持される。注水の水温は、ほぼ２０℃であり、連続運転中のめっき回収槽の水温は、４４〜４６℃であった。
めっき回収槽からのめっき排水に含まれる高い濃度のＡｕイオンの電解回収は、Ｉｒ焼結Ｔｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極からなる循環処理容量約２００Ｌの電解回収装置（田中貴金属工業社製：ミニリカバセル）を使用して、電解密度１３０〜２００ｍＡ／ｄｍ^２でＡｕイオンの回収を行った。
上記電解回収後の廃液及びめっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる低い濃度のＡｕイオンの樹脂回収は、それぞれ同様の樹脂を使用でき、陰イオン交換樹脂を充填したイオン交換樹脂装置（田中貴金属工業社製：イーグルＲＥ）を使用してＡｕイオンの回収を行った。
本実施形態での回収処理後の残留するＡｕイオン濃度は０．２ｍｇ／Ｌ未満であった。

［実施形態３］
Ａｕめっき液（ＥＥＪＡ社製、商品名：オーロボンドＴＮ；Ａｕ１〜３ｇ／Ｌ）を使用して、めっき処理を行う際に、めっき回収槽内の収容液の水温を５０℃、該収容液のＡｕイオン濃度の上限値を２８〜９５ｍｇ／Ｌ、下限値を１７〜７４ｍｇ／Ｌに設定した場合、めっき回収槽に設置する電極、電極形状、電極長、電極間距離、及び印加電圧の最適な条件の１例としては、印加電圧を１２Ｖとすると、Ａｕイオン濃度の前記上限値を示す電流値は４５０ｍＡ、前記下限値を示す電流値は３５０ｍＡであり、Ａｕイオン濃度の前記上限値及び前記下限値の差分が、電流値で１００ｍＡの範囲で管理される最適な電極としては、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極、丸棒形状、電極直径φ１５ｍｍ、電極長２３ｍｍ、極間距離３５ｍｍが例示される。
実施形態１と同様に、めっき回収槽の排水と注水を、同時に排水用及び注水用電動弁が作動する方式で実施した場合、前記上限値である４５０ｍＡに到達したところで、排水用及び注水用電動弁が同時に作動し、前記下限値である３５０ｍＡに到達したところで、排水用及び注水用電動弁の作動が停止される。よって、排水されたＡｕイオン濃度は、前記上限濃度の２８〜９５ｍｇ／Ｌと前記下限濃度の１７〜７４ｍｇ／Ｌの範囲であり、めっき回収槽内の収容液の２０％が交換される。めっき回収槽で洗浄しためっき被処理物に付着した付着液のＡｕイオン濃度は最大９５ｍｇ／Ｌであり、めっき洗浄槽において、この付着液を水で希釈することにより、Ａｕイオン濃度は１０ｍｇ／Ｌ以下の低濃度に維持される。注水の水温は、ほぼ２０℃であり、連続運転中のめっき回収槽の水温は、４４〜４６℃であった。
めっき回収槽からのめっき排水に含まれる高い濃度のＡｕイオンの電解回収は、Ｉｒ焼結Ｔｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極からなる循環処理容量約２００Ｌの電解回収装置（田中貴金属工業社製：ミニリカバセル）を使用して、電解密度１３０〜２００ｍＡ／ｄｍ^２でＡｕイオンの回収を行った。
上記電解回収後の廃液及びめっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる低い濃度のＡｕイオンの樹脂回収は、それぞれ同様の樹脂を使用でき、陰イオン交換樹脂を充填したイオン交換樹脂装置（田中貴金属工業社製：イーグルＲＥ）を使用してＡｕイオンの回収を行った。
本実施形態での回収処理後の残留するＡｕイオン濃度は０．２ｍｇ／Ｌ未満であった。

［実施形態４］
Ｐｄめっき液（ＥＥＪＡ社製、商品名：パラデックス１００；Ｐｄ２５〜３０ｇ／Ｌ）を使用して、めっき処理を行う際に、めっき回収槽内の収容液の水温を５０℃、該収容液のＰｄイオンの上限値を１２９〜１５７ｍｇ／Ｌ、下限値を３８〜７７ｍｇ／Ｌに設定した場合、めっき回収槽に設置する電極、電極形状、電極長、電極間距離、及び印加電圧の最適な条件の１例としては、印加電圧を１２Ｖとすると、Ｐｄイオン濃度の前記上限値を示す電流値は５５０ｍＡ、前記下限値を示す電流値は４５０ｍＡであり、Ｐｄイオン濃度の前記上限値及び前記下限値の差分が、電流値で１００ｍＡの範囲で管理される最適な電極としては、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極であって、丸棒形状、直径φ１５ｍｍ、電極長２３ｍｍ、極間距離４５ｍｍが例示される。
めっき回収槽の排水及び注水を、排水用電動弁が作動し、排水が完了した後、注水用電動弁が作動する方式で実施した場合、前記上限値である５５０ｍＡに到達したところで、排水用電動弁が作動し、満水量の４０％が排水されたところで、注水用電動弁が作動し、満水になったところで停止される。よって、排水されたＰｄイオン濃度は、前記上限濃度の１２９〜１５７ｍｇ／Ｌの範囲である。めっき回収槽で洗浄しためっき被処理物に付着した付着液のＰｄイオン濃度は最大１５７ｍｇ／Ｌであり、めっき洗浄槽において、この付着液を水で希釈することにより、Ｐｄイオン濃度は１０ｍｇ／Ｌ以下の低濃度に維持される。注水の水温は、ほぼ２０℃であり、連続運転中のめっき回収槽の水温は、４０〜４２℃であった。
めっき回収槽からのめっき排水に含まれる高い濃度のＰｄイオンの電解回収は、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極からなる循環処理容量約２００Ｌの電解回収装置（田中貴金属工業社製：ミニリカバセル）を使用して、電解密度１００〜２７０ｍＡ／ｄｍ^２でＰｄイオンの回収を行った。
上記電解回収後の廃液及びめっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる低い濃度のＰｄイオンの樹脂回収は、それぞれ同様の樹脂を使用でき、キレート樹脂を充填したイオン交換樹脂装置（田中貴金属工業社製：イーグルＲＥ）を使用してＰｄイオンの回収を行った。
本実施形態での回収処理後の残留するＰｄイオン濃度は０．５ｍｇ／Ｌ未満であった。

［実施形態５］
Ａｇめっき液（ＮＥケミキャット社製、商品名：ＡＧ-１０；Ａｇ５０〜７０ｇ／Ｌ）を使用して、めっき処理を行う際に、めっき回収槽内の収容液の水温を５０℃、該収容液のＡｇイオン濃度の上限値を１４８〜１９５ｍｇ／Ｌ、下限値を４９〜８３ｍｇ／Ｌに設定した場合、めっき回収槽に設置する電極、電極形状、電極長、電極間距離、及び印加電圧の最適な条件の１例としては、印加電圧を１２Ｖとすると、Ａｇイオン濃度の前記上限値を示す電流値は６５０ｍＡ、前記下限値を示す電流値は５５０ｍＡであり、Ａｇイオン濃度の前記上限値及び前記下限値の差分が、電流値で１００ｍＡの範囲で管理される最適な電極としては、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極であって、丸棒形状、直径φ１５ｍｍ、電極長２３ｍｍ、極間距離５５ｍｍが例示される。
実施形態４と同様に、めっき回収槽の排水及び注水は、排水用電動弁が作動し、排水が完了した後、注水用電動弁が作動する方式で実施した場合は、前記上限値である６５０ｍＡに到達したところで、排水用電動弁が作動し、満水量の５０％が排水されたところで、注水用電動弁が作動し、満水になったところで停止される。よって、排水されたＡｇイオン濃度は、前記上限濃度の１４８〜１９５ｍｇ／Ｌの範囲である。めっき洗浄槽で洗浄しためっき被処理物に付着した付着液のＡｇイオン濃度は最大１９５ｍｇ／Ｌであり、めっき洗浄槽において、この付着液を水で希釈することにより、Ａｇイオン濃度は１０ｍｇ／Ｌ以下の低濃度に維持される。注水の水温は、ほぼ２０℃であり、連続運転中のめっき回収槽の水温は、３９〜４１℃であった。
めっき回収槽からのめっき排水に含まれる高い濃度のＡｇイオンの電解回収は、Ｉｒ焼結Ｔｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極からなる循環処理容量約２００Ｌの電解回収装置（田中貴金属工業社製：ミニリカバセル）を使用して、電解密度１３０〜２００ｍＡ／ｄｍ^２でＡｇイオンの回収を行った。
上記電解回収後の廃液及びめっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる低い濃度のＡｇイオンの樹脂回収は、それぞれ同様の樹脂を使用でき、陰イオン交換樹脂を充填したイオン交換樹脂装置（田中貴金属工業社製：イーグルＲＥ）を使用してＡｇイオンの回収を行った。
本実施形態での回収処理後の残留するＡｇイオン濃度は０．２ｍｇ／Ｌ未満であった。

［実施形態６］
Ｐｔめっき液（ＥＥＪＡ社製、商品名：プレシャスファブＰｔ１００；Ｐｔ１０〜１４ｇ／Ｌ）を使用して、めっき処理を行う際に、めっき回収槽内の収容液の水温を５０℃、該収容液のＰｔイオン濃度の上限値を９６〜１２０ｍｇ／Ｌ、下限値を４５〜６３ｍｇ／Ｌに設定した場合、めっき回収槽に設置する電極、電極形状、電極長、電極間距離、及び印加電圧の最適な条件の１例としては、印加電圧１５Ｖとすると、Ｐｔイオン濃度の前記上限値を示す電流値は５００ｍＡ、前記下限値を示す電流値は４００ｍＡであり、Ｐｔイオン濃度の上限値及び下限値の差分が、電流値で１００ｍＡの範囲で管理される最適な電極としては、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極であって、丸棒形状、電極直径φ１５ｍｍ、電極長２３ｍｍ、極間距離４０ｍｍが例示される。
めっき回収槽の排水と注水を、排水中に注水が作動する方式で実施した場合、上限値である５００ｍＡに到達したところで、排水用電動弁が作動し、排水中に注水用電動弁が作動し、下限値である４００ｍＡに到達したところで排水用及び注水用電動弁の作動が停止される。よって、排水されたＰｔイオン濃度は、前記上限濃度の９６〜１２０ｍｇ／Ｌと前記下限濃度の４５〜６３ｍｇ／Ｌの範囲であり、めっき回収槽内の収容液の４０％が交換される。めっき洗浄槽で洗浄しためっき被処理物に付着した付着液のＰｔイオン濃度は最大１２０ｍｇ／Ｌであり、めっき洗浄槽において、この付着液を水で希釈することにより、１０ｍｇ／Ｌ以下の低濃度に維持される。注水の水温は、ほぼ２０℃であり、連続運転中のめっき回収槽の水温は、４０〜４２℃であった。
めっき回収槽からのめっき排水に含まれる高い濃度のＰｔイオンの電解回収は、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極からなる循環処理容量約２００Ｌの電解回収装置（田中貴金属工業社製：ミニリカバセル）を使用して、電解密度３０〜１４０ｍＡ／ｄｍ^２でＰｔイオンの回収を行った。
上記電解回収後の廃液及びめっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる低い濃度のＰｔイオンの樹脂回収は、それぞれ同様の樹脂を使用でき、陽イオン交換樹脂を充填したイオン交換樹脂装置（田中貴金属工業社製：イーグルＲＥ）を使用してＰｔイオンの回収を行った。
本実施形態での回収処理後の残留するＰｔイオン濃度は０．５ｍｇ／Ｌ未満であった。

［実施形態７］
Ｒｈめっき液（ＮＥケミキャット社製、商品名：ＲＨ２２１；Ｒｈ３〜５ｇ／Ｌ）を使用して、めっき処理を行う際に、めっき回収槽内の収容液の水温を５０℃、該収容液のＲｈイオン濃度の上限値を４２〜６０ｍｇ／Ｌ、下限値を１６〜３２ｍｇ／Ｌに設定した場合、めっき回収槽に設置する電極、電極形状、電極長、電極間距離、及び印加電圧の最適な条件の１例としては、印加電圧を２４Ｖとすると、Ｒｈイオン濃度の前記上限値を示す電流値は４５０ｍＡ、下限値を示す電流値は３５０ｍＡであり、Ｒｈイオン濃度の前記上限値及び前記下限値の差分が、電流値で１００ｍＡの範囲で管理される最適な電極としては、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極であって、丸棒形状、直径φ１５ｍｍ、電極長２３ｍｍ、極間距離３５ｍｍが例示される。
実施形態６と同様に、めっき回収槽の排水及び注水を、排水中に注水が作動する方式で実施した場合、前記上限値である４５０ｍＡに到達したところで、排水電動弁が作動し、排水中に注水用電動弁が作動し、前記下限値である３５０ｍＡに到達したところで排水用及び注水用電動弁の作動が停止される。よって、排水されたＲｈイオン濃度は、前記上限濃度の４２〜６０ｍｇ／Ｌと前記下限濃度の１６〜３２ｍｇ／Ｌの範囲であり、めっき回収槽内の収容液の３０％が交換される。めっき洗浄槽で洗浄しためっき被処理物に付着した付着液のＲｈイオン濃度は最大６０ｍｇ／Ｌであり、めっき洗浄槽において、この付着液を水で希釈することにより、１０ｍｇ／Ｌ以下の低濃度に維持される。注水の水温は、ほぼ２０℃であり、連続運転中のめっき回収槽の水温は、４２〜４４℃であった。
めっき回収槽からのめっき排水に含まれる高い濃度のＲｈイオンの電解回収は、ＰｔめっきＴｉ材からなる陽極、Ｔｉ材からなる陰極電極からなる循環処理容量約２００Ｌの電解回収装置（田中貴金属工業社製：ミニリカバセル）を使用して、電解密度３０〜１４０ｍＡ／ｄｍ^２でＲｈイオンの回収を行った。
上記電解回収後の廃液及びめっき洗浄槽からのめっき排水に含まれる低い濃度のＲｈイオンの樹脂回収は、それぞれ同様の樹脂を使用でき、陽イオン交換樹脂を充填したイオン交換樹脂装置（田中貴金属工業社製：イーグルＲＥ）を使用してＲｈイオンの回収を行った。
本実施形態での回収処理後の残留するＲｈイオン濃度は０．５ｍｇ／Ｌ未満であった。

［比較形態１］
実施形態３のめっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の６０％を排水するように、収容液のＡｕイオン濃度の上限値及び下限値の設定を行った。しかしながら、６０％の排水ではめっき回収槽の水温が３５℃を下回り、めっき被処理物に付着した過剰な貴金属イオンや塩成分の洗い出し効率が低下し、さらに、カビや菌の繁殖が生じ、品質低下によるめっき被処理物の歩留まり低下が生じた。

［比較形態２］
実施形態５のめっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の５％を排水するように、収容液のＡｇイオン濃度の上限値及び下限値の設定を行った。しかしながら、５％の排水では上限値及び下限値の範囲に十分な差を設けることができず、Ａｇイオン濃度の電流値による管理ができなくなり、その結果Ａｇイオン濃度が８００ｍｇ／Ｌを超え、めっき被処理物に付着した過剰の貴金属イオンや塩成分を回収する効率が低下し、品質低下によるめっき被処理物の歩留まり低下が生じた。さらに、めっき洗浄槽では、Ａｇイオン濃度がイオン交換樹脂装置での回収能力を超えて、貴金属の回収率が低下した。

Claims

めっき回収槽からの１回当たりの排水量を、めっき回収槽の満水量の１０〜５０％の範囲内であって、かつ、めっき回収槽内において、めっき被処理物の浸漬が確保される量とすることにより、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、高い濃度で一定の範囲に維持し、かつ、めっき洗浄槽内の収容液の貴金属イオン濃度を、低い濃度で一定の範囲に維持するとともに、
貴金属イオンの濃度が、高い濃度で一定の範囲に維持された、めっき回収槽からのめっき排水に対しては、電解回収法と、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法とを併用させて貴金属イオンを回収し、貴金属イオンの濃度が、低い濃度で一定の範囲に維持された、めっき洗浄槽からのめっき排水に対しては、樹脂回収法又は活性炭吸着回収法により貴金属イオンを回収することを特徴とする、めっき排水からの貴金属イオン回収方法。
貴金属イオンが、Ａｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｐｔ及びＲｈからなる群より選ばれた１種以上の貴金属のイオンであることを特徴とする、請求項１に記載の貴金属イオン回収方法。
めっき回収槽に設置した電極間に、定電圧又は定電流にて通電を行って、めっき回収槽内の収容液について、電流値又は電位値と、該収容液内に含まれる貴金属イオン濃度との関係を示す検量線を予め作成しておき、
めっき回収槽に設置した電極間に、定電圧又は定電流にて通電を行って、該電極間の電流値又は電位値を測定し、得られた測定値と上記検量線に基づいて、めっき回収槽内の収容液の貴金属イオン濃度を定量し、
貴金属イオン濃度を一定の範囲に維持することを特徴とする、請求項１又は２に記載の貴金属イオン回収方法。