JP4753786B2 - 短パルスレーザ加工方法および装置 - Google Patents
短パルスレーザ加工方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4753786B2 JP4753786B2 JP2006124346A JP2006124346A JP4753786B2 JP 4753786 B2 JP4753786 B2 JP 4753786B2 JP 2006124346 A JP2006124346 A JP 2006124346A JP 2006124346 A JP2006124346 A JP 2006124346A JP 4753786 B2 JP4753786 B2 JP 4753786B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- short pulse
- pulse laser
- workpiece
- processing
- irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
(1)薄板状の被加工物を短パルスレーザ光の照射によって加工するレーザ加工方法であって、レーザ照射側面の背面を衝撃吸収体に密着させた状態で加工を行うことを特徴とする短パルスレーザ加工方法。
たとえば、衝撃吸収体として用いる液体40は、被加工物10との密着状態を非常に確実かつ安定に形成することができるが、この液体40には水以外の液体、たとえばアルコールや油脂などであってもよい。
Pw レーザ光のパルス幅、
10 被加工物、
20 レーザ装置、
22 光学系、
30 可動ステージ、
31 底部、
32 側方部、
33 治具、
40 液体
Claims (4)
- 薄板状の被加工物を短パルスレーザ光の照射によって加工するレーザ加工方法であって、前記被加工物のレーザ照射側面の背面をゲル状の流動体に密着させた状態で加工を行うことにより、前記短パルスレーザ光の照射に伴う衝撃を前記流動体で吸収させることを特徴とする短パルスレーザ加工方法。
- 請求項1において、短パルスレーザ光のパルス幅が200ps以下であることを特徴とする短パルスレーザ加工方法。
- 請求項1において、被加工物の板厚が1mm以下であることを特徴とする短パルスレーザ加工方法。
- 薄板状の被加工物を短パルスレーザ光の照射によって加工するレーザ加工装置であって、被加工物を所定位置に保持するための治具が容器を形成し、この容器内に保持したゲル状の流動体が、前記被加工物のレーザ照射側面の背面に接触するように構成することにより、前記短パルスレーザ光の照射に伴う衝撃を前記流動体で吸収可能としたことを特徴とする短パルスレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006124346A JP4753786B2 (ja) | 2006-04-27 | 2006-04-27 | 短パルスレーザ加工方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006124346A JP4753786B2 (ja) | 2006-04-27 | 2006-04-27 | 短パルスレーザ加工方法および装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007296534A JP2007296534A (ja) | 2007-11-15 |
JP2007296534A5 JP2007296534A5 (ja) | 2010-12-16 |
JP4753786B2 true JP4753786B2 (ja) | 2011-08-24 |
Family
ID=38766463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006124346A Expired - Fee Related JP4753786B2 (ja) | 2006-04-27 | 2006-04-27 | 短パルスレーザ加工方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4753786B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103894743B (zh) * | 2014-03-19 | 2015-12-02 | 温州大学 | 一种发泡辅助的金属片激光精密打孔方法及装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050025445A1 (en) * | 2003-07-31 | 2005-02-03 | Schoroeder Joseph F. | Method of making at least one hole in a transparent body and devices made by this method |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3373638B2 (ja) * | 1994-03-09 | 2003-02-04 | 株式会社東芝 | レーザーピーニング方法 |
JPH10315486A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-02 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP3012926B1 (ja) * | 1998-09-21 | 2000-02-28 | 工業技術院長 | 透明材料のレーザー微細加工法 |
JP2000347387A (ja) * | 1999-06-07 | 2000-12-15 | Nec Corp | フォトマスク修正方法及びフォトマスク修正装置 |
JP2001094131A (ja) * | 1999-09-22 | 2001-04-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 集積型光起電力装置の製造方法 |
JP2002178171A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-25 | Ricoh Co Ltd | レーザ加工方法および光学素子 |
JP2003019587A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-21 | Inst Of Physical & Chemical Res | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
JP4214233B2 (ja) * | 2003-03-26 | 2009-01-28 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 透明材料の微細加工方法および微細構造体 |
JP4231924B2 (ja) * | 2003-03-27 | 2009-03-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 透明材料の微細加工装置 |
EP1733836B1 (en) * | 2004-03-31 | 2010-12-08 | Nikon Corporation | Processing method for organic crystal |
JP2006007250A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物保持装置 |
JP2006068789A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ誘起加工方法 |
-
2006
- 2006-04-27 JP JP2006124346A patent/JP4753786B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050025445A1 (en) * | 2003-07-31 | 2005-02-03 | Schoroeder Joseph F. | Method of making at least one hole in a transparent body and devices made by this method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007296534A (ja) | 2007-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7404316B2 (ja) | レーザ処理装置、ワークピースをレーザ処理する方法及び関連する構成 | |
JP7146770B2 (ja) | レーザ加工装置における光学部品の寿命を延ばすための方法及びシステム | |
Raciukaitis et al. | Accumulation effects in laser ablation of metals with high-repetition-rate lasers | |
JP3908236B2 (ja) | ガラスの切断方法及びその装置 | |
CN108098147B (zh) | 一种用于pcb阵列微孔的双面激光加工方法 | |
JP2013144312A (ja) | レーザ加工方法、レーザ加工装置及びインクジェットヘッドの製造方法 | |
US20120031883A1 (en) | Laser machining device and laser machining method | |
CN110280914B (zh) | 一种激光超声技术辅助脉冲激光打孔装置及方法 | |
JP2013528492A (ja) | レーザベースの材料加工装置及び方法 | |
US9776906B2 (en) | Laser machining strengthened glass | |
CN108356414B (zh) | 一种激光焊接点的激光路径及激光焊接方法 | |
JP2007069216A (ja) | 無機材料の加工方法 | |
US10596663B2 (en) | High-precision laser machining method for sapphire submicron-order section | |
KR20190025721A (ko) | 작업물을 레이저 가공하는 레이저 가공 장치 및 방법 | |
JP2009012061A (ja) | レーザ加工機 | |
CN107283068A (zh) | 一种铝合金切割系统及方法 | |
JP4753786B2 (ja) | 短パルスレーザ加工方法および装置 | |
JP5584560B2 (ja) | レーザスクライブ方法 | |
JP2005021964A (ja) | レーザーアブレーション加工方法およびその装置 | |
Herfurth et al. | Micromachining with tailored nanosecond pulses | |
KR20240123798A (ko) | 기판 절단 및 쪼개기를 위한 기판 준비 | |
Rizvi et al. | Laser micromachining: new developments and applications | |
CN114643426A (zh) | 提升高硼硅玻璃激光切割裂片质量和效率的装置及方法 | |
Wagner et al. | High-speed cutting of thin materials with a Q-switched laser in a water-jet versus conventional laser cutting with a free running laser | |
Patel et al. | High speed micromachining with high power UV laser |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090226 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101029 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20101029 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110113 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20110222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110302 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110519 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110524 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140603 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4753786 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |