JP4752491B2 - デバイス製造方法、マスク、デバイス - Google Patents
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Description
このため、露光装置には、基板上の各ショット領域に形成した位置検出用(アライメント用)のマークを検出するアライメントセンサが設けられ、このアライメントセンサの検出結果に基づいて基板上の各ショット領域に形成された既存パターンの正確な位置を計測し、アライメント(位置合わせ)している。
このため、基板に、歪みシリコン技術を適用した際に、歪みシリコン技術が適用された領域とは異なる領域に、歪みの影響が伝わらないようにする技術が求められている。
この発明によれば、局所的に歪んだ領域があったとしても、その領域に起因する歪みを緩和する緩衝領域が形成されているので、歪みの伝播が抑えられる。
この発明によれば、基板内に局所的に歪んだ領域を形成する場合であっても、その領域に起因する歪みを緩和する緩衝領域を基板上の適正な位置に形成することができる。
この発明によれば、基板上に局所的に歪まされた特定領域を有するデバイスであっても、その領域に起因する歪みを緩和する緩衝領域が設けられているので、回路パターンが高精度に重ねあわされる。
基板上に局所的に歪んだ領域を設ける場合であっても、その領域に起因する歪みを緩和する緩衝領域を設けているので、歪みの伝播が抑えられ、これにより、例えば、アライメントマークの位置ずれを防止することができる。したがって、基板を高精度にアライメントすることが可能となり、高性能なデバイスが得られる。
図1は、本実施形態に係る露光装置EXの概略構成図である。
露光装置EXは、ステップ・アンド・スキャン方式により、マスクのパターンを感光基板に露光する、所謂スキャニングステッパである。なお、ここでいう「感光基板」は半導体ウエハ上にレジストを塗布したものを含み、「マスク」は感光基板上に縮小投影されるデバイスパターンを形成されたレチクルを含む。
なお、以下の説明において、投影光学系PLの光軸AXと一致する方向をZ軸方向、Z軸方向に垂直な平面内でマスクMと感光基板Pとの同期移動方向をX軸方向、Z軸方向及びX軸方向に垂直な方向をY軸方向とする。
これらレーザ干渉計47による基板ステージPSTのX座標、Y座標及び回転角等の位置情報の計測結果は制御装置CONTへ出力され、制御装置CONTは位置情報をモニタしつつリニアモータ等の駆動装置PSTDを介して基板ステージPSTの位置決め動作を制御する。
なお、図1には示していないが、マスクステージMSTにも同様に複数のレーザ干渉計を有するシステムを備えており、マスクステージMST(マスクM)のX座標、Y座標及び回転角等の位置情報が計測され、これら計測結果は制御装置CONTへ出力される。
なお、この指標マークを検出せずに、感光基板P上のマークのみを撮像する方式を採用してもよい。
制御装置CONTは、アライメント装置50での計測結果を用いて、マスクMのパターン像と感光基板Pのショット領域とをアライメントしてから、マスクステージMSTを投影光学系PLの光軸AXに垂直な方向(本実施形態では+X方向)に走査するとともに、これに同期して例えば逆方向(−X方向)に基板ステージPSTを投影光学系PLの投影倍率と同じ速度比で走査し、マスクMのパターン像を感光基板P上の各ショット領域に逐次転写(露光)する。
図2は、歪みシリコン技術が適用された感光基板Pに形成された複数のショット領域の配列、及び任意のショット領域、感光基板Pに所定のパターンを形成するためのマスクを示す模式図である。
感光基板Pは、歪みシリコン技術が適用されたシリコン基板であり、図2(a)に示すように、表面に複数のショット領域SHが形成されている。
そして、図2(b)に示すように、感光基板Pの表面に形成される複数のショット領域SHには、歪みシリコン技術を用いて形成された複数の伸張領域E及び圧縮領域Cが配置されている。伸張領域E及び圧縮領域Cは、特定レイヤー内の特定領域を意図的に伸張或いは圧縮した領域であり、伸張領域Eと圧縮領域Cとがそれぞれ一対となって、ショット領域SH内に配置されている。
また、ショット領域SHには、伸張領域Eと圧縮領域Cが形成された領域と、アライメントマークALが形成された外周領域とを区画するように、緩衝領域Bが形成されている。緩衝領域Bは、伸張領域Eと圧縮領域Cの存在に起因する歪みの影響がアライメントマークALに伝わらないようにするために設けられたものである。
したがって、もし、このような歪みが存在する場合に緩衝領域Bが存在しなければ、アライメントマークALは、伸張領域E及び圧縮領域Cに起因する歪みの影響を受け、位置ずれを起こす。そして、アライメントマークALの位置が本来在るべき位置から位置ずれしている結果、アライメントマークALを用いた感光基板P(ショット領域SH)の高精度な位置決めが困難となってしまう。
そこで、上述したように、本実施形態では、伸張領域Eと圧縮領域Cの存在に起因する歪みの影響がアライメントマークALに伝わらないように、伸張領域Eと圧縮領域Cが形成された領域(デバイス用の回路パターンが形成される領域)と、アライメントマークALが形成された外周領域とを区画するように、緩衝領域Bを形成するようにした。
緩衝領域Bは、例えば、図2(c)に示すように、複数の溝(掘り込み)からなる。伸張領域Eと圧縮領域Cは、ショット領域SH(感光基板P)の表面に形成されるため、伸張領域Eと圧縮領域Cに起因する歪みは、ショット領域SHの表層を伝わってその周辺に拡がっている。したがって、ショット領域SHの表面に掘り込みを設けることで、歪みの伝播を抑えることができる。
なお、この複数の溝からなる緩衝領域Bは、回路パターンを形成するリソグラフィー工程においてショット領域SH上に容易に形成できるので、コスト上昇を伴わないという利点がある。例えば、図2(d)に示すようなマスクMを用いて露光工程を行うことによって、感光基板P上に、図2(b),(c)に示すようなショットパターンを転写形成することができる。このマスクMは、マスクアライメント用のアライメントマークが描画されていると共に、パターン形成領域MR内には、感光基板P上に転写されるべきパターンが描画されている。この転写用パターンとして、転写された後は感光基板P上でアライメントマークALとなるアライメント用パターンと、転写された後は感光基板P上で緩衝領域Bとなる緩衝用パターンと、転写された後はデバイス用の回路パターンの一部(C,E)や後述する歪み計測マークDMとなる回路用パターンPA等が、マスクM上には描画されている。なお、これらの転写用パターンを共用することが困難な場合には、アライメントマーク用パターンと緩衝用パターンとを別々の工程(異なるマスク、異なるリソグラフィー工程)により形成する。
また、緩衝領域Bは、アライメントマークALが形成されたレイヤーと同一のレイヤーに形成されることが好ましい。緩衝領域BをアライメントマークALとを同一のレイヤーに形成することで、確実にアライメントマークALの位置ずれを防止することが可能となる。
なお、図2(b)に示すようなパターン配置においては、アライメントマークALを別に構成するのではなく、緩衝領域Bの一部をアライメントマークALの代用としてアライメント用に用いるようにしてもよい。例えば、図2(b)では、3重の溝を緩衝領域Bとして形成しているが、そのうちの例えば外側の溝1本(若しくは2本)をアライメントマークとして兼用するようにしてもよい。図2(b)の例では、最外周の溝1本を用いた場合に、ショット領域SH全体としては、左右1本ずつ計2本をアライメントマークとして代用することにする。この場合に、ショット領域SH内で生じている歪みの程度(緩衝領域Bで吸収できる歪みの程度)に応じて、何本の溝をアライメントマークと兼用するかを決定すればよい。
歪み計測マークDMは、その性格(機能)上、緩衝領域Bにより囲まれた領域内に形成される。これにより、ショット領域SH内の歪みを高精度に計測することが可能となる。特に、伸張領域Eと圧縮領域Cが形成されたレイヤーは大きく歪むので、伸張領域Eと圧縮領域Cが形成されたレイヤーに歪み計測マークDMを形成することが好ましい。
緩衝領域Bは、ショット領域SHの略全体を取り囲むように形成する場合に限られない。例えば、ショット領域SH内に多数の伸張領域E及び圧縮領域Cが形成される場合には、図3(a)に示すように、緩衝領域Bにより伸張領域E及び圧縮領域Cを複数の領域に区分するようにしてもよい。このように、ショット領域SH内を複数の領域に区分することで、伸張領域E及び圧縮領域Cに起因する歪みの伝播をより狭い範囲内に封じ込めることができる。また、また、複数の伸張領域E及び圧縮領域Cが互いに歪みの影響を受けあって、複雑に歪むことを抑制できる。
また、図3(b)に示すように、アライメントマークALを取り囲むように緩衝領域Bを形成してもよい。これによっても、伸張領域Eと圧縮領域Cに起因する歪みの影響がアライメントマークALに伝わらなくなる。
また、緩衝領域Bは必ずしも環状に形成する必要はない。図3(c)に示すように、複数の緩衝領域Bを組み合わせることで、伸張領域E及び圧縮領域Cに起因する歪みがアライメントマークALまで伝わらない(或いは伝わりづらくなる)ようにしてもよい。
なお、図3(b)において、アライメントマークALとは別に、マークAL´を緩衝領域Bの外部に(ショット領域SH内において)形成しておくことで、アライメントマークALの位置情報(アライメントマークALの設計値と実測値との差)を基準としてマークAL´の位置情報(マークAL´の設計値と実測値との差)を求め、かつ両差を比較する(両差の差を求める)ことで、ショット領域SH内の歪みを計測することができる。
そして、このマスクMを用いて感光基板Pを露光することで、感光基板P上の各ショット領域SHに、緩衝領域B、アライメントマークAL及び歪み計測マークDMが形成される。(図5のステップ204参照)
図4は、本発明の実施形態に係るアライメント処理及び露光処理を示すフローチャート図である。
まず、制御装置CONTは、露光処理の開始を指令する。次いで、制御装置CONTは、基板ステージPSTに対して感光基板Pを基板搬送系を用いて搬送し、この基板ステージPSTに搬送された感光基板Pに対してサーチアライメント処理を実行する(ステップS1)。
ここで、サーチアライメント処理とは、感光基板Pを基板ステージPSTで支持した状態で、感光基板Pに設けられている2つあるいは3つのサーチマークをアライメント装置50を所定倍率よりも低い計測倍率に設定した上で計測し、その計測結果に基づいて、後述するファインアライメント計測を行う際のステージ移動目標位置となる各サンプルショットの目標座標位置を演算上で補正する。
ここで、ファインアライメント処理とは、感光基板P上の複数のショット領域SHから選択される少なくとも3つのショット領域SH(サンプルショット領域)にそれぞれ付随したアライメントマークALの位置を、所定倍率よりも高倍率に設定されたアライメント装置50を介してそれぞれ検出する。また、ステップS2において、上述のサンプルショット領域内の歪み計測マークDMの位置計測をアライメント装置50を介して計測しておく。
EGA(エンハンスド・グローバル・アライメント)処理は、ステップS2の検出結果に基づいて、ショット領域SHの実際の位置と設計位置(またはその補正位置)とを用いた近似演算処理によって、感光基板P上の各ショット領域SHの位置を統計的に算出するものである。
そして、制御装置CONTは、EGA演算で求められた感光基板P上のショット領域SHとマスクMとを位置合わせする(ステップS5)。
そして、マスクMのパターンPAをショット領域SHに対して露光する(ステップS6)。
次に、未露光ショット領域があるか否かを判別し(ステップS7)、あればステップS5に戻り次の未露光ショット領域を露光位置に位置決めし(ステップS5)、上述した処理を繰り返す。一方、未露光ショット領域がない場合には、ステップS8に進む。
なお、上述したステップS4におけるディストーション補正は、各感光基板P毎に一度(先頭ショットの露光前)に行うようになっているが、本発明はこれに限らず、例えば、ステップS2において全ショット領域SH内の歪み計測マークDMを計測してあるような場合には、全ショット領域SH毎に行ってもよいし、或いはショット領域SHの配列毎(例えば、感光基板Pの中心近傍のショット領域と感光基板Pの周辺部のショット領域という区分け)に行うようにしてもよい。
ステップS7において、未露光の感光基板Pは無いと判断したら、制御装置CONTは、基板ステージPST上の露光処理済みの感光基板Pを基板搬送系を用いて搬送(アンロード)し、一連の処理を終了する。一方、ステップS8において、未露光の感光基板Pがあると判断したら、制御装置CONTは、基板ステージPST上の露光処理済みの感光基板Pを基板搬送系を用いて搬出(アンロード)するとともに、未露光の感光基板Pを基板ステージPSTに搬入(ロード)する(ステップS9)。
この際、各ショット領域SHに伸張領域E及び圧縮領域Cが存在する場合であっても、緩衝領域Bを設けることで、伸張領域E及び圧縮領域Cに起因する歪みがアライメントマークALに伝播していないようになっている。したがって、各ショット領域SHを高精度に計測することができ、延いては高精度に位置決めすることが可能となっている。
なお、上述した実施形態では、ステップS2において、歪み計測マークDMを検出して、露光対象のショット領域SHの形状(変形)を求める場合について説明したが、これに限らない。例えば、パイロットウエハに対してディストーション補正を行わずに露光処理を行うことで、予め重ね合わせ誤差を計測しておく。そして、ステップS2において、この計測結果に基づくディストーション補正のみを行うようにしてもよい。或いは、ステップS2における歪み計測マークDMの検出は、最初の一枚或いは所定枚数毎の感光基板Pでのみ行うようにしてもよい。
図5(a)は、あるショット領域SHの平面図であり、図5(b)は図5(a)の断面図である。
歪みレイヤーL1は、通常の(歪みレイヤーでない)レイヤー上に積層された状態となっている。ショット領域SH内には、歪みレイヤーL1上に形成されたアライメントマークAL1,AL2とは別に、別レイヤー(下層)に形成されているアライメントマークALD1,ALD2も、アライメント計測系で計測可能に配置されている。
このような状態において、ショット領域SHのアライメント計測は、下層のマークALD1,ALD2を計測することで行える。そして、歪みレイヤーL1上におけるショット領域SH内の歪みの計測は、下層であるマークALD1,ALD2を基準として上層(歪みレイヤーL1)に形成されているアライメントマークAL1,AL2の位置を計測すること、つまりマークALD1,ALD2の計測値と実測値との差を基準として、マークAL1,AL2の設計値と実測値との差を求め、両差を比較する(具体的には、両差の差分を得る)ことで、歪み量を求めることができる。
本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。
また、露光装置EXとしては、投影光学系PLと感光基板Pとの間に液体を配置しつつ、この液体を介して感光基板Pの露光を行う液浸型露光装置であってもよい。
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。
なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
SH…ショット領域
B…緩衝領域
C…圧縮領域
E…伸張領域
AL…アライメントマーク
DM…歪み計測マーク
M…マスク
PA…パターン
EX…露光装置
CONT…制御装置
50…アライメント装置
Claims (10)
- 基板上に複数のレイヤーを積層しつつ、所定レイヤー内の特定領域を局所的に歪ませながらデバイスパターンを形成するデバイス製造方法であって、
前記積層する方向と直交する方向において、前記特定領域とは異なる領域であり、前記基板上に形成された所定マークと前記特定領域との間に、前記特定領域に起因する歪みを緩和する緩衝領域を形成する工程を
含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 前記緩衝領域は、前記特定領域を取り囲むことを特徴とする請求項1に記載のデバイス製造方法。
- 前記緩衝領域は、前記特定領域を複数の領域に区分しつつ取り囲むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のデバイス製造方法。
- 前記緩衝領域は、前記所定マークを取り囲むことを特徴とする請求項1に記載のデバイス製造方法。
- 前記所定マークは、前記基板のアライメントを行う際に使用されるアライメントマークであり、
前記緩衝領域を、前記所定マークが形成されたレイヤーと同一のレイヤーに形成することを特徴とする請求項1又は請求項4に記載のデバイス製造方法。 - 前記所定マークは、前記デバイスパターンにおける前記特定領域の歪みの程度を計測するための歪み計測マークであり、
前記所定マークを、前記積層方向と直交する方向において、前記緩衝領域よりも前記特定領域側に形成することを特徴とする請求項1又は請求項4に記載のデバイス製造方法。 - 前記所定マークを、前記特定領域が形成されているレイヤーと同一のレイヤーに形成することを特徴とする請求項6に記載のデバイス製造方法。
- 前記緩衝領域は、少なくとも一つの堀り込みパターンを含むことを特徴とする請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
- 基板上に複数のレイヤーを積層しつつ、所定レイヤー内の特定領域を局所的に歪ませながらデバイスパターンを形成するリソグラフィー工程において使用されるマスクであって、
前記積層する方向と直交する方向において、前記特定領域とは異なる領域であり、前記基板上に形成された所定マークと前記特定領域との間に、前記特定領域に起因する歪みを緩和する緩衝領域を形成するためのパターンを有することを特徴とするマスク。 - 基板上に積層された複数のレイヤーと、該複数のレイヤーのうちの所定レイヤー内において局所的に歪まされた特定領域と、を有するデバイスであって、
前記積層する方向と直交する方向において、前記特定領域とは異なる領域であり、前記基板上に形成された所定マークと前記特定領域との間に、前記特定領域に起因する歪みを緩和する緩衝領域を有することを特徴とするデバイス。
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