JP4747603B2 - Method for manufacturing member for plasma display panel and plasma display using the same - Google Patents

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Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル用部材の製造方法およびプラズマディスプレイに関する。 The present invention relates to a manufacturing method and plasma display Lee plasma display panel member.

プラズマディスプレイパネル(以下PDPと称することがある)は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、また大型化が容易であることからOA機器および広報表示装置などの分野に浸透している。さらに、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。このような用途拡大に伴って、微細で多数の表示セルを有するカラーPDPが注目されている。   Plasma display panels (hereinafter sometimes referred to as PDPs) can display at a higher speed than liquid crystal panels, and are easy to increase in size, so that they have penetrated into fields such as OA equipment and public information display devices. . Furthermore, progress in the field of high-definition television is highly expected. Accompanying such expansion of applications, a fine color PDP having a large number of display cells has attracted attention.

PDPは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に備えられた放電空間内で電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を放電空間内の蛍光体に当てることにより表示を行うものである。代表的なPDPにおいては、前面ガラス基板は基板上に走査電極、維持電極、誘電体層を有し、背面ガラス基板は基板上にアドレス電極、誘電体層、隔壁、蛍光体層を有している。PDPの駆動は走査電極に走査パルスが順次印加され、このタイミングに合わせて、走査電極が対応する表示セルのアドレス電極に表示データに応じた走査パルスとは逆極性のデータパルスを印加して発光させ、維持電極に印加される維持パルスにより放電を維持する。   The PDP generates a plasma discharge between electrodes in a discharge space provided between a front glass substrate and a back glass substrate, and emits ultraviolet rays generated from the gas enclosed in the discharge space to fluoresce in the discharge space. The display is performed by touching the body. In a typical PDP, the front glass substrate has scan electrodes, sustain electrodes, and dielectric layers on the substrate, and the back glass substrate has address electrodes, dielectric layers, barrier ribs, and phosphor layers on the substrate. Yes. In driving the PDP, scan pulses are sequentially applied to the scan electrodes, and in accordance with this timing, data pulses having a polarity opposite to the scan pulse corresponding to the display data are applied to the address electrodes of the display cells corresponding to the scan electrodes. The discharge is maintained by the sustain pulse applied to the sustain electrode.

近年、PDPの高性能化のために蛍光体層と隔壁との間に白色顔料からなる反射層を設けること(例えば、特許文献1、2)、PDPの蛍光体周辺の不活性ガス純度を高くし、発光輝度を向上させるために基板から発生する水分、二酸化炭素を吸着するための白色の多孔質無機粉末からなるガス吸着層を設けること(例えば、特許文献3)などが提案されている。   In recent years, in order to improve the performance of PDP, a reflective layer made of a white pigment is provided between the phosphor layer and the barrier rib (for example, Patent Documents 1 and 2), and the purity of the inert gas around the PDP phosphor is increased. In order to improve light emission luminance, it has been proposed to provide a gas adsorption layer made of white porous inorganic powder for adsorbing moisture generated from the substrate and carbon dioxide (for example, Patent Document 3).

また、蛍光体層の上部に、PDPのプラズマ損傷による蛍光体の劣化(蛍光体表面のスパッタや変質)を回避し、長寿命なPDPを実現するために、酸化マグネシウムを含む化合物からなる蛍光体保護層を設けることも提案されている(例えば、特許文献4)。   Further, a phosphor made of a compound containing magnesium oxide is provided on the phosphor layer in order to avoid phosphor deterioration (sputtering or alteration of the phosphor surface) due to plasma damage of the PDP and to realize a long-life PDP. Providing a protective layer has also been proposed (for example, Patent Document 4).

しかしながら、蛍光体層と隔壁層との間に、白色無機粉末からなる反射層を設ける場合、反射層や蛍光体層は通常白色であるため、両層の欠陥は、パネルを組み立てて発光させてみるまでは発見できず、PDPの製造歩留まりが低下するという問題があった。また、蛍光体層上に蛍光体保護層を形成する場合でも、該層は通常酸化マグネシウムを含有するものであるので該蛍光体保護層も白色であり、欠陥を容易に確認する手段がなく、PDPを高歩留まりに製造することは困難であった。
このような問題を解決するために、蛍光体層を有機染料で着色することが知られている(特許文献5)。しかし、蛍光体粉末、特にPDP用の青色蛍光体粉末は熱劣化しやすいものであるため、劣化して輝度が低下する問題が指摘されている(非特許文献1)。すなわち、蛍光体層を形成するペーストが有機染料を含むものである場合、焼成工程において該有機染料が焼失する際の急激な発熱により蛍光体が劣化し、PDPの発光効率の低下を引き起こす。この傾向は特に青色の蛍光体において顕著であるので、色バランスを低下させるおそれがあった。
特許第3196665号公報 特許第2815012号公報 特開2002−324492号公報 特開2004−179099号公報 特開2000−104052号公報 J. Electrochem.(ジャーナル・オブ・ジィ・エレクトロケミカル・ソサイエティー),145,3903(1998)
However, when a reflective layer made of a white inorganic powder is provided between the phosphor layer and the barrier layer, the reflective layer and the phosphor layer are usually white. Until it was seen, it could not be found, and there was a problem that the production yield of PDP was lowered. Even when a phosphor protective layer is formed on the phosphor layer, since the layer usually contains magnesium oxide, the phosphor protective layer is also white, and there is no means for easily confirming defects. It has been difficult to produce a PDP with a high yield.
In order to solve such a problem, it is known that the phosphor layer is colored with an organic dye (Patent Document 5). However, since the phosphor powder, particularly the blue phosphor powder for PDP, is prone to thermal degradation, a problem has been pointed out that it deteriorates to lower the luminance (Non-patent Document 1). That is, when the paste forming the phosphor layer contains an organic dye, the phosphor deteriorates due to rapid heat generation when the organic dye is burned off in the firing step, causing a reduction in the luminous efficiency of the PDP. Since this tendency is particularly remarkable in a blue phosphor, the color balance may be lowered.
Japanese Patent No. 3196665 Japanese Patent No. 2815012 JP 2002-324492 A JP 2004-179099 A JP 2000-104052 A J. et al. Electrochem. (Journal of the Electrochemical Society), 145, 3903 (1998)

そこで、本発明は、上記従来技術に鑑みて、高歩留まりで、高品位なプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above-described prior art, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a high-quality, high-quality member for a plasma display panel.

本発明者らは、該蛍光体層以外の層を形成するために用いるペースト材料が蛍光体層に用いるペーストに対して光学的に識別可能であれば、前記の課題は解決でき、蛍光体(特に青色)の輝度劣化を生じることなく、PDPの高性能化と高歩留まりな製造を実現できることを究明した。すなわち、本発明の本旨とするところは、基板上に少なくとも電極と隔壁とが形成された部材に対して、前記隔壁側面および/または隔壁間に蛍光体層および蛍光体層以外の層を形成するに際して、これらの層はペースト材料を付与し、乾燥および/または焼成して形成すると共に、前記の蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストには、前記の蛍光体層の形成に用いるペーストとは異なる色に着色され、かつ酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、ジルコニア、酸化スズ、融点が620℃以上のガラス粉末、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、アルミナおよびシリカからなる群のうち少なくとも1種を含み、さらに有機染料および顔料から選ばれる着色剤を含むたペーストを用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法であり、また、種々の好ましい態様を提案するものである。 If the paste material used for forming layers other than the phosphor layer is optically distinguishable from the paste used for the phosphor layer, the present inventors can solve the above problem, and the phosphor ( It was found that high-performance and high-yield manufacturing of the PDP can be realized without causing any deterioration in luminance (especially blue). That is, the gist of the present invention is that a phosphor layer and a layer other than the phosphor layer are formed between the side wall and / or between the barrier ribs on a member having at least an electrode and barrier ribs formed on a substrate. At this time, these layers are formed by applying a paste material, drying and / or firing, and the paste used for forming the layers other than the phosphor layer includes a paste used for forming the phosphor layer and Are colored in different colors and are titanium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, barium oxide, magnesium oxide, calcium oxide, zirconia, tin oxide, glass powder having a melting point of 620 ° C. or higher, lithium fluoride, calcium fluoride, alumina and includes at least one selected from the group consisting of silica, the use of paste containing a coloring agent selected from the further organic dyes and pigments A method for manufacturing a plasma display panel member according to symptoms, also proposes various preferred embodiments.

本発明によれば、蛍光体の劣化が少なく、高品位のPDP用部材を高歩留まりで得ることができる。   According to the present invention, there is little deterioration of the phosphor, and a high-quality PDP member can be obtained with a high yield.

以下に、本発明をPDPの作製手順に沿って説明する。   Below, this invention is demonstrated along the preparation procedure of PDP.

本発明のプラズマディスプレイパネル用部材の製造に用いる基板としては、ソーダガラスの他にPDP用の熱変形や熱収縮が少ない高歪み点ガラスである旭硝子社製の“PD200”や日本電気硝子社製の“PP8”などを用いることができる。なお、材質としては耐熱性や寸法安定性があり、高い体積電気抵抗率を有するものであれば、ガラスに限定されるものではなく、セラミックや金属なども用いることができる。   As a substrate used for manufacturing the plasma display panel member of the present invention, in addition to soda glass, “PD200” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., which is a high strain point glass with little thermal deformation and thermal shrinkage for PDP, manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. “PP8” or the like can be used. Note that the material is not limited to glass as long as it has heat resistance and dimensional stability and has a high volume resistivity, and ceramic, metal, or the like can also be used.

該基板上に銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極を形成する。電極を形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストを電極パターン状にスクリーン印刷で印刷する方法や、有機バインダーとして感光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いて電極パターン状に露光を行い、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに、400〜600℃に加熱・焼成して電極パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロムやアルミニウム等の金属をスパッタリングした後に、レジストを塗布し、レジストを電極パターン状に露光し、現像した後にエッチングにより、不要な部分の金属を取り除くエッチング法を用いることができる。電極厚みは1〜10μmが好ましく、2〜5μmがより好ましい。電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要になり、コスト的に不利な傾向にある。アドレス電極の幅は好ましくは20〜200μm、より好ましくは30〜100μmである。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎると隣り合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル(画素の各RGBを形成する領域)に応じたピッチで形成される。通常のPDPでは100〜500μm、高精細PDPにおいては100〜250μmのピッチで形成するのが好ましい。   Address electrodes are formed on the substrate with a metal such as silver, aluminum, chromium, or nickel. As a method for forming an electrode, a metal paste mainly composed of these metal powders and an organic binder is printed in an electrode pattern by screen printing, or a photosensitive metal paste using a photosensitive organic component as an organic binder. A photosensitive paste method in which an electrode pattern is exposed to light using a photomask, unnecessary portions are dissolved and removed in a development process, and further heated and baked at 400 to 600 ° C. to form an electrode pattern. Can be used. Further, after sputtering a metal such as chromium or aluminum on a glass substrate, a resist is applied, the resist is exposed to an electrode pattern, and after development, an etching method is used to remove unnecessary portions of the metal by etching. it can. The electrode thickness is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 2 to 5 μm. If the electrode thickness is too thin, the resistance value tends to be large and accurate driving tends to be difficult. If it is too thick, a large amount of material is required, which tends to be disadvantageous in terms of cost. The width of the address electrode is preferably 20 to 200 μm, more preferably 30 to 100 μm. If the width of the address electrode is too thin, the resistance value tends to be high and accurate driving tends to be difficult, and if it is too thick, the distance between adjacent electrodes tends to be small, so that a short defect tends to occur. Further, the address electrodes are formed at a pitch corresponding to the display cell (region where each RGB of the pixel is formed). The pitch is preferably 100 to 500 μm for a normal PDP and 100 to 250 μm for a high definition PDP.

次いで必要に応じて誘電体層を形成する。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストをアドレス電極を覆うように塗布した後に、400〜600℃で焼成することにより形成できる。誘電体層の形成に用いるガラスペーストに使用するガラス粉末としては、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも1種類以上を含有し、ガラス粉末全体に対して、これらを20質量%以上とすることで600℃以下での焼成が容易になり、80質量%以下とすることで結晶化を防ぎ透過率の低下を防止することができる。用いることができる有機バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系化合物等を挙げることができる。また、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、メチルセルソルブ等の溶媒を用いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いることができる。ガラス粉末以外にフィラー成分を添加することにより、反射率が高く、輝度の高いPDPを得ることができる。フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が好ましく、中心粒子径(D50)0.05〜3μmの酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの含有量はガラス粉末:フィラーの比で、1:1〜10:1が好ましい。フィラーの含有量をガラス粉末の10分の1以上とすることで、輝度を向上させることができる。また、ガラス粉末の等量以下とすることで、焼結性を保つことができる。また、導電性微粒子を添加することにより駆動時の信頼性の高いPDPを作製することができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金属粉末が好ましく、その中心粒子径(D50)は1〜10μmが好ましい。1μm以上とすることで十分な効果を発揮でき、10μm以下とすることで誘電体上の凹凸を抑え隔壁形成を容易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体層に含まれる含有量としては、0.1〜10質量%が好ましい。0.1質量%以上とすることで実効を得ることができ、10質量%以下とすることで、隣り合うアドレス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の厚みは好ましくは3〜30μm、より好ましくは3〜15μmである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。誘電体層を形成するために用いるガラスペーストは上述したガラス粉末と有機バインダーなどの成分を混練して作製することができる。 Next, a dielectric layer is formed as necessary. The dielectric layer can be formed by applying a glass paste containing glass powder and an organic binder as main components so as to cover the address electrodes and then baking at 400 to 600 ° C. The glass powder used for the glass paste used for forming the dielectric layer contains at least one of lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide and phosphorus oxide, and these are 20% by mass or more based on the whole glass powder. By doing so, firing at 600 ° C. or less becomes easy, and by setting it to 80% by mass or less, crystallization can be prevented and a decrease in transmittance can be prevented. Examples of the organic binder that can be used include cellulose compounds such as ethyl cellulose and methyl cellulose, and acrylic compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, and isobutyl acrylate. Moreover, you may add additives, such as a solvent and a plasticizer. As the solvent, a solvent such as terpineol, butyrolactone, toluene, or methyl cellosolve can be used. As the plasticizer, dibutyl phthalate, diethyl phthalate, or the like can be used. By adding a filler component in addition to the glass powder, a PDP having a high reflectance and a high luminance can be obtained. As the filler, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide and the like are preferable, and it is particularly preferable to use titanium oxide having a center particle diameter (D 50 ) of 0.05 to 3 μm. The filler content is preferably a glass powder: filler ratio of 1: 1 to 10: 1. The brightness can be improved by setting the filler content to 1/10 or more of the glass powder. Moreover, sinterability can be maintained by setting it as below equal amount of glass powder. Further, by adding conductive fine particles, a PDP with high reliability during driving can be manufactured. The conductive fine particles are preferably metal powders such as nickel and chromium, and the center particle diameter (D 50 ) is preferably 1 to 10 μm. When the thickness is 1 μm or more, a sufficient effect can be exhibited, and when the thickness is 10 μm or less, unevenness on the dielectric can be suppressed and partition formation can be facilitated. As content in which these electroconductive fine particles are contained in a dielectric material layer, 0.1-10 mass% is preferable. Effectiveness can be obtained when the content is 0.1% by mass or more, and short-circuiting between adjacent address electrodes can be prevented when the content is 10% by mass or less. The thickness of the dielectric layer is preferably 3 to 30 μm, more preferably 3 to 15 μm. If the thickness of the dielectric layer is too thin, pinholes tend to occur frequently, and if it is too thick, the discharge voltage tends to be high and the power consumption tends to increase. The glass paste used to form the dielectric layer can be prepared by kneading the above-described glass powder and components such as an organic binder.

本発明にかかるプラズマディスプレイパネル用部材は、電極が形成された基板もしくは電極や誘電体層などが形成された基板に、放電セルを仕切るための隔壁が形成される。隔壁はアドレス電極に実質的に平行に設けられた主隔壁の他、補助隔壁を形成することができる。補助隔壁を形成することにより、補助隔壁の表面にも蛍光体層を形成することができ、発光面積を大きくとることができる。従って、紫外線が効率よく蛍光面に作用するため輝度を高めることが可能である。また、補助隔壁が存在することで、隔壁全体の結合面積が広くなり、部材の構造的強度が得られる。その結果、隔壁や補助隔壁の幅を小さくすることができ、表示セル部における放電容積を大きくすることができ、放電効率をさらによくすることができる。   In the member for a plasma display panel according to the present invention, a partition wall for partitioning discharge cells is formed on a substrate on which an electrode is formed or a substrate on which an electrode or a dielectric layer is formed. In addition to the main partition provided substantially parallel to the address electrode, the partition can form an auxiliary partition. By forming the auxiliary barrier rib, a phosphor layer can also be formed on the surface of the auxiliary barrier rib, and the light emitting area can be increased. Accordingly, it is possible to increase the luminance because the ultraviolet rays efficiently act on the phosphor screen. Further, the presence of the auxiliary partition wall increases the bonding area of the entire partition wall, and the structural strength of the member can be obtained. As a result, the width of the barrier ribs and auxiliary barrier ribs can be reduced, the discharge volume in the display cell portion can be increased, and the discharge efficiency can be further improved.

主隔壁の高さは、80μm〜200μmが適している。80μm以上とすることで蛍光体とスキャン電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化を防ぐことができる。また、200μm以下とすることで、十分な輝度を得ることができる。主隔壁のピッチ(P)は、100μm≦P≦500μmのものがよく用いられる。また、高精細プラズマディスプレイとしては、主隔壁のピッチ(P)が、100μm≦P≦250μmである。100μm以上とすることで放電空間を広くし十分な輝度を得ることができ、500μm以下とすることで画素の細かいきれいな映像表示ができる。250μm以下にすることにより、HDTV(ハイビジョン)レベルの美しい映像を表示することができる。主隔壁の幅(L)は、半値幅(隔壁の50%高さにおける幅)として10μm≦L≦50μmであることが好ましい。10μm以上とすることで強度を保ち、前面板と背面板を封着する際に破損が生じるのを防ぐことができる。また、50μm以下とすることで蛍光体層を形成できる領域を広くとることができ、高い輝度を得ることができる。   The height of the main partition wall is suitably 80 μm to 200 μm. By setting the thickness to 80 μm or more, the phosphor and the scan electrode can be prevented from being too close to each other, and the phosphor can be prevented from being deteriorated by discharge. Moreover, sufficient brightness | luminance can be obtained by setting it as 200 micrometers or less. The pitch (P) of the main partition walls is often 100 μm ≦ P ≦ 500 μm. In the high-definition plasma display, the main partition pitch (P) is 100 μm ≦ P ≦ 250 μm. By setting the thickness to 100 μm or more, the discharge space can be widened and sufficient luminance can be obtained, and by setting the thickness to 500 μm or less, a fine image with fine pixels can be displayed. By setting it to 250 μm or less, it is possible to display a beautiful video of HDTV (high definition) level. The width (L) of the main partition wall is preferably 10 μm ≦ L ≦ 50 μm as a half-value width (width at 50% height of the partition wall). By setting the thickness to 10 μm or more, strength can be maintained, and damage can be prevented from occurring when the front plate and the back plate are sealed. Moreover, the area | region which can form a fluorescent substance layer can be taken widely by setting it as 50 micrometers or less, and high brightness | luminance can be obtained.

補助隔壁の高さは、主隔壁の高さよりも低いことが好ましく、主隔壁の高さの1/2〜5/6の高さであることがより好ましい。補助隔壁の高さを主隔壁の高さの1/2以上とすることで、発光面積を広くとることができ、輝度を向上させることができる。また、主隔壁よりも低くすることで、蛍光体層の形成を容易に行うことができる。   The height of the auxiliary partition is preferably lower than the height of the main partition, and more preferably 1/2 to 5/6 of the height of the main partition. By setting the height of the auxiliary partition wall to ½ or more of the height of the main partition wall, the light emission area can be increased and the luminance can be improved. In addition, the phosphor layer can be easily formed by making it lower than the main barrier rib.

このような主隔壁および補助隔壁は、例えば、無機微粒子と感光性成分を含む有機成分からなる感光性ペーストを基材上に付与・乾燥し、隔壁のパターンを露光・現像した後に、焼成して形成できる。また、ガラスペーストをスクリーン印刷で印刷・乾燥し、この工程を多数回繰り返し、所定の高さにした後、焼成する方法、フォトリソ法で形成したサブトラティブマスク層を介してサンドブラストや液体ホーニングにより形成することもできる。   For example, the main partition wall and the auxiliary partition wall may be formed by applying and drying a photosensitive paste made of an organic component including inorganic fine particles and a photosensitive component on the substrate, exposing and developing the pattern of the partition walls, and then baking. Can be formed. In addition, glass paste is printed and dried by screen printing, this process is repeated many times, and after a predetermined height, it is fired, formed by sand blasting or liquid honing via a subtractive mask layer formed by photolithography You can also

本発明においては、こうして得られた、基板上に電極と、必要により誘電体層と、そして隔壁が少なくとも形成された部材に対して、蛍光体層と蛍光体層以外の層が隔壁側面および/または隔壁間に形成される。   In the present invention, the phosphor layer and the layer other than the phosphor layer are formed on the side surface of the barrier rib and / or the member having the electrode, the dielectric layer if necessary, and the barrier rib at least formed on the substrate. Alternatively, it is formed between the partition walls.

蛍光体層は、通常赤色、緑色、青色に発光する蛍光体をそれぞれに含有する3つの層を交互に配列して形成される。ここで、赤色の蛍光体層の厚みをTr、緑色の蛍光体層の厚みをTg、および、青色の蛍光体層の厚みをTbとしたとき、好ましく、
10μm≦Tr<Tb≦50μm
10μm≦Tg<Tb≦50μm
とすることで発光輝度の低い青色について、厚みを緑色、赤色よりも厚くするので、より色バランスに優れた(色温度の高い)プラズマディスプレイパネルを作製できる。蛍光体層の厚みとしては、10μm以上とすることで十分な輝度を得ることができる。また、50μm以下とすることで放電空間を広くとり高い輝度を得ることができる。なお、本発明において、蛍光体層は赤色、緑色、青色の三色の組み合わせに限定されるものではない。
蛍光体層は、蛍光体を有機バインダーおよび有機溶媒を主成分として作製した蛍光体ペーストを隔壁側面および/または隔壁間に付与して形成することができる。蛍光体ペーストを付与する方法としては、スクリーン印刷法、口金から蛍光体ペーストを吐出する方法、感光性ペースト法などが挙げられるが、この中でも口金から蛍光体ペーストを吐出する方法が簡便で、低コストでプラズマディスプレイ用部材が得られるので好ましい。
The phosphor layer is formed by alternately arranging three layers each containing phosphors that usually emit red, green, and blue light. Here, when the thickness of the red phosphor layer is Tr, the thickness of the green phosphor layer is Tg, and the thickness of the blue phosphor layer is Tb,
10 μm ≦ Tr <Tb ≦ 50 μm
10 μm ≦ Tg <Tb ≦ 50 μm
Thus, the thickness of the blue light emitting luminance is made thicker than that of green and red, so that a plasma display panel having a better color balance (high color temperature) can be produced. When the thickness of the phosphor layer is 10 μm or more, sufficient luminance can be obtained. Further, by setting the thickness to 50 μm or less, a wide discharge space can be obtained and high luminance can be obtained. In the present invention, the phosphor layer is not limited to a combination of three colors of red, green, and blue.
The phosphor layer can be formed by applying a phosphor paste prepared by using a phosphor as an organic binder and an organic solvent as main components, and between the side walls of the barrier ribs and / or between the barrier ribs. Examples of the method for applying the phosphor paste include a screen printing method, a method for ejecting the phosphor paste from the die, and a photosensitive paste method. Among these, the method for ejecting the phosphor paste from the die is simple and low. It is preferable because a member for plasma display can be obtained at low cost.

本発明において隔壁側面および/または隔壁間に形成する蛍光体層以外の層には、蛍光体層の下側若しくは上側に形成する場合がある。もちろん上下両側に形成することは差し支えない。また、それぞれについて、2種以上の層を形成することは差し支えない(この場合は、各層の形成において用いるペーストの色が異なるよう該ペーストが着色されることが好ましい。)。   In the present invention, layers other than the phosphor layer formed between the partition walls and / or between the partition walls may be formed below or above the phosphor layer. Of course, it can be formed on both the upper and lower sides. In addition, it is permissible to form two or more layers for each (in this case, the paste is preferably colored so that the color of the paste used in forming each layer is different).

蛍光体層の下側に形成する場合の例としては、発生した蛍光を視認される方向に反射するための反射層、基板から生じる水蒸気などを吸着するガス吸着層として形成する場合などがある。   Examples of the case where it is formed on the lower side of the phosphor layer include a case where it is formed as a reflection layer for reflecting generated fluorescence in a visually recognizable direction and a gas adsorption layer for adsorbing water vapor generated from the substrate.

このような反射層またはガス吸着層を形成するために用いるペーストとしては、通常少なくとも無機粉末、バインダー樹脂、溶剤を含んでいる。   The paste used to form such a reflective layer or gas adsorption layer usually contains at least an inorganic powder, a binder resin, and a solvent.

かかる無機粉末としては、酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化バリウム、酸化マグネシウム、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化スズ、融点が620℃以上のガラス粉末、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、アルミナ、シリカからなる群のうち少なくとも1種を含む無機粉末を好ましく用いることができる。その粒子径は、中心粒子径(D50)が0.05〜5μmの範囲内、最大粒子径が10μm以下である。より好ましくは、中心粒子径(D50)が0.1〜3μmの範囲内、最大粒子径が8μm以下である。中心粒子径、最大粒子径がこの範囲内であることで、平滑な表面が得られる。平均粒子径がこの範囲より大きい場合、表面凹凸が大きくなり、平均粒子径がこの範囲より小さい場合は、ペーストの流動特性が不良になり、塗布がスムーズに進行しない場合がある。 Examples of the inorganic powder include titanium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, barium oxide, magnesium oxide, zirconia, calcium oxide, tin oxide, glass powder having a melting point of 620 ° C. or higher, lithium fluoride, calcium fluoride, alumina, and silica. An inorganic powder containing at least one of the group can be preferably used. The particle diameter is such that the center particle diameter (D 50 ) is in the range of 0.05 to 5 μm, and the maximum particle diameter is 10 μm or less. More preferably, the center particle diameter (D 50 ) is in the range of 0.1 to 3 μm, and the maximum particle diameter is 8 μm or less. When the center particle size and the maximum particle size are within this range, a smooth surface can be obtained. When the average particle size is larger than this range, the surface irregularities become large. When the average particle size is smaller than this range, the flow characteristics of the paste may be poor, and the application may not proceed smoothly.

また、上記以外の無機粉末として、軟化点が350〜600℃のガラス粉末を用いることにより、反射層またはガス吸着層の緻密性を向上できる。軟化点として好ましくは、400〜550℃である。軟化点が350〜600℃のガラス粉末として、その組成として酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうち少なくとも1種を20〜90質量%含有するものは、軟化点、熱膨張係数のコントロールが容易な点で好ましく用いられる。これらの成分の含有量が90質量%を超えるとガラスの耐熱温度が低くなり、ガラス基板への焼き付けの点で好ましくなく、また、これらの含有量が20質量%未満では、焼き付け温度や軟化点を制御する効果が小さくなる傾向にある。このガラス粉末に含まれる他の成分としては、酸化珪素、酸化硼素、酸化ジルコニウム等を含有することも有効である。   Moreover, the denseness of a reflective layer or a gas adsorption layer can be improved by using a glass powder having a softening point of 350 to 600 ° C. as an inorganic powder other than the above. The softening point is preferably 400 to 550 ° C. As a glass powder having a softening point of 350 to 600 ° C., the composition containing 20 to 90% by mass of at least one of bismuth oxide, lead oxide, and zinc oxide as its composition is easy to control the softening point and the thermal expansion coefficient. It is preferably used in terms of points. When the content of these components exceeds 90% by mass, the heat-resistant temperature of the glass is lowered, which is not preferable in terms of baking onto a glass substrate, and when the content is less than 20% by mass, the baking temperature and the softening point are not achieved. The control effect tends to be small. It is also effective to contain silicon oxide, boron oxide, zirconium oxide, etc. as other components contained in this glass powder.

酸化珪素は、ガラス粉末中その組成として5〜40質量%の範囲内で含むことが好ましい。5質量%未満の場合は蛍光体層下側に形成された層(例えば、反射層またはガス吸着層)の緻密性、強度や安定性が低下し、熱膨張係数が好ましい範囲から外れ、ガラス基板と熱膨張係数のミスマッチをおこし、基板の撓み、形成された層のひび割れ等の欠陥を起こすことがある。40質量%を超えると軟化点やガラス転移点が上昇し、緻密な層として形成することが困難となり、また、気泡が残留し、電気絶縁性が低下する傾向がある。   It is preferable that silicon oxide is contained in the range of 5-40 mass% as a composition in glass powder. If it is less than 5% by mass, the denseness, strength and stability of the layer formed below the phosphor layer (for example, the reflective layer or the gas adsorbing layer) are lowered, and the thermal expansion coefficient is out of the preferred range. And thermal expansion coefficient mismatch, which may cause defects such as bending of the substrate and cracking of the formed layer. If it exceeds 40% by mass, the softening point and glass transition point will rise, making it difficult to form a dense layer, and bubbles will remain, which tends to lower the electrical insulation.

酸化硼素は、ガラス粉末中その組成として5〜30質量%の範囲内で含むことが好ましい。この範囲内とすることによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上できる。30質量%を超えるとガラスの安定性が低下する傾向がある。   Boron oxide is preferably contained in the glass powder in the range of 5 to 30% by mass as its composition. By setting it within this range, electrical, mechanical and thermal characteristics such as electrical insulation, strength, thermal expansion coefficient, and denseness can be improved. If it exceeds 30% by mass, the stability of the glass tends to decrease.

酸化ジルコニウムは、ガラス粉末中その組成として3〜10質量%の範囲内で含むことが好ましい。かかる範囲で酸化ジルコニウムを含むことによって蛍光体層下側に形成された層(例えば、反射層またはガス吸着層)の耐酸性を向上できるため、ガラスペーストの貯蔵安定性を向上できる。3質量%未満では貯蔵安定性を向上する効果が小さく、10質量%を超えると該層を緻密な層として形成することが困難となり、また、ガラス基板への焼き付けが難しくなる。   Zirconium oxide is preferably contained in the glass powder in the range of 3 to 10% by mass as its composition. By including zirconium oxide in such a range, the acid resistance of a layer (for example, a reflective layer or a gas adsorption layer) formed under the phosphor layer can be improved, so that the storage stability of the glass paste can be improved. If it is less than 3% by mass, the effect of improving the storage stability is small, and if it exceeds 10% by mass, it becomes difficult to form the layer as a dense layer, and baking onto a glass substrate becomes difficult.

ガラス粉末には、上記以外にも必要に応じて酸化リン、酸化リチウム、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどを含むこともできる。   In addition to the above, the glass powder may contain phosphorus oxide, lithium oxide, potassium oxide, sodium oxide, barium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, and the like as necessary.

バインダー樹脂としては、基材に付与可能な程度に前記の無機粉末との混和が可能であり、基材に付与するときの流動性に問題が無く、また、基材に付与したときの保形性に問題がないものであれば、特に制限はないが、焼成した後に、炭素を含む物質が残存しないことが好ましく、具体的には、エチルセルロース、メチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロース系樹脂、または、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ノルマルブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルメチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシルエチル(メタ)アクリレート等の重合体もしくは共重合体からなるアクリル樹脂、ポリ−α−メチルスルホン、ポリビニルアルコール、ポリブテン等が挙げられる。   As the binder resin, it can be mixed with the inorganic powder to the extent that it can be applied to the substrate, there is no problem in fluidity when applied to the substrate, and the shape retention when applied to the substrate. As long as there is no problem in properties, there is no particular limitation, but it is preferable that no carbon-containing substance remains after firing. Specifically, ethyl cellulose, methyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose propionate , Cellulose resins such as cellulose butyrate, hydroxypropyl cellulose, or methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, normal butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, 2-ethyl Methyl (meth) acrylate, 2-hydroxylethyl Acrylic resin comprising a polymer or copolymer of meth) acrylate, poly -α- methyl sulfone, polyvinyl alcohol, polybutene, and the like.

有機溶剤としては、前記のバインダー樹脂を溶解ないし分散するものであれば特に限定されないが、例えば、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、テルピネオール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコール−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール−n−プロピルエーテル、プロピレングリコール−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート、ジプロピレングリコール−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコール−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等とイソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール、第二ブチルアルコール、イソブチルアルコール、3−ペンタノール、n−ブチルアルコール、第二ブチルアルコール、イソアミルアルコール、メチルアミルアルコール、n−アミルアルコール、メチルn−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン、ジエチルセロソルブ、n−ブチルエーテル、酢酸イソプロピル、酢酸n−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチル、炭酸ジエチル、酢酸イソアミル、酢酸メチルセロソルブ、酢酸メチルアミル、乳酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、2−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、γ−ブチルラクトンなどが挙げられる。   The organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves or disperses the binder resin. For example, diethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol mono- 2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, 2-ethyl-1,3-hexanediol, terpineol, propylene glycol methyl ether, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol methyl ether, propylene glycol-n-propyl ether , Dipropylene glycol-n-propyl ether, propylene glycol-n Butyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol phenyl ether, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentane Diol diisobutyrate, dipropylene glycol-n-butyl ether, tripropylene glycol-n-butyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether and the like and isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, sec-butyl alcohol, isobutyl alcohol, 3-pentanol, n- Butyl alcohol, sec-butyl alcohol, isoamyl alcohol, methyl amyl alcohol, n-amyl alcohol, methyl n-butyl ether, 1,4-dioxa , Diethyl cellosolve, n-butyl ether, isopropyl acetate, n-propyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, diethyl carbonate, isoamyl acetate, methyl cellosolve acetate, methyl amyl acetate, ethyl lactate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol propyl ether, Examples include 2-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, and γ-butyllactone.

また、蛍光体層の上側に形成する場合の例としては、放電空間内に発生する放電から蛍光体を保護する蛍光体保護層として形成する場合などがある。   Moreover, as an example in the case of forming on the upper side of the phosphor layer, there is a case in which it is formed as a phosphor protective layer that protects the phosphor from the discharge generated in the discharge space.

このような蛍光体保護層を形成するために用いるペーストとしては、通常少なくとも無機粉末、バインダー樹脂、溶剤を含んでいる。   The paste used for forming such a phosphor protective layer usually contains at least an inorganic powder, a binder resin, and a solvent.

かかる無機粉末としては、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウムおよびフッ化リチウムなどを挙げることができる。その粒子径は、中心粒子径(D50)が0.05〜5μmの範囲内、最大粒子径が10μm以下である。より好ましくは、中心粒子径(D50)が0.1〜3μmの範囲内、最大粒子径が8μm以下である。中心粒子径、最大粒子径がこの範囲内であることで、平滑な表面が得られる。最大粒子径がこの範囲より大きい場合、表面凹凸が大きくなり、中心粒子径がこの範囲より小さい場合は、ペーストの流動特性が不良になり、付与時に問題になる場合がある。 Examples of the inorganic powder include magnesium oxide, calcium oxide, calcium fluoride, and lithium fluoride. The particle diameter is such that the center particle diameter (D 50 ) is in the range of 0.05 to 5 μm, and the maximum particle diameter is 10 μm or less. More preferably, the center particle diameter (D 50 ) is in the range of 0.1 to 3 μm, and the maximum particle diameter is 8 μm or less. When the center particle size and the maximum particle size are within this range, a smooth surface can be obtained. When the maximum particle size is larger than this range, the surface unevenness becomes large, and when the center particle size is smaller than this range, the flow characteristics of the paste become poor, which may cause a problem during application.

また、上記の無機粉末以外に、軟化点が350〜600℃のガラス粉末を含有させることにより、蛍光体保護層の緻密性を向上できる。好ましくは、軟化点が400〜550℃である。軟化点が350〜600℃のガラス粉末としては、その組成として酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうち少なくとも1種を20〜90質量%含有するものであることが、軟化点、熱膨張係数のコントロールが容易な点で好ましく挙げられる。これらの成分の含有量が90質量%を超えるとガラスの耐熱温度が低くなり、ガラス基板への焼き付けの点で好ましくなく、また、これらの含有量が20質量%未満では、焼き付け温度や軟化点を制御するのに効果が少なくなる。このガラス粉末に含まれる他の成分として、酸化珪素、酸化硼素、酸化ジルコニウム等を含有することも有効である。   Moreover, the denseness of a fluorescent substance protective layer can be improved by containing glass powder with a softening point of 350-600 degreeC other than said inorganic powder. Preferably, the softening point is 400 to 550 ° C. The glass powder having a softening point of 350 to 600 ° C. contains 20 to 90% by mass of at least one of bismuth oxide, lead oxide, and zinc oxide as its composition. It is preferably mentioned in terms of easy control. When the content of these components exceeds 90% by mass, the heat-resistant temperature of the glass is lowered, which is not preferable in terms of baking onto a glass substrate, and when the content is less than 20% by mass, the baking temperature and the softening point are not achieved. It is less effective to control. It is also effective to contain silicon oxide, boron oxide, zirconium oxide, etc. as other components contained in this glass powder.

酸化珪素は、ガラス粉末中その組成として5〜40質量%の範囲内で含むことが好ましい。5質量%未満の場合は蛍光体層上側に形成された層(例えば、蛍光体保護層)の緻密性、強度や安定性が低下し、ガラス基板と熱膨張係数のミスマッチをおこし、基板の撓み、形成された層のひび割れ等の欠陥を起こすことがある。40質量%を超えると軟化点やガラス転移点が上昇し緻密な層として形成することが困難となり、また、気泡が残留し、電気絶縁性が低下する傾向がある。   It is preferable that silicon oxide is contained in the range of 5-40 mass% as a composition in glass powder. If the amount is less than 5% by mass, the denseness, strength and stability of the layer formed on the upper side of the phosphor layer (for example, the phosphor protective layer) will be reduced, causing a mismatch between the glass substrate and the coefficient of thermal expansion, and bending the substrate. Defects such as cracks in the formed layer may occur. If it exceeds 40% by mass, the softening point and glass transition point will rise and it will be difficult to form a dense layer, and bubbles will remain and electrical insulation will tend to be reduced.

酸化硼素は、ガラス粉末中その組成として5〜30質量%の範囲内で含むことが好ましい。この範囲内とすることによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上できる。30質量%を超えるとガラスの安定性が低下する傾向がある。   Boron oxide is preferably contained in the glass powder in the range of 5 to 30% by mass as its composition. By setting it within this range, electrical, mechanical and thermal characteristics such as electrical insulation, strength, thermal expansion coefficient, and denseness can be improved. If it exceeds 30% by mass, the stability of the glass tends to decrease.

酸化ジルコニウムは、ガラス粉末中素の組成として3〜10質量%の範囲内で含むことが好ましい。かかる範囲で酸化ジルコニウムを含むことによって蛍光体層上側に形成された層(例えば、蛍光体保護層)の耐酸性を向上できるため、ガラスペーストの貯蔵安定性を向上できる。3質量%未満では貯蔵安定性を向上する効果が小さく、10質量%を超えると該層を緻密な層として形成することが困難となり、また、ガラス基板への焼き付けが難しくなる。   Zirconium oxide is preferably contained in the range of 3 to 10% by mass as the composition of the element in the glass powder. By including zirconium oxide in such a range, the acid resistance of a layer (for example, phosphor protective layer) formed on the upper side of the phosphor layer can be improved, so that the storage stability of the glass paste can be improved. If it is less than 3% by mass, the effect of improving the storage stability is small, and if it exceeds 10% by mass, it becomes difficult to form the layer as a dense layer, and baking onto a glass substrate becomes difficult.

ガラス粉末には、上記以外にも必要に応じて酸化リン、酸化リチウム、酸化カリウム、酸化ナトリウム、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどを含むこともできる。   In addition to the above, the glass powder may contain phosphorus oxide, lithium oxide, potassium oxide, sodium oxide, barium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, and the like as necessary.

バインダー樹脂は、基材に付与可能な程度に前記の無機粉末との混和が可能であり、基材に付与するときの流動性に問題が無く、また、基材に付与したときの保形性に問題がないものであれば、特に制限はないが、焼成時した後に、無機物中に炭素を含有する物質が残存しないことが好ましく、具体的には、エチルセルロース、メチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロース系樹脂、または、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ノルマルブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルメチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシルエチル(メタ)アクリレート等の重合体もしくは共重合体からなるアクリル樹脂、ポリ−α−メチルスルホン、ポリビニルアルコール、ポリブテン等が挙げられる。   The binder resin can be mixed with the inorganic powder to the extent that it can be applied to the substrate, there is no problem with the fluidity when applied to the substrate, and the shape retention when applied to the substrate. If there is no problem, there is no particular limitation, but after firing, it is preferable that the carbon-containing substance does not remain in the inorganic material, specifically, ethyl cellulose, methyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, Cellulose resins such as cellulose propionate, cellulose butyrate, hydroxypropyl cellulose, or methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, normal butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate 2-ethylmethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy Ruechiru (meth) acrylate polymer or copolymer made of acrylic resin, polymethyl -α- methyl sulfone, polyvinyl alcohol, polybutene, and the like.

有機溶剤としては、前記のバインダー樹脂を溶解するものであれば、特に限定されないが、例えば、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、テルピネオール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコール−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール−n−プロピルエーテル、プロピレングリコール−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート、ジプロピレングリコール−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコール−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等とイソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール、第二ブチルアルコール、イソブチルアルコール、3−ペンタノール、n−ブチルアルコール、第二ブチルアルコール、イソアミルアルコール、メチルアミルアルコール、n−アミルアルコール、メチルn−ブチルエーテル、1,4−ジオキサン、ジエチルセロソルブ、n−ブチルエーテル、酢酸イソプロピル、酢酸n−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチル、炭酸ジエチル、酢酸イソアミル、酢酸メチルセロソルブ、酢酸メチルアミル、乳酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、2−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、γ−ブチルラクトンなどが挙げられる。   The organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves the binder resin. For example, diethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol mono-2 -Ethylhexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, 2-ethyl-1,3-hexanediol, terpineol, propylene glycol methyl ether, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol methyl ether, propylene glycol-n-propyl ether, Dipropylene glycol-n-propyl ether, propylene glycol-n-butyl Ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol phenyl ether, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentane Diol diisobutyrate, dipropylene glycol-n-butyl ether, tripropylene glycol-n-butyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether and the like and isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, sec-butyl alcohol, isobutyl alcohol, 3-pentanol, n- Butyl alcohol, sec-butyl alcohol, isoamyl alcohol, methyl amyl alcohol, n-amyl alcohol, methyl n-butyl ether, 1,4-dioxane, die Lucerosolve, n-butyl ether, isopropyl acetate, n-propyl acetate, isobutyl acetate, n-butyl acetate, diethyl carbonate, isoamyl acetate, methyl cellosolve acetate, methyl amyl acetate, ethyl lactate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol propyl ether, 2- Examples include hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, and γ-butyllactone.

本発明においては、蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストは、蛍光体層の形成に用いるペーストとは異なる色に着色されている。ペーストを着色する方法としては、先述の無機粉末やバインダー樹脂や溶剤を少なくとも含むペーストに更に着色剤を加えることによって行うことができる。着色剤としては有機染料や顔料などが挙げられる。   In the present invention, the paste used for forming layers other than the phosphor layer is colored in a different color from the paste used for forming the phosphor layer. The paste can be colored by adding a colorant to the paste containing at least the above-described inorganic powder, binder resin and solvent. Examples of the colorant include organic dyes and pigments.

有機染料としては、蛍光体層の形成に用いるペーストに対して光学的に識別可能な程度に着色できるものであれば特に限定されないが、可視光線下で識別可能であることが好ましく、また、焼成後には残存しないものが好ましい。例えば、次のような条件で測定した500℃での重量保持率が1質量%以下のものを用いることが好ましい。この重量保持率は熱重量測定装置(「TGA50」:島津製作所社製)を用いて、空気雰囲気下(流量:20ml/分)、10℃/分で30℃から500℃まで昇温し、各温度での重量を測定する。30℃の時の重量に対する500℃到達時の重量との比((30℃の時の重量)/(500℃到達時の重量)×100(%))を求めることで500℃での重量保持率を算出する。この重量保持率が1%以下であるものを用いることで、焼成残さを低減し、異常放電や輝度低下といったディスプレイの信頼性を低下させる問題を抑制することができる。500℃での重量保持率として、好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.2%以下である。   The organic dye is not particularly limited as long as it can be colored so as to be optically distinguishable with respect to the paste used for forming the phosphor layer, but is preferably identifiable under visible light, Those that do not remain after are preferred. For example, it is preferable to use a material having a weight retention at 500 ° C. of 1% by mass or less measured under the following conditions. This weight retention rate was raised from 30 ° C. to 500 ° C. at 10 ° C./min under an air atmosphere (flow rate: 20 ml / min) using a thermogravimetric measuring device (“TGA50” manufactured by Shimadzu Corporation). Measure the weight at temperature. Weight retention at 500 ° C. by determining the ratio ((weight at 30 ° C.) / (Weight at 500 ° C.) × 100 (%)) of weight at 500 ° C. to weight at 30 ° C. Calculate the rate. By using a material having a weight retention of 1% or less, it is possible to reduce firing residue and to suppress problems such as abnormal discharge and reduced brightness such as abnormal discharge. The weight retention at 500 ° C. is preferably 0.5% or less, more preferably 0.2% or less.

有機染料の具体例としてはニトロおよびニトロソ染料、アゾ染料、アントラキノン系染料、インジゴイド染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、キノリン染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、フタルイシド染料、ペリノン染料などが挙げられる。500℃での重量保持率が1%以下になる点から好ましく、ニトロおよびニトロソ染料、アゾ染料、インジゴイド染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、メチン染料から選ばれる少なくとも1種を用いることができる。   Specific examples of organic dyes include nitro and nitroso dyes, azo dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, quinoline dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, phthalicid dyes, and perinone dyes. Can be mentioned. It is preferable from the point that the weight retention at 500 ° C. is 1% or less, and at least one selected from nitro and nitroso dyes, azo dyes, indigoid dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, and methine dyes can be used.

有機染料を焼成後に残存しないようするためには、できるだけ少ない量用いることが好ましいが、画像検査装置で、欠陥を検出するためには、蛍光体ペーストを付与し、乾燥した膜と、蛍光体層以外の層の形成に用いる蛍光体の形成に用いるペーストとは異なる色に着色されたペーストを付与し、乾燥した膜において、これらの膜のL表色系色座標から求めた色差(ΔE ab)が以下の条件を満たすように添加することが好ましい。すなわち、
ΔE ab=[(ΔL+(Δa+(Δb1/2>1.5
であり、より好ましくは、
ΔE ab=[(ΔL+(Δa+(Δb1/2>6.0
である。
In order to prevent the organic dye from remaining after firing, it is preferable to use as small an amount as possible. However, in order to detect defects in an image inspection apparatus, a phosphor paste is applied, a dried film, and a phosphor layer A paste colored in a color different from that of the paste used to form the phosphor used to form the layers other than the above was applied, and the dried films were obtained from the L * a * b * color system color coordinates of these films. The color difference (ΔE * ab ) is preferably added so as to satisfy the following conditions. That is,
ΔE * ab = [(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 ] 1/2 > 1.5
And more preferably
ΔE * ab = [(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 ] 1/2 > 6.0
It is.

ここで、ΔL*、Δa*、Δb*はそれぞれ、蛍光体層形成用のペーストの付与・乾燥後の膜のL*値、a*値、b*値と、蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜のL*値、a*値、b*値との差をあらわすものである。すなわち、
ΔL*=L*値(蛍光体層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜)−L*値(蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜)、
Δa*=a*値(蛍光体層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜)−a*値(蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜)、
Δb*=b*値(蛍光体層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜)−b*値(蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜)、である。
Here, ΔL *, Δa *, and Δb * are the L * value, a * value, and b * value of the film after applying and drying the paste for forming the phosphor layer, and the formation of layers other than the phosphor layer, respectively. This represents the difference between the L * value, a * value, and b * value of the film after application and drying of the paste used in the above. That is,
ΔL * = L * value (film after application / drying of paste used for forming phosphor layer) −L * value (film after application / drying of paste used for forming layers other than phosphor layer),
Δa * = a * value (film after application / drying of paste used to form phosphor layer) −a * value (film after application / drying of paste used to form layers other than phosphor layer),
Δb * = b * value (film after application / drying of paste used for forming phosphor layer) −b * value (film after application / drying of paste used for forming layers other than phosphor layer) .

かかる蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストを隔壁側面および/または隔壁間に付与する方法としては、スクリーン印刷法、口金から蛍光体ペーストを吐出する方法などが挙げられるが、口金から蛍光体ペーストを吐出する方法、特に、ディスペンサーにより塗布する方法が簡便であり好ましい。   Examples of a method for applying a paste used for forming a layer other than the phosphor layer to the side surfaces of the partition walls and / or between the partition walls include a screen printing method, a method of discharging the phosphor paste from the base, and the like. A method of discharging a paste, particularly a method of applying with a dispenser is simple and preferable.

本発明にかかる隔壁壁面および/または隔壁間に形成する蛍光体層以外の層の厚みとしては、特に制限はないが、反射層またはガス吸着層など蛍光体層の下部に形成する場合は、1〜50μmであることが好ましく、より好ましくは1〜15μmである。かかる範囲とすることで、蛍光体層に影響を及ぼすことなく、所望の効果を得ることができる。蛍光体保護層など蛍光体層の上部に形成する場合は、その膜厚としては、1〜20μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは1〜5μmである。かかる範囲とすることで、蛍光体の発光を十分な強度で透過させるとともに、効果的に蛍光体層を保護する等の効果を得ることができる。   The thickness of the layers other than the phosphor layer formed between the partition wall surface and / or the partition wall according to the present invention is not particularly limited, but when it is formed below the phosphor layer such as a reflective layer or a gas adsorption layer, It is preferable that it is -50 micrometers, More preferably, it is 1-15 micrometers. By setting it as this range, a desired effect can be acquired, without affecting a fluorescent substance layer. When formed on the top of a phosphor layer such as a phosphor protective layer, the thickness thereof is preferably in the range of 1 to 20 μm, more preferably 1 to 5 μm. By setting it as this range, while transmitting the light emission of fluorescent substance with sufficient intensity | strength, effects, such as protecting a fluorescent substance layer effectively, can be acquired.

蛍光体層以外の層および蛍光体層は、それぞれ、該層の形成に用いる層を付与した後、乾燥および/または焼成して形成される。この乾燥および/または焼成は、これらの層を付与した後に一緒に行っても良く、あるいは、別個に行っても良い。乾燥は溶媒を十分に除くことができる程度であれば、十分であり、通常該溶媒の沸点の−50℃〜+50℃の範囲で行う。また、焼成条件としては例えば、400℃から550℃ないし600℃で行うことが挙げられる。   The layers other than the phosphor layer and the phosphor layer are formed by applying a layer used for forming the layer and then drying and / or firing. This drying and / or calcination may be performed together after applying these layers, or may be performed separately. Drying is sufficient as long as the solvent can be sufficiently removed, and is usually performed in the range of −50 ° C. to + 50 ° C. of the boiling point of the solvent. Examples of the firing conditions include a temperature of 400 ° C. to 550 ° C. to 600 ° C.

このプラズマディスプレイ用部材は、他の面を形成する部材と封着後、これら部材間に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入し、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。本発明のプラズマディスプレイ用部材を背面板として用いた場合は、他の面を形成する部材(つまり前面板)は、例えば、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護膜(MgO)を形成された部材である。   This plasma display member is sealed with a member that forms another surface, and then a discharge gas composed of helium, neon, xenon, etc. is sealed in a space formed between these members, and a drive circuit is mounted. Can produce plasma displays. When the plasma display member of the present invention is used as a back plate, a member forming another surface (that is, a front plate) is, for example, a transparent electrode, a bus electrode, a dielectric, a protective film in a predetermined pattern on the substrate. It is a member formed with (MgO).

本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法にあっては、上述した、電極層、誘電体層、隔壁、隔壁側面および/または隔壁間に形成される蛍光体層および蛍光体層以外の層の他に、カラーフィルター層やブラックストライプなどの他の構成を形成しても良い。カラーフィルター層を形成することで色再現性が良好となり、ブラックストライプを形成することでコントラストの向上をはかることができる。   In the method for producing a member for a plasma display according to the present invention, the electrode layer, the dielectric layer, the barrier rib, the side wall of the barrier rib, and / or the layers other than the phosphor layer formed between the barrier ribs and / or the barrier ribs. In addition, other configurations such as a color filter layer and a black stripe may be formed. The color reproducibility is improved by forming the color filter layer, and the contrast can be improved by forming the black stripe.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples.

実施例1
まず前面板を作製した。旭硝子社製ガラス基板PD200上に、酸化インジウムスズ(ITO)を用いて、ピッチ375μm、線幅150μmのスキャン電極を形成した。また、その基板上に感光性銀ペーストを塗布した後に、フォトマスクを介したマスク露光、0.3質量%炭酸ナトリウム水溶液を用いた現像、580℃で15分間の焼成工程を経て、線幅50μm、厚み3μmのバス電極を形成した。
Example 1
First, a front plate was produced. A scan electrode having a pitch of 375 μm and a line width of 150 μm was formed on a glass substrate PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. using indium tin oxide (ITO). Further, after applying a photosensitive silver paste on the substrate, mask exposure through a photomask, development using a 0.3 mass% sodium carbonate aqueous solution, and a baking process at 580 ° C. for 15 minutes, a line width of 50 μm. A bus electrode having a thickness of 3 μm was formed.

次に、酸化鉛を75質量%含有する低融点ガラスの粉末を70質量%、エチルセルロース20質量%、テルピネオール10質量%を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように50μmの厚みで塗布した後に、570℃で15分間の焼成を行って前面誘電体層を形成した。   Next, a glass paste obtained by kneading 70% by mass of a low-melting glass powder containing 75% by mass of lead oxide, 20% by mass of ethyl cellulose, and 10% by mass of terpineol is screen-printed to obtain a bus electrode for the display portion. After coating to a thickness of 50 μm, firing was performed at 570 ° C. for 15 minutes to form a front dielectric layer.

誘電体層を形成した基板上に電子ビーム蒸着により保護膜として、厚み0.5μmの酸化マグネシウム層を形成して前面板を作製した。   A front plate was prepared by forming a 0.5 μm thick magnesium oxide layer as a protective film by electron beam evaporation on the substrate on which the dielectric layer was formed.

次に、背面板を作製した。先述のガラス基板PD200上に感光性銀ペースト用いてアドレス電極を作成した。感光性銀ペーストを塗布、乾燥、露光、現像、焼成工程を経て、線幅50μm、厚み3μm、ピッチ250μmのアドレス電極を形成した。   Next, a back plate was produced. Address electrodes were formed on the glass substrate PD200 described above using a photosensitive silver paste. A photosensitive silver paste was applied, dried, exposed, developed, and baked to form address electrodes having a line width of 50 μm, a thickness of 3 μm, and a pitch of 250 μm.

次に、酸化ビスマスを75質量%含有する低融点ガラスの粉末を60質量%、中心粒子径(D50)0.3μmの酸化チタン粉末を10質量%、エチルセルロース15質量%、テルピネオール15質量%を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のアドレス電極が覆われるように50μmの厚みで塗布した後に、570℃で15分間の焼成を行って誘電体層を形成した。 Next, 60% by mass of low melting point glass powder containing 75% by mass of bismuth oxide, 10% by mass of titanium oxide powder having a center particle diameter (D 50 ) of 0.3 μm, 15% by mass of ethyl cellulose, and 15% by mass of terpineol. The glass paste obtained by kneading was applied with a thickness of 50 μm by screen printing so as to cover the address electrodes of the display portion, and then baked at 570 ° C. for 15 minutes to form a dielectric layer.

誘電体層上に、1層目の感光性ペーストを塗布した。感光性ペーストはガラス粉末と感光性成分を含む有機成分から構成され、ガラス粉末として、酸化リチウム10質量%、酸化珪素25質量%、酸化硼素30質量%、酸化亜鉛15質量%、酸化アルミニウム5質量%、酸化カルシウム15質量%からなる組成のガラスを粉砕した中心粒子径(D50)2μmのガラス粉末を用いた。感光性成分を含む有機成分として、アクリルポリマー(APX−714、東レ社製)30質量%、トリメチロールプロパントリアクリレート30質量%、光重合開始剤である“イルガキュア369”(チバ・スペシャリティケミカルズ社製)10質量%、γ−ブチロラクトン30質量%からなるものを用いた。 A first photosensitive paste was applied on the dielectric layer. The photosensitive paste is composed of glass powder and an organic component containing a photosensitive component. As glass powder, lithium oxide 10% by mass, silicon oxide 25% by mass, boron oxide 30% by mass, zinc oxide 15% by mass, aluminum oxide 5% by mass. %, And a glass powder having a center particle diameter (D 50 ) of 2 μm obtained by pulverizing glass having a composition of 15% by mass of calcium oxide. As an organic component containing a photosensitive component, acrylic polymer (APX-714, manufactured by Toray Industries, Inc.) 30% by mass, trimethylolpropane triacrylate 30% by mass, “Irgacure 369” (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator ) 10% by mass and 30% by mass of γ-butyrolactone were used.

感光性ペーストは、これらのガラス粉末と感光性成分を含む有機成分をそれぞれ70:30の質量比率で混合した後に、ロールミルで混練して作製した。次にこの感光性ペーストをダイコーターを用いて乾燥後厚み90μmになるように塗布した。乾燥は、クリーンオーブン(ヤマト科学社製)を用いて行った。   The photosensitive paste was prepared by mixing the glass powder and the organic component containing the photosensitive component at a mass ratio of 70:30, and then kneading them with a roll mill. Next, this photosensitive paste was applied to a thickness of 90 μm after drying using a die coater. Drying was performed using a clean oven (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.).

乾燥後、ピッチ250μm、線幅30μmのストライプパターンを有するフォトマスクを用いて、ストライプパターンがアドレス電極とは垂直方向になるように露光した。   After drying, exposure was performed using a photomask having a stripe pattern with a pitch of 250 μm and a line width of 30 μm so that the stripe pattern was perpendicular to the address electrodes.

露光後さらに、上記感光性ペーストを塗布、乾燥し、90μmの塗布膜を得た。   After the exposure, the photosensitive paste was further applied and dried to obtain a 90 μm coating film.

次に、ピッチ250μm、線幅30μmのストライプパターンを有するフォトマスクを用いて、ストライプパターンがアドレス電極と平行方向になるように露光した。   Next, using a photomask having a stripe pattern with a pitch of 250 μm and a line width of 30 μm, exposure was performed so that the stripe pattern was parallel to the address electrodes.

露光後、0.5質量%のエタノールアミン水溶液中で現像し、さらに、560℃で15分間焼成することにより、ピッチ250μm、線幅30μm、高さ130μmの主隔壁とピッチ250μm、線幅30μm、高さ65μmの補助隔壁を形成した。   After the exposure, development is performed in a 0.5% by mass aqueous ethanolamine solution, and further baking is performed at 560 ° C. for 15 minutes, whereby a main partition wall having a pitch of 250 μm, a line width of 30 μm, and a height of 130 μm, a pitch of 250 μm, a line width of 30 μm, An auxiliary partition wall having a height of 65 μm was formed.

次に、酸化チタン(TIPAQUE CR−90、石原産業(株)製)70質量%とエチルセルロース(ハーキュリース社製)および有機染料(スダンIII、C2216O)をテルピネオールに溶解した有機ビヒクル(固形分濃度:10質量%、有機染料濃度:有機ビヒクルを100質量部としたときの0.1質量部)30質量%を混ぜ合わせ、三本ローラーで混練して得られたペーストをディスペンサー法を用いて前記の主隔壁および補助隔壁の隔壁側面および隔壁間に吐出して反射層となるペースト層を形成した。該ペースト層は焼成後の厚みとして、隔壁側面に8μm、誘電体層上に6μmになるように形成した。形成後、画像検査装置(Neptune900、V・テクノロジー社製)を用いて検査を行ったところ、3カ所に塗布抜け欠陥が検出できた。該欠陥部について、リペアを行った。 Next, 70 mass% of titanium oxide (TIPAQUE CR-90, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), ethyl cellulose (manufactured by Hercules Co., Ltd.), and organic dye (Sudan III, C 22 H 16 N 4 O) dissolved in terpineol Dispensing the paste obtained by mixing 30% by mass of vehicle (solid content concentration: 10% by mass, organic dye concentration: 0.1% by mass when the organic vehicle is 100 parts by mass) and kneading with three rollers Using the method, a paste layer serving as a reflective layer was formed by discharging between the side walls and the partition walls of the main partition wall and the auxiliary partition wall. The paste layer was formed to have a thickness after firing of 8 μm on the side wall of the partition and 6 μm on the dielectric layer. After formation, inspection was performed using an image inspection apparatus (Neptune 900, manufactured by V Technology Co., Ltd.), and coating omission defects could be detected at three locations. The defective part was repaired.

蛍光体層を形成するためのペーストは、赤色、青色、緑色の蛍光体粉末として、それぞれ、赤色蛍光体粉末:(Y,Gd,Eu)BO(BO塩母体にY、Gd、Euを付活した物質)、青色蛍光体粉末:(Eu)BaMgAl1017(BaMgAl1017塩母体にEuを付活した物質)、緑色蛍光体粉末:(Mn)Zn2SiO4(ZnSiO塩母体にMnを付活した物質)を用い、各色の蛍光体層形成用のペーストは、該蛍光体粉末70質量部に対してエチルセルロース(ハーキュリース社製)をテルピネオールで溶解した有機ビヒクル(固形分濃度10質量%)30質量部を三本ローラーで混練して調製した。 The pastes for forming the phosphor layers are red, blue and green phosphor powders, respectively, red phosphor powder: (Y, Gd, Eu) BO 3 (BO 3 salt matrix with Y, Gd, Eu) Activated substance), blue phosphor powder: (Eu) BaMgAl 10 O 17 (a substance obtained by activating Eu in a BaMgAl 10 O 17 salt matrix), green phosphor powder: (Mn) Zn 2 SiO 4 (Zn 2 SiO (4 ) A substance in which Mn is activated in a salt matrix), and a paste for forming phosphor layers of each color is an organic vehicle in which ethyl cellulose (manufactured by Hercules Co.) is dissolved in terpineol with respect to 70 parts by mass of the phosphor powder. A solid content concentration of 10% by mass) was prepared by kneading 30 parts by mass with three rollers.

反射層となるペースト膜上にこの蛍光体層形成用のペーストを、焼成後の厚みが20μmになるようにディスペンサー法を用い、256カ所の穴(口径:130μm)が形成されたノズル先端から吐出して、蛍光体となるペースト層を形成した。付与した後に、画像検査装置(Neptune900、V・テクノロジー社製)を用いて検査を行ったところ、8カ所の蛍光体層形成用ペーストの塗布抜け欠陥が検出できた。該欠陥部について、リペアを行った。   This phosphor layer forming paste is ejected from the tip of a nozzle having 256 holes (caliber: 130 μm) using a dispenser method so that the thickness after firing is 20 μm on the paste film to be a reflective layer. Thus, a paste layer serving as a phosphor was formed. After the application, inspection was performed using an image inspection apparatus (Neptune 900, manufactured by V Technology Co., Ltd.). As a result, 8 coating defect defects of the phosphor layer forming paste could be detected. The defective part was repaired.

なお、反射層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜と蛍光体層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜について、ΔEabを分光測色計(CM−2002,MINOLTA社製)を用いて測定したところ、12.0であった。 Note that ΔE * ab is measured with a spectrocolorimeter (CM-2002, manufactured by MINOLTA) for the film after application / drying of the paste for forming the reflective layer and the film after application / drying of the paste for forming the phosphor layer. It was 12.0 when measured using.

続いて、500℃で30分間焼成し、PDP用部材として、背面板を作製した。
作製した前面板と背面板を封着ガラスを用いて封着して、キセノン5%含有のネオンガスを内部ガス圧66500Paになるように封入した。さらに、駆動回路を実装してPDPを作製した。PDPのスキャン電極に電圧を印加して発光させたところ、基板面内均一に表示特性を得ることができた。
Then, it baked for 30 minutes at 500 degreeC, and produced the backplate as a member for PDP.
The produced front plate and back plate were sealed using sealing glass, and neon gas containing 5% xenon was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. When light was emitted by applying a voltage to the scan electrode of the PDP, display characteristics could be obtained uniformly within the substrate surface.

実施例2
まず前面板を実施例1と同様に作製し、背面板については隔壁の形成までを実施例1と同様にして作製した。
Example 2
First, the front plate was produced in the same manner as in Example 1, and the back plate was produced in the same manner as in Example 1 until the partition walls were formed.

次に、隔壁上に蛍光体ペーストをディスペンサー法を用いて前記の主隔壁および補助隔壁の隔壁側面および隔壁間に吐出して蛍光体層を形成した。蛍光体層を形成するためのペーストは、赤色蛍光体粉末:(Y,Gd,Eu)BO、青色蛍光体粉末:(Eu)BaMgAl1017、緑色蛍光体粉末:(Mn)Zn2SiO4、を用い、各色の蛍光体層形成用のペーストは、該蛍光体粉末各70質量部に対してエチルセルロース(ハーキュリース社製)をテルピネオールで溶解した有機ビヒクル(固形分濃度10%)30質量部を3本ローラーで混連して調整した。蛍光体層形成用のペーストを、焼成後の厚みが20μmになるようにディスペンサー法を用い、256カ所の穴(口径:130μm)が形成されたノズルの先端から吐出して、蛍光体となるペースト層を形成した。形成後、画像検査装置(Neptune900、V・テクノロジー社製)を用いて検査を行ったところ、蛍光体層において4カ所の塗布ヌケ欠陥が検出できた、該欠陥分について、リペアを行った。 Next, a phosphor layer was formed on the partition walls by discharging a phosphor paste between the side walls and the partition walls of the main partition walls and the auxiliary partition walls using a dispenser method. The paste for forming the phosphor layer is red phosphor powder: (Y, Gd, Eu) BO 3 , blue phosphor powder: (Eu) BaMgAl 10 O 17 , green phosphor powder: (Mn) Zn 2 SiO 4 , the paste for forming phosphor layers of each color is 30 masses of organic vehicle (solid content concentration 10%) in which ethylcellulose (manufactured by Hercules Co.) is dissolved in terpineol for 70 mass parts of the phosphor powders. The parts were mixed and adjusted with three rollers. The paste for forming the phosphor layer is discharged from the tip of a nozzle having 256 holes (caliber: 130 μm) using a dispenser method so that the thickness after firing becomes 20 μm, and becomes a phosphor that becomes a phosphor A layer was formed. After the formation, an inspection was performed using an image inspection apparatus (Neptune 900, manufactured by V Technology Co., Ltd.). As a result, repair defects were detected for the defects in which four coating defects were detected in the phosphor layer.

蛍光体保護層を形成するためのペーストとして、酸化マグネシウム(2000A、宇部マテリアルズ(株)製)60質量部、酸化ビスマス、酸化珪素、酸化硼素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウムからなるガラスを粉砕した中心粒子径(D50)0.8μm、軟化温度455℃のガラス粉末、エチルセルロース(ハーキュリース社製)および有機染料(スダンIII、C2216O)をテルピネオールに溶解した有機ビヒクル(固形分濃度:10質量%、有機染料濃度:有機ビヒクルを100質量%としたとき0.1質量部))30質量%を混ぜ合わせ、三本ローラーで混練して調製した。 As a paste for forming the phosphor protective layer, a glass composed of 60 parts by mass of magnesium oxide (2000A, manufactured by Ube Materials Co., Ltd.), bismuth oxide, silicon oxide, boron oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and aluminum oxide is used. Organic vehicle in which crushed center particle diameter (D 50 ) 0.8 μm, softening temperature 455 ° C. glass powder, ethyl cellulose (manufactured by Hercules) and organic dye (Sudan III, C 22 H 16 N 4 O) are dissolved in terpineol (Solid content concentration: 10% by mass, organic dye concentration: 0.1% by mass when the organic vehicle is 100% by mass)) 30% by mass was mixed and kneaded with three rollers.

この蛍光体保護層形成用のペーストを、焼成後の厚みが3μmになるようにディスペンサー法を用い、256カ所の穴(口径:130μm)が形成されたノズル先端から吐出して、蛍光体となるペースト層上に形成した。付与した後に、画像検査装置(Neptune900、V・テクノロジー社製)を用いて検査を行ったところ、1カ所の蛍光体保護層形成用ペーストの塗布抜け欠陥が検出できた。該欠陥部について、リペアを行った。   The phosphor protective layer forming paste is discharged from a nozzle tip having 256 holes (caliber: 130 μm) using a dispenser method so that the thickness after firing becomes 3 μm, and becomes a phosphor. Formed on the paste layer. After the application, an inspection was performed using an image inspection apparatus (Neptune 900, manufactured by V Technology Co., Ltd.). As a result, it was possible to detect a coating defect in one phosphor protective layer forming paste. The defective part was repaired.

なお、蛍光体保護層用のペーストの塗布・乾燥後の膜と蛍光体層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜について、ΔE abを分光測色計(CM−2002,MINOLTA社製)を用いて測定したところ、13.0であった。 Note that ΔE * ab is a spectrocolorimeter (CM-2002, manufactured by MINOLTA) for the film after application and drying of the phosphor protective layer paste and the film after application and drying of the phosphor layer forming paste. It was 13.0 when measured using.

続いて、500℃で30分間焼成し、PDP用部材として、背面板を作製した。   Then, it baked for 30 minutes at 500 degreeC, and produced the backplate as a member for PDP.

作製した前面板と背面板を封着ガラスを用いて封着して、キセノン5%含有のネオンガスを内部ガス圧66500Paになるように封入した。さらに、駆動回路を実装してPDPを作製した。PDPのスキャン電極に電圧を印加して発光させたところ、面内均一に表示特性を得ることができた。   The produced front plate and back plate were sealed using sealing glass, and neon gas containing 5% xenon was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. When light was emitted by applying a voltage to the scan electrode of the PDP, display characteristics could be obtained uniformly in the plane.

実施例3
有機染料濃度を有機ビヒクルを100質量%としたとき0.01質量%とした以外は、実施例1と同様に行った。
Example 3
The organic dye concentration was the same as in Example 1 except that the organic dye concentration was 0.01% by mass when the organic vehicle was 100% by mass.

なお、反射層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜と蛍光体層形性用のペーストの塗布・乾燥後の膜について、ΔE abを分光測色計(CM−2002,MINOLTA社製)を用いて測定したところ、5.5であった。 Note that ΔE * ab is a spectrocolorimeter (CM-2002, manufactured by MINOLTA) for the film after application / drying of the paste for forming the reflective layer and the film after application / drying of the paste for forming the phosphor layer. It was 5.5 when measured using the above.

蛍光体層形成用ペーストを付与した後に、画像検査装置(Neptune900、V・テクノロジー社製)を用いて検査を行ったところ、反射層の塗布抜け欠陥が検出できなかったが、目視により2カ所の塗布抜け欠陥が確認できた。該欠陥部について、リペアを行った。   After applying the phosphor layer forming paste, an inspection was performed using an image inspection apparatus (Neptune 900, manufactured by V Technology Co., Ltd.). A coating omission defect was confirmed. The defective part was repaired.

作製した前面板と背面板を封着ガラスを用いて封着して、キセノン5%含有のネオンガスを内部ガス圧66500Paになるように封入した。さらに、駆動回路を実装してPDPを作製した。PDPのスキャン電極に電圧を印加して発光させたところ、基板面内均一に表示特性を得ることができた。   The produced front plate and back plate were sealed using sealing glass, and neon gas containing 5% xenon was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. When light was emitted by applying a voltage to the scan electrode of the PDP, display characteristics could be obtained uniformly within the substrate surface.

実施例4
有機染料濃度を有機ビヒクルを100質量%としたとき0.01質量部とした以外は、実施例2と同様に行った。
Example 4
The organic dye concentration was the same as in Example 2 except that the organic dye concentration was 0.01 parts by mass when the organic vehicle was 100% by mass.

なお、蛍光体保護層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜と蛍光体層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜について、ΔE abを分光測色計(CM−2002,MINOLTA社製)を用いて測定したところ、4.5であった。 In addition, ΔE * ab is a spectrocolorimeter (CM-2002, manufactured by MINOLTA) for the film after application / drying of the paste for forming the phosphor protective layer and the film after application / drying of the paste for forming the phosphor layer ) Was 4.5.

蛍光体保護層形成用ペーストを付与した後に、画像検査装置(Neptune900、V・テクノロジー社製)を用いて検査を行ったところ、蛍光体保護層の塗布抜け欠陥が検出できなかったが、目視により1カ所の塗布抜けが確認できた。該欠陥部について、リペアを行った。   After applying the phosphor protective layer forming paste, when an inspection was performed using an image inspection apparatus (Neptune 900, manufactured by V Technology Co., Ltd.), a coating omission defect of the phosphor protective layer could not be detected. The coating omission at one place was confirmed. The defective part was repaired.

作製した前面板と背面板を封着ガラスを用いて封着して、キセノン5%含有のネオンガスを内部ガス圧66500Paになるように封入した。さらに、駆動回路を実装してPDPを作製した。PDPのスキャン電極に電圧を印加して発光させたところ、基板面内均一に表示特性を得ることができた。   The produced front plate and back plate were sealed using sealing glass, and neon gas containing 5% xenon was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. When light was emitted by applying a voltage to the scan electrode of the PDP, display characteristics could be obtained uniformly within the substrate surface.

比較例1
反射層形成用ペーストに有機染料を用いなかった他は、実施例1と同様に行った。塗布抜け、欠陥が観察できず、PDPに不灯部分が見られた。
Comparative Example 1
The same procedure as in Example 1 was performed except that no organic dye was used in the reflective layer forming paste. Application failure, defects could not be observed, and unlit portions were seen on the PDP.

比較例2
蛍光体保護層用ペーストに有機染料を用いなかった他は、実施例2と同様に行った。塗布抜け、欠陥が観察できず、PDPに不灯部分が見られた。
Comparative Example 2
The same procedure as in Example 2 was performed, except that no organic dye was used in the phosphor protective layer paste. Application failure, defects could not be observed, and unlit portions were seen on the PDP.

比較例3
反射層形成用のペーストには有機染料を用いず、蛍光体層形成用のペーストとして、赤色蛍光体粉末:(Y,Gd,Eu)BO、青色蛍光体粉末:(Ba,Eu)MgAl1017、緑色蛍光体粉末:(Zn,Mn)2SiO4、各70質量部と有機染料(スダンIII、C2216O)をテルピネオールで溶解した有機ビヒクル(固形分濃度10質量%、有機染料濃度:有機ビヒクルを100質量%としたとき0.1質量部))30質量部を三本ローラーで混練して得られたペーストを用いた他は、実施例1と同様に行った。
Comparative Example 3
An organic dye is not used for the paste for forming the reflective layer, and as the paste for forming the phosphor layer, red phosphor powder: (Y, Gd, Eu) BO 3 , blue phosphor powder: (Ba, Eu) MgAl 10 O 17 , green phosphor powder: (Zn, Mn) 2 SiO 4 , 70 parts by mass of each and organic dye (Sudan III, C 22 H 16 N 4 O) dissolved in terpineol (solid content concentration 10% by mass) , Organic dye concentration: 0.1 parts by mass when the organic vehicle is 100% by mass))) The same procedure as in Example 1 was performed except that a paste obtained by kneading 30 parts by mass with a three-roller was used. .

なお、反射層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜と蛍光体層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜について、ΔE abを分光測色計(CM−2002,MINOLTA社製)を用いて測定したところ、15.0であった。 Note that ΔE * ab is measured with a spectrocolorimeter (CM-2002, manufactured by MINOLTA) for the film after application / drying of the paste for forming the reflective layer and the film after application / drying of the paste for forming the phosphor layer. It was 15.0 when measured using.

蛍光体層形成後、画像検査装置(Neptune900、V・テクノロジー社製)を用いて検査を行ったところ、8カ所の蛍光体ペーストの塗布抜け欠陥が検出できた。該欠陥部は、リペアを行った。   After forming the phosphor layer, inspection was performed using an image inspection apparatus (Neptune 900, manufactured by V Technology Co., Ltd.). As a result, eight coating paste defects could be detected. The defective part was repaired.

蛍光体ペーストのリペア後、500℃で30分間焼成し、PDP用部材として、背面板を作製した。   After the phosphor paste was repaired, it was baked at 500 ° C. for 30 minutes to produce a back plate as a member for PDP.

作製した前面板と背面板を封着ガラスを用いて封着して、キセノン5%含有のネオンガスを内部ガス圧66500Paになるように封入した。さらに、駆動回路を実装してPDPを作製した。PDPのスキャン電極に電圧を印加して発光させたところ、実施例1と比較して青色蛍光体の輝度が10%低下した。   The produced front plate and back plate were sealed using sealing glass, and neon gas containing 5% xenon was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. When light was emitted by applying a voltage to the scan electrode of the PDP, the luminance of the blue phosphor was reduced by 10% compared to Example 1.

比較例4
蛍光体保護層用ペーストには有機染料を用いず、蛍光体層形成用のペーストとして、赤色蛍光体粉末:(Y,Gd,Eu)BO、青色蛍光体粉末:(Ba,Eu)MgAl1017、緑色蛍光体粉末:(Zn,Mn)2SiO4、各70質量部と有機染料(スダンIII、C2216O)をテルピネオールで溶解した有機ビヒクル(固形分濃度10質量%、有機染料濃度:有機ビヒクルを100質量%としたとき0.1質量部))30質量部を三本ローラーで混練して得られたペーストを用いた他は、実施例2と同様に行った。
Comparative Example 4
An organic dye is not used for the phosphor protective layer paste, and as the phosphor layer forming paste, red phosphor powder: (Y, Gd, Eu) BO 3 , blue phosphor powder: (Ba, Eu) MgAl 10 O 17 , green phosphor powder: (Zn, Mn) 2 SiO 4 , 70 parts by mass of each and organic dye (Sudan III, C 22 H 16 N 4 O) dissolved in terpineol (solid content concentration 10% by mass) Organic dye concentration: 0.1 parts by mass when the organic vehicle is 100% by mass))) The same procedure as in Example 2 was performed, except that a paste obtained by kneading 30 parts by mass with three rollers was used. .

なお、反射層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜と蛍光体層形成用のペーストの塗布・乾燥後の膜について、ΔE abを分光測色計(CM−2002,MINOLTA社製)を用いて測定したところ、13.0であった。 Note that ΔE * ab is measured with a spectrocolorimeter (CM-2002, manufactured by MINOLTA) for the film after application / drying of the paste for forming the reflective layer and the film after application / drying of the paste for forming the phosphor layer. It was 13.0 when measured using.

蛍光体保護層形成後、画像検査装置(Neptune900、V・テクノロジー社製)を用いて検査を行ったところ、8カ所の蛍光体保護層用ペーストの塗布抜け欠陥が検出できた。該欠陥部は、リペアを行った。   After forming the phosphor protective layer, inspection was performed using an image inspection apparatus (Neptune 900, manufactured by V Technology Co., Ltd.). As a result, eight coating defect defects of the phosphor protective layer paste could be detected. The defective part was repaired.

蛍光体保護層用ペーストのリペア後、500℃で30分間焼成し、PDP用部材として、背面板を作製した。   After repairing the phosphor protective layer paste, baking was performed at 500 ° C. for 30 minutes to prepare a back plate as a member for PDP.

作製した前面基板と背面基板を封着ガラスを用いて封着して、キセノン5%含有のネオンガスを内部ガス圧66500Paになるように封入した。さらに、駆動回路を実装してPDPを作製した。PDPのスキャン電極に電圧を印加して発光させたところ、実施例1と比較して青色蛍光体の輝度が9%低下した。   The produced front substrate and back substrate were sealed using sealing glass, and neon gas containing 5% xenon was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. When light was emitted by applying a voltage to the scan electrode of the PDP, the luminance of the blue phosphor was reduced by 9% compared to Example 1.

Claims (4)

基板上に少なくとも電極と隔壁とが形成された部材に対して、前記隔壁側面および/または隔壁間に蛍光体層および蛍光体層以外の層を形成するに際して、これらの層はペースト材料を付与し、乾燥および/または焼成して形成すると共に、前記の蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストには、前記の蛍光体層の形成に用いるペーストとは異なる色に着色され、かつ酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、ジルコニア、酸化スズ、融点が620℃以上のガラス粉末、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、アルミナおよびシリカからなる群のうち少なくとも1種を含み、さらに有機染料および顔料から選ばれる着色剤を含むペーストを用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法 When forming a layer other than the phosphor layer and the phosphor layer on the side surface of the partition and / or between the partitions on a member having at least an electrode and a partition formed on the substrate, these layers are provided with a paste material. The paste used for forming the layers other than the phosphor layer is colored in a color different from the paste used for forming the phosphor layer, and is formed by drying and / or firing , and titanium oxide. Includes at least one selected from the group consisting of zinc oxide, zinc sulfide, barium oxide, magnesium oxide, calcium oxide, zirconia, tin oxide, glass powder having a melting point of 620 ° C. or higher, lithium fluoride, calcium fluoride, alumina, and silica further plasma display panel unit which is characterized by using a paste containing a coloring agent selected from organic dyes and pigments The method of production. 前記蛍光体層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜と前記蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜の、L表色系色座標から求めた色差(ΔE ab)が次の式を満たすことを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法。
ΔE ab=[(ΔL+(Δa+(Δb1/2>1.5
(ここで、ΔL、Δa、Δbはそれぞれ、蛍光体ペーストの付与・乾燥後の膜のL値、a値、b値と、蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストの付与・乾燥後の膜のL値、a値、b値との差をあらわす。)
From the L * a * b * color system color coordinates of the film after application / drying of the paste used to form the phosphor layer and the film after application / drying of the paste used to form a layer other than the phosphor layer obtained the color difference (ΔE * ab) is the method according to claim 1 Symbol placement of a plasma display panel member and satisfies the following expression.
ΔE * ab = [(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 ] 1/2 > 1.5
(Here, ΔL * , Δa * , and Δb * are the paste used for forming the L * value, a * value, and b * value of the film after applying and drying the phosphor paste, and layers other than the phosphor layer, respectively. The difference between the L * value, a * value, and b * value of the film after the application and drying of the film is expressed.)
前記蛍光体層以外の層の形成に用いるペーストをディスペンサーにより塗布することを特徴とする請求項1または2記載のプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法。 The process according to claim 1 or 2, wherein the plasma display panel member, characterized in that applied by a dispenser the paste used for forming the layers other than the phosphor layer. 請求項1〜のいずれか記載のプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法により製造したプラズマディスプレイパネル用部材を背面板に用いたプラズマディスプレイ。 The plasma display which used the member for plasma display panels manufactured by the manufacturing method of the member for plasma display panels in any one of Claims 1-3 for the backplate.
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