JP2001176398A - Plasma display and its member - Google Patents

Plasma display and its member

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JP2001176398A
JP2001176398A JP35700999A JP35700999A JP2001176398A JP 2001176398 A JP2001176398 A JP 2001176398A JP 35700999 A JP35700999 A JP 35700999A JP 35700999 A JP35700999 A JP 35700999A JP 2001176398 A JP2001176398 A JP 2001176398A
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JP
Japan
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electrode
dielectric layer
plasma display
needle
discharge
Prior art date
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Pending
Application number
JP35700999A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junji Sanada
淳二 真多
Yuichiro Iguchi
雄一朗 井口
Tetsuo Uchida
哲夫 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stable PDP with no abnormal discharge, wherein other characteristics are not sacrificed. SOLUTION: The plasma display member is comprised of an electrode and a dielectric layer covering the electrode and including needle-shaped electric conductors.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ部材およびプラズマディスプレイ(以下PDPと称
する)に関し、特にAC方式PDPの異常放電を防止
し、パネルの信頼性向上を高めたPDP、PDP背面板
および製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display member and a plasma display (hereinafter referred to as "PDP"), and more particularly to a PDP, a PDP back plate, which prevents an abnormal discharge of an AC type PDP and improves the reliability of a panel. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄型・大型テレビに使用できるディスプ
レイとして、PDPが注目されている。特に、AC方式
PDPは、構造が簡便で製造コストが安価にできる可能
性があり、輝度や表示品位を高くできるメリットがあ
る。AC方式PDPは、誘電体表面に形成した壁電荷を
利用して、異なるスキャン電極間で放電することにより
表示するディスプレイである。アドレス電極もスキャン
電極の放電位置を決めるために放電に関与する。
2. Description of the Related Art PDPs have attracted attention as displays that can be used for thin and large-size televisions. In particular, the AC type PDP has a merit that the structure can be simple and the manufacturing cost can be reduced, and the luminance and display quality can be increased. The AC PDP is a display that displays by discharging between different scan electrodes using wall charges formed on a dielectric surface. The address electrode also participates in the discharge to determine the discharge position of the scan electrode.

【0003】しかし、スキャンやアドレスのために形成
した壁電荷の一部は表示後も誘電体表面に残存壁電荷と
して残り、この壁電荷により局部的に集中して放電する
異常放電(偶発放電とも言う)が生じる。この異常放電
を防止するために、特開平10−64434号公報で、
クロム粒子やニッケル粒子を誘電体層中に混入し、誘電
体表面に蓄積した残存壁電荷をアドレス電極へリークさ
せる方法が提案されている。
[0003] However, part of the wall charges formed for scanning and addressing remains as residual wall charges on the dielectric surface even after display, and due to the wall charges, an abnormal discharge (also referred to as an accidental discharge) is locally concentrated and discharged. Say). In order to prevent this abnormal discharge, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 10-64434 discloses that
There has been proposed a method in which chromium particles and nickel particles are mixed in a dielectric layer to leak residual wall charges accumulated on the dielectric surface to an address electrode.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、誘電体表面に
蓄積した残存電荷をアドレス電極へリークさせるべくク
ロム粒子やニッケル粒子を添加するのには、様々な制約
が伴っていた。例えば、誘電体層厚み相当の、平均粒径
が5μm以上の粒径の大きな導電性粒子を用いた場合に
は、少ない添加量で、選択的に厚み方向に導電性を付与
する、すなわち異方導電性を付与することができるもの
の、誘電体の表面形状が不均一になり、隔壁形成や蛍光
体形成などの後工程で欠陥が発生し歩留まりが低下がす
る問題があった。一方、誘電体層の厚みより小さい平均
粒径2〜3μmの導電性粒子を用いた場合には、異方導
電性を発揮させるためには10重量%以上の添加が必要
となり、クロムやニッケルの導電性粒子が黒色である為
に誘電体の反射率が低下してパネルの輝度が低下するこ
と、誘電体層の焼結性が低下すること、また電極間のシ
ョートが起こることなどの問題があった。このため、従
来の異常放電防止の方法では、PDPの歩留まり低下や
輝度低下、焼結性の低下、電極間の導通という障害を生
じさせずに異常放電を完全に防止することは困難であっ
た。
However, the addition of chromium particles or nickel particles to leak the residual charges accumulated on the dielectric surface to the address electrodes has been accompanied by various restrictions. For example, when large conductive particles having an average particle size of 5 μm or more equivalent to the thickness of the dielectric layer are used, conductivity is selectively imparted in the thickness direction with a small amount of addition, that is, anisotropically. Although conductivity can be imparted, there has been a problem that the surface shape of the dielectric becomes non-uniform, and defects occur in post-processes such as partition wall formation and phosphor formation, thereby lowering the yield. On the other hand, when conductive particles having an average particle diameter of 2 to 3 μm smaller than the thickness of the dielectric layer are used, it is necessary to add 10% by weight or more to exhibit anisotropic conductivity. Since the conductive particles are black, the reflectivity of the dielectric decreases, the brightness of the panel decreases, the sinterability of the dielectric layer decreases, and short-circuits between the electrodes occur. there were. For this reason, it is difficult to completely prevent abnormal discharge without causing a problem such as a decrease in the yield of the PDP, a decrease in luminance, a decrease in sinterability, and a continuity between electrodes by the conventional method for preventing abnormal discharge. .

【0005】そこで、本発明は異常放電を防止し、かつ
歩留まりの高い信頼性や表示特性に優れたPDPを提供
することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a PDP which prevents abnormal discharge and has high reliability with high yield and excellent display characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、電極
と、該電極を被覆し、針状導電体を含有する誘電体層を
有することを特徴とするプラズマディスプレイ用部材、
及びこれを用いたプラズマディスプレイである。
That is, the present invention provides a plasma display member comprising: an electrode; and a dielectric layer covering the electrode and containing a needle-shaped conductor.
And a plasma display using the same.

【0007】また、本発明は、電極と、電極を被覆する
誘電体層を有するプラズマディスプレイ用部材であっ
て、該部材に帯電した電位の半減時間が10秒以下であ
ることを特徴とするプラズマディスプレイ用部材であ
る。
The present invention also relates to a member for a plasma display having an electrode and a dielectric layer covering the electrode, wherein the half-time of the potential charged on the member is 10 seconds or less. This is a display member.

【0008】また本発明は、上記のいずれかのプラズマ
ディスプレイ用部材を用いたことを特徴とするプラズマ
ディスプレイである。
The present invention also provides a plasma display using any one of the above-described members for a plasma display.

【0009】これら誘電体層に針状導電体を含有させる
ことにより、若干の導電性が付与され、プラズマ放電に
よって生じ局在化して蓄積していた電荷をリークさせる
ことができ、偶発放電に至る程度の電荷が蓄積されなく
なる。さらに、この導電性物質が針状であるため、少な
い含有量で所望の効果を発揮することができる。さら
に、導電体が針状であるため誘電体層の色調や表面形状
や焼結性が非含有タイプとほとんど変わらず、誘電体層
の反射率の低下がなく、また、隔壁・蛍光体形成時の歩
留まり低下も起こらない。
The inclusion of a needle-shaped conductor in these dielectric layers imparts a slight conductivity, and can leak localized and accumulated charges generated by plasma discharge, leading to accidental discharge. No charge is stored. Furthermore, since this conductive substance is acicular, a desired effect can be exhibited with a small content. Furthermore, since the conductor is acicular, the color tone, surface shape and sinterability of the dielectric layer are almost the same as those of the non-containing type, there is no decrease in the reflectivity of the dielectric layer, and the barrier layer and the phosphor are not formed. The yield does not decrease.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】(本発明のPDP用部材及びPD
Pの作製手順)以下に本発明のPDP用部材およびPD
Pの作製手順を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (PDP member and PD according to the present invention)
Production procedure of P) PDP member of the present invention and PD
The procedure for manufacturing P will be described.

【0011】本発明のPDP用部材に用いるガラス基板
としては、ソーダガラスの他にPDP用の耐熱ガラスで
ある旭硝子社製の“PD200”や日本電気硝子社製の
“PP8”等を用いることができる。
As the glass substrate used for the PDP member of the present invention, besides soda glass, heat-resistant glass for PDP such as "PD200" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. or "PP8" manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. may be used. it can.

【0012】ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロ
ム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極を形成す
る。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機
バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印
刷でパターン印刷する方法や、有機バインダーとして感
光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布し、フ
ォトマスクを用いてパターン露光し、不要な部分を現像
工程で溶解除去し、さらに、400〜600℃に加熱・
焼成して金属パターンを形成する感光性ペースト法を用
いることもできる。また、ガラス基板上にクロムやアル
ミニウム等の金属をスパッタリングした後に、レジスト
を塗布し、レジストをパターン露光・現像した後にエッ
チングにより、不要な部分の金属を取り除くエッチング
法を用いることができる。電極厚みは1〜10μmが好
ましく、2〜5μmがより好ましい。電極が薄すぎる場
合は抵抗値が大きくなり正確な駆動ができなくなる傾向
にあり、厚すぎる場合は材料を多く要しコスト的に不利
となる傾向にある。アドレス電極の幅は20〜200μ
mが好ましく、より好ましくは30〜100μmであ
る。アドレス電極が細すぎる場合は抵抗値が高くなり正
確な駆動が困難となる傾向にあり、太すぎる場合は隣の
電極との間の距離が小さくなるため、ショート欠陥を生
じやすい傾向にある。また、アドレス電極は表示セル
(画素の各RGBを形成する領域)に応じたピッチで形
成される。通常のPDPでは100〜500μm、高精
細PDPにおいては100〜250μmのピッチで形成
するのが好ましい。
An address electrode is formed on a glass substrate by using a metal such as silver, aluminum, chromium or nickel. As a method of forming, a method of pattern-printing a metal paste containing these metal powders and an organic binder as main components by screen printing, or applying a photosensitive metal paste using a photosensitive organic component as an organic binder, and applying a photo Pattern exposure is performed using a mask, unnecessary portions are dissolved and removed in a developing step, and further heated to 400 to 600 ° C.
A photosensitive paste method in which a metal pattern is formed by baking may be used. In addition, an etching method in which a metal such as chromium or aluminum is sputtered on a glass substrate, a resist is applied, and the resist is subjected to pattern exposure / development, followed by etching to remove an unnecessary portion of the metal by etching. The electrode thickness is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 2 to 5 μm. If the electrode is too thin, the resistance value tends to be large and accurate driving tends to be impossible. If the electrode is too thick, a large amount of material is required and the cost tends to be disadvantageous. Address electrode width is 20-200μ
m is preferred, and more preferably 30 to 100 μm. If the address electrodes are too thin, the resistance value tends to be high and accurate driving tends to be difficult. If the address electrodes are too thick, the distance between adjacent electrodes is small, and short-circuit defects tend to occur. Further, the address electrodes are formed at a pitch corresponding to the display cell (the area where each RGB of a pixel is formed). It is preferable that the pitch is formed at a pitch of 100 to 500 μm for a normal PDP and 100 to 250 μm for a high definition PDP.

【0013】次に誘電体層を形成する。誘電体層は、電
極を形成した基板上に顔料、ガラス粉末、有機バインダ
ー等を混練してなるガラスペーストを塗布した後に、4
00〜600℃で焼成することにより形成できる。誘電
体層の厚みは4〜20μmが好ましい。
Next, a dielectric layer is formed. The dielectric layer is formed by applying a glass paste obtained by kneading a pigment, a glass powder, an organic binder, etc. onto the substrate on which the electrodes are formed,
It can be formed by firing at 00 to 600 ° C. The thickness of the dielectric layer is preferably 4 to 20 μm.

【0014】本発明のPDP用部材は、誘電体層が針状
導電体を含有することが重要である。針状導電体を採用
することにより、少ない重量の添加量でも、図1に示す
ように誘電体層の厚み方向の導通を得る、すなわち表面
に過剰に蓄積しようとする電荷をリークさせることがで
き、後述するようにPDPにおける異常放電を防ぐこと
ができる。また、異常放電防止に必要な導電体の含有量
を従来の約50%〜1%に減らすことができるので、パ
ネルの輝度の低下や、誘電体層の焼結性の低下や、電極
間のショートを防ぐことができる。
In the PDP member of the present invention, it is important that the dielectric layer contains a needle-shaped conductor. By adopting the needle-shaped conductor, it is possible to obtain conduction in the thickness direction of the dielectric layer as shown in FIG. 1 with a small amount of addition, that is, it is possible to leak the electric charge that is excessively accumulated on the surface. As described later, abnormal discharge in the PDP can be prevented. Also, since the content of the conductor necessary for preventing abnormal discharge can be reduced to about 50% to 1% of the conventional one, the brightness of the panel is reduced, the sinterability of the dielectric layer is reduced, and the distance between the electrodes is reduced. Short circuit can be prevented.

【0015】針状導電体としては、短軸長さ対長軸長さ
のアスペクト比が2〜100のものを用いることが好ま
しい。この範囲にある針状導電体を用いることで所望の
効果を上げることができる。さらに針状導電体の形状と
しては、長軸方向に真っ直ぐなものもののみを指すので
はなく、多少屈曲していても良い。トータルの屈曲の角
度が90度以下で有れば有効に使用することができる。
ここで長軸長さとは針状物質の長手方向の長さを言い、
また短軸長さとは針状導電体の途中を折ったときの断面
の直径に相当する長さのことを言う。
It is preferable to use a needle-like conductor having an aspect ratio of minor axis length to major axis length of 2 to 100. A desired effect can be obtained by using the needle-shaped conductor in this range. Further, the shape of the needle-shaped conductor is not limited to a shape that is straight in the major axis direction, but may be slightly bent. If the total bending angle is 90 degrees or less, it can be used effectively.
Here, the major axis length refers to the length in the longitudinal direction of the acicular substance,
The minor axis length refers to a length corresponding to the diameter of a cross section when the needle-shaped conductor is broken halfway.

【0016】針状導電体の形状としては、長軸長さが1
〜10μmのものを用いることが好ましい。長軸長さは
1μmより長いことで、針状であることの利点が効いて
くる。また、長軸長さは10μm以下で有れば、針状導
電体が誘電体層厚みを越えることがなく、誘電体層表面
に突起が出ることも少なくなるため、隔壁形成や蛍光体
形成などの後工程で欠陥が発生しないので好ましい。な
お、誘電体層表面に出た針状導電体の突起は光学顕微鏡
やSEMにより観察することができる。さらに、針状導
電体の長軸長さは2〜6μmであることがより一層好ま
しく、この範囲のものを用いることで誘電体層表面の突
起が少なく、かつ誘電体層中の含有量が少なくて済み、
かつ隣接電極間での導通の可能性が無く、有効に電荷を
リークすることができる。
The shape of the needle-shaped conductor is such that the major axis length is 1
It is preferable to use one having a diameter of 10 to 10 μm. When the major axis length is longer than 1 μm, the advantage of the needle shape becomes effective. When the major axis length is 10 μm or less, the needle-shaped conductor does not exceed the thickness of the dielectric layer, and projections on the surface of the dielectric layer are less likely to occur. This is preferable because no defect occurs in the subsequent step. The projection of the needle-shaped conductor on the surface of the dielectric layer can be observed with an optical microscope or an SEM. Further, the major axis length of the needle-shaped conductor is more preferably 2 to 6 μm, and by using a material in this range, the number of protrusions on the surface of the dielectric layer is small, and the content in the dielectric layer is small. Done,
In addition, there is no possibility of conduction between adjacent electrodes, and charges can be effectively leaked.

【0017】針状導電体の短軸長さは0.1〜0.5μ
mのものを用いることが好ましい。短軸長さは0.1μ
mより大きいことで、針状の物質として強度が保証さ
れ、ペースト混練時などに容易に破砕・切断されたり、
塊状に変形してしまう事がなくなるので好ましい。ま
た、短軸長さは、0.5μmより小さくすることで、針
の形状としては太くなりすぎず、粒状の粒子とは明らか
な差異が現れ、先に挙げた従来の導電性粒子のような問
題が発生しないので好ましい。針状導電体の短軸長さは
0.12〜0.3μmであることがより一層好ましい。
この範囲のものを用いることで針状の物質としての強度
が確保され、かつ誘電体層中の含有量が少なくて済むの
で、有効に電荷をリークすることができる。
The minor axis length of the needle-shaped conductor is 0.1 to 0.5 μm.
m is preferably used. Short axis length is 0.1μ
By being larger than m, the strength is guaranteed as a needle-like substance, and it is easily crushed or cut at the time of paste kneading,
It is preferable because it does not deform into a lump. In addition, by setting the minor axis length to be smaller than 0.5 μm, the shape of the needle does not become too thick, and a distinct difference from the granular particles appears, such as the conventional conductive particles described above. This is preferable because no problem occurs. More preferably, the minor axis length of the needle-shaped conductor is 0.12 to 0.3 μm.
By using a material in this range, the strength as a needle-like substance is ensured, and the content in the dielectric layer can be small, so that electric charges can be effectively leaked.

【0018】針状導電体の誘電体層中の含有量は0.1
〜5重量%であることが好ましい。0.1重量%よりも
多くすることで、誘電体の体積抵抗率は確実に下がり、
過剰の電荷をリークすることができるので好ましい。ま
た、5重量%より少なくすることで、電極間の導通の可
能性を心配することなく、有効に所望の機能を果たすの
で好ましい。より好ましい含有量は1〜3重量%であ
る。この範囲にあることで、最も効率よく安定して、異
常放電のないプラズマディスプレイ用部材を形成するこ
とができる。
The content of the needle-shaped conductor in the dielectric layer is 0.1
It is preferably about 5% by weight. By making it more than 0.1% by weight, the volume resistivity of the dielectric material is surely lowered,
This is preferable because excess charges can be leaked. Further, it is preferable that the content be less than 5% by weight because a desired function can be effectively performed without worrying about the possibility of conduction between the electrodes. A more preferred content is 1 to 3% by weight. By being in this range, a plasma display member free from abnormal discharge can be formed most efficiently and stably.

【0019】本発明において導電性材料は、金属または
金属酸化物を用いることが好ましい。金属の場合は、酸
化しにくいNiかCr、またはこれらの合金であること
が好ましい。金属酸化物の場合は、酸化インジウム、酸
化すず、酸化チタン等の金属酸化物が好ましく用いら
れ、またはこれらの混合物であっても良い。さらにこれ
らの金属酸化物に不純物をドープした半導体を用いても
良い。特に、アンチモンをドープした酸化すずが好まし
く用いられる。
In the present invention, it is preferable to use a metal or a metal oxide as the conductive material. In the case of a metal, it is preferable to use Ni or Cr which is hardly oxidized, or an alloy thereof. In the case of a metal oxide, a metal oxide such as indium oxide, tin oxide, or titanium oxide is preferably used, or a mixture thereof. Further, semiconductors obtained by doping these metal oxides with impurities may be used. In particular, tin oxide doped with antimony is preferably used.

【0020】本発明において導電性材料そのものが針の
形状をしていても良いが、核となる針状体の表面に導電
性材料をコーティングしたものであっても良い。核とな
る針状体は必ずしも導電性材料である必要はなく、アル
ミナや酸化チタンやセラミックスなどでも良い。せん断
強度の点から針状の酸化チタンがより好ましく用いられ
る。
In the present invention, the conductive material itself may be in the form of a needle, or may be a core having a core-like body coated with a conductive material. The needle-shaped body serving as a nucleus does not necessarily need to be a conductive material, and may be alumina, titanium oxide, ceramics, or the like. Acicular titanium oxide is more preferably used in terms of shear strength.

【0021】本発明の誘電体層は、低融点ガラスをマト
リクスとして構成すると良い。また、フィラーを含有し
ても良い。
The dielectric layer of the present invention is preferably composed of low-melting glass as a matrix. Further, a filler may be contained.

【0022】ガラス成分には、酸化鉛、酸化ビスマス、
酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも1種類以上を含有し、
これらを合計で10〜80重量%含有するガラス粉末を
用いると良い。10重量%以上とすることで、600℃
以下での焼成が容易になり、80重量%以下とすること
で、ガラスの安定性を確保することができる。
The glass components include lead oxide, bismuth oxide,
Containing at least one or more of zinc oxide and phosphorus oxide,
It is preferable to use a glass powder containing 10 to 80% by weight of these in total. By setting it to 10% by weight or more, 600 ° C
Sintering at a temperature below is facilitated, and when the content is 80% by weight or less, the stability of the glass can be ensured.

【0023】ガラス成分は、50〜400℃の範囲の熱
膨張係数α50400の値が70〜85×10-7/Kであ
るガラスを主成分とすることが、基板ガラスの熱膨張係
数と整合し、焼成の際にガラス基板にかかる応力を減ら
すので好ましい。熱膨張係数が大きすぎると、誘電体層
の形成面側に基板が反るように応力がかかる傾向にあ
り、小さすぎると誘電体層のない面側に基板が反るよう
な応力がかかる傾向にある。このため、基板の加熱、冷
却を繰り返すと基板が割れる場合がある。また、前面ガ
ラス基板との封着の際、基板の反りのために両基板が平
行にならず封着できない場合がある。
The glass component is mainly composed of glass having a coefficient of thermal expansion α 50 to 400 in the range of 50 to 400 ° C. of 70 to 85 × 10 −7 / K. It is preferable because the stress applied to the glass substrate during firing is reduced. If the coefficient of thermal expansion is too large, stress tends to be applied to the substrate on the side where the dielectric layer is formed, and if it is too small, stress tends to be applied to the side without the dielectric layer. It is in. Therefore, the substrate may be cracked when the substrate is repeatedly heated and cooled. In addition, when sealing with the front glass substrate, both substrates may not be parallel and cannot be sealed due to warpage of the substrates.

【0024】またガラス成分は、電極構成成分に対して
不活性な成分であることが好ましい。すなわち、ガラス
成分中にアルカリ金属やアルカリ土類金属を実質的に含
有しないことが好ましい。実質的に含有しないというの
は、含んだとしても0.5重量%以下、好ましくは0.
1重量%以下である。
It is preferable that the glass component is a component that is inactive with respect to the electrode components. That is, it is preferable that the glass component does not substantially contain an alkali metal or an alkaline earth metal. The term "substantially free" means that 0.5% by weight or less, preferably 0.
1% by weight or less.

【0025】誘電体層は電極に接して形成されるため、
例えばガラス成分中にアルカリ金属が存在すると、電極
に銀を用いた場合などに、銀のイオン交換反応と還元反
応とが進んで銀コロイドが誘電体層中に拡散し、部分着
色する傾向にある。また、ガラス成分中にアルカリ土類
金属が存在すると、前述のように熱膨張係数が基板ガラ
スと整合していても、焼成時にガラス基板や電極中のガ
ラス成分とイオン交換反応が起こり、このため、基板ガ
ラスの表面部分や誘電体層ガラス成分の熱膨張係数が変
化し、基板ガラスの熱膨張係数と整合しなくなり、基板
ガラスに引張り応力が生じ、基板割れが発生する傾向に
ある。
Since the dielectric layer is formed in contact with the electrode,
For example, when an alkali metal is present in the glass component, when silver is used for the electrode, the ion exchange reaction and the reduction reaction of silver proceed, and the silver colloid diffuses into the dielectric layer and tends to be partially colored. . Also, if alkaline earth metal is present in the glass component, an ion exchange reaction occurs with the glass component in the glass substrate or electrode during firing, even if the coefficient of thermal expansion matches the substrate glass as described above. In addition, the thermal expansion coefficient of the surface portion of the substrate glass and the dielectric layer glass component changes, the thermal expansion coefficient does not match with the substrate glass, tensile stress is generated in the substrate glass, and the substrate tends to crack.

【0026】電極の形成されたガラス基板の熱変形を抑
制するため、誘電体層の焼成工程は400〜600℃で
行うことが好ましい。このため、誘電体ペースト中の無
機成分は、ガラス転移点350〜550℃、軟化点40
0〜600℃のガラスを主成分とすることが好ましい。
ガラス転移点や軟化点が低すぎると、後の工程中にガラ
スが溶融して、誘電体層の厚みの均一性や特性が低下す
る傾向にある。また、ガラス転移点や軟化点が高すぎる
と、ガラス基板上での焼成が不十分になり、誘電体層の
剥離や欠落が生じやすくなる傾向にある。
In order to suppress the thermal deformation of the glass substrate on which the electrodes are formed, it is preferable that the firing step of the dielectric layer is performed at 400 to 600 ° C. For this reason, the inorganic component in the dielectric paste has a glass transition point of 350 to 550 ° C. and a softening point of 40 ° C.
It is preferable to use glass at 0 to 600 ° C. as a main component.
If the glass transition point or the softening point is too low, the glass will melt during the subsequent steps, and the uniformity of the thickness and the properties of the dielectric layer will tend to decrease. On the other hand, if the glass transition point or the softening point is too high, the firing on the glass substrate becomes insufficient, and the dielectric layer tends to be easily peeled off or missing.

【0027】このような熱特性を有するガラスとして、
酸化ビスマスを10〜80重量%含むものが、ガラス転
移点、軟化点および熱膨張係数のコントロールが容易な
点で好ましく挙げられる。また、酸化ビスマス10〜8
0重量%のガラスを用いることは、誘電体ペーストの安
定性を向上するなどの利点がある。例えば、酸化物換算
表記で下記のような組成を含有するものが好ましい。 酸化ビスマス 10〜80重量% 酸化珪素 3〜50重量% 酸化硼素 10〜40重量% 酸化亜鉛 5〜30重量%。
As glass having such thermal characteristics,
Those containing 10 to 80% by weight of bismuth oxide are preferred because the glass transition point, softening point and thermal expansion coefficient are easily controlled. Also, bismuth oxide 10-8
The use of 0% by weight of glass has advantages such as improving the stability of the dielectric paste. For example, those containing the following composition in oxide conversion notation are preferable. Bismuth oxide 10-80 wt% Silicon oxide 3-50 wt% Boron oxide 10-40 wt% Zinc oxide 5-30 wt%.

【0028】また、酸化鉛10〜80重量%のガラスを
用いても、酸化ビスマスを用いたときと同様に安定性に
優れた誘電体層を形成できる。例えば、下記組成である
ことが好ましい。 酸化鉛 10〜80重量% 酸化珪素 3〜50重量% 酸化硼素 10〜40重量% 酸化亜鉛 5〜30重量%。
Further, even when glass containing 10 to 80% by weight of lead oxide is used, a dielectric layer having excellent stability can be formed as in the case of using bismuth oxide. For example, the following composition is preferable. Lead oxide 10-80 wt% Silicon oxide 3-50 wt% Boron oxide 10-40 wt% Zinc oxide 5-30 wt%.

【0029】フィラーの1種類として、顔料を添加して
も良い。特に白色顔料の添加は、白色の輝度向上の点で
好ましく、誘電体層中に5〜50重量%含有させること
が好ましい。こうすることで誘電体層表面での全光線反
射率が50〜90%になり、ガラス基板方向や隣接セル
方向への光漏れを抑制し、高輝度、高品位の表示が可能
になる。フィラー含有量が少なすぎると、誘電体層が半
透明の状態になり光漏れが多くなって表示品位が低下す
る傾向にある。一方フィラー含有量が多すぎると、誘電
体層の焼結性が低下して空隙ができやすく信頼性が低下
する傾向にある。白色顔料に用いるフィラーとしては、
酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸
化亜鉛、アルミナやシリカを主成分とし複数の酸化物を
含有する軟化点が600度以上のセラミック粒子等が好
ましく、粒子径0.05〜3μmの酸化チタンを用いる
ことが特に好ましい。
As one type of filler, a pigment may be added. In particular, the addition of a white pigment is preferable from the viewpoint of improving white luminance, and it is preferable to add 5 to 50% by weight in the dielectric layer. By doing so, the total light reflectance on the surface of the dielectric layer becomes 50 to 90%, light leakage in the direction of the glass substrate or in the direction of the adjacent cells is suppressed, and high-luminance and high-quality display becomes possible. If the filler content is too small, the dielectric layer becomes translucent, light leakage increases, and the display quality tends to deteriorate. On the other hand, if the filler content is too large, the sinterability of the dielectric layer is reduced, and voids are likely to be formed, and the reliability tends to be reduced. As fillers used for white pigments,
Titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, ceramic particles having a softening point of 600 ° or more containing alumina and silica as a main component and having a plurality of oxides are preferable, and titanium oxide having a particle diameter of 0.05 to 3 μm is used. It is particularly preferred to use.

【0030】顔料の誘電体層への添加方法は、誘電体ペ
ースト中に顔料粉末を添加する方法や、ガラス成分中に
顔料成分を溶解する方法等を用いることができる。
As a method of adding the pigment to the dielectric layer, a method of adding a pigment powder to a dielectric paste, a method of dissolving a pigment component in a glass component, and the like can be used.

【0031】有機バインダーとしては、エチルセルロー
ス、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合
物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イ
ソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチル
アクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系
化合物等を用いることができる。また、ガラスペースト
中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒と
しては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、
メチルセルソルブ、ブチルカルビトールアセテート等の
汎用溶媒を用いることができる。また、可塑剤としては
ジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いるこ
とができる。
As the organic binder, cellulose compounds such as ethyl cellulose and methyl cellulose, and acrylic compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate and isobutyl acrylate can be used. Further, additives such as a solvent and a plasticizer may be added to the glass paste. As the solvent, terpineol, butyrolactone, toluene,
General-purpose solvents such as methylcellosolve and butyl carbitol acetate can be used. Further, dibutyl phthalate, diethyl phthalate, or the like can be used as the plasticizer.

【0032】本発明において、誘電体層を構成する材料
の体積抵抗率は1×1010〜5×1013Ωcmであるこ
とが好ましい。この範囲にあることでプラズマディスプ
レイが異常放電を起こさず、かつ安定した駆動が可能と
なる。5×1013Ωcmよりも抵抗率が高い場合には異
常放電が発生しやすく、1×1010Ωcmより低い場合
には、異常放電は起こらないが画面の焼き付きなどの別
の問題が発生するので好ましくない。
In the present invention, the material constituting the dielectric layer preferably has a volume resistivity of 1 × 10 10 to 5 × 10 13 Ωcm. By being in this range, the plasma display does not cause abnormal discharge and stable driving can be performed. If the resistivity is higher than 5 × 10 13 Ωcm, abnormal discharge is likely to occur. If the resistivity is lower than 1 × 10 10 Ωcm, abnormal discharge does not occur but another problem such as screen burn-in occurs. Not preferred.

【0033】体積抵抗率は、10〜100μm程度の均
一な厚みに形成した誘電体層の上面および下面に電極膜
を設け、その両電極間の抵抗を測定することで求めるこ
とができる。測定には超高抵抗計を用いることができ
る。
The volume resistivity can be determined by providing electrode films on the upper and lower surfaces of a dielectric layer formed to a uniform thickness of about 10 to 100 μm and measuring the resistance between the two electrodes. An ultra-high resistance meter can be used for the measurement.

【0034】また、本発明のPDP用部材は、表面に帯
電した電位の半減時間が10秒以下である。電位の半減
時間を10秒以内とすることで、PDPの異常放電を抑
えることができる。
In the PDP member of the present invention, the half time of the potential charged on the surface is 10 seconds or less. By setting the half-life of the potential within 10 seconds, abnormal discharge of the PDP can be suppressed.

【0035】帯電した電位の半減時間はオネストメータ
ーを用いることで測定することができる。本装置は、サ
ンプルをディスク上に固定して回転させ、一方で電圧を
印加し、一方で蓄積した電位を測定する装置である。そ
して、電圧の印加を止めた時点をスタート時間とし、電
位が半減するまでに要する時間を評価する。通常、10
kVの電圧を印加すると、サンプルは10mV〜1Vの
電位を持ち、これが半減する時間を測定することができ
る。評価するサンプルは、電極と誘電体のみが形成され
ている基板であっても、電極、誘電体、隔壁、蛍光体の
全てが形成された基板でも同様に評価でき、ほぼ同一の
結果を得ることができる。
The half-life of the charged potential can be measured by using an honest meter. This device is a device for rotating a sample fixed on a disk, applying a voltage on the one hand, and measuring an accumulated potential on the other hand. Then, the time when the application of the voltage is stopped is set as the start time, and the time required until the potential is reduced by half is evaluated. Usually 10
When a voltage of kV is applied, the sample has a potential of 10 mV to 1 V, and it is possible to measure the time when the potential is reduced by half. The sample to be evaluated can be evaluated in the same manner on a substrate on which only electrodes and dielectrics are formed, or on a substrate on which all of electrodes, dielectrics, partition walls, and phosphors are formed, and almost the same results can be obtained. Can be.

【0036】この、PDP用部材の電位の半減時間を測
定する評価手法により、PDPを作製せずともその異常
放電の発生の有無を予測することができる。
By this evaluation method for measuring the half-life of the potential of the PDP member, it is possible to predict the occurrence of abnormal discharge without producing a PDP.

【0037】次に、放電セルを仕切るための隔壁を形成
する。隔壁の高さは、80μm〜200μmが適してい
る。80μm以上とすることで蛍光体とスキャン電極が
近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化を抑制
できる。また、200μm以下とすることで、スキャン
電極での放電と蛍光体の距離が離れすぎるのを防ぎ、十
分隔壁の線幅(L)は、半値幅で10μm≦L≦80μ
mであることが好ましい。10μm以上とすることでは
前面板と背面板を封着する際の破損を防ぐことができ
る。また、80μm以下とすることで蛍光体の形成面積
を大きくとることができ高輝度が得られる。
Next, partition walls for partitioning the discharge cells are formed. The height of the partition wall is preferably 80 μm to 200 μm. By setting the thickness to 80 μm or more, it is possible to prevent the phosphor and the scan electrode from coming too close to each other, and to suppress the deterioration of the phosphor due to discharge. Further, by setting the thickness to 200 μm or less, the distance between the discharge at the scan electrode and the phosphor is prevented from being too large, and the line width (L) of the partition is sufficiently 10 μm ≦ L ≦ 80 μ at half width.
m is preferable. When the thickness is 10 μm or more, breakage at the time of sealing the front plate and the back plate can be prevented. When the thickness is 80 μm or less, the phosphor formation area can be increased, and high luminance can be obtained.

【0038】隔壁は、無機微粒子と有機バインダーから
なるガラスペーストを隔壁の形状にパターン形成した後
に、400〜600℃に焼成して隔壁を形成する方法が
一般的である。
The partition walls are generally formed by patterning a glass paste composed of inorganic fine particles and an organic binder in the shape of the partition walls and then baking the glass paste at 400 to 600 ° C. to form the partition walls.

【0039】無機微粒子としては、ガラス、セラミック
(アルミナ、コーディライトなど)などを用いることが
できる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、
アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミッ
クスが好ましい。
As the inorganic fine particles, glass, ceramic (alumina, cordierite, etc.) and the like can be used. In particular, silicon oxide, boron oxide, or
Glass and ceramics containing aluminum oxide as an essential component are preferred.

【0040】有機バインダーは、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂、エチルセルロースや
メチルセルロース等のセルロース化合物を用いることが
できる。さらに、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止
剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリン
グ剤などの添加剤を加えることも行われる。
Organic binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, methacrylate polymer, acrylate polymer, acrylate-
Methacrylic acid ester copolymers, α-methylstyrene polymers, butyl methacrylate resins, and cellulose compounds such as ethyl cellulose and methyl cellulose can be used. Further, additives such as a plasticizer, a thickener, an organic solvent, an antioxidant, a dispersant, an organic or inorganic precipitation inhibitor and a leveling agent are also added.

【0041】さらに、その溶液の粘度を調整したい場
合、有機溶媒を加えてもよい。このとき使用される有機
溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、
アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソ
ブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒ
ドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラク
トン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベン
ゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息
香酸などやこれらのうちの1種以上を含有する有機溶媒
混合物が用いられる。
When it is desired to adjust the viscosity of the solution, an organic solvent may be added. As the organic solvent used at this time, methyl cellosolve, ethyl cellosolve,
Butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane,
Acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ-butyl lactone, bromobenzene, chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene, bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid and the like and the like Organic solvent mixtures containing one or more are used.

【0042】また、本発明のPDP用部材の隔壁を後述
の感光性ペースト法により形成する場合には、ガラスペ
ーストに感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポ
リマーのうちの少なくとも1種類から選ばれた感光性成
分を含有し、更に、必要に応じて、光重合開始剤、光吸
収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤を添加すると良
い。
When the partition walls of the PDP member of the present invention are formed by a photosensitive paste method described later, the glass paste is selected from at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer. It is preferable to contain a photosensitive component, and further, if necessary, a photopolymerization initiator, a light absorber, a sensitizer, a sensitization aid, and a polymerization inhibitor.

【0043】ガラスペーストを用いて隔壁パターン加工
する方法としては、スクリーン印刷法、サンドブラスト
法、感光性ペースト法、フォト埋め込み法、型転写法等
の方法によって形成可能である。
As a method of patterning a partition using a glass paste, it can be formed by a method such as a screen printing method, a sand blast method, a photosensitive paste method, a photo embedding method, and a mold transfer method.

【0044】スクリーン印刷法は、形成したいパターン
以外の部分に乳剤層を形成したスクリーン版上にペース
トを広げ、スキージを用いて基板上に転写する方法であ
る。転写可能な厚みが10〜30μm程度であるため、
5〜15回の繰り返し印刷を行い必要な高さを確保した
後に、焼成して隔壁を形成する。
The screen printing method is a method in which a paste is spread on a screen plate having an emulsion layer formed on a portion other than a pattern to be formed, and is transferred onto a substrate using a squeegee. Since the transferable thickness is about 10 to 30 μm,
After the printing is repeated 5 to 15 times to secure the required height, baking is performed to form partition walls.

【0045】サンドブラスト法は、ガラスペーストを基
板上に塗布した後に、その上にドライフィルムレジスト
をラミネートし、該ドライフィルムレジストをフォトリ
ソグラフィー法でパターン加工した後、研磨砂を吹き付
けて不要部分を除去する方法である。不要部分を除去し
た後にレジスト部分を除去、さらに焼成することによ
り、隔壁を形成できる。
In the sand blast method, after a glass paste is applied on a substrate, a dry film resist is laminated thereon, the dry film resist is patterned by a photolithography method, and abrasive sand is blown to remove unnecessary portions. How to After removing the unnecessary portions, the resist portions are removed and further baked, whereby the partition walls can be formed.

【0046】フォト埋め込み法は、ドライフィルムレジ
ストを基板上にラミネートし、隔壁を形成する部分のレ
ジストを除去するためのパターンを形成する。パターン
はフォトリソグラフィー法を用いる。次に、レジストが
除去された部分にガラスペーストを埋め込んだ後に、レ
ジスト部分をすべて取り除く。取り除く方法としては、
アルカリで溶解する方法や焼成で焼却除去する方法があ
る。次に焼成することにより隔壁を形成することができ
る。
In the photo embedding method, a dry film resist is laminated on a substrate, and a pattern for removing the resist in a portion where a partition is to be formed is formed. The pattern uses a photolithography method. Next, after the glass paste is embedded in the portion where the resist has been removed, the entire resist portion is removed. To remove it,
There are a method of dissolving with alkali and a method of burning off by baking. Next, by baking, a partition can be formed.

【0047】各種の隔壁形成方法の中で、高精細化・工
程の簡便性の点で、感光性ペースト法が優れている。次
に、感光性ペーストを用いた隔壁形成手順の一例を以下
に示す。
Among the various partition wall forming methods, the photosensitive paste method is superior in terms of high definition and simple process. Next, an example of a procedure for forming a partition wall using a photosensitive paste will be described below.

【0048】ガラス基板に、感光性ペーストを塗布す
る。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコータ
ー、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーター
など一般的な方法を用いることができる。塗布厚みは、
塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選
ぶことによって調整できる。また、ポリエステルフィル
ムなどのフィルム上に感光性ペーストを塗布した感光性
シートを作成して、ラミネーターなどの装置を用いて基
板上に感光性ペーストを転写する方法を用いても良い。
A photosensitive paste is applied to a glass substrate. As a coating method, a general method such as a screen printing method, a bar coater, a roll coater, a die coater, and a blade coater can be used. The coating thickness is
It can be adjusted by selecting the number of applications, the screen mesh, and the viscosity of the paste. Alternatively, a method may be used in which a photosensitive sheet is prepared by applying a photosensitive paste on a film such as a polyester film, and the photosensitive paste is transferred onto a substrate using an apparatus such as a laminator.

【0049】感光性ペースト塗布した後、露光装置を用
いて露光を行う。露光は、通常のフォトリソグラフィで
行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する
方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分
の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選
定する。また、フォトマスクを用いずに、レーザ光など
で直接描画する方法を用いても良い。露光に使用される
活性光線は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電
子線、X線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で
紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧
水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、
殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀
灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なる
が、1〜100mW/cm2の出力の超高圧水銀灯を用
いて0.1〜10分間露光を行う。
After applying the photosensitive paste, exposure is performed using an exposure device. The exposure is generally performed by a mask exposure using a photomask, as is performed by ordinary photolithography. As the mask to be used, either a negative type or a positive type is selected depending on the type of the photosensitive organic component. Alternatively, a method of directly drawing with a laser beam or the like without using a photomask may be used. The actinic rays used for the exposure include, for example, visible rays, near ultraviolet rays, ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and laser beams. Of these, ultraviolet rays are most preferable, and as the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp,
A germicidal lamp or the like can be used. Among these, an ultra-high pressure mercury lamp is preferred. Exposure conditions vary depending on the coating thickness, but exposure is performed for 0.1 to 10 minutes using an ultra-high pressure mercury lamp having an output of 1 to 100 mW / cm 2 .

【0050】露光後、露光部分と非露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、その際、浸
漬法やスプレー法、ブラシ法等が用いられる。
After the exposure, development is carried out by utilizing the difference in solubility between the exposed portion and the unexposed portion in the developing solution. In this case, an immersion method, a spray method, a brush method, or the like is used.

【0051】現像液は、感光性ペースト中の溶解させた
い有機成分が溶解可能である溶液を用いる。感光性ペー
スト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存
在する場合は、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ
水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、
炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などが
使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時
にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アル
カリとしては、一般的なアミン化合物を用いることがで
きる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
サイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイ
ド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが
挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、0.01
〜10重量%、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。アルカリ濃度が低過ぎると可溶部が除去さ難くなる
傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎると、パターン部を
剥離させ、また、非可溶部を腐食する傾向にある。ま
た、現像時の現像温度は、20〜50℃で行うことが工
程管理上好ましい。
As the developing solution, a solution in which the organic component to be dissolved in the photosensitive paste can be dissolved is used. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, it can be developed with an aqueous alkali solution. Examples of the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide and sodium carbonate,
An aqueous solution of sodium carbonate, an aqueous solution of calcium hydroxide, or the like can be used. However, an aqueous solution of an organic alkali is preferred because an alkaline component can be easily removed during firing. As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like. The concentration of the aqueous alkali solution is usually 0.01
10 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion tends to be difficult to remove, and if the alkali concentration is too high, the pattern portion tends to peel off and the non-soluble portion tends to corrode. The development temperature during development is preferably from 20 to 50 ° C. from the viewpoint of process control.

【0052】次に、焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気
や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空
気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉と
しては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型
焼成炉を用いることができる。焼成温度は、400〜8
00℃で行う。基板がガラスである場合は、450〜6
20℃の温度で10〜60分間保持して焼成を行う。
Next, firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste or substrate, but firing is performed in an atmosphere such as air, nitrogen, or hydrogen. As the firing furnace, a batch type firing furnace or a roller hearth type continuous firing furnace can be used. The firing temperature is 400-8
Perform at 00 ° C. 450 to 6 when the substrate is glass
The firing is carried out at a temperature of 20 ° C. for 10 to 60 minutes.

【0053】隔壁を形成した後に、RGBの各色に発光
する蛍光体層を形成する。蛍光体粉末、有機バインダー
および有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の
隔壁間に塗布することにより、蛍光体層を形成すること
ができる。その法としては、スクリーン印刷版を用いて
パターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端
から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー
法、また、感光性を有する有機成分を有機バインダーと
する感光性蛍光体ペーストを用いる感光性ペースト法等
を採用することができる。
After the formation of the partition walls, a phosphor layer which emits light of each color of RGB is formed. By applying a phosphor paste containing a phosphor powder, an organic binder and an organic solvent as main components between predetermined partition walls, a phosphor layer can be formed. Examples of the method include a screen printing method in which a pattern is printed using a screen printing plate, a dispenser method in which a phosphor paste is pattern-discharged from the tip of a discharge nozzle, and a photosensitive phosphor using a photosensitive organic component as an organic binder. A photosensitive paste method using a paste or the like can be employed.

【0054】各色の蛍光体層の厚みは、10〜50μm
であることが好ましい。10μm以上とすることで十分
な輝度を得ることができる。また、厚みを50μm以下
とすることで放電空間を確保し、蛍光体を有効に発光で
きる。この場合の蛍光体層の厚みは、隣り合う隔壁の中
間点での形成厚み、つまり、放電空間(セル内)の底部
に形成された蛍光体層の厚みとして測定する。
The thickness of each color phosphor layer is 10 to 50 μm.
It is preferred that By setting the thickness to 10 μm or more, sufficient luminance can be obtained. Further, by setting the thickness to 50 μm or less, a discharge space is secured, and the phosphor can emit light effectively. In this case, the thickness of the phosphor layer is measured as a thickness formed at an intermediate point between adjacent partition walls, that is, a thickness of the phosphor layer formed at the bottom of the discharge space (in the cell).

【0055】使用する蛍光体粉末としては、赤色は、Y
2O3:Eu、YVO4:Eu、(Y、Gd)BO3:
Eu、Y203S:Eu、γ−Zn3(PO4)2:M
n、(ZnCd)S:Ag+In2O3など、緑色は、
Zn2GeO2:Mn、BaAl12O19:Mn、Z
n2SiO4、LaPO4:Tb、ZnS:Cu、A
l、ZnS:Au、Cu、Al、(ZnCd)S:C
u、Al、Zn2SiO4:Mn,As、Y3A15O
12:Ce、CeMgAl11O19:Tb、Gd2O
2S:Tb、Y3A15O12:Tb、ZnO:Znな
ど、また、青色は、Sr5(PO4)3Cl:Eu、B
aMgAl14O23:Eu、BaMgAl16O2
7:Eu、BaMg2Al14O24:Eu、(Ba,
Eu)MgAl10O17、ZnS:Ag+赤色顔料、
Y2SiO3:Ceなどがある。
As the phosphor powder to be used, red is Y
2O3: Eu, YVO4: Eu, (Y, Gd) BO3:
Eu, Y203S: Eu, γ-Zn3 (PO4) 2: M
n, (ZnCd) S: Ag + In2O3, etc.
Zn2GeO2: Mn, BaAl12O19: Mn, Z
n2SiO4, LaPO4: Tb, ZnS: Cu, A
1, ZnS: Au, Cu, Al, (ZnCd) S: C
u, Al, Zn2SiO4: Mn, As, Y3A15O
12: Ce, CeMgAl11O19: Tb, Gd2O
2S: Tb, Y3A15O12: Tb, ZnO: Zn, etc., and blue is Sr5 (PO4) 3Cl: Eu, B
aMgAl14O23: Eu, BaMgAl16O2
7: Eu, BaMg2Al14O24: Eu, (Ba,
Eu) MgAl10O17, ZnS: Ag + red pigment,
Y2SiO3: Ce and the like.

【0056】蛍光体層を形成した基板を必要に応じて、
400〜550℃で焼成する事により、本発明のPDP
用部材を作製することができる。
The substrate on which the phosphor layer has been formed may be used as required.
By firing at 400 to 550 ° C, the PDP of the present invention
Member can be manufactured.

【0057】上記のPDP用部材を背面板として用い
て、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空
間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される
放電ガスを封入後、駆動回路を装着して本発明のプラズ
マディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所定
のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護膜(M
gO)を形成した基板であり、背面基板上に形成された
RGB各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルター
層を形成しても良い。また、コントラストを向上するた
めに、ブラックストライプを形成しても良い。
Using the above-described PDP member as a back plate, after sealing with the front plate, a discharge gas composed of helium, neon, xenon, or the like is filled in a space formed between the front and back substrates at intervals. A plasma display of the present invention can be manufactured by mounting a driving circuit. The front plate includes a transparent electrode, a bus electrode, a dielectric, and a protective film (M) in a predetermined pattern on the substrate.
gO) may be formed on the substrate, and a color filter layer may be formed on a portion corresponding to the RGB phosphor layers formed on the rear substrate. Further, a black stripe may be formed to improve the contrast.

【0058】(本発明のPDPの放電動作)上記のよう
に作製される本発明のPDPの放電動作について説明す
る。
(Discharge Operation of PDP of the Present Invention) The discharge operation of the PDP of the present invention manufactured as described above will be described.

【0059】図1は本発明の実施の形態のプラズマディ
スプレイ部材の断面図である。20はガラス基板、Aは
電極、21は誘電体層で、30は誘電体層中に混入され
た針状導電性物質である。
FIG. 1 is a sectional view of a plasma display member according to an embodiment of the present invention. Reference numeral 20 denotes a glass substrate, A denotes an electrode, 21 denotes a dielectric layer, and 30 denotes a needle-shaped conductive substance mixed in the dielectric layer.

【0060】図2は本発明のプラズマディスプレイ部材
を用いたプラズマディスプレイパネルの模式的断面図で
ある。図2において、10は前面側のガラス基板、20
は背面側のガラス基板で、空間24で発生した紫外線が
蛍光体23によって可視光になり、図中上方向に光が出
ていくことで発光表示を行っている。前面板10には、
透明電極11とその上(図面上は下)に形成された導電
性の高いバス電極12からなるX電極(13X)とY電
極(13Y)が形成され、誘電体層14とMgOからな
る保護層15で覆われている。バス電極12は、透明電
極11の導電性を補うために、X電極とY電極の対の最
も離れあった両端部に沿って設けられる。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a plasma display panel using the plasma display member of the present invention. In FIG. 2, reference numeral 10 denotes a front glass substrate;
Is a glass substrate on the rear side. Ultraviolet light generated in the space 24 is converted into visible light by the phosphor 23, and light is displayed by emitting light upward in the drawing. On the front plate 10,
An X electrode (13X) and a Y electrode (13Y) composed of a transparent electrode 11 and a highly conductive bus electrode 12 formed thereon (lower in the drawing) are formed, and a dielectric layer 14 and a protective layer composed of MgO are formed. 15 covered. The bus electrodes 12 are provided along the farthest ends of the pair of the X electrode and the Y electrode in order to supplement the conductivity of the transparent electrode 11.

【0061】背面板20には、アドレス電極A1、A
2、A3が設けられ、誘電体層21で覆われている。ま
た、アドレス電極A1、A2、A3に隣接するようにス
トライプ状の隔壁(リブ)22が形成される。この隔壁
22は、アドレス放電時の隣接セルへの影響を絶つため
と光のクロストークを防ぐための二つの機能を有する。
隣接するリブ22毎に赤、青、緑の蛍光体23R、23
G、23Bがアドレス電極上およびリブ隔面を被覆する
ように塗り分けられる。
The back plate 20 has address electrodes A1, A
2, A3 are provided and covered with the dielectric layer 21. A stripe-shaped partition wall (rib) 22 is formed adjacent to the address electrodes A1, A2, and A3. The partition wall 22 has two functions for eliminating influence on adjacent cells at the time of address discharge and for preventing light crosstalk.
Red, blue, and green phosphors 23R, 23 for each adjacent rib 22
G and 23B are separately coated so as to cover the address electrodes and the rib separation surfaces.

【0062】また、図2に示されるとおり、前面板10
と背面板20とは約100μmのギャップを保って組み
合わされ、その間の空間24にはNe+Xeの放電用の
混合ガスが封入される。
Further, as shown in FIG.
The back plate 20 is combined with a gap of about 100 μm, and a space 24 between them is filled with a mixed gas for discharge of Ne + Xe.

【0063】図3は、上記の3電極面放電型のPDPの
X、Y電極とアドレス電極との関係を示すパネルの平面
図である。X電極X1〜X10は横方向に並行して配列
されかつ基板端部において共通接続され、Y電極Y1〜
Y10はX電極の間にそれぞれ設けられ、かつ個別に基
板端部に導出されている。これらのX、Y電極はそれぞ
れ対になって表示ラインを形成し、表示のための維持放
電電圧が交互に印加される。尚、XD1、XD2および
YD1、YD2はそれぞれ有効表示領域の外側に設けら
れるダミー電極であり、パネルの周辺部分の非線形性の
特性を緩和するために設けられている。背面板20上に
設けられるアドレス電極A1〜A14は、X、Y電極と
直交して設けられる。
FIG. 3 is a plan view of a panel showing the relationship between X, Y electrodes and address electrodes of the above-mentioned three-electrode surface discharge type PDP. The X electrodes X1 to X10 are arranged in parallel in the horizontal direction and are commonly connected at an end of the substrate, and the Y electrodes Y1 to X10 are connected in common.
Y10 is provided between the X electrodes, and is individually led out to the end of the substrate. These X and Y electrodes form a display line in pairs, and sustain discharge voltages for display are alternately applied. XD1 and XD2 and YD1 and YD2 are dummy electrodes provided outside the effective display area, respectively, and are provided to alleviate the non-linear characteristics of the peripheral portion of the panel. The address electrodes A1 to A14 provided on the back plate 20 are provided orthogonal to the X and Y electrodes.

【0064】X、Y電極はペアになって維持放電電圧が
交互に印加されるが、Y電極は情報を書き込むときのス
キャン電極としても利用される。アドレス電極は、情報
を書き込むときに利用され、情報に従ってアドレス電極
とスキャン対象のY電極との間でプラズマ放電が発生さ
れる。従って、アドレス電極にはセル1個分の放電電流
しか流す必要がない。また、その放電電圧は、Y電極と
の組み合わせで決まるので、比較的低電圧での駆動が可
能である。このような低電流、低電圧駆動が、大画面表
示を可能にしている。
The X and Y electrodes are paired and the sustain discharge voltage is applied alternately, but the Y electrodes are also used as scan electrodes when writing information. The address electrode is used when writing information, and a plasma discharge is generated between the address electrode and the Y electrode to be scanned according to the information. Therefore, only the discharge current for one cell needs to flow through the address electrode. Further, since the discharge voltage is determined by the combination with the Y electrode, driving at a relatively low voltage is possible. Such a low current and low voltage drive enables a large screen display.

【0065】図4は、具体的なPDPの駆動方法を説明
するための電極印加電圧波形図である。それぞれの電極
に印加される電圧は、例えば、Vw=130V、Vs=
180V、Va=50V、−Vsc=−50V、−Vy
=−150Vであり、Vaw、Vaxはそれぞれの他の
電圧に印加される電圧の中間電位に設定される。
FIG. 4 is an electrode applied voltage waveform diagram for explaining a specific PDP driving method. The voltage applied to each electrode is, for example, Vw = 130V, Vs =
180V, Va = 50V, -Vsc = -50V, -Vy
= −150 V, and Vaw and Vax are set to the intermediate potentials of the voltages applied to the respective other voltages.

【0066】3電極面放電型のPDPの駆動では、1つ
のサブフィールドがリセット期間、アドレス期間、およ
び維持放電期間(表示期間)から構成される。
In driving a three-electrode surface discharge type PDP, one subfield includes a reset period, an address period, and a sustain discharge period (display period).

【0067】リセット期間では、時刻a−bにて共通接
続されたX電極に全面書き込みパルスが印加され、パネ
ル全面でXY電極間で放電が発生する(図中W)。この
放電で空間25に発生した電荷のうち正電荷が電圧の低
いY電極側に引き寄せられ、負電荷が電圧の高いX電極
側に引き寄せられる。その結果書き込みパルスがなくな
る時刻bにて、今度はX電極とY電極間に上記の引き寄
せられて誘電体層14に蓄積された電荷による高電界に
より、再度放電が発生する(図中C)。その結果、全て
のX、Y電極上の電荷が中和してしまい、パネル全体の
リセットが終了する。期間b−cはその電荷の中和に要
する時間である。
In the reset period, a write pulse is applied to the X electrodes connected in common at times ab, and discharge occurs between the XY electrodes on the entire panel (W in the figure). Of the charges generated in the space 25 by this discharge, positive charges are drawn to the Y electrode side where the voltage is low, and negative charges are drawn to the X electrode side where the voltage is high. As a result, at time b when there is no write pulse, a discharge occurs again due to the high electric field due to the electric charge attracted between the X electrode and the Y electrode and accumulated in the dielectric layer 14 (C in the figure). As a result, the charges on all the X and Y electrodes are neutralized, and the reset of the entire panel ends. The period bc is the time required for neutralizing the charge.

【0068】次に、アドレス期間では、Y電極に−50
V(−Vsc)、X電極に50V(Va)を印加し、Y
電極に対してスキャンパルス−150V(−Vy)を順
に印加しながら、アドレス電極に表示情報に従ったアド
レスパルス50V(Va)を印加する。この結果アドレ
ス電極とスキャン電極との間に200Vの大電圧が印加
され、プラズマ放電が発生する。しかし、リセット時の
全面書き込みパルスほどは大きな電圧およびパルス幅で
はないので、パルスの印加が終了しても蓄積電荷による
反対の放電は生じない。そして、放電によって発生した
空間電荷は、50V印加のX電極側およびアドレス電極
側に負電荷が、−50V印加のY電極側に正電荷がそれ
ぞれの誘電体層14、21上に蓄積される。
Next, during the address period, -50 is applied to the Y electrode.
V (-Vsc), 50 V (Va) is applied to the X electrode, and Y
While sequentially applying a scan pulse of −150 V (−Vy) to the electrodes, an address pulse of 50 V (Va) according to display information is applied to the address electrodes. As a result, a large voltage of 200 V is applied between the address electrode and the scan electrode, and a plasma discharge occurs. However, since the voltage and the pulse width are not as large as those of the entire write pulse at the time of reset, the opposite discharge due to the accumulated charge does not occur even after the application of the pulse is completed. As for the space charge generated by the discharge, negative charges are accumulated on the X electrode side and the address electrode side where 50 V is applied, and positive charges are accumulated on the dielectric layers 14 and 21 on the Y electrode side where -50 V is applied.

【0069】この点は、図5の異常放電の説明図により
理解される。このようにして発生し蓄積されるX電極と
Y電極状上の蓄積電荷は、後の維持放電期間での維持放
電のためのメモリ機能を果たす。すなわち、後の維持放
電電圧がX、Y電極間に印加されると、アドレス期間に
放電して電荷が蓄積されているセルのX、Y電極間に、
その維持パルス電圧と蓄積電荷の電圧とが重畳されて、
維持放電がX、Y電極間で発生する。
This point can be understood from the explanatory diagram of the abnormal discharge shown in FIG. The accumulated charges thus generated and accumulated on the X electrode and Y electrode form a memory function for sustain discharge in a subsequent sustain discharge period. That is, when a subsequent sustain discharge voltage is applied between the X and Y electrodes, the discharge is performed during the address period and the charge is accumulated between the X and Y electrodes.
The sustain pulse voltage and the accumulated charge voltage are superimposed,
Sustain discharge occurs between the X and Y electrodes.

【0070】更に、スキャンパルス(−Vy)がY電極
を移動していくに従い、空間電荷の例えば正電荷が図5
の左側に移動し、負電荷は右側に移動し、両端でそれぞ
れ蓄積されるものと思われる。そして、上記のメモリ機
能として利用されないアドレス電極上の電荷は、その後
の維持放電期間でも放電せず、蓄積され(図5
(C))、やがて偶発的に異常放電が発生する。(図5
(D))。
Further, as the scan pulse (-Vy) moves through the Y electrode, for example, the positive charge of the space charge is changed as shown in FIG.
It seems that the negative charges move to the right side and accumulate at each end. Then, the charge on the address electrode not used for the memory function is accumulated without being discharged even during the subsequent sustain discharge period (FIG. 5).
(C)) Eventually, abnormal discharge occurs accidentally. (FIG. 5
(D)).

【0071】最後に、維持放電期間ではアドレス期間で
記憶された壁電荷を利用して、表示の輝度に応じた表示
の放電が行われる。すなわち、X、Y電極間に、壁電荷
があるセルでは放電するが壁電荷のないのないセルでは
放電しない程度の維持パルスが印加される。その結果、
アドレス期間で壁電荷が蓄積されたセルではX、Y電極
間で交互に放電が繰り返される。この放電パルスの数に
応じて、表示の輝度が表現される。従って、このサブフ
ィールドを複数回にわたり重み付けした維持放電期間で
繰り返すことで多段階調表示を可能にする。そしてRG
Bのセルで組み合わせることでフルカラー表示を実現で
きる。
Finally, in the sustain discharge period, display discharge is performed in accordance with display luminance by utilizing wall charges stored in the address period. That is, a sustain pulse is applied between the X and Y electrodes to such an extent that a cell having wall charges is discharged but a cell without wall charges is not discharged. as a result,
In the cell in which the wall charges are accumulated during the address period, the discharge is alternately repeated between the X and Y electrodes. The display brightness is expressed according to the number of the discharge pulses. Therefore, by repeating this subfield a plurality of times in the weighted sustain discharge period, multi-stage display is enabled. And RG
By combining the cells of B, full-color display can be realized.

【0072】図5に示されるとおり、X、Y電極上に形
成された誘電体14上には、壁電荷が蓄積維持放電期間
での放電に利用される。しかしアドレス電極上に形成さ
れた誘電体層21上の電荷は、かかる利用がなく、本来
このような大量の電荷を蓄積しておく積極的な理由がな
い。こうして溜まった電荷は誘電体表面に蓄積されてい
く。この大量に蓄積された電荷は、やがて、図5(D)
の用に異常放電の原因となる。
As shown in FIG. 5, on the dielectric 14 formed on the X and Y electrodes, wall charges are used for discharge during the accumulation and sustain discharge period. However, the charge on the dielectric layer 21 formed on the address electrode does not have such a use, and there is essentially no positive reason to accumulate such a large amount of charge. The accumulated charges are accumulated on the dielectric surface. This large amount of accumulated electric charges will eventually become as shown in FIG.
Causes abnormal discharge.

【0073】そこで、このセル内部表面、特にアドレス
電極上付近に蓄積される電荷を少しづつリークすること
で、セル内部表面に異常放電に至るほど大量に電荷が蓄
積するのを防止する、すなわち、具体的なリークの手段
として、誘電体層22の抵抗を電荷がリークする程度に
低下させることが有効である。その結果、セル内部表面
上に蓄積された電荷は異常放電を生じるほどまで蓄積さ
れることはなくなる。その場合、誘電体層21において
はアドレス電極間の絶縁性を十分保つ程度に高い抵抗に
する必要がある。
Therefore, by gradually leaking the charges accumulated on the inner surface of the cell, especially on the address electrodes, it is possible to prevent a large amount of charges from accumulating on the inner surface of the cell until an abnormal discharge occurs. As a specific leak means, it is effective to reduce the resistance of the dielectric layer 22 to such an extent that electric charges leak. As a result, the electric charge accumulated on the inner surface of the cell does not accumulate to the extent that abnormal discharge occurs. In this case, the dielectric layer 21 needs to have a resistance high enough to maintain sufficient insulation between the address electrodes.

【0074】図1中に示した電荷と矢印は、誘電体層2
1表面に蓄積した電荷が、誘電体層に含有される針状導
電体30を介して、電極Aに移動していく様子を模式的
に表している。このように導電体を介して誘電体層21
表面の電荷は常時少量づつ電極Aにリークしていくが、
電極A間での導通はなく、誘電体層21は本来の絶縁性
を十分保持している。
The electric charges and arrows shown in FIG.
FIG. 3 schematically illustrates a state in which charges accumulated on one surface move to an electrode A via a needle-shaped conductor 30 contained in a dielectric layer. In this way, the dielectric layer 21
The charge on the surface always leaks to the electrode A little by little,
There is no conduction between the electrodes A, and the dielectric layer 21 sufficiently retains its original insulation.

【0075】[0075]

【実施例】以下に、本発明の具体的詳細を説明する。ま
ず、プラズマディスプレイの背面板を製造した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific details of the present invention will be described. First, the back plate of the plasma display was manufactured.

【0076】対角42インチのガラス基板(旭硝子社製
PD200)を洗浄し、その表面にアドレス電極を形成
した。電極の形成は感光性ペースト法で行った。感光性
銀ペーストを基板全面に塗布・乾燥した後、所望のパタ
ーンを紫外光露光し、不要部分を現像液で除去し、焼成
した。本実施例では、厚み3μm、線幅100μm、ピ
ッチ360μmのストライプパターンの銀電極を形成し
た。
A 42-inch diagonal glass substrate (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was washed, and address electrodes were formed on the surface thereof. The electrodes were formed by a photosensitive paste method. After applying and drying a photosensitive silver paste on the entire surface of the substrate, a desired pattern was exposed to ultraviolet light, unnecessary portions were removed with a developing solution, and firing was performed. In this embodiment, a silver electrode having a stripe pattern with a thickness of 3 μm, a line width of 100 μm, and a pitch of 360 μm was formed.

【0077】次にこの電極の上に誘電体層を形成した。
誘電体ペーストは無機成分65重量%、エチルセルロー
ス1重量%、テルピネオール34重量%から成るものを
用い、スクリーン印刷法で塗布・乾燥した。これを58
0℃で焼成することで、厚み7μmの誘電体層を形成し
た。
Next, a dielectric layer was formed on this electrode.
The dielectric paste was composed of 65% by weight of an inorganic component, 1% by weight of ethylcellulose, and 34% by weight of terpineol, and was applied and dried by screen printing. This is 58
By firing at 0 ° C., a 7 μm thick dielectric layer was formed.

【0078】各実施例における針状導電体には、次の材
料を用いた。 (1)針状Ni :長軸長さ2.5μm、
短軸長さ0.5μm (2)針状導電性酸化チタンA :長軸長さ3μm、短軸
長さ0.2μm (3)針状導電性酸化チタンB :長軸長さ5μm、短軸
長さ0.2μm (4)針状導電性酸化チタンC :長軸長さ9μm、短軸
長さ0.2μm (5)針状導電性酸化アルミナ :長軸長さ3μm、短軸
長さ0.5μm なお、(2)、(3)、(4)の導電体にはアンチモンをドープ
した酸化すずがコーティングされているものを、(5)の
導電体にはアンチモンをドープした酸化インジウムがコ
ーティングされているものを、用いた。
The following materials were used for the needle-shaped conductor in each example. (1) Needle-like Ni: major axis length 2.5 μm,
Short axis length 0.5 μm (2) Needle-shaped conductive titanium oxide A: long axis length 3 μm, short axis length 0.2 μm (3) Needle-shaped conductive titanium oxide B: long axis length 5 μm, short axis 0.2 μm in length (4) Acicular conductive titanium oxide C: major axis length 9 μm, minor axis length 0.2 μm (5) Acicular electrically conductive alumina: major axis length 3 μm, minor axis length 0 The conductors (2), (3) and (4) were coated with antimony-doped tin oxide, and the conductor (5) was coated with antimony-doped indium oxide. What was done was used.

【0079】次にこの上に隔壁を形成した。感光性隔壁
ペーストを誘電体層の上に全面塗布・乾燥し、所望のパ
ターンのみを紫外線露光し、不要部分を現像液で除去
し、焼成することで線幅70μm、高さ100μmの隔
壁を形成した。
Next, partition walls were formed thereon. A photosensitive partition paste is applied on the entire surface of the dielectric layer and dried, only the desired pattern is exposed to ultraviolet light, unnecessary portions are removed with a developing solution, and baking is performed to form a partition having a line width of 70 μm and a height of 100 μm. did.

【0080】次に、蛍光体層を形成した。蛍光体ペース
トを隔壁の間に注入し、脱バインダ行程を経て厚み20
μmの蛍光体層を形成した。
Next, a phosphor layer was formed. The phosphor paste is injected into the space between the partition walls and passes through a binder removal process to have a thickness of 20 μm.
A phosphor layer of μm was formed.

【0081】次にプラズマディスプレイの前面板を製造
方法した。
Next, a method of manufacturing a front plate of a plasma display was performed.

【0082】初めにガラス基板を洗浄し、次に基板上
に、透明の導電膜(ITO)を一面に形成し、フォトリ
ソグラフィによりパターニングした。その上に感光性黒
色導電ペーストと感光性銀ペーストをこの順に塗布し、
フォトリソグラフィによりパターニングしてバス電極を
形成した。次に誘電体層をスクリーン印刷・乾燥・焼成
して形成しすることで、前面板部材を形成した。
First, the glass substrate was washed, and then a transparent conductive film (ITO) was formed all over the substrate and patterned by photolithography. A photosensitive black conductive paste and a photosensitive silver paste are applied thereon in this order,
A bus electrode was formed by patterning by photolithography. Next, a front plate member was formed by forming a dielectric layer by screen printing, drying, and baking.

【0083】次にこの前面板の周縁部にシール用の低融
点ガラスシール層を形成し、保護膜(MgO)15を蒸
着法で形成した。
Next, a low-melting glass sealing layer for sealing was formed on the periphery of the front plate, and a protective film (MgO) 15 was formed by vapor deposition.

【0084】次に、前面板と背面板の基板を組み立てて
封止し、内部の排気をして放電用ガス(Ne+Xe)を
封入しパネルを作製した。
Next, the substrates of the front plate and the back plate were assembled and sealed, the inside was evacuated, and a discharge gas (Ne + Xe) was sealed to prepare a panel.

【0085】そして、駆動回路を接続し全面点灯させる
ことで、異常放電の評価を行った。異常放電がある場合
には、パネルの任意の箇所で白色の余点が一瞬点灯する
ので、これを観察した。60秒間観察して1回以上点灯
したものを異常放電ありと分類した。
The abnormal discharge was evaluated by connecting the drive circuit and lighting the entire surface. If there is an abnormal discharge, the extra white point is lit for an instant at any point on the panel, and this was observed. Observed for 60 seconds and lit once or more were classified as having abnormal discharge.

【0086】焼結性の評価は、誘電体層の断面をSEM
で観察して間隙の有無を調べ、間隙の無いものを焼結性
良好とした。焼結性が不良のものはパネル点灯中に吸着
されていたガスが放出されて表示輝度が下がる為好まし
くない。
For evaluation of sinterability, the cross section of the dielectric layer was examined by SEM.
The presence or absence of a gap was examined by observing the above, and those without a gap were determined to have good sinterability. Gas with poor sintering properties is not preferred because the gas adsorbed during panel lighting is released and the display brightness is reduced.

【0087】隔壁および蛍光体の欠陥は、背面板形成後
に形状検査装置を用いて観察した。この時、誘電体層中
の表面形状の不均一、すなわち粗大粒子の存在などでが
原因で隔壁底部に形状不良があったり、隔壁底部に気泡
を抱いていたり、蛍光体の形状不良があった場合を、欠
陥ありとした。
The defects of the partition walls and the phosphor were observed using a shape inspection device after the formation of the back plate. At this time, the surface shape in the dielectric layer was non-uniform, that is, there was a shape defect at the bottom of the partition wall due to the presence of coarse particles, etc., bubbles were present at the bottom of the partition wall, or the shape of the phosphor was defective. The case was regarded as defective.

【0088】輝度の評価は、針状導電体を添加していな
いプラズマディスプレイを白色点灯させたときの輝度を
100として、本発明の実施例の輝度を相対評価した。
相対値は90以上であることを必要条件とした。
In the evaluation of the luminance, the luminance of the embodiment of the present invention was relatively evaluated, with the luminance when the plasma display to which no needle-shaped conductor was added being lit in white was set to 100.
It was a necessary condition that the relative value was 90 or more.

【0089】[0089]

【表1】 [Table 1]

【0090】針状導電体を用いた実施例1〜9において
は、帯電した電荷を素早くリークさせることができ、異
常放電もなく、またこれらが微量の添加によって達成で
きたため、構造上の欠陥も生じず、輝度も満足のいくも
のであった。
In Examples 1 to 9 using the needle-shaped conductor, the charged electric charge can be leaked quickly, there is no abnormal electric discharge, and since these can be achieved by adding a small amount, structural defects are also reduced. It did not occur and the luminance was satisfactory.

【0091】[0091]

【発明の効果】本発明によれば、少量の針状導電体を含
有する誘電体層を有するプラズマディスプレイ用部材を
用いることで、アドレス期間内の放電で発生して背面板
誘電体層表面に蓄積しようとする電荷を適宜リークする
ことができ、過剰に蓄積した電荷による異常放電を防止
することができる。さらに、導電体が針状であるため、
少ない含有量で所望の効果を発揮することができ、この
ため、誘電体層の色調や表面形状や焼結性が非含有タイ
プとほとんど変わらず、誘電体層の反射率の低下がな
く、また、隔壁・蛍光体形成時の歩留まり低下も起こさ
ずに本発明の目的を達成することができる。
According to the present invention, by using a member for a plasma display having a dielectric layer containing a small amount of a needle-shaped conductor, the member is generated by a discharge within an address period and is formed on the surface of the back plate dielectric layer. Charges to be accumulated can be leaked as appropriate, and abnormal discharge due to excessively accumulated charges can be prevented. Furthermore, since the conductor is acicular,
The desired effect can be exhibited with a small content, and therefore, the color tone, surface shape and sinterability of the dielectric layer are almost the same as those of the non-containing type, and the reflectance of the dielectric layer does not decrease, and Accordingly, the object of the present invention can be achieved without lowering the yield at the time of forming the partition walls and the phosphor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の一形態のプラズマディスプレイ
部材の断面模式図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a plasma display member according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の一形態のPDPの断面模式図で
ある。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a PDP according to one embodiment of the present invention.

【図3】3電極面放電型PDPの表示電極対の模式図で
ある。
FIG. 3 is a schematic view of a display electrode pair of a three-electrode surface discharge type PDP.

【図4】PDPの駆動方法を説明するための電極印加電
圧波形図である。
FIG. 4 is an electrode applied voltage waveform diagram for explaining a PDP driving method.

【図5】異常放電の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of abnormal discharge.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:前面側ガラス基板 11:透明電極 12:バス電極 14:誘電体層 15:保護層(MgO) 20:背面側ガラス基板 21:誘電体層 22:隔壁 23:蛍光体 24:放電空間 30:針状導電体 A:アドレス電極 10: Front glass substrate 11: Transparent electrode 12: Bus electrode 14: Dielectric layer 15: Protective layer (MgO) 20: Back glass substrate 21: Dielectric layer 22: Partition wall 23: Phosphor 24: Discharge space 30: Needle-shaped conductor A: Address electrode

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Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電極と、該電極を被覆し、針状導電体を含
有する誘電体層を有することを特徴とするプラズマディ
スプレイ用部材。
1. A member for a plasma display, comprising: an electrode; and a dielectric layer covering the electrode and containing a needle-shaped conductor.
【請求項2】針状導電体の長軸長さが1〜10μmであ
ることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプ
レイ用部材。
2. The member for a plasma display according to claim 1, wherein the major axis length of the acicular conductor is 1 to 10 μm.
【請求項3】針状導電体の短軸長さが0.1〜0.5μ
mで、長軸長さが1〜10μmであることを特徴とする
請求項1に記載のプラズマディスプレイ用部材。
3. The needle-shaped conductor has a minor axis length of 0.1 to 0.5 μm.
The member for a plasma display according to claim 1, wherein m is a major axis length of 1 to 10 m.
【請求項4】誘電体層中の針状導電体の含有量が0.1
〜5重量%であることを特徴とする請求項1記載のプラ
ズマディスプレイ用部材。
4. The content of a needle-like conductor in a dielectric layer is 0.1.
2. The member for a plasma display according to claim 1, wherein the content is about 5% by weight.
【請求項5】針状導電体の導電性材料が、金属または金
属酸化物であることを特徴とする請求項1記載のプラズ
マディスプレイ用部材。
5. The member for a plasma display according to claim 1, wherein the conductive material of the needle-shaped conductor is a metal or a metal oxide.
【請求項6】針状導電体が、針状体の表面に、金属また
は金属酸化物などの導電性材料をコーティングして成る
ことを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイ
用部材。
6. The member for a plasma display according to claim 1, wherein the needle-like conductor is formed by coating a surface of the needle-like body with a conductive material such as metal or metal oxide.
【請求項7】導電性材料の金属酸化物が、不純物をドー
プした半導体であることを特徴とする請求項5または6
記載のプラズマディスプレイ用部材。
7. The semiconductor device according to claim 5, wherein the metal oxide of the conductive material is a semiconductor doped with impurities.
The member for a plasma display according to the above.
【請求項8】針状導電体の導電性材料の金属酸化物が、
酸化インジウム、酸化すず、または酸化チタンであるこ
とを特徴とする請求項5〜7のいずれか記載のプラズマ
ディスプレイ用部材。
8. The metal oxide of the conductive material of the acicular conductor,
The member for a plasma display according to any one of claims 5 to 7, wherein the member is indium oxide, tin oxide, or titanium oxide.
【請求項9】誘電体層を構成する材料の体積抵抗率が1
×1010〜5×10 13Ωcmで有ることを特徴とする請
求項1に記載のプラズマディスプレイ用部材。
9. The material constituting the dielectric layer has a volume resistivity of 1
× 10Ten~ 5 × 10 13Ωcm
The member for a plasma display according to claim 1.
【請求項10】電極と、該電極を被覆する誘電体層を有
するプラズマディスプレイ用部材であって、該部材に帯
電した電位の半減時間が10秒以下であることを特徴と
するプラズマディスプレイ用部材。
10. A member for a plasma display having an electrode and a dielectric layer covering the electrode, wherein the half-time of the potential charged on the member is 10 seconds or less. .
【請求項11】請求項1〜10のいずれか記載のプラズ
マディスプレイ用部材を用いたことを特徴とするプラズ
マディスプレイ。
11. A plasma display using the plasma display member according to any one of claims 1 to 10.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2006004262A1 (en) * 2004-03-26 2006-01-12 Yong Seog Kim Front panel for plasma display panel of high efficiency containing nanotips, and process for preparation of the same
JP2006126468A (en) * 2004-10-28 2006-05-18 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd Near-infrared ray shielding agent and resin composition containing the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006004262A1 (en) * 2004-03-26 2006-01-12 Yong Seog Kim Front panel for plasma display panel of high efficiency containing nanotips, and process for preparation of the same
JP2006126468A (en) * 2004-10-28 2006-05-18 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd Near-infrared ray shielding agent and resin composition containing the same
JP4562492B2 (en) * 2004-10-28 2010-10-13 石原産業株式会社 Rod-like titanium dioxide, near-infrared shielding agent containing the same, and resin composition containing the near-infrared shielding agent

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