JP4737685B2 - Coating device - Google Patents

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Description

本発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置に関する。   The present invention relates to a coating apparatus that applies a flowable material to a substrate.

従来より、有機EL(Electro Luminescence)材料を利用した有機EL表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機EL材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機EL表示装置の製造では、ガラス基板(以下、単に「基板」という。)に対して、TFT(Thin Film Transistor)回路の形成、陽極となるITO(Indium Tin Oxide)電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料(以下、「正孔輸送液」という。)の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機EL材料を含む流動性材料(以下、「有機EL液」という。)の塗布、加熱処理による有機EL層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。   2. Description of the Related Art Conventionally, an organic EL display device using an organic EL (Electro Luminescence) material has been developed. For example, in the production of an active matrix drive type organic EL display device using a polymer organic EL material, a glass substrate is used. (Hereinafter simply referred to as “substrate”), formation of TFT (Thin Film Transistor) circuits, formation of ITO (Indium Tin Oxide) electrodes as anodes, formation of barrier ribs, fluid materials including hole transport materials (Hereinafter referred to as “hole transport liquid”), formation of a hole transport layer by heat treatment, flowable material containing an organic EL material (hereinafter referred to as “organic EL liquid”), heat treatment The organic EL layer, the cathode, and the insulating film are sequentially sealed.

有機EL表示装置の製造において、正孔輸送液または有機EL液を基板に塗布する装置の1つとして、特許文献1および特許文献2に示すように、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルを、基板に対して主走査方向および副走査方向に相対移動することにより、基板上の塗布領域に流動性材料をストライプ状に塗布する装置が知られている。   In the manufacture of an organic EL display device, as one of devices for applying a hole transport liquid or an organic EL liquid to a substrate, as shown in Patent Document 1 and Patent Document 2, a plurality of fluid materials are continuously discharged. 2. Description of the Related Art An apparatus is known that applies a flowable material in a stripe shape to an application region on a substrate by moving a nozzle relative to the substrate in a main scanning direction and a sub-scanning direction.

特許文献1および特許文献2の装置では、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)と互いに色が異なる3種類の有機EL材料をそれぞれ含む3種類の有機EL液が3本のノズルから吐出され、基板上の塗布領域に予め形成されている隔壁間の3つの溝に塗布される。当該装置では、3本のノズルが保持部材により一体的に保持されており、基板に垂直な支持軸を中心として当該保持部材を回動して3本のノズルの副走査方向におけるピッチを小さくすることにより、有機EL液の塗布ピッチを狭くすることができる。
特開2002−75640号公報 特開2003−10755号公報
In the devices of Patent Document 1 and Patent Document 2, three types of organic EL liquids each including three types of organic EL materials having different colors from red (R), green (G), and blue (B) are provided with three nozzles. And is applied to three grooves between partition walls previously formed in a coating region on the substrate. In this apparatus, three nozzles are integrally held by a holding member, and the holding member is rotated around a support axis perpendicular to the substrate to reduce the pitch of the three nozzles in the sub-scanning direction. As a result, the coating pitch of the organic EL liquid can be narrowed.
JP 2002-75640 A JP 2003-10755 A

ところで、このような装置では通常、ノズルのピッチ調整は作業員の手作業により行われ、調整結果の確認も作業員が塗布結果を直接目視することにより行われるが、高精度のピッチ調整は困難であることから、調整に要する作業時間および労力も多大なものとなっている。また、保持部材に対するノズルの取付誤差やノズルの製造誤差等によりノズルのピッチが不均一になっている場合、ピッチが均一になるように調整する必要があるが、特許文献1および特許文献2では、ピッチを均一化するための調整機構については開示されていない。   By the way, in such an apparatus, the pitch adjustment of the nozzle is usually performed manually by an operator, and the adjustment result is also confirmed by directly observing the application result by the operator, but it is difficult to adjust the pitch with high accuracy. Therefore, the work time and labor required for the adjustment are also great. In addition, when the nozzle pitch is not uniform due to a nozzle mounting error or a nozzle manufacturing error with respect to the holding member, it is necessary to adjust the pitch to be uniform. An adjustment mechanism for making the pitch uniform is not disclosed.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、塗布装置の複数のノズルのピッチを高精度に調整することを主な目的としている。   This invention is made | formed in view of the said subject, and makes it the main objective to adjust the pitch of the several nozzle of a coating device with high precision.

請求項1に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、前記複数のノズルが取り付けられるノズル取付部と、前記基板の主面に平行な主走査方向に前記複数のノズルを前記ノズル取付部と共に前記基板に対して相対的に移動する主走査機構と、前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部を前記基板に対して相対的に移動する副走査機構と、前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てである複数の可動ノズルを前記副走査方向に個別に移動することにより前記副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を調整するピッチ調整機構とを備え、前記ピッチ調整機構が、前記副走査方向の一方側から各可動ノズルに当接するノズル当接部と、前記副走査方向の他方側から前記各可動ノズルを前記ノズル当接部へと付勢するノズル付勢機構と、前記ノズル付勢機構により付勢されている前記各可動ノズルが当接する前記ノズル当接部の前記副走査方向の位置を調整する当接部移動機構とを備え、前記主走査機構および前記副走査機構により、前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部が前記ピッチ調整機構から独立して移動する。 The invention described in claim 1 is a coating apparatus that applies a fluid material to a substrate, and includes a substrate holding unit that retains the substrate, and a plurality of nozzles that continuously eject the fluid material toward the substrate. A nozzle mounting portion to which the plurality of nozzles are mounted; and a main scanning mechanism that moves the plurality of nozzles relative to the substrate together with the nozzle mounting portion in a main scanning direction parallel to the main surface of the substrate; A sub-scanning mechanism for moving the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion relative to the substrate in a sub-scanning direction parallel to the main surface of the substrate and perpendicular to the main scanning direction; A pitch adjuster that adjusts each distance between two nozzles adjacent to each other in the sub-scanning direction by individually moving a plurality of movable nozzles that are all or all but one of the nozzles in the sub-scanning direction The pitch adjusting mechanism includes a nozzle abutting portion that abuts each movable nozzle from one side in the sub-scanning direction, and the each movable nozzle from the other side in the sub-scanning direction to the nozzle abutting portion. A urging nozzle urging mechanism; and an abutting portion moving mechanism for adjusting a position in the sub-scanning direction of the nozzle abutting portion with which each of the movable nozzles urged by the nozzle urging mechanism abuts. , by the main scanning mechanism and the scanning mechanism, the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion move independently of the pitch adjustment mechanism.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の塗布装置であって、前記ノズル付勢機構により前記各可動ノズルに加えられる付勢力が、前記副走査方向における前記各可動ノズルの位置に関わらず一定である。   Invention of Claim 2 is a coating device of Claim 1, Comprising: The urging | biasing force applied to each said movable nozzle by the said nozzle urging mechanism is in the position of each said movable nozzle in the said subscanning direction. Regardless, it is constant.

請求項に記載の発明は、請求項1または2に記載の塗布装置であって、前記ピッチ調整機構が、前記ノズル取付部を固定する取付部固定機構をさらに備える。 A third aspect of the present invention is the coating apparatus according to the first or second aspect , wherein the pitch adjusting mechanism further includes a mounting portion fixing mechanism that fixes the nozzle mounting portion.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の塗布装置であって、前記取付部固定機構が、前記副走査方向の前記一方側から前記ノズル取付部に当接する第1固定部と、前記第1固定部、前記ノズル当接部および前記当接部移動機構が取り付けられる第1支持部と、前記副走査方向の前記他方側から前記ノズル取付部に当接する第2固定部と、前記第2固定部および前記ノズル付勢機構が取り付けられる第2支持部と、前記第1支持部を前記副走査方向に移動する第1移動機構と、前記第2支持部を前記副走査方向に移動する第2移動機構とを備える。 Invention of Claim 4 is a coating device of Claim 3 , Comprising: The said fixing | fixed part fixing mechanism is the 1st fixing | fixed part which contact | abuts to the said nozzle mounting part from the said one side of the said subscanning direction, A first support portion to which the first fixing portion, the nozzle contact portion, and the contact portion moving mechanism are attached; a second fixing portion that contacts the nozzle attachment portion from the other side in the sub-scanning direction; A second support part to which a second fixing part and the nozzle urging mechanism are attached, a first moving mechanism for moving the first support part in the sub-scanning direction, and a movement of the second support part in the sub-scanning direction And a second moving mechanism.

請求項に記載の発明は、請求項1ないしのいずれかに記載の塗布装置であって、前記各可動ノズルが、先端から流動性材料が吐出されるノズル本体と、前記ノズル本体が取り付けられるとともに前記ノズル取付部に形成された前記副走査方向に伸びる案内溝に保持されて前記案内溝に沿って移動可能とされるスライダとを備える。 Invention of Claim 5 is an application apparatus in any one of Claim 1 thru | or 4 , Comprising: Each said movable nozzle is attached to the nozzle main body from which a fluid material is discharged from the front-end | tip, and the said nozzle main body And a slider that is held in a guide groove formed in the nozzle mounting portion and extends in the sub-scanning direction and is movable along the guide groove.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の塗布装置であって、前記スライダの前記ノズル取付部に対する位置をロックするノズルロック部と、前記ノズルロック部を操作することにより前記スライダの位置のロックおよび前記ロックの解除を行うロック部操作機構とをさらに備える。 A sixth aspect of the present invention is the coating apparatus according to the fifth aspect of the present invention, wherein a nozzle lock portion that locks a position of the slider with respect to the nozzle mounting portion, and the slider is operated by operating the nozzle lock portion. And a lock unit operating mechanism for locking the position and releasing the lock.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の塗布装置であって、前記ノズルロック部が、前記スライダの位置のロック時に前記スライダに当接する固定部材と、前記固定部材を前記スライダに向けて押圧することにより前記スライダを前記ノズル取付部に向けて付勢する押圧部とを備え、前記スライダの位置のロックが解除される際に、前記固定部材が、前記ノズル取付部と接触する支点を中心として前記スライダから離れる方向に傾けられる。 A seventh aspect of the present invention is the coating apparatus according to the sixth aspect of the present invention, wherein the nozzle lock portion contacts the slider when the position of the slider is locked, and the fixing member is attached to the slider. A pressing portion that urges the slider toward the nozzle mounting portion by pressing toward the nozzle mounting portion, and the fixing member contacts the nozzle mounting portion when the position of the slider is unlocked. It is tilted away from the slider with the fulcrum as the center.

請求項に記載の発明は、請求項1ないしのいずれかに記載の塗布装置であって、前記複数の可動ノズル、前記複数のノズルから吐出されて基板に塗布された流動性材料のパターン、または、前記複数のノズルから吐出される流動性材料の複数の液柱の観察に利用される光学系をさらに備える。 The invention according to claim 8 is the coating apparatus according to any one of claims 1 to 7 , wherein the plurality of movable nozzles, the pattern of the fluid material discharged from the plurality of nozzles and applied to the substrate. Or an optical system used for observing a plurality of liquid columns of the fluid material discharged from the plurality of nozzles.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の塗布装置であって、前記光学系を介して前記複数の可動ノズル、前記流動性材料の前記パターン、または、前記流動性材料の前記複数の液柱の画像を取得する撮像部と、前記画像から前記副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を検出するピッチ検出部とをさらに備える。 The invention according to claim 9 is the coating apparatus according to claim 8 , wherein the plurality of movable nozzles, the pattern of the flowable material, or the plurality of the flowable material via the optical system. An image pickup unit that acquires an image of the liquid column, and a pitch detection unit that detects each distance between two nozzles adjacent to each other in the sub-scanning direction from the image.

請求項10に記載の発明は、請求項に記載の塗布装置であって、前記ピッチ検出部の検出結果に基づいて、前記ピッチ調整機構の前記当接部移動機構を制御する調整機構制御部をさらに備える。 An invention according to claim 10 is the coating apparatus according to claim 9 , wherein an adjustment mechanism control unit that controls the contact portion moving mechanism of the pitch adjustment mechanism based on a detection result of the pitch detection unit. Is further provided.

請求項11に記載の発明は、請求項1ないし10のいずれかに記載の塗布装置であって、前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含む。 An eleventh aspect of the invention is the coating apparatus according to any one of the first to tenth aspects, wherein the fluid material includes a pixel forming material for a flat display device.

請求項12に記載の発明は、請求項11に記載の塗布装置であって、前記画素形成材料が、有機EL表示装置用の有機EL材料または正孔輸送材料である。 A twelfth aspect of the present invention is the coating apparatus according to the eleventh aspect , wherein the pixel forming material is an organic EL material or a hole transport material for an organic EL display device.

本発明では、複数のノズルのピッチを高精度に調整することができる。また、主走査機構および副走査機構により移動する部位を小型化することができる。請求項2およびの発明では、複数のノズルのピッチをより高精度に調整することができる In the present invention, the pitch of the plurality of nozzles can be adjusted with high accuracy. Further, the moving part can be reduced in size by the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism. In the second and third aspects of the invention, the pitch of the plurality of nozzles can be adjusted with higher accuracy .

請求項およびの発明では、複数のノズルのピッチを容易に調整することができる。請求項およびの発明では、ピッチ調整時における可動ノズルの位置のロック解除およびロックを迅速に行うことができる。 In the inventions of claims 4 and 5 , the pitch of the plurality of nozzles can be easily adjusted. According to the sixth and seventh aspects of the present invention, it is possible to quickly unlock and lock the position of the movable nozzle at the time of pitch adjustment.

請求項の発明では、複数のノズルのピッチを高精度に検出することができる。請求項の発明では、複数のノズルのピッチ検出に要する時間を短縮することができる。請求項10の発明では、複数のノズルのピッチを自動的に調整することができる。 In the invention of claim 8 , the pitch of the plurality of nozzles can be detected with high accuracy. According to the ninth aspect of the present invention, the time required to detect the pitch of the plurality of nozzles can be shortened. In the invention of claim 10 , the pitch of the plurality of nozzles can be automatically adjusted.

図1は、本発明の第1の実施の形態に係る塗布装置1の構成を示す平面図であり、図2は塗布装置1の正面図である。塗布装置1は、平面表示装置用のガラス基板(以下、単に「基板」という。)9に画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置1において、アクティブマトリックス駆動方式の有機EL(Electro Luminescence)表示装置用の基板9に、画素形成材料である有機EL材料および溶媒(例えば、メシチレン)を含む流動性材料(以下、「有機EL液」という。)が塗布される。   FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a coating apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the coating apparatus 1. The coating apparatus 1 is an apparatus that applies a fluid material containing a pixel forming material to a glass substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) 9 for a flat display device. In the present embodiment, in the coating apparatus 1, a flowable material including an organic EL material that is a pixel forming material and a solvent (for example, mesitylene) on a substrate 9 for an active matrix driving organic EL (Electro Luminescence) display device. (Hereinafter referred to as “organic EL liquid”) is applied.

図2に示すように、塗布装置1は、基板9を保持する基板保持部11を備え、基板保持部11は内部にヒータによる加熱機構(図示省略)を備える。塗布装置1は、また、図1および図2に示すように、基板保持部11を基板9の主面に対して平行な所定の方向(すなわち、図1中のY方向であり、以下、「副走査方向」という。)に水平移動するとともに垂直方向(すなわち、Z方向)に向く軸を中心として回転する基板移動機構12、基板9上に形成されたアライメントマーク(図示省略)を撮像して検出するアライメントマーク検出部13、基板保持部11上の基板9に向けて4本のノズル17から有機EL液を連続的に吐出する吐出機構である塗布ヘッド14、塗布ヘッド14を基板9の主面に平行であって副走査方向に垂直な方向(すなわち、図1中のY方向に垂直なX方向であり、以下、「主走査方向」という。)に水平移動するヘッド移動機構15、および、主走査方向に関して基板保持部11の両側に設けられるとともに塗布ヘッド14からの有機EL液を受ける2つの受液部16を備える。塗布装置1は、また、塗布ヘッド14の4本のノズル17に同一種類の有機EL液を供給する流動性材料供給部、および、これらの構成を制御する制御部をさらに備える。   As shown in FIG. 2, the coating apparatus 1 includes a substrate holding unit 11 that holds a substrate 9, and the substrate holding unit 11 includes a heating mechanism (not shown) using a heater. As shown in FIGS. 1 and 2, the coating apparatus 1 moves the substrate holding part 11 in a predetermined direction parallel to the main surface of the substrate 9 (that is, the Y direction in FIG. Imaging the alignment mark (not shown) formed on the substrate moving mechanism 12 and the substrate 9 that horizontally moves in the sub-scanning direction) and rotates around an axis oriented in the vertical direction (that is, the Z direction). The coating head 14 and the coating head 14 which are ejection mechanisms for continuously ejecting the organic EL liquid from the four nozzles 17 toward the substrate 9 on the alignment mark detection unit 13 and the substrate holding unit 11 are detected. A head moving mechanism 15 that horizontally moves in the direction parallel to the surface and perpendicular to the sub-scanning direction (that is, the X direction perpendicular to the Y direction in FIG. 1 and hereinafter referred to as “main scanning direction”); , The main scanning direction It comprises two liquid receiving part 16 which together are provided on both sides of the substrate holder 11 receiving the organic EL liquid from the coating head 14 Te. The coating apparatus 1 further includes a fluid material supply unit that supplies the same type of organic EL liquid to the four nozzles 17 of the coating head 14 and a control unit that controls these configurations.

制御部は、通常のコンピュータと同様に、各種演算処理を行うCPU、実行されるプログラムを記憶したり演算処理の作業領域となるRAM、基本プログラムを記憶するROM、各種情報を記憶する固定ディスク、作業者に各種情報を表示するディスプレイ、および、キーボードやマウス等の入力部等を接続した構成となっている。図3は、制御部2のCPU等がプログラムに従って演算処理を行うことにより実現される機能を他の構成と共に示すブロック図であり、図3中のピッチ検出部21および調整機構制御部22が、CPU等により実現される機能に相当する。なお、これらの機能は複数台のコンピュータにより実現されてもよい。   As with a normal computer, the control unit includes a CPU that performs various arithmetic processes, a RAM that stores programs to be executed and a work area for arithmetic processes, a ROM that stores basic programs, a fixed disk that stores various information, A display for displaying various information to the worker and an input unit such as a keyboard and a mouse are connected. FIG. 3 is a block diagram showing a function realized by the CPU 2 of the control unit 2 performing arithmetic processing according to a program together with other configurations. The pitch detection unit 21 and the adjustment mechanism control unit 22 in FIG. This corresponds to a function realized by a CPU or the like. Note that these functions may be realized by a plurality of computers.

図1に示す塗布ヘッド14では、4本のノズル17が、図1中のX方向(すなわち、主走査方向)に関して略直線状に離れて配列されるとともに図1中のY方向(すなわち、副走査方向)に僅かにずれて配置される。本実施の形態では、隣接する2本のノズル17の間の副走査方向に関する距離が、基板9の塗布領域91(図1中において破線で囲んで示す。)上に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁間のピッチ(以下、「隔壁ピッチ」という。)の3倍に等しくなるように調整される。ノズル17間の距離の調整方法については後述する。   In the coating head 14 shown in FIG. 1, the four nozzles 17 are arranged substantially linearly with respect to the X direction in FIG. 1 (that is, the main scanning direction) and at the same time in the Y direction in FIG. In the scanning direction). In the present embodiment, the distance between the adjacent two nozzles 17 in the sub-scanning direction is formed in advance on the application region 91 (shown by being surrounded by a broken line in FIG. 1) of the substrate 9. The pitch is adjusted to be equal to three times the pitch between the partition walls extending in the direction (hereinafter referred to as “partition wall pitch”). A method for adjusting the distance between the nozzles 17 will be described later.

図4および図5はそれぞれ、塗布ヘッド14を示す正面図および平面図である。図4および図5に示すように、塗布ヘッド14は、基板9(図1参照)に向けて有機EL液を連続的に吐出する4本のノズル(以下、4本のノズルを区別して説明する場合、(−X)側から順に「第1ノズル17a」、「第2ノズル17b」、「第3ノズル17c」、「第4ノズル17d」という。)、および、当該4本のノズルが取り付けられるノズル取付部141を備える。ノズル取付部141は、Y方向に略垂直な背板部1411、および、背板部1411の下端部(すなわち、(−Z)側の端部)に固定されるZ方向に略垂直な水平部1412を備える。   4 and 5 are a front view and a plan view showing the coating head 14, respectively. As shown in FIGS. 4 and 5, the coating head 14 is described by distinguishing four nozzles (hereinafter, four nozzles) that continuously discharge the organic EL liquid toward the substrate 9 (see FIG. 1). In this case, “the first nozzle 17a”, “the second nozzle 17b”, “the third nozzle 17c”, and “the fourth nozzle 17d”) are sequentially attached from the (−X) side, and the four nozzles are attached. A nozzle mounting portion 141 is provided. The nozzle mounting portion 141 includes a back plate portion 1411 substantially perpendicular to the Y direction, and a horizontal portion substantially perpendicular to the Z direction fixed to the lower end portion of the back plate portion 1411 (that is, the (−Z) side end portion). 1412.

ノズル取付部141の水平部1412には、(−Y)側のエッジから(+Y)方向(すなわち、副走査方向)に伸びる3つの案内溝142が形成されており、当該3つの案内溝142には、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dがそれぞれ取り付けられる。第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dはそれぞれ、先端から有機EL液が吐出される略円柱状のノズル本体171、および、ノズル本体171に垂直に取り付けられる板状のスライダ172を備え、当該スライダ172は、ノズル取付部141の案内溝142内に設けられたスライダ保持部143上に保持されて当該案内溝142に沿って移動可能とされる。このように、塗布ヘッド14では、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dは、副走査方向に関して個別に移動可能な可動ノズルとなっている。   In the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141, three guide grooves 142 extending from the (−Y) side edge in the (+ Y) direction (that is, the sub-scanning direction) are formed. The first nozzle 17a, the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d are respectively attached. Each of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d includes a substantially columnar nozzle body 171 from which the organic EL liquid is discharged from the tip, and a plate-like slider 172 attached perpendicularly to the nozzle body 171. The slider 172 is held on a slider holding portion 143 provided in the guide groove 142 of the nozzle mounting portion 141 and is movable along the guide groove 142. Thus, in the coating head 14, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are movable nozzles that are individually movable in the sub-scanning direction.

第1ノズル17aの(−X)側には、第1ノズル17aのスライダ172のノズル取付部141に対する位置をロックするノズルロック部173aが設けられ、第1ノズル17aの(−X)側には、第1ノズル17aのスライダ172が案内溝142から浮き上がることを防止するガイド板144が設けられる。ノズルロック部173aは、スライダ172の位置のロック時にスライダ172の上面(すなわち、(+Z)側の主面)に当接する固定部材1731、および、固定部材1731をスライダ172に向けて押圧することにより、スライダ172をノズル取付部141のスライダ保持部143に向けて付勢する押圧部1732を備える。   On the (−X) side of the first nozzle 17a, a nozzle lock portion 173a for locking the position of the slider 172 with respect to the nozzle mounting portion 141 of the first nozzle 17a is provided, and on the (−X) side of the first nozzle 17a. A guide plate 144 that prevents the slider 172 of the first nozzle 17a from floating from the guide groove 142 is provided. The nozzle locking portion 173a is configured to press the fixing member 1731 toward the slider 172, and the fixing member 1731 that contacts the upper surface of the slider 172 (that is, the (+ Z) side main surface) when the position of the slider 172 is locked. In addition, a pressing portion 1732 that biases the slider 172 toward the slider holding portion 143 of the nozzle mounting portion 141 is provided.

図6は、ノズルロック部173a近傍を拡大して示す左側面図である。図6では、図の理解を容易にするために、ノズルロック部173aの奥側に位置する第1ノズル17aの図示を省略している。図5および図6に示すように、ノズル取付部141の背板部1411には、当該背板部1411から(−Y)方向に突出するプランジャ1413が固定されており、プランジャ1413の(−Y)側の先端部は、固定部材1731に当接している。   FIG. 6 is an enlarged left side view showing the vicinity of the nozzle lock portion 173a. In FIG. 6, in order to facilitate understanding of the drawing, the first nozzle 17a located on the back side of the nozzle lock portion 173a is not shown. As shown in FIGS. 5 and 6, a plunger 1413 protruding in the (−Y) direction from the back plate portion 1411 is fixed to the back plate portion 1411 of the nozzle mounting portion 141. ) Side tip is in contact with the fixing member 1731.

図6に示すように、固定部材1731は、(+Y)側の側面にプランジャ1413が当接する略直方体状の固定部材本体1733、および、固定部材本体1733の(−Y)側の側面から(−Y)側へと突出する板状の庇部1734を備える。また、固定部材1731は、固定部材本体1733の下面(すなわち、(−Z)側の面)においてプランジャ1413近傍およびプランジャ1413から離れた部位(すなわち、(+Y)側および(−Y)側)にそれぞれ設けられた第1突起部1735および第2突起部1736を備える。第2突起部1736は、図4ないし図6に示すように、第1ノズル17aのスライダ172(図4参照)の上方において案内溝142(図5参照)に略平行に伸びる線状の突起部であり、第1突起部1735は、固定部材本体1733の下面において、X方向に関して第1ノズル17aから離れた部位(すなわち、(−X)側)の角部に設けられる点状の突起部である。第1突起部1735の下端部は、ノズル取付部141の水平部1412の上面から僅かに離間している。   As shown in FIG. 6, the fixing member 1731 has a substantially rectangular parallelepiped fixing member main body 1733 in which the plunger 1413 abuts on the (+ Y) side surface, and the (−Y) side side surface of the fixing member main body 1733 (− Y) A plate-shaped flange portion 1734 protruding toward the side is provided. In addition, the fixing member 1731 is located near the plunger 1413 and on a portion away from the plunger 1413 (that is, (+ Y) side and (−Y) side) on the lower surface (that is, (−Z) side surface) of the fixing member main body 1733. A first protrusion 1735 and a second protrusion 1736 are provided respectively. As shown in FIGS. 4 to 6, the second protrusion 1736 is a linear protrusion that extends substantially parallel to the guide groove 142 (see FIG. 5) above the slider 172 (see FIG. 4) of the first nozzle 17a. The first protrusion 1735 is a dot-like protrusion provided at a corner of the lower surface of the fixing member main body 1733 away from the first nozzle 17a in the X direction (that is, the (−X) side). is there. The lower end of the first protrusion 1735 is slightly separated from the upper surface of the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141.

押圧部1732は、固定部材1731の固定部材本体1733をZ方向に貫通するとともにノズル取付部141の水平部1412に固定される2つのボルト1737、および、2つのボルト1737のそれぞれの頭部と固定部材本体1733の上面との間に設けられる2つの弾性部材1738(本実施の形態では、コイルバネ)を備える。ボルト1737は、固定部材本体1733に形成された貫通穴に挿入されており、ボルト1737の外側面は当該貫通穴の内側面から離間している。   The pressing portion 1732 passes through the fixing member main body 1733 of the fixing member 1731 in the Z direction and is fixed to the heads of the two bolts 1737 and the two bolts 1737 that are fixed to the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141. Two elastic members 1738 (in this embodiment, coil springs) provided between the upper surface of the member main body 1733 are provided. The bolt 1737 is inserted into a through hole formed in the fixing member main body 1733, and the outer surface of the bolt 1737 is separated from the inner surface of the through hole.

ノズルロック部173aでは、圧縮状態の弾性部材1738により、固定部材1731が第1ノズル17aのスライダ172(図4参照)に向けて押圧されている。これにより、固定部材1731の第2突起部1736が、Z方向に関してノズル取付部141の水平部1412の上面と等しい位置に位置するスライダ172の上面に当接し、当該スライダ172をスライダ保持部143(図4参照)に向けて付勢することにより、スライダ172のノズル取付部141に対する位置がロックされる(すなわち、第1ノズル17aがノズル取付部141に対して固定される。)。   In the nozzle lock portion 173a, the fixed member 1731 is pressed toward the slider 172 (see FIG. 4) of the first nozzle 17a by the compressed elastic member 1738. As a result, the second protrusion 1736 of the fixing member 1731 contacts the upper surface of the slider 172 located at the same position as the upper surface of the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141 in the Z direction, and the slider 172 is moved to the slider holding portion 143 ( By urging the slider 172 toward the nozzle mounting portion 141, the position of the slider 172 relative to the nozzle mounting portion 141 is locked (that is, the first nozzle 17a is fixed to the nozzle mounting portion 141).

ノズルロック部173aでは、固定部材1731の庇部1734が(+Z)方向に持ち上げられることにより、図6中に二点鎖線にて示すように、固定部材1731が、プランジャ1413の先端部との接触部を支点として、押圧部1732の弾性部材1738を圧縮しつつ僅かに傾けられる。このように、ノズル取付部141(のプランジャ1413)と接触する支点を中心として、固定部材1731がスライダ172から離れる方向に傾けられることにより、固定部材1731の第2突起部1736がスライダ172から離間し、スライダ172の位置のロックが解除される。ノズルロック部173aでは、固定部材1731がスライダ172から離間した状態において(−X)側に僅かに傾斜することがあるが、第1突起部1735がノズル取付部141の水平部1412に当接することにより、固定部材1731が過剰に傾斜してしまうことが防止される。   In the nozzle lock portion 173a, when the flange portion 1734 of the fixing member 1731 is lifted in the (+ Z) direction, the fixing member 1731 comes into contact with the distal end portion of the plunger 1413 as shown by a two-dot chain line in FIG. The elastic member 1738 of the pressing portion 1732 is slightly tilted with the portion as a fulcrum. As described above, the second protrusion 1736 of the fixing member 1731 is separated from the slider 172 by tilting the fixing member 1731 away from the slider 172 with the fulcrum in contact with the nozzle mounting portion 141 (the plunger 1413) as the center. Then, the position of the slider 172 is unlocked. In the nozzle lock portion 173a, the fixing member 1731 may be slightly inclined to the (−X) side in a state where the fixing member 1731 is separated from the slider 172. However, the first protrusion 1735 contacts the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141. This prevents the fixing member 1731 from being excessively inclined.

図4および図5に示すように、塗布ヘッド14では、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの(−X)側に、上記ノズルロック部173aと同様の構造を有するノズルロック部173b,173dがそれぞれ設けられ、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの(+X)側にガイド板144がそれぞれ設けられる。塗布ヘッド14では、ノズルロック部173a,173b,173dによる第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dのそれぞれのスライダ172のロックが解除されることにより、これら3本の可動ノズルの副走査方向へのそれぞれの移動が可能とされる。   As shown in FIGS. 4 and 5, in the coating head 14, nozzle lock portions 173b and 173d having the same structure as the nozzle lock portion 173a are provided on the (−X) side of the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d. The guide plates 144 are provided on the (+ X) side of the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d, respectively. In the application head 14, the sliders 172 of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are unlocked by the nozzle lock portions 173a, 173b, and 173d, so that the auxiliary nozzles of these three movable nozzles are released. Each movement in the scanning direction is enabled.

一方、第3ノズル17cは、ノズル取付部141の水平部1412に移動不可能に固定される。換言すれば、塗布ヘッド14では、4本のノズルのうち1本を除く他の全てのノズルである可動ノズル(すなわち、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17d)が、ノズル取付部141に対して副走査方向に個別に移動可能に取り付けられる。塗布装置1では、後述するノズル位置の調整時に、第3ノズル17cの位置を基準として他の3本の可動ノズルの位置が調整される。   On the other hand, the third nozzle 17 c is fixed to the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141 so as not to move. In other words, in the coating head 14, the movable nozzles (that is, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d) that are all other nozzles except for one of the four nozzles are attached to the nozzle. It is attached to the portion 141 so as to be individually movable in the sub-scanning direction. In the coating apparatus 1, the positions of the other three movable nozzles are adjusted with reference to the position of the third nozzle 17c when adjusting the nozzle position, which will be described later.

図1に示す塗布装置1では、4本のノズル17がノズル取付部141(図4および図5参照)に固定された状態にて、ヘッド移動機構15により塗布ヘッド14が有機EL液を連続的に吐出しつつ主走査方向に移動し、塗布ヘッド14の主走査方向への移動が1回行われる毎に、基板移動機構12により基板9が副走査方向にステップ移動する。そして、ノズル17の基板9に対する主走査方向および副走査方向への相対移動が繰り返されることにより、基板9に有機EL液がストライプ状に塗布される。塗布装置1では、ヘッド移動機構15および基板移動機構12がそれぞれ、4本のノズル17をノズル取付部141と共に基板9に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動する主走査機構および副走査機構となる。   In the coating apparatus 1 shown in FIG. 1, the coating head 14 continuously applies the organic EL liquid by the head moving mechanism 15 in a state where the four nozzles 17 are fixed to the nozzle mounting portion 141 (see FIGS. 4 and 5). The substrate 9 is moved stepwise in the sub-scanning direction by the substrate moving mechanism 12 each time the coating head 14 is moved once in the main scanning direction. Then, the relative movement of the nozzle 17 relative to the substrate 9 in the main scanning direction and the sub-scanning direction is repeated, so that the organic EL liquid is applied to the substrate 9 in a stripe shape. In the coating apparatus 1, the head moving mechanism 15 and the substrate moving mechanism 12 respectively have a main scanning mechanism that moves the four nozzles 17 relative to the substrate 9 together with the nozzle mounting portion 141 in the main scanning direction and the sub-scanning direction. It becomes a sub-scanning mechanism.

図1および図2に示すように、塗布装置1は、複数の可動ノズル(すなわち、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17d)を副走査方向に個別に移動することにより副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離(以下、「ノズル間距離」という。)を調整するピッチ調整機構3、ノズル17の副走査方向に関する位置を検出するノズル位置検出部4、並びに、ノズルロック部173a,173b,173dを操作することにより可動ノズルのスライダ172の位置のロックおよびロックの解除を行うロック部操作機構5をさらに備え、これらの構成も図3に示す制御部2により制御される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the coating apparatus 1 performs sub-scanning by individually moving a plurality of movable nozzles (that is, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d) in the sub-scanning direction. A pitch adjusting mechanism 3 that adjusts each distance between two nozzles adjacent to each other in terms of direction (hereinafter referred to as “inter-nozzle distance”), a nozzle position detector 4 that detects a position of the nozzle 17 in the sub-scanning direction, and A lock unit operating mechanism 5 that locks and unlocks the position of the slider 172 of the movable nozzle by operating the nozzle lock units 173a, 173b, and 173d is further provided. These components are also controlled by the control unit 2 shown in FIG. Is done.

塗布装置1では、ピッチ調整機構3、ノズル位置検出部4およびロック部操作機構5が、塗布ヘッド14の(+X)側において塗布ヘッド14とは個別に設けられており、4本のノズル17およびノズル取付部141(図4および図5参照)は、ヘッド移動機構15および基板移動機構12により、ピッチ調整機構3、ノズル位置検出部4およびロック部操作機構5から独立して移動する。換言すれば、ピッチ調整機構3、ノズル位置検出部4およびロック部操作機構5は、ヘッド移動機構15および基板移動機構12による基板9に対する塗布ヘッド14の相対移動から独立して配置される。   In the coating apparatus 1, the pitch adjustment mechanism 3, the nozzle position detection unit 4, and the lock unit operation mechanism 5 are provided separately from the coating head 14 on the (+ X) side of the coating head 14, and the four nozzles 17 and The nozzle mounting portion 141 (see FIGS. 4 and 5) is moved independently of the pitch adjusting mechanism 3, the nozzle position detecting portion 4 and the lock portion operating mechanism 5 by the head moving mechanism 15 and the substrate moving mechanism 12. In other words, the pitch adjustment mechanism 3, the nozzle position detection unit 4, and the lock unit operation mechanism 5 are disposed independently from the relative movement of the coating head 14 relative to the substrate 9 by the head movement mechanism 15 and the substrate movement mechanism 12.

ノズル位置検出部4は、図2に示すように、複数のノズル17よりも(+Z)側に配置されて当該複数のノズル17の観察に利用される光学系41、および、光学系41を介して複数のノズル17の画像を順次取得する撮像部42(本実施の形態では、CCD(Charge Coupled Device)カメラ)を備える。本実施の形態では、撮像部42により1本の可動ノズル(すなわち、第1ノズル17a,第2ノズル17bおよび第4ノズル17dのいずれか)のスライダ172の上面、および、ノズル取付部141の水平部1412(図4および図5参照)の上面における当該スライダ172近傍の部位が撮像される。   As shown in FIG. 2, the nozzle position detection unit 4 is disposed on the (+ Z) side of the plurality of nozzles 17 and used for observation of the plurality of nozzles 17, and the optical system 41 The image pickup unit 42 (in this embodiment, a CCD (Charge Coupled Device) camera) that sequentially acquires images of the plurality of nozzles 17 is provided. In the present embodiment, the upper surface of the slider 172 of one movable nozzle (that is, one of the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d) and the horizontal of the nozzle mounting portion 141 are captured by the imaging unit 42. A region near the slider 172 on the upper surface of the portion 1412 (see FIGS. 4 and 5) is imaged.

そして、制御部2のピッチ検出部21(図3参照)により、撮像部42により取得された3本の可動ノズルの画像から、スライダ172および水平部1412の双方に設けられた目印の位置関係に基づいて、3本の可動ノズルのノズル取付部141に対する相対位置が求められ、各ノズル間距離が検出される。なお、塗布装置1では、必ずしも、スライダ172および水平部1412に目印が設けられる必要はなく、スライダ172の輪郭や水平部1412の案内溝142の輪郭等のうち、特徴的な部位の位置関係に基づいて可動ノズルの位置検出が行われてもよい。   Then, from the images of the three movable nozzles acquired by the imaging unit 42 by the pitch detection unit 21 (see FIG. 3) of the control unit 2, the positional relationship between the marks provided on both the slider 172 and the horizontal unit 1412 is determined. Based on this, the relative positions of the three movable nozzles with respect to the nozzle mounting portion 141 are obtained, and the distance between the nozzles is detected. In the coating apparatus 1, the slider 172 and the horizontal portion 1412 are not necessarily provided with marks, and the positional relationship between the characteristic portions of the outline of the slider 172, the outline of the guide groove 142 of the horizontal portion 1412, and the like. Based on this, the position of the movable nozzle may be detected.

図7は、ロック部操作機構5を示す左側面図である。図7では、塗布ヘッド14のノズル取付部141の一部、および、ノズルロック部173aも共に描いている。図7に示すように、ロック部操作機構5は、図7中のおよそY方向にロッド51を進退するシリンダ52、および、一方の端部がロッド51の(+Y)側の先端に取り付けられるクランクアーム53を備える。クランクアーム53のロッド51とは反対側の端部は、支柱54に設けられた回転軸55を中心として当該支柱54に回転可能に取り付けられている。   FIG. 7 is a left side view showing the lock unit operating mechanism 5. In FIG. 7, a part of the nozzle mounting portion 141 of the coating head 14 and the nozzle lock portion 173a are also drawn. As shown in FIG. 7, the lock unit operating mechanism 5 includes a cylinder 52 that moves the rod 51 forward and backward in approximately the Y direction in FIG. 7, and a crank that has one end attached to the (+ Y) side tip of the rod 51. Arm 53 is provided. The end of the crank arm 53 opposite to the rod 51 is rotatably attached to the column 54 around a rotation shaft 55 provided on the column 54.

ロック部操作機構5では、シリンダ52のロッド51が(+Y)側に移動することにより、クランクアーム53が、回転軸55を中心として図7中における時計回りに所定の角度だけ回転して二点鎖線にて示す位置まで移動する。これにより、クランクアーム53の支柱54側の端部に設けられた解除部56が、ノズルロック部173aの固定部材1731の庇部1734に(−Z)側から当接し、庇部1734を(+Z)方向に向けて押圧する。その結果、固定部材1731が、図7中に二点鎖線にて示すように、プランジャ1413の先端部との接触部を支点として傾き、固定部材1731が第1ノズル17aのスライダ172(図4および図5参照)から離間してスライダ172のロックが解除される。   In the lock portion operation mechanism 5, when the rod 51 of the cylinder 52 moves to the (+ Y) side, the crank arm 53 rotates about the rotation shaft 55 by a predetermined angle clockwise in FIG. Move to the position indicated by the chain line. As a result, the release portion 56 provided at the end of the crank arm 53 on the column 54 side comes into contact with the flange portion 1734 of the fixing member 1731 of the nozzle lock portion 173a from the (−Z) side, and the flange portion 1734 is moved to (+ Z ) Press in the direction. As a result, as shown by a two-dot chain line in FIG. 7, the fixing member 1731 is tilted with the contact portion with the tip of the plunger 1413 as a fulcrum, and the fixing member 1731 is the slider 172 of the first nozzle 17a (see FIGS. 4 and 4). The slider 172 is unlocked at a distance from (see FIG. 5).

また、ロック部操作機構5では、シリンダ52のロッド51が(−Y)側に移動することにより、クランクアーム53がノズルロック部173aの固定部材1731から離間して元の位置まで戻る。これにより、当該固定部材1731が押圧部1732により(−Z)方向へと押圧され、スライダ172がノズル取付部141の水平部1412に向けて付勢される。その結果、第1ノズル17aのスライダ172のノズル取付部141に対する位置が再びロックされる。   Further, in the lock part operation mechanism 5, when the rod 51 of the cylinder 52 moves to the (−Y) side, the crank arm 53 moves away from the fixing member 1731 of the nozzle lock part 173a and returns to the original position. As a result, the fixing member 1731 is pressed in the (−Z) direction by the pressing portion 1732, and the slider 172 is biased toward the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141. As a result, the position of the first nozzle 17a with respect to the nozzle mounting portion 141 of the slider 172 is locked again.

塗布装置1では、図1および図2に示すヘッド移動機構15により塗布ヘッド14が主走査方向に移動することにより、1本の可動ノズル(すなわち、図4および図5に示す第1ノズル17a,第2ノズル17bおよび第4ノズル17dのいずれか)がロック部操作機構5の解除部56(図7参照)の(+Y)側に位置し、この状態で上述のようにロック部操作機構5が駆動されることにより、当該1本の可動ノズルのロック解除およびロックが行われる。   In the coating apparatus 1, when the coating head 14 is moved in the main scanning direction by the head moving mechanism 15 illustrated in FIGS. 1 and 2, one movable nozzle (that is, the first nozzle 17a illustrated in FIGS. One of the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d) is located on the (+ Y) side of the release portion 56 (see FIG. 7) of the lock portion operation mechanism 5, and in this state, the lock portion operation mechanism 5 is as described above. When driven, the single movable nozzle is unlocked and locked.

図8および図9は、ピッチ調整機構3を塗布ヘッド14と共にそれぞれ示す平面図および左側面図である。図8では、塗布ヘッド14の一部のみを描いており、また、図の理解を容易にするために、図4および図5に示すノズルロック部173aおよびガイド板144の図示を省略している。図9では、図の理解を容易にするために、ノズル取付部141および第1ノズル17aの一部を、第1ノズル17aの中心軸を含む断面にて示しており、図8に示す第1固定部311の(−X)側の第1当接部3111の図示を図9では省略している。   FIGS. 8 and 9 are a plan view and a left side view, respectively, showing the pitch adjusting mechanism 3 together with the coating head 14. In FIG. 8, only a part of the coating head 14 is illustrated, and the nozzle lock portion 173 a and the guide plate 144 illustrated in FIGS. 4 and 5 are not illustrated for easy understanding of the drawings. . In FIG. 9, in order to facilitate understanding of the drawing, a part of the nozzle mounting portion 141 and the first nozzle 17a is shown in a cross section including the central axis of the first nozzle 17a, and the first shown in FIG. The illustration of the first contact portion 3111 on the (−X) side of the fixing portion 311 is omitted in FIG. 9.

図8および図9に示すように、ピッチ調整機構3は、ノズル取付部141の水平部1412に(+Y)側および(−Y)側(すなわち、副走査方向の両側)から当接してノズル取付部141を固定する取付部固定機構31、第1ノズル17aに(−Y)側(すなわち、副走査方向の一方側)から当接するノズル当接部32、ノズル当接部32とは反対側(すなわち、第1ノズル17aの(+Y)側であり、副走査方向の他方側でもある。)から第1ノズル17aをノズル当接部32へと付勢するノズル付勢機構33、および、ノズル付勢機構33により付勢されている第1ノズル17aが当接するノズル当接部32の副走査方向の位置を調整する当接部移動機構34を備える。   As shown in FIGS. 8 and 9, the pitch adjusting mechanism 3 is in contact with the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141 from the (+ Y) side and the (−Y) side (that is, both sides in the sub-scanning direction) to mount the nozzle. The attachment portion fixing mechanism 31 that fixes the portion 141, the nozzle contact portion 32 that contacts the first nozzle 17a from the (−Y) side (that is, one side in the sub-scanning direction), and the opposite side of the nozzle contact portion 32 ( That is, the nozzle urging mechanism 33 that urges the first nozzle 17a toward the nozzle contact portion 32 from the (+ Y) side of the first nozzle 17a and the other side in the sub-scanning direction) A contact portion moving mechanism 34 for adjusting the position in the sub-scanning direction of the nozzle contact portion 32 with which the first nozzle 17a biased by the bias mechanism 33 contacts is provided.

取付部固定機構31は、塗布ヘッド14の(−Y)側において、ノズル取付部141の水平部1412に(−Y)側から当接する第1固定部311、第1固定部311が取り付けられる第1支持部312、および、第1支持部312を副走査方向に移動する第1移動機構313を備える。第1固定部311は、主走査方向に配列される2つの第1当接部3111を備え、主走査方向に関して当該2つの第1当接部3111の間において、ノズル当接部32および当接部移動機構34が第1支持部312に取り付けられている。   The mounting portion fixing mechanism 31 includes a first fixing portion 311 and a first fixing portion 311 that are in contact with the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141 from the (−Y) side on the (−Y) side of the coating head 14. 1 support part 312 and the 1st moving mechanism 313 which moves the 1st support part 312 to a subscanning direction are provided. The first fixing portion 311 includes two first contact portions 3111 arranged in the main scanning direction, and the nozzle contact portion 32 and the contact between the two first contact portions 3111 in the main scanning direction. The part moving mechanism 34 is attached to the first support part 312.

取付部固定機構31は、また、塗布ヘッド14の(+Y)側において、ノズル取付部141の水平部1412に(+Y)側から当接する第2固定部314、第2固定部314が取り付けられる第2支持部315、および、第2支持部315を副走査方向に移動する第2移動機構316を備える。第2固定部314は、主走査方向に配列される2つの第2当接部3141を備え、主走査方向に関して当該2つの第2当接部3141の間において、後述するノズル付勢機構33のロッド331およびエアシリンダ332が第2支持部315に取り付けられている。   The attachment portion fixing mechanism 31 also has a second attachment portion 314 and a second attachment portion 314 attached to the horizontal portion 1412 of the nozzle attachment portion 141 from the (+ Y) side on the (+ Y) side of the application head 14. 2 support part 315 and the 2nd moving mechanism 316 which moves the 2nd support part 315 to a subscanning direction are provided. The second fixing portion 314 includes two second abutting portions 3141 arranged in the main scanning direction, and between the two second abutting portions 3141 in the main scanning direction, a later-described nozzle urging mechanism 33 is arranged. A rod 331 and an air cylinder 332 are attached to the second support portion 315.

当接部移動機構34は、第1ノズル17aのスライダ172の(−Y)側の側面に当接するノズル当接部32に接続されるマイクロメータ341、および、マイクロメータ341とカップリング342を介して接続されるステッピングモータ343を備える。ノズル付勢機構33は、ノズル取付部141の背板部1411に形成された貫通穴を介して第1ノズル17aのスライダ172の(+Y)側の側面に当接するロッド331、ロッド331をスライダ172に向けて押圧するエアシリンダ332、および、エアシリンダ332に接続されてエアシリンダ332内の圧力を制御するレギュレータ333を備える。   The contact portion moving mechanism 34 is connected to a micrometer 341 connected to the nozzle contact portion 32 that contacts the side surface on the (−Y) side of the slider 172 of the first nozzle 17 a, and the micrometer 341 and the coupling 342. A stepping motor 343 connected thereto. The nozzle urging mechanism 33 includes a rod 331 and a rod 331 that are in contact with the side surface on the (+ Y) side of the slider 172 of the first nozzle 17a through a through hole formed in the back plate portion 1411 of the nozzle mounting portion 141. An air cylinder 332 that presses the air cylinder 332 and a regulator 333 that is connected to the air cylinder 332 and controls the pressure in the air cylinder 332.

ピッチ調整機構3では、制御部2の調整機構制御部22(図3参照)により取付部固定機構31の第1移動機構313および第2移動機構316が駆動されることにより、第1支持部312が(+Y)方向へと移動し、第2支持部315が(−Y)方向へと移動する。これにより、第1固定部311および第2固定部314が、ノズル取付部141の水平部1412に(−Y)側および(+Y)側からそれぞれ当接し、ノズル取付部141が第1固定部311および第2固定部314に挟まれて固定される。   In the pitch adjustment mechanism 3, the first support mechanism 312 is driven by the first movement mechanism 313 and the second movement mechanism 316 of the attachment portion fixing mechanism 31 being driven by the adjustment mechanism control unit 22 (see FIG. 3) of the control unit 2. Moves in the (+ Y) direction, and the second support portion 315 moves in the (−Y) direction. As a result, the first fixing portion 311 and the second fixing portion 314 come into contact with the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141 from the (−Y) side and the (+ Y) side, respectively, and the nozzle mounting portion 141 is in contact with the first fixing portion 311. And it is fixed by being sandwiched between the second fixing portions 314.

ピッチ調整機構3では、ノズル取付部141が固定された状態で、当接部移動機構34のステッピングモータ343、および、ノズル付勢機構33のエアシリンダ332が調整機構制御部22により駆動され、ノズル当接部32およびノズル付勢機構33のロッド331が第1ノズル17aに(−Y)側および(+Y)側からそれぞれ当接する。そして、当接部移動機構34によりノズル当接部32が(+Y)方向へと移動されることにより、第1ノズル17aがノズル付勢機構33によりノズル当接部32に付勢された状態で(+Y)方向へと移動する。   In the pitch adjustment mechanism 3, the stepping motor 343 of the contact portion moving mechanism 34 and the air cylinder 332 of the nozzle urging mechanism 33 are driven by the adjustment mechanism control unit 22 while the nozzle mounting portion 141 is fixed. The contact portion 32 and the rod 331 of the nozzle urging mechanism 33 contact the first nozzle 17a from the (−Y) side and the (+ Y) side, respectively. Then, when the nozzle contact portion 32 is moved in the (+ Y) direction by the contact portion moving mechanism 34, the first nozzle 17 a is biased to the nozzle contact portion 32 by the nozzle biasing mechanism 33. Move in the (+ Y) direction.

このとき、ノズル付勢機構33では、エアシリンダ332内の圧力が、ロッド331のエアシリンダ332に対する相対位置に関わらずレギュレータ333により一定に維持されるため、ノズル付勢機構33により第1ノズル17aに加えられる付勢力は、副走査方向における第1ノズル17aの位置に関わらず一定とされる。なお、第1ノズル17aを移動させる際には、第1ノズルロック部173a(図4ないし図6参照)によるロックは予め解除されている。   At this time, in the nozzle urging mechanism 33, the pressure in the air cylinder 332 is maintained constant by the regulator 333 regardless of the relative position of the rod 331 with respect to the air cylinder 332. The urging force applied to is constant regardless of the position of the first nozzle 17a in the sub-scanning direction. In addition, when moving the 1st nozzle 17a, the lock | rock by the 1st nozzle lock part 173a (refer FIG. 4 thru | or FIG. 6) is cancelled | released previously.

塗布装置1では、ノズル当接部32が所定の移動開始位置から(+Y)方向へと1方向にのみ移動しつつ第1ノズル17aの位置調整が行われる。万一、第1ノズル17aが所望の位置よりも(+Y)側まで移動してしまった場合には、ノズル当接部32を一旦、移動開始位置へと戻し、再び(+Y)方向へと移動しつつ第1ノズル17aの位置調整が行われる。ノズル当接部32が移動開始位置まで戻される際も、第1ノズル17aは、ノズル付勢機構33によりノズル当接部32に付勢されており、ノズル当接部32と共に(−Y)方向へと移動する。このように、第1ノズル17aを1方向のみに移動しつつ位置調整を行うことにより、ピッチ調整機構3のバックラッシ等による調整誤差が生じることを防止することができる。   In the coating apparatus 1, the position of the first nozzle 17a is adjusted while the nozzle contact portion 32 moves only in one direction from the predetermined movement start position to the (+ Y) direction. If the first nozzle 17a has moved to the (+ Y) side from the desired position, the nozzle contact portion 32 is temporarily returned to the movement start position and moved again in the (+ Y) direction. However, the position of the first nozzle 17a is adjusted. Even when the nozzle contact portion 32 is returned to the movement start position, the first nozzle 17a is biased to the nozzle contact portion 32 by the nozzle biasing mechanism 33, and together with the nozzle contact portion 32, the (−Y) direction. Move to. In this way, by adjusting the position while moving the first nozzle 17a only in one direction, it is possible to prevent an adjustment error due to backlash of the pitch adjustment mechanism 3 or the like.

図1および図2に示す塗布装置1では、ヘッド移動機構15により塗布ヘッド14が主走査方向に移動することにより、1本の可動ノズル(すなわち、図4および図5に示す第1ノズル17a,第2ノズル17bおよび第4ノズル17dのいずれか)がノズル当接部32とノズル付勢機構33との間に位置し、この状態で上述のように取付部固定機構31、ノズル付勢機構33および当接部移動機構34が駆動されることにより、当該1本の可動ノズルの副走査方向における位置の調整が行われる。   In the coating apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2, when the coating head 14 is moved in the main scanning direction by the head moving mechanism 15, one movable nozzle (that is, the first nozzles 17a and 17a shown in FIGS. 4 and 5). Either one of the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d) is located between the nozzle contact portion 32 and the nozzle urging mechanism 33, and in this state, as described above, the mounting portion fixing mechanism 31 and the nozzle urging mechanism 33. In addition, the position of the single movable nozzle in the sub-scanning direction is adjusted by driving the contact portion moving mechanism 34.

3本の可動ノズルの位置調整(すなわち、各ノズル間距離の調整)は、ノズル位置検出部4の撮像部42により取得された画像から制御部2のピッチ検出部21により検出された各ノズル間距離に基づいて(すなわち、ピッチ検出部21の検出結果に基づいて)、ピッチ調整機構3の当接部移動機構34が調整機構制御部22に制御されることにより順次行われる。   The position adjustment of the three movable nozzles (that is, the adjustment of the distance between the nozzles) is performed between the nozzles detected by the pitch detection unit 21 of the control unit 2 from the image acquired by the imaging unit 42 of the nozzle position detection unit 4. Based on the distance (that is, based on the detection result of the pitch detection unit 21), the contact portion moving mechanism 34 of the pitch adjustment mechanism 3 is sequentially controlled by the adjustment mechanism control unit 22.

次に、塗布装置1における複数のノズルの副走査方向に関するピッチ(以下、「ノズルピッチ」という。)の調整の流れについて説明し、その後、塗布装置1による有機EL液の塗布の流れについて説明する。ノズルピッチが調整される際には、まず、ヘッド移動機構15により、塗布ヘッド14が図1および図2中の(+X)側において二点鎖線にて示す位置へと移動され、第1ノズル17a(図4および図5参照)がノズル位置検出部4の下方、かつ、ノズル当接部32とノズル付勢機構33との間の位置(以下、「調整位置」という。)に位置する。このとき、3本の可動ノズル(すなわち、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17d)は、ノズルロック部173a,173b,173d(図4および図5参照)により、ノズル取付部141に対して固定されている。   Next, the flow of adjusting the pitch (hereinafter referred to as “nozzle pitch”) of the plurality of nozzles in the coating apparatus 1 in the sub-scanning direction will be described, and then the flow of applying the organic EL liquid by the coating apparatus 1 will be described. . When the nozzle pitch is adjusted, first, the coating head 14 is moved by the head moving mechanism 15 to the position indicated by the two-dot chain line on the (+ X) side in FIGS. 1 and 2, and the first nozzle 17a. 4 (see FIGS. 4 and 5) is located below the nozzle position detection unit 4 and at a position between the nozzle contact part 32 and the nozzle urging mechanism 33 (hereinafter referred to as “adjustment position”). At this time, the three movable nozzles (that is, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d) are connected to the nozzle mounting portion 141 by the nozzle lock portions 173a, 173b, and 173d (see FIGS. 4 and 5). It is fixed against.

続いて、制御部2によりノズル位置検出部4の撮像部42が制御されて第1ノズル17aおよびノズル取付部141の水平部1412が撮像され、取得された画像が制御部2のピッチ検出部21(図3参照)に送られる。塗布装置1では、ヘッド移動機構15により第2ノズル17bおよび第4ノズル17dが調整位置へと順次移動され、各ノズル17が順次撮像されて画像が取得される。取得された画像はピッチ検出部21に送られる。   Subsequently, the control unit 2 controls the imaging unit 42 of the nozzle position detection unit 4 to image the horizontal part 1412 of the first nozzle 17 a and the nozzle mounting unit 141, and the acquired image is the pitch detection unit 21 of the control unit 2. (See FIG. 3). In the coating apparatus 1, the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d are sequentially moved to the adjustment position by the head moving mechanism 15, and each nozzle 17 is sequentially imaged to obtain an image. The acquired image is sent to the pitch detector 21.

ピッチ検出部21では、3本の可動ノズルの画像に基づいて各可動ノズルのノズル取付部141に対する相対位置が検出され、当該相対位置に基づいて第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dと第3ノズル17c(図4および図5参照)との間の副走査方向に関するそれぞれの距離が求められる。制御部2では、予め定められているノズルピッチ(上述のように、本実施の形態では隔壁ピッチの3倍に等しい距離であり、以下、「目標ノズルピッチ」という。)に基づいてノズル位置の調整が必要か否かが確認される。   The pitch detector 21 detects the relative positions of the movable nozzles to the nozzle mounting portion 141 based on the images of the three movable nozzles, and the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle based on the relative positions. Respective distances in the sub-scanning direction between 17d and the third nozzle 17c (see FIGS. 4 and 5) are obtained. In the control unit 2, the nozzle position is determined based on a predetermined nozzle pitch (as described above, the distance is equal to three times the partition wall pitch in the present embodiment, and hereinafter referred to as “target nozzle pitch”). It is checked whether adjustment is necessary.

第1ノズル17aと第3ノズル17cとの間の距離が目標ノズルピッチの2倍に等しく、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dと第3ノズル17cとの間のそれぞれの距離が目標ノズルピッチに等しい場合は、ノズル位置の調整が不要と判断されノズルピッチの調整作業が終了する。   The distance between the first nozzle 17a and the third nozzle 17c is equal to twice the target nozzle pitch, and the distance between the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d and the third nozzle 17c is the target nozzle pitch. If they are equal, it is determined that the adjustment of the nozzle position is unnecessary, and the nozzle pitch adjustment operation ends.

逆に、ノズル位置の調整が必要であると判断された場合は、上述のように求められた各ノズル間距離に基づき、第3ノズル17cを基準として第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの副走査方向における移動すべき量(以下、単に「移動量」という。)がピッチ検出部21により求められる。具体的には、第1ノズル17aの移動量は、第1ノズル17aと第3ノズル17cとの間の距離が目標ノズルピッチの2倍に等しくなるように求められ、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dの移動量は、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dと第3ノズル17cとの間のそれぞれの距離が目標ノズルピッチに等しくなるように求められる。以下では、3本の可動ノズル(すなわち、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17d)の全てについて、ノズル位置の調整が必要であると判断されたものとして説明する。   Conversely, when it is determined that the nozzle position needs to be adjusted, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the second nozzle 17c are set based on the third nozzle 17c based on the distance between the nozzles obtained as described above. The pitch detection unit 21 determines the amount of movement of the four nozzles 17d in the sub-scanning direction (hereinafter simply referred to as “movement amount”). Specifically, the amount of movement of the first nozzle 17a is determined so that the distance between the first nozzle 17a and the third nozzle 17c is equal to twice the target nozzle pitch, and the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17a. The amount of movement of the nozzle 17d is determined so that the distances between the second nozzle 17b and the fourth nozzle 17d and the third nozzle 17c are equal to the target nozzle pitch. In the following description, it is assumed that all three movable nozzles (that is, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d) are determined to require adjustment of nozzle positions.

3本の可動ノズルの移動量が求められると、ヘッド移動機構15により第1ノズル17aが調整位置へと移動される。続いて、制御部2の調整機構制御部22(図3参照)により、ピッチ調整機構3の取付部固定機構31(図8および図9参照)において第1移動機構313および第2移動機構316が制御され、第1固定部311および第2固定部314がノズル取付部141の水平部1412に(−Y)側および(+Y)側から当接することにより、ノズル取付部141が固定される。   When the amount of movement of the three movable nozzles is obtained, the first nozzle 17a is moved to the adjustment position by the head moving mechanism 15. Subsequently, the adjusting mechanism control unit 22 (see FIG. 3) of the control unit 2 causes the first moving mechanism 313 and the second moving mechanism 316 to move in the mounting portion fixing mechanism 31 (see FIGS. 8 and 9) of the pitch adjusting mechanism 3. The nozzle mounting portion 141 is fixed by the first fixing portion 311 and the second fixing portion 314 coming into contact with the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141 from the (−Y) side and the (+ Y) side.

次に、制御部2によりロック部操作機構5(図7参照)が駆動され、ノズルロック部173aによる第1ノズル17aのロックが解除されて第1ノズル17aが副走査方向に移動可能とされる。そして、調整機構制御部22により当接部移動機構34のステッピングモータ343が制御され、第1ノズル17aがノズル付勢機構33によりノズル当接部32に付勢された状態で、ピッチ検出部21により求められた移動量に従って(+Y)方向に移動される。第1ノズル17aの副走査方向への移動が終了すると、ロック部操作機構5が再び駆動され、第1ノズル17aの位置がノズルロック部173aによりロックされる。   Next, the lock unit operating mechanism 5 (see FIG. 7) is driven by the control unit 2, the first nozzle 17a is unlocked by the nozzle lock unit 173a, and the first nozzle 17a can be moved in the sub-scanning direction. . Then, the adjustment mechanism control unit 22 controls the stepping motor 343 of the contact portion moving mechanism 34, and the pitch detection unit 21 is in a state where the first nozzle 17 a is biased to the nozzle contact portion 32 by the nozzle biasing mechanism 33. Is moved in the (+ Y) direction according to the movement amount obtained by the above. When the movement of the first nozzle 17a in the sub-scanning direction is completed, the lock unit operating mechanism 5 is driven again, and the position of the first nozzle 17a is locked by the nozzle lock unit 173a.

その後、調整機構制御部22により取付部固定機構31の第1移動機構313および第2移動機構316が再び制御され、第1固定部311および第2固定部314がノズル取付部141の水平部1412から離れることにより、ノズル取付部141の固定が解除される。   Thereafter, the adjustment mechanism control unit 22 controls the first moving mechanism 313 and the second moving mechanism 316 of the mounting portion fixing mechanism 31 again, and the first fixing portion 311 and the second fixing portion 314 are the horizontal portion 1412 of the nozzle mounting portion 141. The nozzle mounting portion 141 is released from being separated from the position.

第1ノズル17aの位置調整が終了すると、第1ノズル17aの調整時と同様に、第2ノズル17bが調整位置に移動され、取付部固定機構31によりノズル取付部141が再び固定される。続いて、ロック部操作機構5によりノズルロック部173bによる第2ノズル17bのロックが解除され、ノズル当接部32、ノズル付勢機構33および当接部移動機構34により、第2ノズル17bがピッチ検出部21により求められた移動量に従って(+Y)方向に移動された後、再びロック部操作機構5が駆動されて第2ノズル17bの位置がノズルロック部173bによりロックされる。また、取付部固定機構31では、ノズル取付部141の固定が解除される。    When the position adjustment of the first nozzle 17a is completed, the second nozzle 17b is moved to the adjustment position, and the nozzle mounting portion 141 is fixed again by the mounting portion fixing mechanism 31, as in the case of adjusting the first nozzle 17a. Subsequently, the lock of the second nozzle 17b by the nozzle lock portion 173b is released by the lock portion operation mechanism 5, and the second nozzle 17b is pitched by the nozzle contact portion 32, the nozzle urging mechanism 33 and the contact portion moving mechanism 34. After moving in the (+ Y) direction according to the movement amount obtained by the detection unit 21, the lock unit operating mechanism 5 is driven again, and the position of the second nozzle 17b is locked by the nozzle lock unit 173b. Further, in the attachment portion fixing mechanism 31, the nozzle attachment portion 141 is released from being fixed.

第2ノズル17bの位置調整が終了すると、第1ノズル17aおよび第2ノズル17bの調整時と同様に、第4ノズル17dの調整位置への移動、ノズル取付部141の固定、第4ノズル17dのロック解除、第4ノズル17dの(+Y)方向への移動、第4ノズル17dのロック、および、ノズル取付部141の固定解除が行われる。    When the position adjustment of the second nozzle 17b is completed, as in the adjustment of the first nozzle 17a and the second nozzle 17b, the fourth nozzle 17d is moved to the adjustment position, the nozzle mounting portion 141 is fixed, and the fourth nozzle 17d is fixed. Unlocking, movement of the fourth nozzle 17d in the (+ Y) direction, locking of the fourth nozzle 17d, and unlocking of the nozzle mounting portion 141 are performed.

このように、塗布装置1では、ピッチ検出部21により求められた移動量に従って、第3ノズル17cを除く全てのノズル(すなわち、全可動ノズル)が副走査方向に個別に順次移動されることによりノズルピッチの調整が行われる。本実施の形態では、ノズルピッチが120μm〜700μmの範囲で調整される。塗布ヘッド14では、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dが個別に移動可能とされているため、第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17dと第3ノズル17cとの間のそれぞれの距離を任意に調整することができる。なお、塗布装置1では、3本の可動ノズルの副走査方向への移動は、いずれの可動ノズルから開始されてもよい。また、ノズルピッチの調整が不要である可動ノズルについては、副走査方向への移動は行われない。   As described above, in the coating apparatus 1, all the nozzles (that is, all the movable nozzles) except the third nozzle 17c are individually moved sequentially in the sub-scanning direction according to the movement amount obtained by the pitch detection unit 21. The nozzle pitch is adjusted. In the present embodiment, the nozzle pitch is adjusted in the range of 120 μm to 700 μm. In the coating head 14, since the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the fourth nozzle 17d are individually movable, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, the fourth nozzle 17d, the third nozzle 17c, Each distance between can be adjusted arbitrarily. In the coating apparatus 1, the movement of the three movable nozzles in the sub-scanning direction may be started from any movable nozzle. Further, the movable nozzles that do not require adjustment of the nozzle pitch are not moved in the sub-scanning direction.

3本の可動ノズルの副走査方向における移動が終了すると、撮像部42により当該3本の固定ノズルが順次撮像され、ピッチ検出部21により各ノズル間距離が求められてノズル位置の再調整が必要か否かが確認される。そして、ノズル位置の再調整が不要と判断された場合は、ノズルピッチの調整作業が終了する。また、ノズル位置の再調整が必要と判断された場合は、ノズル位置の調整が不要と判断されるまで上述のノズルピッチの調整作業が繰り返される。   When the movement of the three movable nozzles in the sub-scanning direction is completed, the three fixed nozzles are sequentially imaged by the imaging unit 42, the distance between the nozzles is obtained by the pitch detection unit 21, and the nozzle position needs to be readjusted. It is confirmed whether or not. If it is determined that the nozzle position does not need to be readjusted, the nozzle pitch adjustment operation is completed. If it is determined that the nozzle position needs to be readjusted, the above-described nozzle pitch adjustment operation is repeated until it is determined that adjustment of the nozzle position is unnecessary.

ノズルピッチの調整作業が終了すると、基板9が基板保持部11に載置されて保持され、アライメントマーク検出部13によりアライメントマークが撮像される。そして、アライメントマーク検出部13からの出力に基づいて基板移動機構12が駆動され、基板9が図1中に実線にて示す塗布開始位置に位置する。塗布ヘッド14は、ヘッド移動機構15により、調整位置から(−X)方向へと移動されて基板9の(+X)側の受液部16の上方(すなわち、図1中において実線にて示す位置)に位置する。   When the nozzle pitch adjustment operation is completed, the substrate 9 is placed and held on the substrate holding unit 11, and the alignment mark detection unit 13 images the alignment mark. Then, the substrate moving mechanism 12 is driven based on the output from the alignment mark detection unit 13, and the substrate 9 is positioned at the application start position indicated by the solid line in FIG. The coating head 14 is moved in the (−X) direction from the adjustment position by the head moving mechanism 15, and above the liquid receiving part 16 on the (+ X) side of the substrate 9 (that is, a position indicated by a solid line in FIG. 1). ).

続いて、流動性材料供給部が制御されてノズル17から有機EL液の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構15が駆動されて塗布ヘッド14の移動が開始される。本実施の形態では、塗布ヘッド14の移動速度は約1m/secとされる。塗布装置1では、4本のノズル17から同一種類の有機EL液を基板9に向けて連続的に吐出しつつ、ノズル17を図1中の(+X)側から(−X)方向に(すなわち、主走査方向に)移動することにより、基板9の塗布領域91上に予め形成された隔壁間の4つの溝に有機EL液が塗布される。塗布装置1では、4つの溝に塗布されたストライプ状の有機EL液は、副走査方向に関して隔壁ピッチの3倍に等しいピッチにて配列される。換言すれば、有機EL液が塗布された近接する2つの溝の間には、他の種類の有機EL液が塗布される予定の(あるいは、塗布された)2つの溝が挟まれる。   Subsequently, the flowable material supply unit is controlled to start discharging the organic EL liquid from the nozzle 17, and the head moving mechanism 15 is driven to start the movement of the coating head 14. In the present embodiment, the moving speed of the coating head 14 is about 1 m / sec. In the coating apparatus 1, the same type of organic EL liquid is continuously discharged from the four nozzles 17 toward the substrate 9, and the nozzle 17 is moved in the (−X) direction from the (+ X) side in FIG. (In the main scanning direction), the organic EL liquid is applied to the four grooves between the partition walls formed in advance on the application region 91 of the substrate 9. In the coating apparatus 1, the stripe-shaped organic EL liquids applied to the four grooves are arranged at a pitch equal to three times the partition wall pitch in the sub-scanning direction. In other words, two grooves to which other types of organic EL liquids are to be applied (or applied) are sandwiched between two adjacent grooves to which the organic EL liquid is applied.

塗布ヘッド14が基板9の(−X)側の受液部16の上方(図1および図2中の(−X)側に二点鎖線にて示す。)まで移動すると、基板移動機構12が駆動され、基板9が基板保持部11と共に図1中の(+Y)方向に隔壁ピッチの12倍の距離だけ移動する。このとき、塗布ヘッド14では、ノズル17から受液部16に向けて有機EL液が連続的に吐出されている。副走査方向における基板9の移動が終了すると、塗布ヘッド14がノズル17から有機EL液を吐出しつつ基板9の(−X)側から(+X)側へと移動する。   When the coating head 14 moves above the liquid receiving part 16 on the (−X) side of the substrate 9 (indicated by a two-dot chain line on the (−X) side in FIGS. 1 and 2), the substrate moving mechanism 12 is moved. When driven, the substrate 9 moves together with the substrate holding part 11 in the (+ Y) direction in FIG. At this time, in the coating head 14, the organic EL liquid is continuously discharged from the nozzle 17 toward the liquid receiving unit 16. When the movement of the substrate 9 in the sub-scanning direction is completed, the coating head 14 moves from the (−X) side of the substrate 9 to the (+ X) side while discharging the organic EL liquid from the nozzle 17.

塗布装置1では、基板9に対する4本のノズル17の主走査および副走査が高速に繰り返されることにより、有機EL液が基板9上にストライプ状に塗布される。そして、基板9が図1に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動すると、ノズル17からの有機EL液の吐出が停止されて基板9に対する有機EL液の塗布が終了する。   In the coating apparatus 1, the organic EL liquid is applied on the substrate 9 in a stripe pattern by repeating the main scanning and the sub-scanning of the four nozzles 17 with respect to the substrate 9 at high speed. When the substrate 9 moves to the application end position indicated by the two-dot chain line in FIG. 1, the discharge of the organic EL liquid from the nozzle 17 is stopped and the application of the organic EL liquid to the substrate 9 is completed.

以上に説明したように、塗布装置1では、ノズル取付部141に取り付けられた4本のノズル17のうちの3本が、ノズル取付部141に対して移動可能な可動ノズルとされており、ピッチ調整機構3により各可動ノズルが副走査方向に個別に順次移動されることにより、4本のノズル17の副走査方向に関するピッチ(すなわち、ノズルピッチ)の調整が行われる。各可動ノズルの移動時には、ピッチ調整機構3において、ノズル当接部32が副走査方向の一方側(すなわち、(−Y)側)から当該各可動ノズルに当接し、ノズル付勢機構33により副走査方向の他方側(すなわち、(+Y)側)から当該各可動ノズルがノズル当接部32へと付勢される。そして、この状態で、当接部移動機構34によりノズル当接部32が(+Y)方向へと移動されることにより、各可動ノズルが副走査方向に移動される。   As described above, in the coating apparatus 1, three of the four nozzles 17 attached to the nozzle attachment portion 141 are movable nozzles that can move relative to the nozzle attachment portion 141, and the pitch Each movable nozzle is sequentially moved in the sub-scanning direction by the adjusting mechanism 3 to adjust the pitch (that is, the nozzle pitch) of the four nozzles 17 in the sub-scanning direction. During the movement of each movable nozzle, in the pitch adjustment mechanism 3, the nozzle abutting portion 32 abuts on each movable nozzle from one side in the sub-scanning direction (that is, the (−Y) side), and the nozzle urging mechanism 33 causes Each movable nozzle is urged toward the nozzle contact portion 32 from the other side in the scanning direction (that is, the (+ Y) side). In this state, the nozzle abutting portion 32 is moved in the (+ Y) direction by the abutting portion moving mechanism 34, whereby each movable nozzle is moved in the sub-scanning direction.

塗布装置1では、上述のように、ノズル当接部32およびノズル付勢機構33のロッド331により、各可動ノズルを移動方向(すなわち、副走査方向)の両側から挟み、ノズル当接部32に付勢した状態で移動することにより、各可動ノズルの移動量を精度良く制御することができる。その結果、複数のノズル17のピッチを高精度に調整することができる。   In the coating apparatus 1, as described above, the movable nozzles are sandwiched from both sides in the movement direction (that is, the sub-scanning direction) by the nozzle contact portion 32 and the rod 331 of the nozzle urging mechanism 33, and the nozzle contact portion 32. By moving in an energized state, the amount of movement of each movable nozzle can be accurately controlled. As a result, the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with high accuracy.

ところで、有機EL表示装置では、基板上に形成された隔壁間のピッチが非常に小さいため、当該隔壁間の複数の溝部に有機EL液を塗布する場合、複数のノズルから吐出される有機EL液の塗布位置には高い位置精度が求められる。上述のように、塗布装置1では、複数のノズル17のピッチを高精度に調整することができるため、有機EL表示装置用の基板に対する有機EL液の塗布に特に適しているといえる。   By the way, in the organic EL display device, since the pitch between the partition walls formed on the substrate is very small, when the organic EL liquid is applied to the plurality of grooves between the partition walls, the organic EL liquid ejected from the plurality of nozzles. High application accuracy is required for the application position. As described above, the coating apparatus 1 can adjust the pitch of the plurality of nozzles 17 with high accuracy, and thus can be said to be particularly suitable for coating an organic EL liquid on a substrate for an organic EL display device.

塗布装置1のピッチ調整機構3では、ノズル付勢機構33のエアシリンダ332内の圧力が、ロッド331のエアシリンダ332に対する相対位置に関わらずレギュレータ333により一定に維持される。これにより、各可動ノズルの副走査方向における位置に関わらず、ノズル付勢機構33により当該各可動ノズルに加えられる付勢力が一定とされ、当該各可動ノズルに当接するノズル当接部32の移動に要する力が一定となる。その結果、当接部移動機構34のステッピングモータ343の駆動が安定し、各可動ノズルの移動量をより精度良く制御することができるため、複数のノズル17のピッチをより高精度に調整することができる。   In the pitch adjusting mechanism 3 of the coating apparatus 1, the pressure in the air cylinder 332 of the nozzle urging mechanism 33 is kept constant by the regulator 333 regardless of the relative position of the rod 331 with respect to the air cylinder 332. Thereby, the urging force applied to each movable nozzle by the nozzle urging mechanism 33 is constant regardless of the position of each movable nozzle in the sub-scanning direction, and the movement of the nozzle abutting portion 32 that abuts on each movable nozzle is performed. The force required for is constant. As a result, the driving of the stepping motor 343 of the abutting portion moving mechanism 34 is stabilized, and the moving amount of each movable nozzle can be controlled with higher accuracy, so that the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with higher accuracy. Can do.

また、各可動ノズルの副走査方向における位置調整の際に、取付部固定機構31によりノズル取付部141が固定されることにより、可動ノズルの移動時に可動ノズルを介してノズル取付部141に伝達される当接部移動機構34からの力や、ロック部操作機構5による可動ノズルのロック解除時およびロック時にノズル取付部141に加えられる力等の外力によりノズル取付部141が歪むことを防止することができる。その結果、複数のノズル17のピッチをさらに高精度に調整することができる。特に、取付部固定機構31の第1固定部311および第2固定部314により、ノズル取付部141を可動ノズルの移動方向(すなわち、副走査方向)の両側から挟んで固定することにより、可動ノズルの移動時等にノズル取付部141に主に加えられる副走査方向の力によるノズル取付部141の歪みをより確実に防止することができる。その結果、複数のノズル17のピッチをより一層高精度に調整することができる。   Further, when the position of each movable nozzle in the sub-scanning direction is adjusted, the nozzle mounting portion 141 is fixed by the mounting portion fixing mechanism 31, so that the movable nozzle is transmitted to the nozzle mounting portion 141 via the movable nozzle when moving. The nozzle mounting portion 141 is prevented from being distorted by an external force such as a force from the contact portion moving mechanism 34 or a force applied to the nozzle mounting portion 141 when the movable nozzle is unlocked and locked by the lock portion operating mechanism 5. Can do. As a result, the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with higher accuracy. In particular, the first fixing portion 311 and the second fixing portion 314 of the attachment portion fixing mechanism 31 fix the nozzle attachment portion 141 by sandwiching it from both sides in the moving direction of the movable nozzle (that is, the sub-scanning direction). It is possible to more reliably prevent the nozzle mounting portion 141 from being distorted due to the force in the sub-scanning direction mainly applied to the nozzle mounting portion 141 when the nozzle is moved. As a result, the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with higher accuracy.

ピッチ調整機構3では、ノズル当接部32および当接部移動機構34が、取付部固定機構31の第1固定部311と共に副走査方向に移動され、ノズル付勢機構33が第2固定部314と共に副走査方向に移動される。これにより、取付部固定機構31によりノズル取付部141を固定した際に、ノズル当接部32およびノズル付勢機構33を、各可動ノズルに対する所定の相対位置に自動的に位置させることができる。このため、調整対象である可動ノズルに対するノズル当接部32およびノズル付勢機構33の位置決め工程を省略することができ、複数のノズル17のピッチを容易に調整することができる。また、塗布装置1において各種移動機構の数を削減し、装置構成を簡素化することもできる。   In the pitch adjustment mechanism 3, the nozzle contact portion 32 and the contact portion moving mechanism 34 are moved in the sub-scanning direction together with the first fixing portion 311 of the attachment portion fixing mechanism 31, and the nozzle urging mechanism 33 is moved to the second fixing portion 314. At the same time, it is moved in the sub-scanning direction. Thereby, when the nozzle mounting part 141 is fixed by the mounting part fixing mechanism 31, the nozzle contact part 32 and the nozzle urging mechanism 33 can be automatically positioned at a predetermined relative position with respect to each movable nozzle. For this reason, the positioning process of the nozzle contact portion 32 and the nozzle urging mechanism 33 with respect to the movable nozzle to be adjusted can be omitted, and the pitch of the plurality of nozzles 17 can be easily adjusted. In addition, the number of various moving mechanisms in the coating apparatus 1 can be reduced, and the apparatus configuration can be simplified.

塗布ヘッド14では、各可動ノズルのスライダ172をノズル取付部141の案内溝142に沿って移動することにより、各可動ノズルを副走査方向に容易かつ正確に移動することができる。その結果、複数のノズル17のピッチを容易かつ高精度に調整することができる。また、各可動ノズルが、先端から有機EL液が吐出されるノズル本体171、および、ノズル本体171が分離可能に取り付けられるスライダ172を備えるため、塗布装置1のメンテナンスの際に、可動ノズルのノズル本体171のみをノズル取付部141から取り外して容易に洗浄することができる。   In the coating head 14, each movable nozzle can be easily and accurately moved in the sub-scanning direction by moving the slider 172 of each movable nozzle along the guide groove 142 of the nozzle mounting portion 141. As a result, the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted easily and with high accuracy. Each movable nozzle includes a nozzle body 171 from which the organic EL liquid is discharged from the tip and a slider 172 to which the nozzle body 171 is detachably attached. Only the main body 171 can be removed from the nozzle mounting portion 141 and easily cleaned.

塗布装置1では、ノズル位置検出部4の光学系41による複数のノズル17の位置の高精度な観察結果に基づいて、複数のノズル17のピッチをより高精度に調整することができる。また、制御部2のピッチ検出部21により、撮像部42により取得された複数のノズル17の画像に基づいて、副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離が検出されることにより、ノズルピッチの調整作業において、複数のノズル17のピッチの検出に要する時間を短縮することができる。さらには、ピッチ検出部21の検出結果に基づいて、調整機構制御部22によりピッチ調整機構3の当接部移動機構34が制御されることにより、複数のノズル17のピッチを自動的に調整することができる。   In the coating apparatus 1, the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with higher accuracy based on the highly accurate observation result of the positions of the plurality of nozzles 17 by the optical system 41 of the nozzle position detection unit 4. Further, the pitch detection unit 21 of the control unit 2 detects each distance between two nozzles adjacent to each other in the sub-scanning direction based on the images of the plurality of nozzles 17 acquired by the imaging unit 42. In the nozzle pitch adjustment operation, the time required to detect the pitch of the plurality of nozzles 17 can be shortened. Further, the pitch of the plurality of nozzles 17 is automatically adjusted by controlling the contact portion moving mechanism 34 of the pitch adjustment mechanism 3 by the adjustment mechanism control unit 22 based on the detection result of the pitch detection unit 21. be able to.

塗布装置1では、ロック部操作機構5によりノズルロック部173a,173b,173dを操作することにより、ノズルピッチの調整時における可動ノズルの位置のロック解除およびロックを迅速かつ容易に行うことができる。また、各ノズルロック部では、押圧部1732により固定部材1731が各可動ノズルのスライダ172に付勢されることにより可動ノズルがロックされ、固定部材1731がプランジャ1413を支点として僅かに傾けられることにより可動ノズルのロックが解除される。このように、各ノズルロック部を簡素な構造とすることにより、ノズルピッチの調整時における可動ノズルの位置のロック解除およびロックをより迅速かつより容易に行うことができる。   In the coating apparatus 1, by operating the nozzle lock portions 173a, 173b, and 173d by the lock portion operation mechanism 5, the position of the movable nozzle can be unlocked and locked quickly and easily when the nozzle pitch is adjusted. Further, in each nozzle lock portion, the fixed member 1731 is biased by the slider 172 of each movable nozzle by the pressing portion 1732 to lock the movable nozzle, and the fixed member 1731 is slightly tilted with the plunger 1413 as a fulcrum. The movable nozzle is unlocked. Thus, by making each nozzle lock part have a simple structure, the unlocking and locking of the position of the movable nozzle at the time of adjusting the nozzle pitch can be performed more quickly and easily.

上述のように、塗布ヘッド14および基板保持部11は、ピッチ調整機構3、ノズル位置検出部4およびロック部操作機構5から独立して移動可能とされている。このため、有機EL液の塗布において、塗布ヘッド14の基板9に対する主走査および副走査に際して、ピッチ調整機構3、ノズル位置検出部4およびロック部操作機構5を共に移動させる必要がない。このように、塗布装置1では、主走査機構および副走査機構により移動する部位(すなわち、ヘッド移動機構15および基板移動機構12により移動する塗布ヘッド14および基板保持部11)を小型化および軽量化することができ、その結果、塗布装置1の小型化を実現することができる。塗布装置1では、塗布ヘッド14の主走査が高速にて行われるため、塗布ヘッド14の小型化は特に好ましい。   As described above, the coating head 14 and the substrate holding unit 11 are movable independently from the pitch adjustment mechanism 3, the nozzle position detection unit 4, and the lock unit operation mechanism 5. For this reason, in the application of the organic EL liquid, it is not necessary to move the pitch adjusting mechanism 3, the nozzle position detecting unit 4 and the lock unit operating mechanism 5 at the time of main scanning and sub scanning with respect to the substrate 9 of the coating head 14. As described above, in the coating apparatus 1, the portion moved by the main scanning mechanism and the sub-scanning mechanism (that is, the coating head 14 and the substrate holding unit 11 moved by the head moving mechanism 15 and the substrate moving mechanism 12) is reduced in size and weight. As a result, downsizing of the coating apparatus 1 can be realized. In the coating apparatus 1, since the main scanning of the coating head 14 is performed at a high speed, it is particularly preferable to reduce the size of the coating head 14.

次に、本発明の第2の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図10は、第2の実施の形態に係る塗布装置1aの構成を示す正面図である。図10に示すように、塗布装置1aでは、ノズル位置検出部4が、基板保持部11の上方に配置される。その他の構成は、図1および図2に示す塗布装置1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。塗布装置1aにおけるノズルピッチの調整方法は、ノズルピッチの検出方法が異なる点を除き、第1の実施の形態とほぼ同様である。   Next, a coating apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 is a front view showing the configuration of the coating apparatus 1a according to the second embodiment. As shown in FIG. 10, in the coating apparatus 1 a, the nozzle position detection unit 4 is disposed above the substrate holding unit 11. Other configurations are the same as those of the coating apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2, and the same reference numerals are given in the following description. The adjustment method of the nozzle pitch in the coating apparatus 1a is substantially the same as that of the first embodiment except that the detection method of the nozzle pitch is different.

塗布装置1aでは、ノズルピッチの調整に際して、基板保持部11に保持された試験塗布用の基板9a上に有機EL液が試験的に塗布される。基板9aに対する有機EL液の塗布は、上述の基板9(図1および図2参照)に対する有機EL液の塗布と同様に、4本のノズル17から有機EL液を吐出しつつ塗布ヘッド14を主走査方向に移動することにより行われる。なお、基板9a上には、第1の実施の形態で言及した隔壁は形成されていない。   In the coating apparatus 1a, when adjusting the nozzle pitch, the organic EL liquid is experimentally applied onto the test coating substrate 9a held by the substrate holding unit 11. The application of the organic EL liquid to the substrate 9a is performed by using the application head 14 while discharging the organic EL liquid from the four nozzles 17 in the same manner as the application of the organic EL liquid to the substrate 9 (see FIGS. 1 and 2). This is done by moving in the scanning direction. Note that the partition walls mentioned in the first embodiment are not formed on the substrate 9a.

続いて、4本のノズル17から吐出されて基板9a上に塗布された有機EL液のパターン(すなわち、ストライプ状に配列された4本の有機EL液のライン)が、ノズル位置検出部4の光学系41を利用して観察され、撮像部42により当該有機EL液のパターンの画像が取得される。次に、制御部2のピッチ検出部21(図3参照)により、当該画像から、互いに隣接する2本の有機EL液のラインの中心線間の各距離が、副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離(すなわち、各ノズル間距離)として検出される。そして、第1の実施の形態と同様に、ピッチ調整機構3により、各ノズル間距離に基づいて3本の可動ノズル(すなわち、図4および図5に示す第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17d)が副走査方向に移動されることによりノズルピッチの調整が行われる。   Subsequently, the pattern of the organic EL liquid ejected from the four nozzles 17 and applied onto the substrate 9a (that is, four organic EL liquid lines arranged in a stripe shape) is displayed on the nozzle position detection unit 4. The image is observed using the optical system 41, and an image of the pattern of the organic EL liquid is acquired by the imaging unit 42. Next, the pitch detection unit 21 (see FIG. 3) of the control unit 2 causes the distances between the center lines of the two adjacent organic EL liquid lines from the image to be adjacent to each other in the sub-scanning direction. It is detected as each distance between two nozzles (ie, the distance between each nozzle). As in the first embodiment, the pitch adjusting mechanism 3 causes the three movable nozzles (that is, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the second nozzle 17b shown in FIGS. The nozzle pitch is adjusted by moving the fourth nozzle 17d) in the sub-scanning direction.

なお、基板9aには隔壁が設けられていないため、塗布された有機EL液のラインは、時間が経過するに従って副走査方向に不規則に広がっていく。このため、撮像部42による有機EL液のパターンの撮像は、有機EL液の塗布直後(例えば、塗布から数10msec以内)に行われることが好ましい。   In addition, since the partition is not provided in the board | substrate 9a, the line of the applied organic electroluminescent liquid spreads irregularly in a subscanning direction as time passes. For this reason, it is preferable that imaging of the pattern of the organic EL liquid by the imaging unit 42 is performed immediately after the application of the organic EL liquid (for example, within several tens of milliseconds from the application).

塗布装置1aでは、第1の実施の形態と同様に、各可動ノズルの移動時に、ピッチ調整機構3において、ノズル当接部32(図8および図9参照)が副走査方向の一方側(すなわち、(−Y)側)から当該各可動ノズルに当接し、ノズル付勢機構33(図8および図9参照)により副走査方向の他方側(すなわち、(+Y)側)から当該各可動ノズルがノズル当接部32へと付勢される。そして、この状態で、当接部移動機構34(図8および図9参照)によりノズル当接部32が(+Y)方向へと移動されることにより、各可動ノズルが副走査方向に移動される。その結果、各可動ノズルの移動量を精度良く制御することができ、複数のノズル17のピッチを高精度に調整することができる。   In the coating apparatus 1a, as in the first embodiment, when each movable nozzle is moved, the nozzle abutting portion 32 (see FIGS. 8 and 9) is moved to one side in the sub-scanning direction (that is, in FIG. 8 and FIG. 9). , (−Y) side), and the movable nozzles are brought into contact with each movable nozzle from the other side (ie, (+ Y) side) in the sub-scanning direction by the nozzle urging mechanism 33 (see FIGS. 8 and 9). The nozzle contact portion 32 is biased. In this state, the nozzle contact portion 32 is moved in the (+ Y) direction by the contact portion moving mechanism 34 (see FIGS. 8 and 9), whereby each movable nozzle is moved in the sub-scanning direction. . As a result, the movement amount of each movable nozzle can be controlled with high accuracy, and the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with high accuracy.

また、塗布装置1aでは、ノズル位置検出部4の光学系41による有機EL液のパターンの高精度な観察結果に基づいて、複数のノズル17のピッチをより高精度に調整することができる。さらには、制御部2のピッチ検出部21により、撮像部42により取得された有機EL液のパターンの画像に基づいて、副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離が検出されることにより、ノズルピッチの調整作業において、複数のノズル17のピッチの検出に要する時間を短縮することができる。   Further, in the coating apparatus 1 a, the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with higher accuracy based on the highly accurate observation result of the organic EL liquid pattern by the optical system 41 of the nozzle position detection unit 4. Furthermore, the pitch detection unit 21 of the control unit 2 detects each distance between two adjacent nozzles in the sub-scanning direction based on the pattern image of the organic EL liquid acquired by the imaging unit 42. Thus, it is possible to reduce the time required for detecting the pitch of the plurality of nozzles 17 in the adjustment operation of the nozzle pitch.

次に、本発明の第3の実施の形態に係る塗布装置について説明する。図11は、第3の実施の形態に係る塗布装置1bの構成を示す正面図である。図11に示すように、塗布装置1bでは、ノズル位置検出部4が、図11中の(+X)側の受液部16とピッチ調整機構3との間において、ノズル17の下端よりも下方であって塗布ヘッド14の移動とは干渉しない位置に配置される。その他の構成は、図1および図2に示す塗布装置1と同様であり、以下の説明において同符号を付す。塗布装置1bにおけるノズルピッチの調整方法は、ノズルピッチの検出方法が異なる点を除き、第1の実施の形態とほぼ同様である。   Next, a coating apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 11 is a front view showing a configuration of a coating apparatus 1b according to the third embodiment. As shown in FIG. 11, in the coating apparatus 1 b, the nozzle position detection unit 4 is located below the lower end of the nozzle 17 between the (+ X) side liquid receiving unit 16 and the pitch adjustment mechanism 3 in FIG. 11. Therefore, it is arranged at a position that does not interfere with the movement of the coating head 14. Other configurations are the same as those of the coating apparatus 1 shown in FIGS. 1 and 2, and the same reference numerals are given in the following description. The adjustment method of the nozzle pitch in the coating apparatus 1b is substantially the same as that of the first embodiment except that the detection method of the nozzle pitch is different.

塗布装置1bでは、ノズルピッチの調整に際して、塗布ヘッド14が(+X)側の受液部16の上方へと移動される。続いて、4本のノズル17から吐出される有機EL液の4本の液柱が、ノズル位置検出部4の光学系41を利用して観察され、撮像部42により当該有機EL液の4本の液柱の画像が取得される。なお、各液柱のフォーカスが合う塗布ヘッド14の位置を検出することにより、各液柱とノズル17との対応関係が取得される。次に、制御部2のピッチ検出部21(図3参照)により、当該画像から、互いに隣接する2本の有機EL液の液柱の中心線間の各距離が、副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離(すなわち、各ノズル間距離)として検出される。そして、第1の実施の形態と同様に、ピッチ調整機構3により、各ノズル間距離に基づいて3本の可動ノズル(すなわち、図4および図5に示す第1ノズル17a、第2ノズル17bおよび第4ノズル17d)が副走査方向に移動されることによりノズルピッチの調整が行われる。   In the coating apparatus 1b, when the nozzle pitch is adjusted, the coating head 14 is moved above the liquid receiving part 16 on the (+ X) side. Subsequently, the four liquid columns of the organic EL liquid ejected from the four nozzles 17 are observed using the optical system 41 of the nozzle position detection unit 4, and the four organic EL liquids are captured by the imaging unit 42. An image of the liquid column is acquired. Note that the correspondence between each liquid column and the nozzle 17 is acquired by detecting the position of the coating head 14 in which each liquid column is in focus. Next, the pitch detection unit 21 (see FIG. 3) of the control unit 2 causes the distances between the center lines of the two adjacent organic EL liquid columns to be adjacent to each other in the sub-scanning direction. It is detected as each distance between two nozzles (that is, each nozzle distance). As in the first embodiment, the pitch adjusting mechanism 3 causes the three movable nozzles (that is, the first nozzle 17a, the second nozzle 17b, and the second nozzle 17b shown in FIGS. The nozzle pitch is adjusted by moving the fourth nozzle 17d) in the sub-scanning direction.

塗布装置1bでは、第1および第2の実施の形態と同様に、各可動ノズルが、ノズル付勢機構33(図8および図9参照)によりノズル当接部32(図8および図9参照)に付勢された状態で副走査方向に移動されることにより、各可動ノズルの移動量を精度良く制御することができ、複数のノズル17のピッチを高精度に調整することができる。   In the coating apparatus 1b, as in the first and second embodiments, each movable nozzle is moved into the nozzle contact portion 32 (see FIGS. 8 and 9) by the nozzle urging mechanism 33 (see FIGS. 8 and 9). The amount of movement of each movable nozzle can be controlled with high accuracy and the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with high accuracy.

また、塗布装置1bでは、ノズル位置検出部4の光学系41による有機EL液の液柱の高精度な観察結果に基づいて、複数のノズル17のピッチをより高精度に調整することができる。さらには、制御部2のピッチ検出部21により、撮像部42により取得された有機EL液の液柱の画像に基づいて、各ノズル間距離が検出されることにより、ノズルピッチの調整作業において、複数のノズル17のピッチの検出に要する時間を短縮することができる。   Further, in the coating apparatus 1b, the pitch of the plurality of nozzles 17 can be adjusted with higher accuracy based on the highly accurate observation result of the liquid column of the organic EL liquid by the optical system 41 of the nozzle position detection unit 4. Furthermore, the pitch detection unit 21 of the control unit 2 detects the inter-nozzle distance based on the image of the liquid crystal column of the organic EL liquid acquired by the imaging unit 42, thereby adjusting the nozzle pitch. The time required for detecting the pitch of the plurality of nozzles 17 can be shortened.

塗布装置1bでは、特に、ノズル17から吐出される液柱の画像に基づいてノズルピッチを調整することにより、有機EL液を基板に対して実際に塗布することなくノズルピッチの調整を行うことができる。これにより、ノズルピッチ調整用の基板の搬出入等に係る作業時間および労力を削減することができる。液柱の観察に際しては、実際の塗布時の基板9の主面に相当する位置にて液柱を観察することにより、基板上に実際に塗布される有機EL液のピッチに等しい距離に基づいてノズルピッチの調整を行うことができる。   In the coating apparatus 1b, the nozzle pitch can be adjusted without actually applying the organic EL liquid to the substrate by adjusting the nozzle pitch based on the liquid column image discharged from the nozzle 17 in particular. it can. Thereby, the work time and labor concerning carrying in / out of the board | substrate for nozzle pitch adjustment etc. can be reduced. When observing the liquid column, by observing the liquid column at a position corresponding to the main surface of the substrate 9 at the time of actual application, based on a distance equal to the pitch of the organic EL liquid actually applied on the substrate. The nozzle pitch can be adjusted.

一方、図10に示す第2の実施の形態に係る塗布装置1aでは、実際に塗布された有機EL液のパターンに基づいてノズルピッチを調整することにより、製品に使用される基板上に塗布される有機EL液のパターンのピッチを直接的にコントロールすることができる。   On the other hand, in the coating apparatus 1a according to the second embodiment shown in FIG. 10, the nozzle pitch is adjusted based on the pattern of the actually applied organic EL liquid so that it is applied onto the substrate used for the product. The pitch of the organic EL liquid pattern can be directly controlled.

また、図1および図2に示す第1の実施の形態に係る塗布装置1では、ノズル17の画像に基づいてノズルピッチを調整することにより、有機EL液を基板に対して実際に塗布することなくノズルピッチの調整を行うことができる。また、ノズル17から吐出される液柱の画像を取得する場合に比べて、ノズル間距離を検出するための画像を容易に取得することができる。   In the coating apparatus 1 according to the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the organic EL liquid is actually applied to the substrate by adjusting the nozzle pitch based on the image of the nozzle 17. The nozzle pitch can be adjusted. In addition, an image for detecting the inter-nozzle distance can be easily acquired as compared to the case of acquiring an image of the liquid column discharged from the nozzle 17.

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible.

例えば、第1の実施の形態に係る塗布装置1では、ノズル位置検出部4の撮像部42により、4本のノズル17の(+Z)側の頂部が順次、または、同時に撮像されて各ノズル間距離が求められてもよい。また、ノズル17の副走査方向の位置は、ノズル17の側面に向けて配置されたレーザホロゲージや非接触レーザ測長器等の計測器により求められてもよい。この場合、可動ノズルの副走査方向における移動中も、可動ノズルの位置が連続的に計測され、当該計測結果に基づいて可動ノズルの移動が制御されてもよい。   For example, in the coating apparatus 1 according to the first embodiment, the top of the four nozzles 17 on the (+ Z) side is imaged sequentially or simultaneously by the imaging unit 42 of the nozzle position detection unit 4 and between each nozzle. A distance may be determined. Further, the position of the nozzle 17 in the sub-scanning direction may be obtained by a measuring instrument such as a laser holo gauge or a non-contact laser length measuring device arranged toward the side surface of the nozzle 17. In this case, the position of the movable nozzle may be continuously measured even during the movement of the movable nozzle in the sub-scanning direction, and the movement of the movable nozzle may be controlled based on the measurement result.

第2の実施の形態に係る塗布装置1aでは、ノズル間距離検出用の有機EL液のパターンが塗布される基板は、必ずしも、試験塗布用の基板9aには限定されない。例えば、製品に使用される基板において、隔壁が形成されていない非塗布領域に試験的に塗布された有機EL液のパターンが撮像されてノズル間距離が求められてもよい。   In the coating apparatus 1a according to the second embodiment, the substrate on which the pattern of the organic EL liquid for detecting the inter-nozzle distance is not necessarily limited to the test coating substrate 9a. For example, in a substrate used for a product, a pattern of an organic EL liquid applied on a trial basis in a non-application area where a partition wall is not formed may be imaged to obtain a distance between nozzles.

ピッチ調整機構3では、取付部固定機構31がノズル当接部32、ノズル付勢機構33および当接部移動機構34とは独立した機構とされてもよい。この場合、取付部固定機構31の第1固定部311および第2固定部314が、ノズル取付部141の主走査方向の全幅に亘って当接する構造とされるとともに、ノズル当接部32、ノズル付勢機構33および当接部移動機構34を主走査方向に移動する機構が設けられ、ノズル取付部141を取付部固定機構31により継続的に固定した状態で、ノズル当接部32、ノズル付勢機構33および当接部移動機構34を各可動ノズルに対応する位置に移動しつつ3本の可動ノズルの位置調整が順次行われてもよい。   In the pitch adjustment mechanism 3, the attachment portion fixing mechanism 31 may be a mechanism independent of the nozzle contact portion 32, the nozzle urging mechanism 33, and the contact portion moving mechanism 34. In this case, the first fixing portion 311 and the second fixing portion 314 of the mounting portion fixing mechanism 31 are in contact with each other over the entire width of the nozzle mounting portion 141 in the main scanning direction. A mechanism for moving the urging mechanism 33 and the abutting portion moving mechanism 34 in the main scanning direction is provided, and the nozzle abutting portion 32 and the nozzle attached portion are attached in a state where the nozzle attaching portion 141 is continuously fixed by the attaching portion fixing mechanism 31. The position adjustment of the three movable nozzles may be sequentially performed while moving the biasing mechanism 33 and the contact portion moving mechanism 34 to positions corresponding to the respective movable nozzles.

また、塗布装置1では、取付部固定機構31、ノズル当接部32、ノズル付勢機構33、当接部移動機構34およびロック部操作機構5が3組設けられ、当該3組の機構が主走査方向に並べて配置されることにより、3本の可動ノズルの位置調整を並行して行うことが可能とされてもよい。この場合、3組の取付部固定機構31に代えて、ノズル取付部141に主走査方向の全幅に亘って当接する1つ取付部固定機構が設けられてもよい。   In addition, in the coating apparatus 1, three sets of the attachment portion fixing mechanism 31, the nozzle contact portion 32, the nozzle urging mechanism 33, the contact portion moving mechanism 34, and the lock portion operation mechanism 5 are provided. By arranging them side by side in the scanning direction, it may be possible to adjust the positions of the three movable nozzles in parallel. In this case, instead of the three sets of attachment portion fixing mechanisms 31, one attachment portion fixing mechanism that abuts the nozzle attachment portion 141 over the entire width in the main scanning direction may be provided.

布ヘッド14の軽量化という観点から、ノズル付勢機構は、塗布ヘッド14とは独立して個別に設けられる。また、ノズル付勢機構が塗布ヘッド14とは個別に設けられることにより、ノズルピッチの調整時以外に可動ノズルに押圧力が加えられることがないため、可動ノズルのロックに関する信頼性を向上することができる。 Viewpoint et of weight of the coated fabric head 14, biasing mechanism with the nozzle, Ru individually provided independently of the coating head 14. In addition, since the nozzle urging mechanism is provided separately from the coating head 14, no pressing force is applied to the movable nozzle other than during adjustment of the nozzle pitch, thereby improving the reliability of locking the movable nozzle. Can do.

ノズルロック部では、押圧部1732のコイルバネに代えて、皿バネ等の他のバネ部材やゴム等の弾性部材により固定部材1731が可動ノズルのスライダ172に向けて押圧されてもよい。また、可動ノズルおよびノズル取付部141に磁石が設けられ、これらの磁石の磁力により、固定部材1731がスライダ172に向けて押圧されてもよい。   In the nozzle lock portion, instead of the coil spring of the pressing portion 1732, the fixed member 1731 may be pressed toward the slider 172 of the movable nozzle by another spring member such as a disc spring or an elastic member such as rubber. Further, the movable nozzle and nozzle mounting portion 141 may be provided with magnets, and the fixing member 1731 may be pressed toward the slider 172 by the magnetic force of these magnets.

塗布ヘッド14では、第3ノズル17c以外の他のノズルのうちのいずれか1本が、ノズル取付部141に固定されてノズルピッチの調整の基準とされてもよい。また、4本のノズル17の全てが副走査方向に個別に移動可能に取り付けられてもよい。この場合、任意の3本のノズル、または、4本のノズル全てを副走査方向に移動することによりノズルピッチの調整が高精度に行われる。   In the coating head 14, any one of the nozzles other than the third nozzle 17 c may be fixed to the nozzle mounting portion 141 and used as a reference for adjusting the nozzle pitch. Further, all of the four nozzles 17 may be attached so as to be individually movable in the sub-scanning direction. In this case, the nozzle pitch is adjusted with high accuracy by moving any three nozzles or all four nozzles in the sub-scanning direction.

上記実施の形態に係る塗布装置では、塗布ヘッド14に設けられるノズルの本数は4本には限定されず、3本または5本以上とされてもよい。例えば、塗布ヘッド14に設けられた3本のノズルから、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)と互いに色が異なる3種類の有機EL材料をそれぞれ含む3種類の有機EL液が同時に吐出されて基板9に塗布されてもよい。この場合、隣接する2本のノズルの間の副走査方向に関する距離は、隔壁ピッチと等しくなるよう調整される。   In the coating apparatus according to the above embodiment, the number of nozzles provided in the coating head 14 is not limited to four and may be three or five or more. For example, three kinds of organic EL liquids each containing three kinds of organic EL materials having different colors from red (R), green (G), and blue (B) from three nozzles provided in the coating head 14 are provided. It may be discharged simultaneously and applied to the substrate 9. In this case, the distance between the adjacent two nozzles in the sub-scanning direction is adjusted to be equal to the partition wall pitch.

また、上記塗布装置では、画素形成材料である正孔輸送材料を含む流動性材料(以下、「正孔輸送液」という。)が基板9に塗布されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機EL表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機EL材料により形成された有機EL層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。   In the coating apparatus, a fluid material (hereinafter referred to as “hole transport liquid”) containing a hole transport material that is a pixel forming material may be applied to the substrate 9. Here, the “hole transport material” is a material that forms a hole transport layer of an organic EL display device, and the “hole transport layer” is a positive electrode that is formed into an organic EL layer formed of an organic EL material. It means not only a narrowly defined hole transport layer that transports holes, but also includes a hole injection layer that injects holes.

上記塗布装置は、必ずしも有機EL表示装置用の有機EL液または正孔輸送液の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。   The coating device is not necessarily used only for coating an organic EL liquid or a hole transport liquid for an organic EL display device. For example, for a substrate for a flat display device such as a liquid crystal display device or a plasma display device. In addition, it may be used when a fluid material including other types of pixel forming materials such as a coloring material and a fluorescent material is applied.

このような、有機EL表示装置用の基板に対する正孔輸送液の塗布やその他の平面表示装置用の基板に対する画素形成材料を含む流動性材料の塗布では、流動性材料の塗布位置に高い位置精度が求められる。上述のように、塗布装置は、複数のノズル17のピッチを高精度に調整することができるため、有機EL表示装置用の基板に対する正孔輸送液の塗布や、その他の平面表示装置用の基板に対する画素形成材料を含む流動性材料の塗布にも特に適している。   In such application of the hole transport liquid to the substrate for the organic EL display device and the application of the fluid material including the pixel forming material to the substrate for the other flat display device, the position accuracy of the application position of the fluid material is high. Is required. As described above, since the coating apparatus can adjust the pitch of the plurality of nozzles 17 with high accuracy, the application of the hole transport liquid to the substrate for the organic EL display device and the substrate for other flat display devices It is also particularly suitable for application of flowable materials including pixel forming materials.

また、上記塗布装置は、平面表示装置用の基板以外にも、磁気ディスクや光ディスク用のガラス基板やセラミック基板、あるいは、半導体基板等、様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。   In addition to the substrate for flat display devices, the above coating device is used for coating various types of flowable materials on various substrates such as glass substrates and ceramic substrates for magnetic disks and optical disks, and semiconductor substrates. May be.

第1の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。It is a top view of the coating device concerning a 1st embodiment. 塗布装置の正面図である。It is a front view of a coating device. 制御部の機能を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function of a control part. 塗布ヘッドの正面図である。It is a front view of an application head. 塗布ヘッドの平面図である。It is a top view of a coating head. ノズルロック部近傍を拡大して示す左側面図である。It is a left view which expands and shows the nozzle lock part vicinity. ロック部操作機構を示す左側面図である。It is a left view which shows a lock part operation mechanism. ピッチ調整機構および塗布ヘッドの平面図である。It is a top view of a pitch adjustment mechanism and a coating head. ピッチ調整機構および塗布ヘッドの左側面図である。It is a left view of a pitch adjustment mechanism and a coating head. 第2の実施の形態に係る塗布装置の正面図である。It is a front view of the coating device which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施の形態に係る塗布装置の正面図である。It is a front view of the coating device which concerns on 3rd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1,1a,1b 塗布装置
3 ピッチ調整機構
5 ロック部操作機構
9,9a 基板
11 基板保持部
12 基板移動機構
15 ヘッド移動機構
17,17a〜17d ノズル
21 ピッチ検出部
22 調整機構制御部
31 取付部固定機構
32 ノズル当接部
33 ノズル付勢機構
34 当接部移動機構
41 光学系
42 撮像部
141 ノズル取付部
142 案内溝
171 ノズル本体
172 スライダ
173a,173b,173d ノズルロック部
311 第1固定部
312 第1支持部
313 第1移動機構
314 第2固定部
315 第2支持部
316 第2移動機構
1731 固定部材
1732 押圧部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1a, 1b Coating device 3 Pitch adjustment mechanism 5 Lock part operation mechanism 9, 9a Substrate 11 Substrate holding part 12 Substrate movement mechanism 15 Head movement mechanism 17, 17a-17d Nozzle 21 Pitch detection part 22 Adjustment mechanism control part 31 Attachment part Fixing mechanism 32 Nozzle contact portion 33 Nozzle urging mechanism 34 Contact portion moving mechanism 41 Optical system 42 Imaging portion 141 Nozzle mounting portion 142 Guide groove 171 Nozzle body 172 Sliders 173a, 173b, 173d Nozzle lock portion 311 First fixing portion 312 First support portion 313 First moving mechanism 314 Second fixing portion 315 Second supporting portion 316 Second moving mechanism 1731 fixing member 1732 pressing portion

Claims (12)

基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、
前記複数のノズルが取り付けられるノズル取付部と、
前記基板の主面に平行な主走査方向に前記複数のノズルを前記ノズル取付部と共に前記基板に対して相対的に移動する主走査機構と、
前記基板の前記主面に平行であって前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部を前記基板に対して相対的に移動する副走査機構と、
前記複数のノズルの全てまたは1つを除く他の全てである複数の可動ノズルを前記副走査方向に個別に移動することにより前記副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を調整するピッチ調整機構と、
を備え、
前記ピッチ調整機構が、
前記副走査方向の一方側から各可動ノズルに当接するノズル当接部と、
前記副走査方向の他方側から前記各可動ノズルを前記ノズル当接部へと付勢するノズル付勢機構と、
前記ノズル付勢機構により付勢されている前記各可動ノズルが当接する前記ノズル当接部の前記副走査方向の位置を調整する当接部移動機構と、
を備え
前記主走査機構および前記副走査機構により、前記複数のノズルおよび前記ノズル取付部が前記ピッチ調整機構から独立して移動することを特徴とする塗布装置。
An application device for applying a flowable material to a substrate,
A substrate holder for holding the substrate;
A plurality of nozzles that continuously discharge a flowable material toward the substrate;
A nozzle mounting portion to which the plurality of nozzles are mounted;
A main scanning mechanism for moving the plurality of nozzles relative to the substrate together with the nozzle mounting portion in a main scanning direction parallel to a main surface of the substrate;
A sub-scanning mechanism that moves the plurality of nozzles and the nozzle mounting portion relative to the substrate in a sub-scanning direction parallel to the main surface of the substrate and perpendicular to the main scanning direction;
Adjusting each distance between two adjacent nozzles in the sub-scanning direction by individually moving a plurality of movable nozzles that are all of the plurality of nozzles or all other than the one in the sub-scanning direction. A pitch adjustment mechanism;
With
The pitch adjusting mechanism is
A nozzle contact portion that contacts each movable nozzle from one side in the sub-scanning direction;
A nozzle urging mechanism for urging each movable nozzle to the nozzle contact portion from the other side in the sub-scanning direction;
An abutting portion moving mechanism for adjusting a position in the sub-scanning direction of the nozzle abutting portion with which the movable nozzles urged by the nozzle urging mechanism abut;
Equipped with a,
The main by the scanning mechanism and the scanning mechanism, the coating apparatus wherein a plurality of nozzles and the nozzle mounting portion is characterized that you move independently from the pitch adjustment mechanism.
請求項1に記載の塗布装置であって、
前記ノズル付勢機構により前記各可動ノズルに加えられる付勢力が、前記副走査方向における前記各可動ノズルの位置に関わらず一定であることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 1,
The coating apparatus according to claim 1, wherein an urging force applied to each movable nozzle by the nozzle urging mechanism is constant regardless of a position of each movable nozzle in the sub-scanning direction.
請求項1または2に記載の塗布装置であって、
前記ピッチ調整機構が、前記ノズル取付部を固定する取付部固定機構をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 1 or 2 ,
The coating apparatus according to claim 1, wherein the pitch adjusting mechanism further includes an attaching portion fixing mechanism for fixing the nozzle attaching portion.
請求項に記載の塗布装置であって、
前記取付部固定機構が、
前記副走査方向の前記一方側から前記ノズル取付部に当接する第1固定部と、
前記第1固定部、前記ノズル当接部および前記当接部移動機構が取り付けられる第1支持部と、
前記副走査方向の前記他方側から前記ノズル取付部に当接する第2固定部と、
前記第2固定部および前記ノズル付勢機構が取り付けられる第2支持部と、
前記第1支持部を前記副走査方向に移動する第1移動機構と、
前記第2支持部を前記副走査方向に移動する第2移動機構と、
を備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 3 ,
The mounting portion fixing mechanism is
A first fixing portion that contacts the nozzle mounting portion from the one side in the sub-scanning direction;
A first support part to which the first fixing part, the nozzle contact part and the contact part moving mechanism are attached;
A second fixing portion that contacts the nozzle mounting portion from the other side in the sub-scanning direction;
A second support part to which the second fixing part and the nozzle urging mechanism are attached;
A first moving mechanism for moving the first support portion in the sub-scanning direction;
A second moving mechanism for moving the second support portion in the sub-scanning direction;
A coating apparatus comprising:
請求項1ないしのいずれかに記載の塗布装置であって、
前記各可動ノズルが、
先端から流動性材料が吐出されるノズル本体と、
前記ノズル本体が取り付けられるとともに前記ノズル取付部に形成された前記副走査方向に伸びる案内溝に保持されて前記案内溝に沿って移動可能とされるスライダと、
を備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to any one of claims 1 to 4 ,
Each movable nozzle is
A nozzle body from which a fluid material is discharged from the tip;
A slider to which the nozzle body is attached and held in a guide groove formed in the nozzle attachment portion and extending in the sub-scanning direction and movable along the guide groove;
A coating apparatus comprising:
請求項に記載の塗布装置であって、
前記スライダの前記ノズル取付部に対する位置をロックするノズルロック部と、
前記ノズルロック部を操作することにより前記スライダの位置のロックおよび前記ロックの解除を行うロック部操作機構と、
をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 5 ,
A nozzle lock portion for locking the position of the slider with respect to the nozzle mounting portion;
A lock unit operating mechanism for locking the position of the slider and releasing the lock by operating the nozzle lock unit;
A coating apparatus further comprising:
請求項に記載の塗布装置であって、
前記ノズルロック部が、
前記スライダの位置のロック時に前記スライダに当接する固定部材と、
前記固定部材を前記スライダに向けて押圧することにより前記スライダを前記ノズル取付部に向けて付勢する押圧部と、
を備え、
前記スライダの位置のロックが解除される際に、前記固定部材が、前記ノズル取付部と接触する支点を中心として前記スライダから離れる方向に傾けられることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 6 ,
The nozzle lock part is
A fixing member that contacts the slider when the position of the slider is locked;
A pressing portion that urges the slider toward the nozzle mounting portion by pressing the fixing member toward the slider;
With
When the position of the slider is unlocked, the fixing member is tilted in a direction away from the slider about a fulcrum that contacts the nozzle mounting portion.
請求項1ないしのいずれかに記載の塗布装置であって、
前記複数の可動ノズル、前記複数のノズルから吐出されて基板に塗布された流動性材料のパターン、または、前記複数のノズルから吐出される流動性材料の複数の液柱の観察に利用される光学系をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
A coating apparatus according to any one of claims 1 to 7 ,
Optics used for observing the plurality of movable nozzles, the pattern of the flowable material discharged from the plurality of nozzles and applied to the substrate, or the plurality of liquid columns of the flowable material discharged from the plurality of nozzles. An applicator further comprising a system.
請求項に記載の塗布装置であって、
前記光学系を介して前記複数の可動ノズル、前記流動性材料の前記パターン、または、前記流動性材料の前記複数の液柱の画像を取得する撮像部と、
前記画像から前記副走査方向に関して互いに隣接する2つのノズル間の各距離を検出するピッチ検出部と、
をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 8 ,
An imaging unit that acquires images of the plurality of movable nozzles, the pattern of the fluid material, or the liquid columns of the fluid material via the optical system;
A pitch detector that detects each distance between two nozzles adjacent to each other in the sub-scanning direction from the image;
A coating apparatus further comprising:
請求項に記載の塗布装置であって、
前記ピッチ検出部の検出結果に基づいて、前記ピッチ調整機構の前記当接部移動機構を制御する調整機構制御部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
The coating apparatus according to claim 9 , wherein
The coating apparatus according to claim 1, further comprising: an adjustment mechanism control unit that controls the contact portion moving mechanism of the pitch adjustment mechanism based on a detection result of the pitch detection unit.
請求項1ないし10のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が、平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。
A coating apparatus according to any one of claims 1 to 10 ,
The coating apparatus, wherein the fluid material includes a pixel forming material for a flat display device.
請求項11に記載の塗布装置であって、
前記画素形成材料が、有機EL表示装置用の有機EL材料または正孔輸送材料であることを特徴とする塗布装置。
It is a coating device of Claim 11 , Comprising:
The coating device, wherein the pixel forming material is an organic EL material or a hole transport material for an organic EL display device.
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